JP2875301B2 - Manufacturing method of pressure transmitter - Google Patents
Manufacturing method of pressure transmitterInfo
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- JP2875301B2 JP2875301B2 JP26495189A JP26495189A JP2875301B2 JP 2875301 B2 JP2875301 B2 JP 2875301B2 JP 26495189 A JP26495189 A JP 26495189A JP 26495189 A JP26495189 A JP 26495189A JP 2875301 B2 JP2875301 B2 JP 2875301B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、圧力伝送器の製造方法に関する。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for manufacturing a pressure transmitter.
従来はタンタルダイアフラムはろう付によつてステン
レスのフランジに接合してきた。しかし、タンタルとス
テンレスの熱膨張係数が大きく違うためにタンタルダイ
アフラムがろう付後変形し、たいへん歩留りが悪かつ
た。Conventionally, tantalum diaphragms have been joined to stainless steel flanges by brazing. However, the tantalum diaphragm was deformed after brazing due to a large difference in the coefficient of thermal expansion between tantalum and stainless steel, and the yield was very poor.
上記従来技術は歩留りについて配慮されておらず歩留
りが悪いため原価高の問題があつた。The prior art described above has a problem of high cost because the yield is not considered because the yield is not considered.
本発明の目的は、歩留まりの向上が可能な圧力伝送器
の製造方法を提供することにある。An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a pressure transmitter capable of improving the yield.
［課題を解決するための手段］ 上記目的を達成するために、本発明では、プロセス流
体に接する接液部に、タンタルからなるダイアフラムを
用いる圧力伝送器の製造方法において、ステンレス材の
フランジ部材に溝を設け、フランジ部材と接するように
フランジ部材の溝にタンタル材の固定リングを挿入し、
固定リングが溶融されず且つフランジ部材が溶融される
ように電子ビームを照射して固定リングとフランジ部材
の接触する部分を接合し、固定リングにダイアフラムを
接触させ電子ビームを照射してダイアフラムと固定リン
グを接合するように構成した。[Means for Solving the Problems] To achieve the above object, in the present invention, in a method for manufacturing a pressure transmitter using a diaphragm made of tantalum for a liquid contact portion in contact with a process fluid, a stainless steel flange member is used. A groove is provided, and a fixing ring of tantalum material is inserted into the groove of the flange member so as to be in contact with the flange member,
Electron beam is applied so that the fixing ring is not melted and the flange member is melted, the part where the fixing ring and the flange member are in contact is joined, the diaphragm is brought into contact with the fixing ring, and the electron beam is irradiated and fixed to the diaphragm The ring was configured to join.
［作用］ 上記の構成によれば、電子ビームの照射により、フラ
ンジ部材（ステンレス）のみが溶融され、一方、固定リ
ング（タンタル）は溶融しない。そのため、溶融したス
テンレスが固定リング（タンタル）内で拡散し、それに
よって、接合される。さらに、電子ビームの照射によ
り、固定リング（タンタル）とダイアフラム（タンタ
ル）が接合される。[Operation] According to the above configuration, only the flange member (stainless steel) is melted by the electron beam irradiation, while the fixing ring (tantalum) is not melted. Therefore, the molten stainless steel diffuses in the fixing ring (tantalum), and thereby is joined. Further, the fixed ring (tantalum) and the diaphragm (tantalum) are joined by the irradiation of the electron beam.
以下、本発明の一実施例を第１図〜第４図により説明
する。第２図は、タンタルダイアフラムを多く使用する
伝送器の一外観を示す。本伝送器は、プロセス流体に接
する接液フランジ部６、圧力を伝達するための液７が封
入されているキヤピラリーチユーブ５、圧力を検出する
ためのセンサが収納されている本体４から構成されてい
る。接液フランジ部６の詳細を第１図に示す。フランジ
１のプロセス流体に接する側にタンタルリング２を接合
し、さらに、タンタルダイアフラム３を被せて、タンタ
ルダイアフラム３とタンタルリング２を溶接する。ステ
ンレスのフランジ１にタンタルダイアフラム３を溶接す
る方法を第３図〜第４図により説明する。フランジ１に
タンタルリング２と同一寸法の溝を設け、その溝にタン
タルリング２を挿入する。タンタルリング２の厚さは0.
5〜1mmとする。次にタンタルリング２の外周部のステン
レスを電子ビーム溶接機により溶かす。このとき、電子
ビームの焦点ａはタンタルリング２外周より0.2〜0.5mm
とする。タンタルの融点はステンレスの約２倍であるの
でステンレスを溶かしてもタンタルは溶けることはな
い。従つて、電子ビームによつて溶けたステンレスがろ
う材となり、タンタルリング２とステンレスのフランジ
１はｂ面にて接合される。このようにタンタルリング２
の接合したフランジ１に第３図に示すような形状のタン
タルダイアフラム３を被せ第４図のようにタンタルリン
グ２とタンタルダイアフラム３を溶接する。タンタルダ
イアフラム３とタンタルリング２の溶接は同材質なので
容易に溶接することが出来る。An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. FIG. 2 shows an appearance of a transmitter using many tantalum diaphragms. This transmitter is composed of a liquid contact flange portion 6 in contact with a process fluid, a capillary tube 5 in which a liquid 7 for transmitting pressure is sealed, and a main body 4 in which a sensor for detecting pressure is housed. ing. FIG. 1 shows the details of the wetted flange portion 6. The tantalum ring 2 is joined to the side of the flange 1 that contacts the process fluid, and the tantalum diaphragm 3 is further covered with the tantalum ring 3, and the tantalum diaphragm 3 and the tantalum ring 2 are welded. A method of welding the tantalum diaphragm 3 to the stainless steel flange 1 will be described with reference to FIGS. A groove having the same dimensions as the tantalum ring 2 is provided in the flange 1 and the tantalum ring 2 is inserted into the groove. The thickness of the tantalum ring 2 is 0.
5 to 1 mm. Next, the stainless steel on the outer periphery of the tantalum ring 2 is melted by an electron beam welding machine. At this time, the focal point a of the electron beam is 0.2 to 0.5 mm from the outer periphery of the tantalum ring 2.
And Since the melting point of tantalum is about twice that of stainless steel, tantalum does not melt even if stainless steel is melted. Accordingly, the stainless steel melted by the electron beam becomes a brazing filler metal, and the tantalum ring 2 and the stainless steel flange 1 are joined at the b-plane. In this way, tantalum ring 2
A tantalum diaphragm 3 having a shape as shown in FIG. 3 is put on the joined flange 1 and the tantalum ring 2 and the tantalum diaphragm 3 are welded as shown in FIG. Since the tantalum diaphragm 3 and the tantalum ring 2 are made of the same material, they can be easily welded.
本伝送器で測定流体に接する箇所は、ダイアフラム部
ｃとフランジパツキン座部ｄであり、この箇所が、腐食
性流体を測定する場合に耐食性が要求される。本実施例
によれば、測定流体に接する接液部は全てタンタルで覆
われている。タンタルリング２とフランジ１の接合部
は、タンタルとステンレスの接合となつているがタンタ
ルダイアフラム３に覆われているので測定流体に接する
ことは無い。これらの接合方法により接液部の材質は全
てタンタルとなる。また、これらの溶接は全て電子ビー
ムを用いて溶接する。電子ビーム溶接は小さい面積に大
きなエネルギーが得られるため、溶接による歪がたいへ
ん小さい。また、真空中で溶接を行うために最上の不活
性雰囲気のため非常に安定した溶接が得られる。また、
歩留りについて、ろう付方法は高温にて行うためステン
レスとタンタルの膨張係数の違いからダイアフラムが変
形してしまうものが多く、歩留りが悪く原価高となつて
いた。しかし、本発明によれば安定した溶接が保たれる
ため、ダイアフラム変形もなく、歩留りも大巾に向上
し、結果的に原価低減につながつた。The portions in contact with the measurement fluid in this transmitter are the diaphragm portion c and the flange packing seat portion d, and these portions are required to have corrosion resistance when measuring a corrosive fluid. According to the present embodiment, all the liquid contact portions that come into contact with the measurement fluid are covered with tantalum. The junction between the tantalum ring 2 and the flange 1 is joined to tantalum and stainless steel, but is not in contact with the measurement fluid because it is covered by the tantalum diaphragm 3. By these joining methods, the material of the liquid contact part is all tantalum. All of these weldings are performed using an electron beam. In electron beam welding, since large energy is obtained in a small area, distortion due to welding is very small. In addition, since the welding is performed in a vacuum, a very stable welding can be obtained because of the uppermost inert atmosphere. Also,
Regarding the yield, since the brazing method is performed at a high temperature, the diaphragm is often deformed due to the difference in the expansion coefficient between stainless steel and tantalum, and the yield is poor and the cost is high. However, according to the present invention, since stable welding is maintained, there is no deformation of the diaphragm, and the yield is greatly improved. As a result, the cost is reduced.
本発明によれば、ステンレスとタンタルの接合、溶接
にて接合が可能になつたので、ろう付による接合と比べ
歩留りが向上した。これにより原価低減をはかることが
出来る。According to the present invention, since joining can be performed by joining and welding stainless steel and tantalum, the yield is improved as compared with joining by brazing. As a result, costs can be reduced.
第１図は本発明の一実施例の詳細断面図、第２図は外観
図、第３図，第４図は本発明の説明図である。 １……フランジ、２……タンタルリング、３……タンタ
ルダイアフラム、４……本体、５……キヤピラリーチユ
ーブ、６……接液フランジ部、７……液。FIG. 1 is a detailed sectional view of one embodiment of the present invention, FIG. 2 is an external view, and FIGS. 3 and 4 are explanatory views of the present invention. 1 ... Flange, 2 ... Tantalum ring, 3 ... Tantalum diaphragm, 4 ... Main body, 5 ... Capillary tube, 6 ... Wetted flange, 7 ... Liquid.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 飛田 朋之 茨城県勝田市市毛882番地 株式会社日 立製作所那珂工場内 (72)発明者 黒沢 亮 茨城県東茨城郡内原町三湯字訳山500番 地 日立那珂エレクトロニクス株式会社 内 (56)参考文献 特開 昭63−91531（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−151534（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−60232（ＪＰ，Ａ) 実開 昭55−172835（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭58−91142（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭55−171487（ＪＰ，Ｕ) 特公 昭59−6374（ＪＰ，Ｂ２) 米国特許4046010（ＵＳ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) F16J 3/00 - 3/06 G01L 7/00 - 23/32 B23K 15/00 B23K 1/19 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Tomoyuki Tobita 882 Ma, Katsuta-shi, Ibaraki Pref.Naka Plant, Hitachi, Ltd. Address Hitachi Naka Electronics Co., Ltd. (56) References JP-A-63-91531 (JP, A) JP-A-58-151534 (JP, A) JP-A-58-60232 (JP, A) US Pat. No. 4,460,010 (US, A) US Pat. No. 4,460,010 (US, A) No. 172835 (JP, U) Japanese Utility Model Application No. Sho 58-91142 (JP, U) ) Fields investigated (Int.Cl. 6 , DB name) F16J 3/00-3/06 G01L 7/00-23/32 B23K 15/00 B23K 1/19
Claims (1)
からなるダイアフラムを用いる圧力伝送器の製造方法に
おいて、 ステンレス材のフランジ部材に溝を設け、 前記フランジ部材と接するように前記フランジ部材の溝
にタンタル材の固定リングを挿入し、 前記固定リングが溶融されず且つ前記フランジ部材が溶
融されるように電子ビームを照射して前記固定リングと
前記フランジ部材の接触する部分を接合し、 前記固定リングに前記ダイアフラムを接触させ電子ビー
ムを照射して前記ダイアフラムと前記固定リングを接合
することを特徴とする圧力伝送器の製造方法。1. A method of manufacturing a pressure transmitter using a tantalum diaphragm in a liquid contact portion in contact with a process fluid, wherein a groove is provided in a stainless steel flange member, and the groove of the flange member is in contact with the flange member. A fixing ring of a tantalum material is inserted into the fixing member, and an electron beam is irradiated so that the fixing ring is not melted and the flange member is melted to join a portion where the fixing ring and the flange member are in contact with each other. A method for manufacturing a pressure transmitter, wherein the diaphragm is brought into contact with a ring, and an electron beam is irradiated to join the diaphragm and the fixed ring.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26495189A JP2875301B2 (en) | 1989-10-13 | 1989-10-13 | Manufacturing method of pressure transmitter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26495189A JP2875301B2 (en) | 1989-10-13 | 1989-10-13 | Manufacturing method of pressure transmitter |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03129171A JPH03129171A (en) | 1991-06-03 |
| JP2875301B2 true JP2875301B2 (en) | 1999-03-31 |
Family
ID=17410464
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26495189A Expired - Lifetime JP2875301B2 (en) | 1989-10-13 | 1989-10-13 | Manufacturing method of pressure transmitter |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JP2875301B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108942110A (en) * | 2018-08-21 | 2018-12-07 | 宁波江丰电子材料股份有限公司 | The processing technology of ring shoulder annular knurl |
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|---|---|---|---|---|
| US7814798B2 (en) * | 2008-09-17 | 2010-10-19 | P I Components Corporation | Diaphragm structure and method of manufacturing a diaphragm structure |
-
1989
- 1989-10-13 JP JP26495189A patent/JP2875301B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108942110A (en) * | 2018-08-21 | 2018-12-07 | 宁波江丰电子材料股份有限公司 | The processing technology of ring shoulder annular knurl |
| CN108942110B (en) * | 2018-08-21 | 2019-11-05 | 宁波江丰电子材料股份有限公司 | The processing technology for the ring shoulder annular knurl being used cooperatively with target |
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| JPH03129171A (en) | 1991-06-03 |
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