JP2891594B2 - relay - Google Patents

relay

Info

Publication number
JP2891594B2
JP2891594B2 JP4232114A JP23211492A JP2891594B2 JP 2891594 B2 JP2891594 B2 JP 2891594B2 JP 4232114 A JP4232114 A JP 4232114A JP 23211492 A JP23211492 A JP 23211492A JP 2891594 B2 JP2891594 B2 JP 2891594B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
movable
contact
substrate
movable body
fixed
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP4232114A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0676721A (en
Inventor
進 平田
頼成 石井
和博 木村
哲也 乾
賢司 太田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Consejo Superior de Investigaciones Cientificas CSIC
Original Assignee
Consejo Superior de Investigaciones Cientificas CSIC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Consejo Superior de Investigaciones Cientificas CSIC filed Critical Consejo Superior de Investigaciones Cientificas CSIC
Priority to JP4232114A priority Critical patent/JP2891594B2/en
Publication of JPH0676721A publication Critical patent/JPH0676721A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2891594B2 publication Critical patent/JP2891594B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Micromachines (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、マイクロマシンとして
使用することのできる圧電力を駆動源とするマルチチャ
ネルのリレーに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multi-channel relay driven by piezoelectric power which can be used as a micromachine.

【0002】[0002]

【従来の技術】マイクロリレーは可動する構造体による
機構部分と、この可動部を駆動する駆動手段とからな
り、この機構部分の駆動源には電磁力が使用されるのが
一般的である。この電磁力を発生する手段としては、強
磁性体に導線を巻き付けて電流を流し電磁力を発生させ
ているのが多い。
2. Description of the Related Art A micro-relay comprises a mechanism portion having a movable structure and driving means for driving the movable portion, and an electromagnetic force is generally used as a drive source for the mechanism portion. As a means for generating the electromagnetic force, a conductive wire is wound around a ferromagnetic material to flow an electric current to generate the electromagnetic force in many cases.

【0003】図5(a)および(b)は、それぞれ、従
来のマイクロリレーの一例の分解斜視図およびそのC−
C′断面図である。
FIGS. 5 (a) and 5 (b) are an exploded perspective view of an example of a conventional micro relay and its C-
It is C 'sectional drawing.

【0004】図5(a)において、401は磁力を発生
させる電磁石部分の基板で、溝403および404に銅
線を巻付け図5(b)に示すようにコイル403−1お
よび404−1が形成されている。402は制御電流を
通過させるための接点電極408および409をもつ可
動体で、それぞれに前記電磁石部分に吸引される磁性金
属405および406が取付けられている。この可動体
402は軸407により、図5(b)の矢印のように、
シーソー運動をすることができる。上記可動体の接点電
極408および409に対向する電磁石部分の基板40
1の位置には、それぞれ、制御電流の入出力を行なう固
定接点410a,410bおよび411a,411bが
形成されている。さらに、基板401と可動体402と
はスペーサ412によって一定の間隔をもって接着固定
されている。
In FIG. 5A, reference numeral 401 denotes a substrate of an electromagnet portion for generating a magnetic force. A copper wire is wound around grooves 403 and 404, and coils 403-1 and 404-1 are formed as shown in FIG. 5B. Is formed. Reference numeral 402 denotes a movable body having contact electrodes 408 and 409 for passing a control current, and magnetic metals 405 and 406 attracted to the electromagnet portion are attached to the movable body, respectively. This movable body 402 is moved by a shaft 407 as shown by an arrow in FIG.
You can do a seesaw exercise. The substrate 40 of the electromagnet portion facing the contact electrodes 408 and 409 of the movable body
At positions 1, fixed contacts 410a and 410b and 411a and 411b for inputting and outputting control current are formed. Further, the substrate 401 and the movable body 402 are bonded and fixed at fixed intervals by a spacer 412.

【0005】次に前記のマイクロリレーの動作原理につ
いて説明する。図5(b)において、基板401のコイ
ル404−1側の銅線に電流を流すと、電磁力を発生し
可動体402の磁性金属406が吸引される。磁性金属
406が吸引されると、可動体402は軸407を中心
に回転し、接点電極409が固定接点411a,411
bに接触して回路を閉じ、信号電流が通過する。次にコ
イル404−1に流れる電流を遮断し、コイル403−
1の導線に電流を流すと、可動体402は反対側に回転
し、接点電極408が固定接点410a,410bに接
触して回路を閉じ、これらの接点を介して信号電流が通
過する。このようにして信号電流の切換を行ない、切換
リレーとしての動作を行なう。
Next, the operation principle of the micro relay will be described. In FIG. 5B, when a current is applied to the copper wire on the coil 404-1 side of the substrate 401, an electromagnetic force is generated, and the magnetic metal 406 of the movable body 402 is attracted. When the magnetic metal 406 is attracted, the movable body 402 rotates about the shaft 407, and the contact electrodes 409 are fixed to the fixed contacts 411a and 411.
b, the circuit closes and the signal current passes. Next, the current flowing through the coil 404-1 is interrupted, and the coil 403-
When a current flows through one of the conductors, the movable body 402 rotates to the opposite side, and the contact electrode 408 contacts the fixed contacts 410a and 410b to close the circuit, and a signal current passes through these contacts. In this way, the signal current is switched, and the operation as a switching relay is performed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】前述のマイクロリレー
は、チャネル数が2個に限定されるため、3個以上の信
号を切換るような用途には使用できない。また、電磁駆
動のため消費電流が大きい問題があった。
Since the above-mentioned micro relay has a limited number of channels of two, it cannot be used for switching three or more signals. In addition, there is a problem that current consumption is large due to electromagnetic driving.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明のリレーは、可動
接点を有する可動部分と可動部分の一端を固定する外枠
部分とからなる可動体基板と、可動体基板の外枠部分に
スペーサを介して対向して固定された前記の可動接点に
対向する固定接点を有する絶縁基板によって構成され、
外枠部分の絶縁基板に対向する部分の可動接点の形成さ
れていない部分には、可動接点と同じ高さのダミー配線
が施されており、絶縁基板の外枠部分に対向する部分の
固定接点の形成されていない部分には、固定接点と同じ
高さのダミー配線が施されている。
SUMMARY OF THE INVENTION A relay according to the present invention comprises a movable body substrate comprising a movable portion having a movable contact and an outer frame portion for fixing one end of the movable portion, and a spacer provided on the outer frame portion of the movable body substrate. It is constituted by an insulating substrate having a fixed contact opposed to the movable contact fixed to face through,
Dummy wiring of the same height as the movable contact is applied to the portion of the outer frame portion facing the insulating substrate where the movable contact is not formed, and the fixed contact of the portion facing the outer frame portion of the insulating substrate is provided. The dummy wiring having the same height as the fixed contact is provided in a portion where no fixed contact is formed.

【0008】[0008]

【作用】本発明によれば、複数個の信号を切換ることが
可能になり、個々の可動接点と固定接点のギャップが均
一であり、構成部品の数が少なく組立に有利になる。素
子を小型にできるからマイクロリレーとして使用でき
る。
According to the present invention, a plurality of signals can be switched, the gap between each movable contact and the fixed contact is uniform, and the number of components is small, which is advantageous for assembly. Since the element can be miniaturized, it can be used as a micro relay.

【0009】[0009]

【実施例】図1(a)は本発明の一実施例の分解斜視図
であり、同図(b)は同図(a)のA−A′断面図、同
図(c)は同図(a)のB−B′断面図である。
1 (a) is an exploded perspective view of an embodiment of the present invention, FIG. 1 (b) is a sectional view taken along the line AA 'of FIG. 1 (a), and FIG. It is BB 'sectional drawing of (a).

【0010】可動体基板11はバイモルフ式圧電素子で
あり、これをダイシングしてたとえばスリットを5本入
れ、可動部分11a,11a…と、斜線を施した外枠部
分11bとなるように加工する。可動部分11aの可動
端の下面には可動接点12,12…が蒸着により形成し
てある。
The movable body substrate 11 is a bimorph type piezoelectric element, which is diced and processed into, for example, five slits so as to form movable parts 11a, 11a... And a hatched outer frame part 11b. On the lower surface of the movable end of the movable portion 11a, movable contacts 12, 12,... Are formed by vapor deposition.

【0011】可動体基板11に対向するガラス基板21
には、可動接点12,12…に対向するように固定接点
22,22…がめっきにより形成してある。
Glass substrate 21 facing movable body substrate 11
, Fixed contacts 22, 22,... Are formed by plating so as to face the movable contacts 12, 12,.

【0012】可動体基板11とガラス基板21は、スペ
ーサ31を混入した接着剤で接合され、所定のギャップ
を保持してある。
The movable body substrate 11 and the glass substrate 21 are joined with an adhesive mixed with a spacer 31 to maintain a predetermined gap.

【0013】また、可動体基板11を構成するバイモル
フ式圧電素子は、分極方向のそろった2枚の圧電素子1
3a,13bと3枚の駆動電極板14a,14b,14
cを交互に貼合わせた構造になっている。
The bimorph type piezoelectric element constituting the movable body substrate 11 is composed of two piezoelectric elements 1 having the same polarization direction.
3a, 13b and three drive electrode plates 14a, 14b, 14
c are alternately bonded.

【0014】可動体基板11に可動接点を形成したり、
ガラス基板21に固定接点を形成する際に生ずる、それ
ぞれの接点のある部分とない部分の高さの差を補償しギ
ャップを均一にするために、可動体基板11の可動接点
側の表面には可動接点12の厚さと同じ厚さのダミー配
線15が、設けられている。ガラス基板21の表面には
固定接点22の厚さと同じ厚さのダミー配線23が、さ
らに、可動体基板11には駆動電極板14a,14cと
同じ厚さのダミー配線16が設けられ、表面が平滑化さ
れている。なお、ガラス基板21は、シリコン基板の表
面に熱酸化膜を形成したもの、その他適宜の絶縁膜を使
用することができる。
A movable contact is formed on the movable body substrate 11,
In order to compensate for the difference in height between the part with and without the contact and to make the gap uniform when the fixed contact is formed on the glass substrate 21, the surface of the movable body substrate 11 on the movable contact side is provided. A dummy wiring 15 having the same thickness as that of the movable contact 12 is provided. A dummy wiring 23 having the same thickness as that of the fixed contact 22 is provided on the surface of the glass substrate 21, and a dummy wiring 16 having the same thickness as the drive electrode plates 14a and 14c is provided on the movable body substrate 11. It has been smoothed. The glass substrate 21 may be a silicon substrate having a thermal oxide film formed on its surface, or any other suitable insulating film.

【0015】まず、可動体基板11の作成プロセスにつ
いて図2(a)〜(g),(a1)〜(g1)に従って
説明する。(a)〜(g)はそれぞれのプロセスの平面
図であり、(a1)〜(g1)はそれらに対応する断面
図である。
First, a process for forming the movable substrate 11 will be described with reference to FIGS. 2 (a) to 2 (g) and 2 (a1) to 2 (g1). (A) to (g) are plan views of respective processes, and (a1) to (g1) are cross-sectional views corresponding to them.

【0016】まず、図2(a)および(a1)におい
て、分極処理をした2枚の圧電体111a,111bを
分極方向が同じになるように駆動電極板112b(たと
えばAl)を挟んで貼合わせる。
First, in FIGS. 2A and 2A, two polarized piezoelectric bodies 111a and 111b are bonded together with a drive electrode plate 112b (eg, Al) sandwiched therebetween so that the polarization directions are the same. .

【0017】次に、(b)および(b1)に示されるよ
うに、その両面に駆動電極板112a,112cを蒸着
する。
Next, as shown in (b) and (b1), drive electrode plates 112a and 112c are deposited on both surfaces.

【0018】次に、(c)および(c1)について説明
する。(b)の状態の表面にフォトレジストを塗布し、
所定の形状のパターンを形成し、エッチング液で不必要
な部分をエッチングし、分割された駆動電極板112a
およびダミーパターン(配線)113aができる。同様
にして他方の面にも駆動電極板112cおよびダミーパ
ターン113cができる。次に、フォトレジストを剥離
し駆動部分が完成する。
Next, (c) and (c1) will be described. A photoresist is applied to the surface in the state of (b),
A pattern having a predetermined shape is formed, unnecessary portions are etched with an etchant, and the divided drive electrode plates 112a are formed.
And a dummy pattern (wiring) 113a is formed. Similarly, a drive electrode plate 112c and a dummy pattern 113c are formed on the other surface. Next, the photoresist is peeled off to complete the driving portion.

【0019】次に、(d)および(d1)に示すよう
に、たとえばSiO2 による絶縁膜114a,114c
をスパッタリングで成膜する。
Next, as shown in (d) and (d1), insulating films 114a and 114c of, for example, SiO 2
Is formed by sputtering.

【0020】次に、(e)および(e1)に示すよう
に、この表面にAu膜115を蒸着する。
Next, as shown in (e) and (e1), an Au film 115 is deposited on this surface.

【0021】次に、(f)および(f1)に示すよう
に、フォトレジストを塗布し所定のパターンを形成し、
イオンミリングで不要な部分をエッチングし、可動接点
115およびダミーパターン116を形成する。
Next, as shown in (f) and (f1), a photoresist is applied to form a predetermined pattern,
Unnecessary portions are etched by ion milling to form movable contacts 115 and dummy patterns 116.

【0022】最後に、(g)および(g1)に示すよう
に、可動接点115のパターンの間を所定の位置までダ
イシングしスリット117を入れる。これで可動体基板
11が完成する。
Finally, as shown in (g) and (g1), the gap between the patterns of the movable contacts 115 is diced to a predetermined position and slits 117 are formed. Thus, the movable body substrate 11 is completed.

【0023】次に、ガラス基板上に固定接点を作成する
プロセスについて、図3(a)〜(d)および(a1)
〜(d1)について説明する。(a)〜(d)は平面図
であり、(a1)〜(d1)はそれらに対する断面図で
ある。
Next, a process for forming a fixed contact on a glass substrate will be described with reference to FIGS. 3 (a) to 3 (d) and (a1).
(D1) will be described. (A) to (d) are plan views, and (a1) to (d1) are cross-sectional views thereof.

【0024】固定接点の場合、接点の基板からの高さを
高くする必要があるため、接点の構造をNiとAuの2
層構造とする。
In the case of a fixed contact, since the height of the contact from the substrate needs to be increased, the structure of the contact is made of Ni and Au.
It has a layer structure.

【0025】まず、図3(a)および(a1)に示すよ
うに、まず、ガラス基板211にNi薄膜212をスパ
ッタリングで成膜する。次に、同図(b)および(b
1)に示すように、電解めっき法で電鋳Ni層213を
成長させる。なおNiの電解めっきはスルファミン酸N
i浴で行なう。
First, as shown in FIGS. 3A and 3A, a Ni thin film 212 is formed on a glass substrate 211 by sputtering. Next, FIGS.
As shown in 1), an electroformed Ni layer 213 is grown by electrolytic plating. The electrolytic plating of Ni is performed with sulfamic acid N
Perform in i-bath.

【0026】次に、同図(c)および(c1)に示すよ
うに、フォトレジストを塗布し所定の形状のパターンを
形成し、0.5NHNO3 溶液で不要な部分をエッチン
グし、固定接点の下地213およびダミーパターンの下
地214ができる。
Next, as shown in FIGS. 3 (c) and (c1), a photoresist is applied to form a pattern of a predetermined shape, unnecessary portions are etched with a 0.5 NHNO 3 solution, and fixed contacts are formed. The base 213 and the base 214 of the dummy pattern are formed.

【0027】次に、同図(d)および(d1)に示すよ
うに、このNiの表面に無電解めっきによりAu層21
5を析出させ、固定接点216およびダミーパターン2
17とする。なお、このAuの無電解めっきには、たと
えば酸性置換タイプの下地形成用のめっき液と、アルカ
リ性還元タイプの厚膜形成用のめっき液を用いて2段階
で行なう。
Next, as shown in FIGS. 3D and 3D, the Au layer 21 is formed on the surface of the Ni by electroless plating.
5 and the fixed contact 216 and the dummy pattern 2
17 is assumed. The electroless plating of Au is performed in two steps using, for example, a plating solution for forming an underlayer of an acid substitution type and a plating solution for forming a thick film of an alkaline reduction type.

【0028】以上のようにしてガラス基板211上に固
定接点が完成する。最後に図1(a)および(b)に示
すように、可動体基板11の外枠部11bの裏面とガラ
ス基板21を所定の粒径のスペーサ31を混入した接着
剤で接合し、圧電式リレーが完成する。このとき、可動
部分11aと外枠部分1bは一体成形品であり、かつ外
枠部分11bにはダミーパターン15および16がある
ため可動接点12と固定接点22のギャップはスペーサ
31の粒径に保持されている。
As described above, the fixed contact is completed on the glass substrate 211. Finally, as shown in FIGS. 1A and 1B, the back surface of the outer frame portion 11b of the movable body substrate 11 and the glass substrate 21 are joined with an adhesive mixed with a spacer 31 having a predetermined particle size, and a piezoelectric type is formed. The relay is completed. At this time, the movable portion 11a and the outer frame portion 1b are integrally molded products, and since the outer frame portion 11b has the dummy patterns 15 and 16, the gap between the movable contact 12 and the fixed contact 22 is maintained at the particle size of the spacer 31. Have been.

【0029】次に、圧電式リレーの動作について、図4
(a)および(b)ならびに図1(c)に従って説明す
る。
Next, the operation of the piezoelectric relay will be described with reference to FIG.
A description will be given according to (a) and (b) and FIG. 1 (c).

【0030】図4(a)は、バイモルフ式圧電素子に電
界を印加していない状態を示し、(b)は電界を印加し
ている状態を示す。
FIG. 4A shows a state where no electric field is applied to the bimorph type piezoelectric element, and FIG. 4B shows a state where an electric field is applied.

【0031】分極処理をした2枚の圧電体311a,3
11b(矢印は分極方向を示す)を分極方向が同じにな
るように駆動電極板312bを挟んで貼合わせており、
その両側に駆動電極板312aおよび312cを蒸着
後、所定の形状にパターニングしている。さらに、その
両側を絶縁膜313aおよび313bで挟み、その片側
に可動接点314を蒸着し、所定の形状にパターニング
し、可動体基板310となる。一方ガラス基板321に
固定接点312を形成し、これと可動体基板310と
を、スペーサ330を混入した接着剤で接合している。
The two piezoelectric bodies 311 a and 3
11b (the arrow indicates the polarization direction) so that the polarization direction is the same, with the drive electrode plate 312b interposed therebetween.
Driving electrode plates 312a and 312c are vapor-deposited on both sides thereof and then patterned into a predetermined shape. Further, both sides thereof are sandwiched between insulating films 313a and 313b, and a movable contact 314 is vapor-deposited on one side thereof and patterned into a predetermined shape to form a movable substrate 310. On the other hand, a fixed contact 312 is formed on a glass substrate 321, and the fixed contact 312 and the movable body substrate 310 are joined with an adhesive mixed with a spacer 330.

【0032】図4(a)の場合は、バイモルフ式圧電素
子に電界を印加していないから、圧電素子は屈曲運動を
しないので、可動接点314と固定接点320とは閉じ
ないため信号電流は流れない。
In the case of FIG. 4A, since no electric field is applied to the bimorph type piezoelectric element, the piezoelectric element does not bend, so that the movable contact 314 and the fixed contact 320 do not close, so that a signal current flows. Absent.

【0033】次に、図4(b)に示すように、バイモル
フ式圧電素子に、駆動電極板312bを接地し、駆動電
極板312a,312cに正の電界を印加すると、圧電
体311aは延び、圧電体311bは縮むため、可動体
基板310の右端は下に撓む屈曲運動をする。したがっ
て、可動接点314と固定接点320は閉じ、信号電流
が流れる。また、電圧印加を解除すると、図4(a)に
示されるように、圧電素子は元の形状に戻るため可動接
点314と固定接点322は開く。
Next, as shown in FIG. 4B, when the drive electrode plate 312b is grounded to the bimorph type piezoelectric element and a positive electric field is applied to the drive electrode plates 312a and 312c, the piezoelectric body 311a extends, Since the piezoelectric body 311b shrinks, the right end of the movable body substrate 310 makes a bending motion to bend downward. Therefore, the movable contact 314 and the fixed contact 320 are closed, and a signal current flows. When the voltage application is released, the movable contact 314 and the fixed contact 322 are opened because the piezoelectric element returns to the original shape as shown in FIG.

【0034】図1(c)は、本発明の断面図であり、こ
れは圧電式マルチチャンネルリレーとして動作する。可
動体基板11の外枠部分11bは、ガラス基板21とス
ペーサ31を介して接着剤により固定される。チャンネ
ルA,B,CおよびDは、それぞれ、可動部分11aが
分離されているので独立の屈曲運動をする。同図では、
チャンネルBおよびDが電界印加により屈曲運動をし接
点が閉じるようになり、チャンネルAおよびCは電界を
印加していないため屈曲運動をせず接点は開くようにな
る。
FIG. 1C is a cross-sectional view of the present invention, which operates as a piezoelectric multi-channel relay. The outer frame portion 11b of the movable body substrate 11 is fixed to the glass substrate 21 via a spacer 31 with an adhesive. Each of the channels A, B, C, and D makes an independent bending motion because the movable portion 11a is separated. In the figure,
Channels B and D are bent by application of an electric field and the contacts are closed. Channels A and C are not bent and the contacts are opened because no electric field is applied.

【0035】[0035]

【発明の効果】本発明によれば複数個の信号の切換が可
能になり、個々の可動接点と固定接点のギャップが均一
で接点特性のばらつきがなく、さらに構成部品の数が少
なく組立てが容易かつ堅固になる。
According to the present invention, a plurality of signals can be switched, the gaps between the individual movable contacts and the fixed contacts are uniform, there is no variation in contact characteristics, and the number of components is small and assembly is easy. And become solid.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a)は本発明の一実施例の分解斜視図であ
り、(b)は(a)のA−A′断面図であり、(c)は
(a)のB−B′断面図である。
1A is an exploded perspective view of one embodiment of the present invention, FIG. 1B is a sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 1A, and FIG. 1C is a sectional view taken along the line BB ′ of FIG. It is sectional drawing.

【図2】(a)〜(g)は本発明の一実施例の可動体の
作成プロセスの平面図であり、(a1)〜(g1)はそ
れぞれ(a)〜(g)に対する断面図である。
2 (a) to 2 (g) are plan views of a process for producing a movable body according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 2 (a1) to 2 (g1) are cross-sectional views corresponding to FIGS. is there.

【図3】(a)〜(d)は本発明の一実施例の固定接点
を作成するプロセスの平面図であり、(a1)〜(d
1)はそれぞれ(a)〜(d)に対する断面図である。
3 (a) to 3 (d) are plan views of a process for producing a fixed contact according to one embodiment of the present invention, and show (a1) to (d).
1) is a sectional view for each of (a) to (d).

【図4】(a)は圧電素子に電界を印加しない状態の断
面図であり、(b)は電界を印加した状態の断面図であ
る。
FIG. 4A is a cross-sectional view in a state where no electric field is applied to the piezoelectric element, and FIG. 4B is a cross-sectional view in a state where an electric field is applied.

【図5】(a)は従来のマイクロリレーの一例の分解斜
視図であり、(b)はそのC−C′断面図である。
FIG. 5A is an exploded perspective view of an example of a conventional micro relay, and FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the line CC ′.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 可動体基板 11a 可動部分 11b 外枠部分 12 可動接点 13a,13b 圧電素子 14a,14b,14c 駆動電極板 15,16,23 ダミーパターン 18a,18b 絶縁膜 21 ガラス基板 31 スペーサ REFERENCE SIGNS LIST 11 movable body substrate 11a movable part 11b outer frame part 12 movable contact 13a, 13b piezoelectric element 14a, 14b, 14c drive electrode plate 15, 16, 23 dummy pattern 18a, 18b insulating film 21 glass substrate 31 spacer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 乾 哲也 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャープ株式会社内 (72)発明者 太田 賢司 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャープ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭63−121226(JP,A) 特開 平2−100224(JP,A) 実開 昭56−99747(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01H 57/00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Tetsuya Inui 22-22, Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka Inside Sharp Corporation (72) Inventor Kenji 22-22, Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka Sharp Corporation (56) References JP-A-63-121226 (JP, A) JP-A-2-100224 (JP, A) JP-A-56-99747 (JP, U) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) H01H 57/00

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 可動接点を有する可動部分と可動部分の
一端を固定する外枠部分とからなる可動体基板と、可動
体基板の外枠部分にスペーサを介して対向して固定され
た前記の可動接点に対向する固定接点を有する絶縁基板
とによって構成され、 外枠部分の絶縁基板に対向する部分の可動接点の形成さ
れていない部分には、可動接点と同じ高さのダミー配線
を施されており、 絶縁基板の外枠部分に対向する部分の固定接点の形成さ
れていない部分には、固定接点と同じ高さのダミー配線
が施されていることを特徴とするリレー。
A movable substrate having a movable portion having a movable contact and an outer frame portion for fixing one end of the movable portion; and the movable substrate being opposed to and fixed to the outer frame portion of the movable substrate via a spacer. An insulating substrate having a fixed contact opposed to the movable contact; a dummy wiring having the same height as the movable contact is applied to a portion of the outer frame portion facing the insulating substrate where the movable contact is not formed. A dummy wiring having the same height as the fixed contact is provided on a portion of the insulating substrate facing the outer frame portion where the fixed contact is not formed.
JP4232114A 1992-08-31 1992-08-31 relay Expired - Lifetime JP2891594B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4232114A JP2891594B2 (en) 1992-08-31 1992-08-31 relay

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4232114A JP2891594B2 (en) 1992-08-31 1992-08-31 relay

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0676721A JPH0676721A (en) 1994-03-18
JP2891594B2 true JP2891594B2 (en) 1999-05-17

Family

ID=16934230

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4232114A Expired - Lifetime JP2891594B2 (en) 1992-08-31 1992-08-31 relay

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2891594B2 (en)

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5699747U (en) * 1979-12-28 1981-08-06
SE502098C2 (en) * 1986-09-24 1995-08-14 Gen Electric Piezoelectric switching matrix
JP2745570B2 (en) * 1988-10-05 1998-04-28 オムロン株式会社 Electrostatic relay

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0676721A (en) 1994-03-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2714736B2 (en) Micro relay
US6016092A (en) Miniature electromagnetic microwave switches and switch arrays
US20020140533A1 (en) Method of producing an integrated type microswitch
US5430421A (en) Reed contactor and process of fabricating suspended tridimensional metallic microstructure
US6084281A (en) Planar magnetic motor and magnetic microactuator comprising a motor of this type
US20010028203A1 (en) Electrostatic actuator and method of driving the same
JPH10321102A (en) Magnetic microswitch and manufacture thereof
US7548144B2 (en) MEMS switch and method of fabricating the same
JPH01501186A (en) piezoelectric switch
US4112279A (en) Piezoelectric relay construction
US20090122379A1 (en) Optical Deflecting Element
JP2002075156A (en) Microswitch and manufacturing method therefor
JP2891594B2 (en) relay
JP3668935B2 (en) Electrostatic drive device
JPH07286258A (en) Electrostatic driving type microactuator and production of valve as well as electrostatic driving type pump
WO2003031320A1 (en) Thin film structural member, method of manufacturing the member, and switching element using the member
JP5812096B2 (en) MEMS switch
JP3368303B2 (en) Micro relay
US20030043003A1 (en) Magnetically latching microrelay
JPH10106184A (en) Microactuator
JP3591881B2 (en) Small relay
JP2875128B2 (en) Beam and manufacturing method thereof
JP3577694B2 (en) Light switch
JPH0660788A (en) Piezoelectric relay
JPH0923632A (en) Electromagnetic displacement generator

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19990209