JP2881018B2 - Manufacturing method of ceramic substrate - Google Patents

Manufacturing method of ceramic substrate

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【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はセラミックス基板の製造方法に関し、特にセ
ラミックス製グリーンシートを積層して同時焼成するセ
ラミックス多層配線板の製造方法に関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for manufacturing a ceramic substrate, and more particularly to a method for manufacturing a ceramic multilayer wiring board in which ceramic green sheets are laminated and fired simultaneously.

[従来の技術] 昨今、セラミックス焼結体のうち、特に窒化アルミニ
ウム焼結体が電気絶縁性、熱伝導性、寸法安定性、機械
的強度等に優れていることから、窒化アルミニウム多層
配線板の開発が盛んに行われている。
[Prior art] In recent years, among ceramic sintered bodies, aluminum nitride sintered bodies are particularly excellent in electrical insulation, thermal conductivity, dimensional stability, mechanical strength and the like. Development is active.

従来、窒化アルミニウム多層配線板は、窒化アルミニ
ウム製グリーンシートにパンチング加工を施してスルー
ホール形成用孔を形成し、この孔内に主としてタングス
テンと分散溶媒とからなるペーストを充填した後、かか
るグリーンシートを複数枚積層した状態で常圧にて同時
焼成することにより、製造されている。
Conventionally, an aluminum nitride multilayer wiring board is formed by punching a green sheet made of aluminum nitride to form a hole for forming a through-hole, and filling the hole with a paste mainly composed of tungsten and a dispersing solvent. Are simultaneously fired at normal pressure in a state in which a plurality of sheets are laminated.

[発明が解決しようとする課題] 一般に、窒化アルミニウムの成形体は焼成時に収縮を
伴うが、前記積層成形体を常圧焼成する場合、積層成形
体の最表層に配置されるグリーンシートのスルーホール
形成用孔内に充填されたペーストが、窒化アルミニウム
の収縮応力によって前記孔の開口部分から盛り上がり、
導電性粒子が孔内に十分に緻密な状態で定着されず、そ
のためにスルーホール抵抗を増大させるという問題があ
った。
[Problems to be Solved by the Invention] Generally, a molded body of aluminum nitride is shrunk during firing, but when the laminated molded body is fired under normal pressure, through holes of a green sheet disposed on the outermost layer of the laminated molded body are required. The paste filled in the forming hole rises from the opening of the hole due to the contraction stress of the aluminum nitride,
There is a problem that the conductive particles are not fixed in the pores in a sufficiently dense state, thereby increasing the through-hole resistance.

特に、本発明者らは、グリーンシートに開孔された、
スルーホールよりも大径のパッド孔にタングステンペー
ストを充填し、グリーンシート積層後の同時焼成によっ
て、外部引出しピンを固着するためのピンパッドを一体
成形した多層配線板を開発中であるが、タングステンペ
ーストが充填される前記パッド孔の内径が大きくなる
程、上記問題は深刻なものとなっている。
In particular, the present inventors have perforated the green sheet,
A multi-layer wiring board is being developed in which pad holes larger in diameter than through holes are filled with tungsten paste and pin pads for fixing external lead pins are integrally formed by simultaneous firing after laminating green sheets. The above problem becomes more serious as the inner diameter of the pad hole filled with is increased.

本発明は上記事情に鑑みなされたものであり、その目
的は、セラミックス基板の焼成時における収縮等にかか
わらず、基板の孔内に導電性粒子を緻密に充填して、ス
ルーホール抵抗の低いセラミックス基板を簡便かつ確実
に製造することができるセラミックス基板の製造方法を
提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide a ceramic substrate having a low through-hole resistance by densely filling conductive particles into holes of a substrate regardless of shrinkage or the like during firing of the ceramic substrate. An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a ceramic substrate, which can easily and reliably manufacture a substrate.

[課題を解決するための手段及び作用] 上記課題を解決するために本発明は、予め開孔された
セラミックス製グリーンシートの孔内に、導電性粒子を
含有するペーストを充填した後、このグリーンシートの
ペーストが露出される側に、前記グリーンシートと同一
組成からなるダミー層を形成して常圧焼成を施し、その
後、このダミー層を研削除去することによりセラミック
ス基板を製造している。
[Means and Actions for Solving the Problems] In order to solve the above problems, the present invention provides a method in which a paste containing conductive particles is filled in the holes of a ceramic green sheet that has been opened in advance, and then the green sheet is filled. A ceramic layer is manufactured by forming a dummy layer having the same composition as that of the green sheet on the side where the paste of the sheet is exposed, baking it at normal pressure, and then grinding and removing the dummy layer.

この方法によれば、グリーンシートの孔内に充填され
たペーストは、ダミー層によってグリーンシートの孔に
密閉された状態で常圧焼成される。前記ダミー層はグリ
ーンシートと同一組成からなるため、常圧焼成によるグ
リーンシート及びダミー層の収縮に伴い、前記孔内に充
填されたペーストは全ての方向から同じように圧縮され
る。それ故、ダミー層がない場合に生じるペーストの盛
り上がり等が未然に防止され、該孔内には導電性粒子が
緻密な状態で定着される。焼成後、前記ダミー層を研削
除去することにより、スルーホール抵抗の低いセラミッ
クス基板が得られる。
According to this method, the paste filled in the holes of the green sheet is fired at normal pressure while being sealed in the holes of the green sheet by the dummy layer. Since the dummy layer has the same composition as the green sheet, the paste filled in the holes is compressed in the same manner from all directions as the green sheet and the dummy layer shrink due to normal pressure firing. Therefore, the swelling of the paste or the like that occurs when there is no dummy layer is prevented beforehand, and the conductive particles are fixed in the holes in a dense state. After firing, the ceramic layer having a low through-hole resistance can be obtained by grinding and removing the dummy layer.

前記グリーンシートを複数枚積層し、その最外層に位
置するグリーンシートに対して前記ダミー層を形成する
ことは好ましい。
It is preferable that a plurality of the green sheets are laminated, and the dummy layer is formed on the green sheet positioned as the outermost layer.

これにより、スルーホール抵抗等の品質の安定したセ
ラミックス多層配線板が常圧同時焼成によって形成され
る。
As a result, a ceramic multilayer wiring board having stable quality such as through-hole resistance is formed by normal pressure simultaneous firing.

前記ダミー層は、開孔のないグリーンシートを積層し
たものであることが好ましい。
It is preferable that the dummy layer is formed by laminating green sheets without holes.

これにより、予め開孔されたセラミックス製グリーン
シートと同一組成からなえるダミー層が簡便に形成され
る。また、グリーンシートの積層枚数を変更することに
より、ダミー層の厚さが容易に調節される。
As a result, a dummy layer having the same composition as the ceramic green sheet that has been opened in advance is easily formed. The thickness of the dummy layer can be easily adjusted by changing the number of stacked green sheets.

尚、前記ダミー層については、前記グリーンシートと
同一組成の原料組成物に有機溶剤等の溶媒を配合し、混
練して得たスラリーを、直接グリーンシートのペースト
露出面に塗布し、その後、乾燥することによって形成し
てもよい。
For the dummy layer, a slurry obtained by blending a solvent such as an organic solvent with a raw material composition having the same composition as the green sheet and kneading the mixture was directly applied to the paste exposed surface of the green sheet, and then dried. It may be formed by doing.

前記ダミー層の厚さは、0.2〜1.5mmの範囲であること
が望ましい。
Preferably, the thickness of the dummy layer is in the range of 0.2 to 1.5 mm.

この厚さが0.2mm未満では、前記孔にペーストが充填
されたグリーンシートが焼成によって収縮する際に、該
孔の内周面がペーストを圧縮する力に比して、ダミー層
がペーストを圧縮する力が小さくなり、ペーストの盛り
上がりを十分に防止することができない。一方、ダミー
層の厚さが1.5mmを超えると研削除去量が多くなり作業
性が低下する。
When the thickness is less than 0.2 mm, when the green sheet filled with the paste in the hole shrinks by firing, the inner peripheral surface of the hole compresses the paste compared to the force of compressing the paste. Force is small, and the swelling of the paste cannot be sufficiently prevented. On the other hand, if the thickness of the dummy layer exceeds 1.5 mm, the grinding removal amount increases and the workability decreases.

本発明を適用可能なセラミックスとしては、窒化アル
ミニウム、アルミナ、窒化珪素等があげられるが、特に
窒化アルミニウムであることが好ましい。
Examples of ceramics to which the present invention can be applied include aluminum nitride, alumina, silicon nitride, and the like, and aluminum nitride is particularly preferable.

窒化アルミニウムは、前述のように電気絶縁性等に優
れ、基板材料として好適であるのみならず、常圧焼成時
の収縮率が大きく、本発明の利用価値が極めて高いから
である。
As described above, aluminum nitride is excellent in electrical insulation and the like, and is not only suitable as a substrate material, but also has a large shrinkage ratio at the time of normal pressure firing, and the utility value of the present invention is extremely high.

また、前記導電性粒子としては、タングステン、モリ
ブデン、タンタル、ニオブ等があげられるが、特にタン
グステンであることが好ましい。
In addition, examples of the conductive particles include tungsten, molybdenum, tantalum, and niobium, and particularly, tungsten is preferable.

さて、前記導電性粒子を含有するペーストは、前記導
電性粒子に、アクリル系バインダー、エーテル系の溶
剤、ブチラール、グリコール等の分散溶媒、及び必要に
応じて、ひまし油、ポリビニルアルコール等のチクソ剤
等を適宜配合して調製される。
Now, the paste containing the conductive particles, the conductive particles, acrylic binder, ether-based solvent, butyral, a dispersion solvent such as glycol, and, if necessary, castor oil, a thixotropic agent such as polyvinyl alcohol and the like Is appropriately blended.

ここで、セラミックスとして窒化アルミニウムを使用
し、導電性粒子としてタングステンを使用する場合、乾
燥後におけるタングステンの空間占有率が35〜45%のペ
ーストとすることが望ましい。このようなペーストとす
ることにより、ペーストの焼成による収縮率が、窒化ア
ルミニウムの常圧焼成による収縮率とほぼ一致し、両者
の収縮率の違いによって焼成基板にクラックが発生する
ことが未然に防止されるからである。
Here, in the case where aluminum nitride is used as the ceramic and tungsten is used as the conductive particles, it is preferable that the paste after drying has a space occupancy of 35 to 45%. By using such a paste, the shrinkage rate due to the firing of the paste is substantially equal to the shrinkage rate due to the normal pressure firing of aluminum nitride, and cracks are prevented from occurring in the fired substrate due to the difference between the two shrinkage rates. Because it is done.

前記導電性粒子を含有するペーストは、メタルマスク
やメッシュマスクを使用したスクリーン印刷等によっ
て、グリーンシートの孔内に充填される。
The paste containing the conductive particles is filled in the holes of the green sheet by screen printing using a metal mask or a mesh mask.

このグリーンシートの孔は、スルーホール形成用孔の
ようにその内径が0.1mm程度と非常に小さいものから、
セラミックス基板に直接ピンパッドを一体形成するため
のパッド形成用孔のようにその内径が1.0〜2.0mm程度と
非常に大きなものであってもよい。しかし、これら孔の
径が大きすぎると、グリーンシートのパンチング時に形
成される孔間にクラックが入り易くなる。
Since the hole of this green sheet has a very small inner diameter of about 0.1 mm like a hole for forming a through hole,
The inside diameter may be as large as about 1.0 to 2.0 mm, such as a pad forming hole for directly forming a pin pad integrally with the ceramic substrate. However, if the diameters of these holes are too large, cracks tend to be formed between the holes formed during punching of the green sheet.

また、焼成後のダミー層の研削除去は、平面研削、ラ
ップ仕上げ加工等によってなされる。
Grinding of the dummy layer after firing is performed by surface grinding, lap finishing, or the like.

以下に、本発明を具体化した実施例及び比較例につい
て説明する。
Hereinafter, Examples and Comparative Examples embodying the present invention will be described.

[実施例] (グリーンシートの作製) 純度99%、平均粒径が約1.1〜1.5μmの窒化アルミニ
ウム粉末100重量部に、平均粒径が2〜3μmの酸化イ
ットリウムを5重量部、アクリル系バインダーを8〜15
重量部、並びに、トルエン、エタノール及び酢酸エチル
を配合し、ボールミルにて12〜60時間混練して原料スラ
リーを調製した後、シートキャスティング法によって複
数枚のグリーンシート(長さ80mm×幅80mm×厚さ0.5m
m)を作製した。
[Example] (Preparation of green sheet) 100 parts by weight of aluminum nitride powder having a purity of 99% and an average particle diameter of about 1.1 to 1.5 μm, 5 parts by weight of yttrium oxide having an average particle diameter of 2 to 3 μm, and an acrylic binder 8 to 15
Parts by weight, and mixed with toluene, ethanol and ethyl acetate, kneaded in a ball mill for 12 to 60 hours to prepare a raw material slurry, and then a plurality of green sheets (length 80 mm x width 80 mm x thickness) by a sheet casting method. 0.5m
m) was prepared.

恥部のグリーンシートを除き、各グリーンシートにパ
ンチング加工を施し、それぞれに多数の孔を透設した。
即ち、第1図に示すように、内径が0.2mmのスルーホー
ル形成用孔1を形成したグリーンシート2と、内径1.4m
mのパッド孔3を形成したグリーンシート4とを作製す
ると共に、孔を全く設けていないグリーンシート5を用
意した。ここで、前記パッド孔3とは、ピングリッドア
レイを作製する際に、多層配線板に外部引出しピンを固
着するためのパッドを多層配線板に一体形成するための
孔である。
Except for the shame green sheet, each green sheet was punched, and a number of holes were formed in each green sheet.
That is, as shown in FIG. 1, a green sheet 2 having a through hole forming hole 1 having an inner diameter of 0.2 mm and an inner diameter of 1.4 m were formed.
A green sheet 4 having a m-shaped pad hole 3 was prepared, and a green sheet 5 having no hole was prepared. Here, the pad hole 3 is a hole for integrally forming a pad for fixing an external lead pin to the multilayer wiring board when the pin grid array is manufactured.

(タングステンペーストの充填) 平均粒径が0.3μmのタングステン微粒子100重量部
に、10重量%のアクリル系バインダーが配合されたエー
テル系の溶剤からなる混合溶媒を5〜10重量部と、ひま
し油0.1〜0.5重量部とを配合し、その混合物を三本ロー
ル混合機にて約1時間混練することにより、タングステ
ンペーストを調製した。このペーストは、前記混合溶媒
を乾燥除去した時の密度が7.5〜8.0g/cm3であり、その
際のタングステン微粒子の理論空間占有率が約40%とい
うものである。
(Filling of tungsten paste) 5 to 10 parts by weight of a mixed solvent composed of an ether solvent in which 10% by weight of an acrylic binder is blended with 100 parts by weight of tungsten fine particles having an average particle size of 0.3 μm, and castor oil 0.1 to 0.5 parts by weight, and the mixture was kneaded for about 1 hour with a three-roll mixer to prepare a tungsten paste. This paste has a density of 7.5 to 8.0 g / cm 3 when the mixed solvent is dried and removed, and the theoretical space occupancy of the tungsten fine particles at that time is about 40%.

そして、前記各グリーンシート2,4にスクリーン印刷
を施すことにより、前記スルーホール形成用孔内1及び
パッド孔3内にタングステンペースト6を充填した。
The green sheets 2 and 4 were screen-printed to fill the through holes 1 and the pad holes 3 with a tungsten paste 6.

(多層配線板の作製) 第1図に示すように、スルーホール形成用孔1を有す
る複数枚のグリーンシート2を順次積層し、その上にパ
ッド孔3を有するグリーンシート4を2枚積層した。こ
の最上層のグリーンシート4によって多層配線板の表層
部が構成される。更に、前記グリーンシート4の上に、
孔のないグリーンシート5を複数枚積層してダミー層
(厚さ1mm)を形成し、これらのグリーンシート2,4,5に
より積層成形体7を形成した。
(Preparation of Multilayer Wiring Board) As shown in FIG. 1, a plurality of green sheets 2 having through-hole forming holes 1 were sequentially laminated, and two green sheets 4 having pad holes 3 were laminated thereon. . The uppermost green sheet 4 constitutes the surface layer of the multilayer wiring board. Further, on the green sheet 4,
A plurality of green sheets 5 having no holes were laminated to form a dummy layer (thickness: 1 mm), and a green compact 7 was formed from these green sheets 2, 4, and 5.

そして、加熱乾燥を施して積層成形体7中の溶剤を乾
燥させると共に、グリーンシート2,4のスルーホール形
成用孔1内及びパッド孔3内にタングステン微粒子を定
着させた。
Then, the solvent in the laminated molded body 7 was dried by heating and drying, and tungsten fine particles were fixed in the through hole forming holes 1 and the pad holes 3 of the green sheets 2 and 4.

続いて、この積層成形体7を常圧窒素ガス雰囲気中で
350〜1650℃の温度で加熱することにより、グリーンシ
ート中のバインダーを分解除去(脱脂)した後、1750℃
にて2時間常圧焼成した。その後、前記ダミー層を平面
研削及びラップ加工によって研削除去することにより、
第2図に示すような窒化アルミニウム多層配線板を得
た。
Subsequently, the laminated molded body 7 is placed in a nitrogen gas atmosphere at normal pressure.
After heating at a temperature of 350 to 1650 ° C, the binder in the green sheet is decomposed and removed (degreased), and then heated to 1750 ° C.
For 2 hours at normal pressure. Then, by grinding and removing the dummy layer by surface grinding and lapping,
An aluminum nitride multilayer wiring board as shown in FIG. 2 was obtained.

このようにして得られた多層配線板の平面寸法を測定
したところ、全体の収縮率は14%であった。また、パッ
ド孔の収縮率もほぼ14%であり、多層配線板の全体とし
ての収縮率とパッド孔の収縮率とがほぼ一致した。
When the planar dimensions of the multilayer wiring board thus obtained were measured, the overall shrinkage was 14%. The contraction rate of the pad hole was also about 14%, and the contraction rate of the multilayer wiring board as a whole and the contraction rate of the pad hole almost coincided.

尚、この多層配線板の外観を肉眼にて観察したが、ク
ラック等は一切観察されなかった。
The appearance of the multilayer wiring board was visually observed, but no cracks or the like were observed.

[比較例] 前記実施例と全く同様の手順を経て、多層配線板を作
製した。但し、積層成形体7には前述のようなグリーン
シート5によるダミー層を形成することなく、パッド孔
3が形成されたグリーンシート4のペースト充填部を露
出させたまま、常圧焼成を施して多層配線板を得た。
[Comparative Example] A multilayer wiring board was produced through exactly the same procedure as in the above-described example. However, without forming a dummy layer of the green sheet 5 on the laminated molded body 7 as described above, normal pressure firing is performed while exposing the paste filling portion of the green sheet 4 in which the pad holes 3 are formed. A multilayer wiring board was obtained.

このようにして得られた多層配線板の平面寸法を測定
したところ、全体の収縮率は14%であっのに対し、パッ
ド孔3の収縮率はほぼ12%であり、多層配線板の全体と
しての収縮率とパッド孔の収縮率とに開きが生じた。
When the planar dimensions of the multilayer wiring board thus obtained were measured, the overall shrinkage was 14%, while the shrinkage of the pad holes 3 was almost 12%. Of the pad holes and the contraction rate of the pad holes.

尚、この多層配線板の外観を肉眼にて観察したとこ
ろ、クラック等は一切観察されなかったものの、パッド
部の表面にはタングステンの盛り上がり8が観察され
た。
When the external appearance of the multilayer wiring board was observed with the naked eye, cracks and the like were not observed at all, but bumps 8 of tungsten were observed on the surface of the pad portion.

[発明の効果] 以上詳述したように本発明によれば、セラミックス基
板の焼成時における収縮等にかかわらず、基板の孔内に
導電性粒子を緻密に充填して、スルーホール抵抗の低い
セラミックス基板を簡便かつ確実に製造することができ
るという優れた効果を奏する。
[Effects of the Invention] As described above in detail, according to the present invention, regardless of shrinkage or the like during firing of a ceramic substrate, conductive particles are densely filled in holes of the substrate, and ceramics having low through-hole resistance are obtained. There is an excellent effect that the substrate can be easily and reliably manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明を具体化した実施例のダミー層を有する
積層成形体を示す部分断面図、第2図は同じくダミー層
を除去した後の多層配線板を示す部分断面図、第3図は
比較例における多層配線板を示す部分断面図である。 1……スルーホール形成用孔、2,4……グリーンシー
ト、3……パッド孔、5……ダミー層としてのグリーン
シート、6……タングステンペースト。
FIG. 1 is a partial sectional view showing a laminated molded article having a dummy layer according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a partial sectional view showing a multilayer wiring board after removing the dummy layer, and FIG. FIG. 4 is a partial cross-sectional view showing a multilayer wiring board in a comparative example. 1 ... through-hole forming holes, 2, 4 ... green sheets, 3 ... pad holes, 5 ... green sheets as dummy layers, 6 ... tungsten paste.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H05K 3/46 B28B 11/02 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) H05K 3/46 B28B 11/02

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】予め開孔されたセラミックス製グリーンシ
ート(2,4)の孔(1,3)内に、導電性粒子を含有するペ
ースト(6)を充填した後、このグリーンシート(2,
4)のペースト(6)が露出される側に、前記グリーン
シート(2,4)と同一組成からなるダミー層(5)を形
成して常圧焼成を施し、その後、このダミー層(5)を
研削除去することを特徴とするセラミックス基板の製造
方法。
A paste (6) containing conductive particles is filled in holes (1,3) of a ceramic green sheet (2,4) that has been opened in advance, and then the green sheet (2,4) is filled.
On the side where the paste (6) of (4) is exposed, a dummy layer (5) having the same composition as the green sheet (2, 4) is formed and baked at normal pressure, and then the dummy layer (5) A method for manufacturing a ceramic substrate, comprising:
【請求項2】前記グリーンシート(2,4)を複数枚積層
し、その最外層に位置するグリーンシート(4)に対し
て前記ダミー層(5)を形成することを特徴とする請求
項1に記載のセラミックス基板の製造方法。
2. The green sheet according to claim 1, wherein a plurality of said green sheets are laminated, and said dummy layer is formed on a green sheet located at the outermost layer. 3. The method for producing a ceramic substrate according to item 1.
【請求項3】前記ダミー層は、開孔のないグリーンシー
ト(5)を積層したものであることを特徴とする請求項
1又は2に記載のセラミックス基板の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the dummy layer is formed by laminating green sheets without holes.
【請求項4】前記ダミー層(5)の厚さは0.5〜1.5mmの
範囲であることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一
項に記載のセラミックス基板の製造方法。
4. The method according to claim 1, wherein a thickness of the dummy layer is in a range of 0.5 to 1.5 mm.
【請求項5】前記セラミックスが窒化アルミニウムであ
り、前記導電性粒子がタングステンであることを特徴と
する請求項1乃至4の何れか一項に記載のセラミックス
基板の製造方法。
5. The method according to claim 1, wherein said ceramics is aluminum nitride, and said conductive particles are tungsten.
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