JP2887033B2 - 精密位置決め装置 - Google Patents
精密位置決め装置Info
- Publication number
- JP2887033B2 JP2887033B2 JP31028292A JP31028292A JP2887033B2 JP 2887033 B2 JP2887033 B2 JP 2887033B2 JP 31028292 A JP31028292 A JP 31028292A JP 31028292 A JP31028292 A JP 31028292A JP 2887033 B2 JP2887033 B2 JP 2887033B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- positioning device
- unit
- precision positioning
- stage
- compensator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は精密位置決め装置に関す
るものであり、特に半導体装置の製造分野でマスク（レ
チクル）上の回路パターンを半導体ウェハ上に焼付ける
ために使用される所謂ステッパの位置決め制御系に好適
なものである。
るものであり、特に半導体装置の製造分野でマスク（レ
チクル）上の回路パターンを半導体ウェハ上に焼付ける
ために使用される所謂ステッパの位置決め制御系に好適
なものである。
【０００２】
【従来の技術】精密位置決め装置、特に『ステッパ』の
位置決めにおいては、近年の半導体素子の急速な高集積
度化に伴い、要求される位置決め精度が高まりつつあ
る。現状の実用化レベルの位置決め精度はおよそ１／１
００ミクロン程度であるが、近い将来にはナノメータオ
ーダの位置決め精度の実用化が必要になると予測されて
いる。しかもスループット向上のため、上記高精度の位
置決めをより高速に行なわなければならない。
位置決めにおいては、近年の半導体素子の急速な高集積
度化に伴い、要求される位置決め精度が高まりつつあ
る。現状の実用化レベルの位置決め精度はおよそ１／１
００ミクロン程度であるが、近い将来にはナノメータオ
ーダの位置決め精度の実用化が必要になると予測されて
いる。しかもスループット向上のため、上記高精度の位
置決めをより高速に行なわなければならない。
【０００３】こうしたステッパにおいては、従来はその
ほとんどが搬送物体であるステージの案内手段にすべり
案内や転がり案内を用い、駆動手段にＤＣサーボモータ
の回転をボールねじを介して直進運動に変換する方法が
用いられてきた。
ほとんどが搬送物体であるステージの案内手段にすべり
案内や転がり案内を用い、駆動手段にＤＣサーボモータ
の回転をボールねじを介して直進運動に変換する方法が
用いられてきた。
【０００４】しかし、位置決め精度が高くなるほど摩擦
の影響が相対的に大きくなるため、摩擦摩耗や摩擦熱に
よる長期安定性の問題や、スティックスリップ現象・跳
躍現象などの不安定挙動などが問題になってくる。した
がって『接触式』の位置決め装置で高速・高精度化を図
るには限界があり、特にナノメータオーダの位置決めは
困難であった。
の影響が相対的に大きくなるため、摩擦摩耗や摩擦熱に
よる長期安定性の問題や、スティックスリップ現象・跳
躍現象などの不安定挙動などが問題になってくる。した
がって『接触式』の位置決め装置で高速・高精度化を図
るには限界があり、特にナノメータオーダの位置決めは
困難であった。
【０００５】このような問題点を解決するため、近年、
案内面に空気軸受を用い、駆動手段に空気軸受を案内と
したリニアモータなどを用いる『非接触駆動方式』のス
テージが提案されている。
案内面に空気軸受を用い、駆動手段に空気軸受を案内と
したリニアモータなどを用いる『非接触駆動方式』のス
テージが提案されている。
【０００６】こうした非接触式の位置決め装置において
は、接触摩擦の影響を受けないという長所がある反面、
案内剛性が従来の接触式位置決め装置に比べて低いとい
う欠点がある。一般に、ステッパにおいては、ステージ
はＸＹ２方向に移動することから、ステージの重心はそ
の位置に依存して大きく変動する。したがって非接触式
の位置決め装置においては、接触式位置決め装置に比べ
て、ステージの移動に伴ってステージの回転運動、特に
ヨーイング振動が生じやすい。
は、接触摩擦の影響を受けないという長所がある反面、
案内剛性が従来の接触式位置決め装置に比べて低いとい
う欠点がある。一般に、ステッパにおいては、ステージ
はＸＹ２方向に移動することから、ステージの重心はそ
の位置に依存して大きく変動する。したがって非接触式
の位置決め装置においては、接触式位置決め装置に比べ
て、ステージの移動に伴ってステージの回転運動、特に
ヨーイング振動が生じやすい。
【０００７】そこでこのヨーイング振動をできるだけ抑
えるために、リニアモータを左右対称に配置する『双胴
形』を採用し、さらにステージが移動し、重心が移動し
てもこの左右のリニアモータ推力の重心まわりのモーメ
ントをゼロに保つよう、ステージの位置に応じて左右の
リニアモータへの推力の分配比率を変える工夫が一般に
行われる。
えるために、リニアモータを左右対称に配置する『双胴
形』を採用し、さらにステージが移動し、重心が移動し
てもこの左右のリニアモータ推力の重心まわりのモーメ
ントをゼロに保つよう、ステージの位置に応じて左右の
リニアモータへの推力の分配比率を変える工夫が一般に
行われる。
【０００８】図２は『Ｈ形』と呼ばれている従来の典型
的な非接触方式のステッパのステージ部分を示してお
り、この図において、１は非接触形の軸受によってｘ方
向に非接触に移動可能な双胴形のリニアモータ、２は非
接触形の軸受によってｙ方向に移動可能なリニアモー
タ、３は搬送物体であるステージ、４はレーザ干渉計な
どのｘ方向の位置計測手段、５はレーザ干渉計などのｙ
方向の位置計測手段、６は直列補償器、７は乗算形ＤＡ
変換器、８はＲＯＭ、９は電流増幅器、１０は速度制御
モードにおける補償器、１１は位置制御モードにおける
補償器、１２は速度制御モード／位置速度モードの切り
換えスイッチである。
的な非接触方式のステッパのステージ部分を示してお
り、この図において、１は非接触形の軸受によってｘ方
向に非接触に移動可能な双胴形のリニアモータ、２は非
接触形の軸受によってｙ方向に移動可能なリニアモー
タ、３は搬送物体であるステージ、４はレーザ干渉計な
どのｘ方向の位置計測手段、５はレーザ干渉計などのｙ
方向の位置計測手段、６は直列補償器、７は乗算形ＤＡ
変換器、８はＲＯＭ、９は電流増幅器、１０は速度制御
モードにおける補償器、１１は位置制御モードにおける
補償器、１２は速度制御モード／位置速度モードの切り
換えスイッチである。
【０００９】上記構成において、ステージ３をｘ方向に
ステップ移動させる場合を考える。まずステージ３の現
在位置ｘSと目標位置ＲPとの偏差ｅXに応じて、直列補
償器６は速度制御モード補償器１０と位置制御モード補
償器１１を切り換えスイッチ１２によって切り換える。
それぞれのモードの補償器はＰＩＤ補償などの一般的な
直列補償器である。直列補償器６の出力である制御指令
ｕは、左右２つの乗算形ＤＡ変換器７の基準電圧Ｖref
となる。また、ステージ３のｙ方向の変位ｙに対応し
た、制御指令値ｕのｘ方向のリニアモータ１への左右の
分配率ｄL，ｄR（即ちｄL＋ｄR＝１．０であり、なおか
つステージの重心まわりのモーメントがゼロとなる分配
率）は、左右それぞれに対応する２つのＲＯＭ８に、ス
テージのｙ方向の位置ｙSに応じた値として記憶されて
いる。
ステップ移動させる場合を考える。まずステージ３の現
在位置ｘSと目標位置ＲPとの偏差ｅXに応じて、直列補
償器６は速度制御モード補償器１０と位置制御モード補
償器１１を切り換えスイッチ１２によって切り換える。
それぞれのモードの補償器はＰＩＤ補償などの一般的な
直列補償器である。直列補償器６の出力である制御指令
ｕは、左右２つの乗算形ＤＡ変換器７の基準電圧Ｖref
となる。また、ステージ３のｙ方向の変位ｙに対応し
た、制御指令値ｕのｘ方向のリニアモータ１への左右の
分配率ｄL，ｄR（即ちｄL＋ｄR＝１．０であり、なおか
つステージの重心まわりのモーメントがゼロとなる分配
率）は、左右それぞれに対応する２つのＲＯＭ８に、ス
テージのｙ方向の位置ｙSに応じた値として記憶されて
いる。
【００１０】そして乗算形ＤＡ変換器７によって左右の
分配率が直列補償器の制御指令ｕに乗ぜられ、制御指令
ｕは双胴形リニアモータ１の左右へそれぞれｄLｕ，ｄR
ｕに分配されて供給されることにより、ステージ３の各
位置でヨーイング運動を生じないように構成されてい
る。
分配率が直列補償器の制御指令ｕに乗ぜられ、制御指令
ｕは双胴形リニアモータ１の左右へそれぞれｄLｕ，ｄR
ｕに分配されて供給されることにより、ステージ３の各
位置でヨーイング運動を生じないように構成されてい
る。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の非接触式の精密位置決め装置では、ステージのＹ方
向の変位情報ｙSに対応した、予めＲＯＭ８に格納する
分配率によってのみ推力の分配を行っていたため、ＲＯ
Ｍ８に格納した分配率の誤差や、外部から加わる外乱な
どの影響によるヨーイング振動を完全に抑えることがで
きず、位置決め時間の増大や、位置決め精度の悪化を引
き起こすという問題点があった。
来の非接触式の精密位置決め装置では、ステージのＹ方
向の変位情報ｙSに対応した、予めＲＯＭ８に格納する
分配率によってのみ推力の分配を行っていたため、ＲＯ
Ｍ８に格納した分配率の誤差や、外部から加わる外乱な
どの影響によるヨーイング振動を完全に抑えることがで
きず、位置決め時間の増大や、位置決め精度の悪化を引
き起こすという問題点があった。
【００１２】また、上記従来の非接触式の位置決め装置
では、ステージ２のステップ動作が完了した後に、リニ
アモータ１とは別のアクチュエータを用いてヨーイング
補正を行っていたため、このヨーイング補正の分だけ位
置決め時間が増加してしまう点や、装置構成が複雑にな
ってしまう問題があった。
では、ステージ２のステップ動作が完了した後に、リニ
アモータ１とは別のアクチュエータを用いてヨーイング
補正を行っていたため、このヨーイング補正の分だけ位
置決め時間が増加してしまう点や、装置構成が複雑にな
ってしまう問題があった。
【００１３】本発明は、このような事情に鑑みなされた
もので、その目的は、位置決め時間の短縮や、位置決め
精度の改善を可能にし、且つ装置構造を簡単にすること
ができる精密位置決め装置を提供することにある。
もので、その目的は、位置決め時間の短縮や、位置決め
精度の改善を可能にし、且つ装置構造を簡単にすること
ができる精密位置決め装置を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の精密位置決め装置は、記搬送物体の並進
変位情報に応じて駆動手段の各駆動源への制御指令値の
分配率を決定する推力分配手段と、搬送物体の重心まわ
りの回転変位を計測する計測手段によって得られる回転
変位情報を用いて推力分配手段の分配率を補正する補正
手段を有することを特徴としている。
めに、本発明の精密位置決め装置は、記搬送物体の並進
変位情報に応じて駆動手段の各駆動源への制御指令値の
分配率を決定する推力分配手段と、搬送物体の重心まわ
りの回転変位を計測する計測手段によって得られる回転
変位情報を用いて推力分配手段の分配率を補正する補正
手段を有することを特徴としている。
【００１５】
【実施例】図１は本発明の特徴を最も良く表す非接触方
式の精密位置決め装置の一実施例であり、この図におい
て、１は非接触形の軸受によってｘ方向に非接触に移動
可能な双胴形のリニアモータで、搬送物体であるステー
ジ３の両側にｘ方向に延びた２つの駆動源（リニアモー
タ）を有する。２は非接触形の軸受けによってｙ方向に
移動可能なリニアモータ、４はレーザ干渉計などのｘ方
向の第一位置計測手段、５はレーザ干渉計などのｙ方向
の位置計測手段、６は直列補償器、７は乗算形ＤＡ変換
器、８はＲＯＭ、９は電流増幅器、１０は速度制御モー
ドにおける補償器、１１は位置制御モードにおける補償
器、１２は速度制御モード／位置速度モードの切り換え
スイッチ、１３はステージ３のヨーイングを検出するた
めのレーザ干渉計などのｘ方向の第二位置計測手段、１
４はヨーイング成分に対する補償器である。
式の精密位置決め装置の一実施例であり、この図におい
て、１は非接触形の軸受によってｘ方向に非接触に移動
可能な双胴形のリニアモータで、搬送物体であるステー
ジ３の両側にｘ方向に延びた２つの駆動源（リニアモー
タ）を有する。２は非接触形の軸受けによってｙ方向に
移動可能なリニアモータ、４はレーザ干渉計などのｘ方
向の第一位置計測手段、５はレーザ干渉計などのｙ方向
の位置計測手段、６は直列補償器、７は乗算形ＤＡ変換
器、８はＲＯＭ、９は電流増幅器、１０は速度制御モー
ドにおける補償器、１１は位置制御モードにおける補償
器、１２は速度制御モード／位置速度モードの切り換え
スイッチ、１３はステージ３のヨーイングを検出するた
めのレーザ干渉計などのｘ方向の第二位置計測手段、１
４はヨーイング成分に対する補償器である。
【００１６】つぎに上記構成においてステージ３をｘ方
向にステップ移動させる場合を考える。まずステージ３
の現在位置ｘSと目標位置ＲPとの偏差ｅXに応じて、直
列補償器６は速度制御モード補償器１０と位置制御モー
ド補償器１１を切り換えスイッチ１２によって切り換え
る。それぞれのモードの補償器はＰＩＤ補償などの一般
的な直列補償器である。直列補償器６の出力である制御
指令ｕは、リニアモータ１の左右の駆動源用の２つの乗
算形ＤＡ変換器７の基準電圧Ｖrefとなる。また、ステ
ージ３のｙ方向の変位ｙに対応した、制御指令値ｕのｘ
方向のリニアモータ１への左右の分配率ｄL，ｄR、（即
ちｄL＋ｄR＝１．０であり、なおかつステージの重心ま
わりのモーメントがゼロとなる分配率）は、左右それぞ
れに対応する２つのＲＯＭ８に、ステージのＹ方向の位
置ｙSに応じた値として記憶されている。
向にステップ移動させる場合を考える。まずステージ３
の現在位置ｘSと目標位置ＲPとの偏差ｅXに応じて、直
列補償器６は速度制御モード補償器１０と位置制御モー
ド補償器１１を切り換えスイッチ１２によって切り換え
る。それぞれのモードの補償器はＰＩＤ補償などの一般
的な直列補償器である。直列補償器６の出力である制御
指令ｕは、リニアモータ１の左右の駆動源用の２つの乗
算形ＤＡ変換器７の基準電圧Ｖrefとなる。また、ステ
ージ３のｙ方向の変位ｙに対応した、制御指令値ｕのｘ
方向のリニアモータ１への左右の分配率ｄL，ｄR、（即
ちｄL＋ｄR＝１．０であり、なおかつステージの重心ま
わりのモーメントがゼロとなる分配率）は、左右それぞ
れに対応する２つのＲＯＭ８に、ステージのＹ方向の位
置ｙSに応じた値として記憶されている。
【００１７】そして乗算形ＤＡ変換器７によって左右の
分配率が直列補償器の制御指令ｕに乗ぜられ、制御指令
ｕは双胴形リニアモータ１の左右の駆動源へそれぞれｄ
Lｕ，ｄRｕに分配されて供給されることにより、ステー
ジ３の各位置でヨーイング運動を生じないように構成さ
れている。
分配率が直列補償器の制御指令ｕに乗ぜられ、制御指令
ｕは双胴形リニアモータ１の左右の駆動源へそれぞれｄ
Lｕ，ｄRｕに分配されて供給されることにより、ステー
ジ３の各位置でヨーイング運動を生じないように構成さ
れている。
【００１８】しかし予めＲＯＭ８に格納した分配率のみ
で推力分配を行うと、格納した分配率の誤差や、外部か
ら加わる外乱などの影響によって、ヨーイング振動を完
全に抑えることができない。
で推力分配を行うと、格納した分配率の誤差や、外部か
ら加わる外乱などの影響によって、ヨーイング振動を完
全に抑えることができない。
【００１９】そこで、第一のｘ方向の検出手段４および
第二のｘ方向の位置検出手段１３を用い、両者の偏差を
とることによって、分配誤差や外乱に起因したステージ
３のヨーイング変位成分θをリアルタイムに検出する。
第二のｘ方向の位置検出手段１３を用い、両者の偏差を
とることによって、分配誤差や外乱に起因したステージ
３のヨーイング変位成分θをリアルタイムに検出する。
【００２０】そしてこのヨーイング変位成分θを補償器
１４に入力してヨーイング制御指令
１４に入力してヨーイング制御指令
【００２１】
【外１】 ｕθを得て、これを左右のリニアモータ１に対応するＲ
ＯＭ８の出力にヨーイング振動がキャンセルされるよう
に加減算して、分配率をリアルタイムに変更することに
よって、外部から加わる外乱や、ＲＯＭ８の推力分配誤
差等に起因するヨーイング振動を抑える。
ＯＭ８の出力にヨーイング振動がキャンセルされるよう
に加減算して、分配率をリアルタイムに変更することに
よって、外部から加わる外乱や、ＲＯＭ８の推力分配誤
差等に起因するヨーイング振動を抑える。
【００２２】（他の実施例）図１に示した実施例は、所
謂『Ｈ形』ステージを対象としたものであるが、『Ｔ
形』ステージ等、他の双胴形のリニアモータを有する非
接触式の精密位置決め装置、例えば、特開平３−２４５
９３２号、特開平４−１８１０１７号等に示されるよう
な精密位置決め装置に対しても本実施例と何等変わりな
く本発明を実施することが可能である。
謂『Ｈ形』ステージを対象としたものであるが、『Ｔ
形』ステージ等、他の双胴形のリニアモータを有する非
接触式の精密位置決め装置、例えば、特開平３−２４５
９３２号、特開平４−１８１０１７号等に示されるよう
な精密位置決め装置に対しても本実施例と何等変わりな
く本発明を実施することが可能である。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
駆動手段への制御指令値の分配率を決定する推力分配手
段を有する精密位置決め装置において、推力分配手段に
よる分配誤差や、外部から加わる外乱によって生じる回
転振動を抑圧することが可能となるので、位置決め時間
の短縮や、位置決め精度の改善を実現することができ
る。更には、ヨーイング補正のアクチュエータを不要に
して装置の簡略化を実現することもできる。
駆動手段への制御指令値の分配率を決定する推力分配手
段を有する精密位置決め装置において、推力分配手段に
よる分配誤差や、外部から加わる外乱によって生じる回
転振動を抑圧することが可能となるので、位置決め時間
の短縮や、位置決め精度の改善を実現することができ
る。更には、ヨーイング補正のアクチュエータを不要に
して装置の簡略化を実現することもできる。
【図１】本発明の特徴を最も良く表す非接触方式の精密
位置決め装置の一実施例を示す図
位置決め装置の一実施例を示す図
【図２】従来の典型的な非接触方式の精密位置決め装置
の一例を示す図
の一例を示す図
１ 非接触形の軸受によってｘ方向に非接触に移動可能
な双胴形のリニアモータ ２ 非接触形の軸受によってｙ方向に移動可能なリニア
モータ ３ 搬送物体であるステージ ４ レーザ干渉計などのｘ方向の第一の位置計測手段 ５ レーザ干渉計などのｙ方向の位置計測手段 ６ 直列補償器 ７ 乗算形ＤＡ変換器 ８ ＲＯＭ ９ 電流増幅器 １０ 速度制御モードにおける補償器 １１ 位置制御モードにおける補償器 １２ 速度制御モード／位置制御モード切り換えスイッ
チ １３ ｘ方向の第二のｘ方向の位置計測手段 １４ ヨーイング成分に対する補償器
な双胴形のリニアモータ ２ 非接触形の軸受によってｙ方向に移動可能なリニア
モータ ３ 搬送物体であるステージ ４ レーザ干渉計などのｘ方向の第一の位置計測手段 ５ レーザ干渉計などのｙ方向の位置計測手段 ６ 直列補償器 ７ 乗算形ＤＡ変換器 ８ ＲＯＭ ９ 電流増幅器 １０ 速度制御モードにおける補償器 １１ 位置制御モードにおける補償器 １２ 速度制御モード／位置制御モード切り換えスイッ
チ １３ ｘ方向の第二のｘ方向の位置計測手段 １４ ヨーイング成分に対する補償器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平３−121741（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−186611（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−259405（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−139013（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01L 21/68 H01L 21/027
Claims (4)
- 【請求項１】 搬送物体を非接触に案内する案内手段
と、前記搬送物体の両側に駆動源が位置する駆動手段
と、前記搬送物体の並進変位および重心まわりの回転変
位を計測する計測手段と、前記搬送物体を所望の位置へ
位置決め制御するための制御指令値を生成する制御手段
と、前記搬送物体の並進変位情報に応じて前記駆動手段
の各駆動源への制御指令値の分配率を決定する推力分配
手段と、前記計測手段からの前記搬送物体の回転変位情
報を用いて前記推力分配手段の分配率を補正する補正手
段を有することを特徴とする精密位置決め装置。 - 【請求項２】 前記案内手段は空気軸受を有することを
特徴とする請求項１に記載の精密位置決め装置。 - 【請求項３】 前記駆動手段の駆動源はリニアモータで
あることを特徴とする請求項１記載の精密位置決め装
置。 - 【請求項４】 前記計測手段は複数のレーザ測長器を有
することを特徴とする請求項１に記載の精密位置決め装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31028292A JP2887033B2 (ja) | 1992-11-19 | 1992-11-19 | 精密位置決め装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31028292A JP2887033B2 (ja) | 1992-11-19 | 1992-11-19 | 精密位置決め装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06163359A JPH06163359A (ja) | 1994-06-10 |
| JP2887033B2 true JP2887033B2 (ja) | 1999-04-26 |
Family
ID=18003359
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31028292A Expired - Fee Related JP2887033B2 (ja) | 1992-11-19 | 1992-11-19 | 精密位置決め装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2887033B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4078683B2 (ja) * | 1996-11-28 | 2008-04-23 | 株式会社ニコン | 投影露光装置及び投影露光方法並びに走査露光方法 |
| US6486941B1 (en) | 2000-04-24 | 2002-11-26 | Nikon Corporation | Guideless stage |
| JP3679767B2 (ja) | 2002-02-26 | 2005-08-03 | キヤノン株式会社 | ステージ位置決め装置及びその制御方法、露光装置、半導体デバイスの製造方法 |
| KR100835576B1 (ko) * | 2005-09-13 | 2008-06-05 | 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 | 헤드작동 제어장치 및 제어방법 및 스테이지장치 |
| JP2022061834A (ja) | 2020-10-07 | 2022-04-19 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 |
-
1992
- 1992-11-19 JP JP31028292A patent/JP2887033B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06163359A (ja) | 1994-06-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3217522B2 (ja) | 精密位置決め装置 | |
| JP3745167B2 (ja) | ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびにステージ駆動方法 | |
| US5757149A (en) | Drive control apparatus | |
| US6937911B2 (en) | Compensating for cable drag forces in high precision stages | |
| JP3762401B2 (ja) | 位置決め装置及び露光装置並びにデバイスの製造方法 | |
| US7262524B2 (en) | Bearing assembly, stage device using same, and exposure apparatus using same | |
| US7119879B2 (en) | Stage alignment apparatus and its control method, exposure apparatus, and semiconductor device manufacturing method | |
| US20060170382A1 (en) | Linear motor force ripple identification and compensation with iterative learning control | |
| JP3720613B2 (ja) | 位置決め装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびに位置決め方法 | |
| EP0737844B1 (en) | Alignment apparatus and method | |
| US20080084122A1 (en) | Moving apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
| JP2887033B2 (ja) | 精密位置決め装置 | |
| US5548195A (en) | Compensated servo control stage positioning apparatus | |
| US20240004314A1 (en) | Positioning apparatus, lithography apparatus and article manufacturing method | |
| US7738232B2 (en) | Alignment apparatus | |
| JP3536229B2 (ja) | ステージ装置、露光装置、及び位置決め方法 | |
| JP3320276B2 (ja) | 精密制御装置 | |
| US20040114116A1 (en) | Moving member mechanism and control method therefor | |
| US20010002303A1 (en) | Method and apparatus for controlling the leveling table of a wafer stage | |
| JP2009087371A (ja) | 位置決め装置、露光装置およびデバイス製造方法 | |
| KR20210034489A (ko) | 스테이지 장치, 리소그래피 장치, 및 물품제조방법 | |
| JPH0229194B2 (ja) | ||
| US20030139044A1 (en) | Moving apparatus and control method therefor, and device manufacturing method | |
| US20040223133A1 (en) | Stage apparatus, exposure system using the same, and device manufacturing method | |
| EP3945368A1 (en) | Exposing apparatus and method for manufacturing article |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080212 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090212 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100212 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100212 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110212 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120212 Year of fee payment: 13 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |