JP2870924B2 - イオンビームのモニタ方法およびその装置 - Google Patents
イオンビームのモニタ方法およびその装置Info
- Publication number
- JP2870924B2 JP2870924B2 JP2024714A JP2471490A JP2870924B2 JP 2870924 B2 JP2870924 B2 JP 2870924B2 JP 2024714 A JP2024714 A JP 2024714A JP 2471490 A JP2471490 A JP 2471490A JP 2870924 B2 JP2870924 B2 JP 2870924B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scanning
- ion beam
- beam current
- current value
- faraday cup
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 title claims description 64
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 title claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 25
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000012806 monitoring device Methods 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、イオンビームを電気的に走査すると共
に、ターゲットをそれと直交する方向に機械的に走査す
る、いわゆるハイブリッドスキャン方式のイオン注入装
置におけるイオンビームのモニタ方式およびその装置に
関する。
に、ターゲットをそれと直交する方向に機械的に走査す
る、いわゆるハイブリッドスキャン方式のイオン注入装
置におけるイオンビームのモニタ方式およびその装置に
関する。
この種のイオン注入装置であって、従来のイオンビー
ムのモニタ装置を含むものの一例を部分的に第７図に示
す。
ムのモニタ装置を含むものの一例を部分的に第７図に示
す。
このイオン注入装置においては、図示しないイオン源
から引き出され、かつ必要に応じて質量分析、加速等の
行われたスポット状のイオンビーム２を、走査電源６お
よび14から互いに180度位相の異なる走査電圧（三角波
電圧）が印加される二組の走査電極４および12の協働に
よってＸ方向（例えば水平方向。以下同じ）に静電的に
高速で平行走査するようにしている。16は同期信号線で
ある。
から引き出され、かつ必要に応じて質量分析、加速等の
行われたスポット状のイオンビーム２を、走査電源６お
よび14から互いに180度位相の異なる走査電圧（三角波
電圧）が印加される二組の走査電極４および12の協働に
よってＸ方向（例えば水平方向。以下同じ）に静電的に
高速で平行走査するようにしている。16は同期信号線で
ある。
このイオンビーム２の軌道上には、偏向電源10から所
定の偏向電圧が印加される一組の偏向電極８が設けられ
ており、これによってイオンビーム２を前記Ｘ方向と直
交するＹ方向（例えば垂直方向。以下同じ）に所要の角
度だけ偏向させ、直進する中性ビームと分離するように
している。
定の偏向電圧が印加される一組の偏向電極８が設けられ
ており、これによってイオンビーム２を前記Ｘ方向と直
交するＹ方向（例えば垂直方向。以下同じ）に所要の角
度だけ偏向させ、直進する中性ビームと分離するように
している。
前記走査電極12の下流側には、スリット181を有する
スリット板18が設けられており、それを通過したイオン
ビーム２の照射領域内にターゲット（例えばウェーハ）
24を図示しないホルダによって保持すると共に、それを
駆動装置26によってＹ方向に機械的に走査し、これとイ
オンビーム２の前記Ｘ方向の走査との協働によってター
ゲット24の全面に均一にイオン注入を行うようにしてい
る。
スリット板18が設けられており、それを通過したイオン
ビーム２の照射領域内にターゲット（例えばウェーハ）
24を図示しないホルダによって保持すると共に、それを
駆動装置26によってＹ方向に機械的に走査し、これとイ
オンビーム２の前記Ｘ方向の走査との協働によってター
ゲット24の全面に均一にイオン注入を行うようにしてい
る。
更にこの実施例では、イオンビーム２のＸ方向の均一
性をモニタする装置を構成するものとして、ターゲット
24の手前側に多点モニタ20を設け、それを駆動装置22に
よって、イオンビーム２の照射領域内に計測のために入
れたり、ターゲット24に対するイオン注入の邪魔になら
ないように出したりすることができるようにしている。
性をモニタする装置を構成するものとして、ターゲット
24の手前側に多点モニタ20を設け、それを駆動装置22に
よって、イオンビーム２の照射領域内に計測のために入
れたり、ターゲット24に対するイオン注入の邪魔になら
ないように出したりすることができるようにしている。
多点モニタ20は、例えば第８図に示すように、イオン
ビーム２を受けてそのビーム電流をそれぞれ計測する多
数の互いに同一面積のファラデーカップ203をＸ方向に
一列に並べたものと、その前方に設けられていて各ファ
ラーカップ203に対応する位置に開口部を有するサプレ
ッサ202と、その前方に設けられていて各ファラデーカ
ップ203に対応する位置に開口部を有するマスク201とを
備えている。この多点モニタ20からは、各ファラデーカ
ップ203につながる複数（ｎ）本のリード線21が引き出
されている。
ビーム２を受けてそのビーム電流をそれぞれ計測する多
数の互いに同一面積のファラデーカップ203をＸ方向に
一列に並べたものと、その前方に設けられていて各ファ
ラーカップ203に対応する位置に開口部を有するサプレ
ッサ202と、その前方に設けられていて各ファラデーカ
ップ203に対応する位置に開口部を有するマスク201とを
備えている。この多点モニタ20からは、各ファラデーカ
ップ203につながる複数（ｎ）本のリード線21が引き出
されている。
上記のような多点モニタ20を含む従来のモニタ装置に
おいては、イオンビーム２のＸ方向における単位面積当
りの電流値の分布を測定（モニタ）することができるも
のの、その電流値がＸ方向で変化している場合、その原
因がイオンビーム２の軌道の傾き（ゆがみ）によるもの
か、イオンビーム２の形状の変形によるものかの判別が
できず、従って適切な対応を取りにくいという問題があ
る。
おいては、イオンビーム２のＸ方向における単位面積当
りの電流値の分布を測定（モニタ）することができるも
のの、その電流値がＸ方向で変化している場合、その原
因がイオンビーム２の軌道の傾き（ゆがみ）によるもの
か、イオンビーム２の形状の変形によるものかの判別が
できず、従って適切な対応を取りにくいという問題があ
る。
イオンビーム２の軌道の傾きとは、例えば第９図に示
すような状態を言う。このような状態では、中央部のビ
ーム量は多いが、端部ではイオンビーム２がスリット板
18に遮られるためビーム量は少なくなる。
すような状態を言う。このような状態では、中央部のビ
ーム量は多いが、端部ではイオンビーム２がスリット板
18に遮られるためビーム量は少なくなる。
イオンビーム２の形状の変形とは、例えば第10図に示
すような状態を言う。この状態でも、中央部のビーム量
は多いが、端部ではイオンビーム２の一部がスリット板
18で遮られるためビーム量は少なくなる。
すような状態を言う。この状態でも、中央部のビーム量
は多いが、端部ではイオンビーム２の一部がスリット板
18で遮られるためビーム量は少なくなる。
そこでこの発明は、Ｘ方向に走査されたイオンビーム
のＸ方向における単位面積当りの電流値の分布を知るこ
とができる他、同イオンビームの軌道の傾きおよび形状
の変形を知ることができる、イオンビームのモニタ方法
およびその装置を提供することを主たる目的とする。
のＸ方向における単位面積当りの電流値の分布を知るこ
とができる他、同イオンビームの軌道の傾きおよび形状
の変形を知ることができる、イオンビームのモニタ方法
およびその装置を提供することを主たる目的とする。
上記目的を達成するため、例えばこの発明に係るイオ
ンビームのモニタ方法は、Ｘ方向に電気的に走査される
イオンビームの照射領域内の所定領域のビーム電流を計
測するものであってしかも計測位置をＸ方向上で複数個
所に変えることのできるビーム電流計測手段を用い、イ
オンビームをＸ方向と共にそれと直交するＹ方向に電気
的に走査しながら、前記ビーム電流計測手段で計測する
ビーム電流値を、表示手段において、イオンビームのＹ
方向の走査位置に応じた位置に表示させ、かつこのよう
な操作を、前記ビーム電流計測手段による計測位置をＸ
方向上で複数個所に変えて行うことを特徴とする。
ンビームのモニタ方法は、Ｘ方向に電気的に走査される
イオンビームの照射領域内の所定領域のビーム電流を計
測するものであってしかも計測位置をＸ方向上で複数個
所に変えることのできるビーム電流計測手段を用い、イ
オンビームをＸ方向と共にそれと直交するＹ方向に電気
的に走査しながら、前記ビーム電流計測手段で計測する
ビーム電流値を、表示手段において、イオンビームのＹ
方向の走査位置に応じた位置に表示させ、かつこのよう
な操作を、前記ビーム電流計測手段による計測位置をＸ
方向上で複数個所に変えて行うことを特徴とする。
上記表示手段には、例えば走査位置を横軸としビーム
電流値を縦軸とした場合、山形の波形が表示される。そ
して、Ｘ方向上での計測位置を変えることで、このよう
な波形が複数得られる。
電流値を縦軸とした場合、山形の波形が表示される。そ
して、Ｘ方向上での計測位置を変えることで、このよう
な波形が複数得られる。
このようにして得られた複数の波形の各ピーク値を計
測位置との関係で見ることにより、イオンビームのＸ方
向における単位面積当りの電流値の分布を知ることがで
きる。
測位置との関係で見ることにより、イオンビームのＸ方
向における単位面積当りの電流値の分布を知ることがで
きる。
また、上記のようにして得られる複数の波形の各中心
位置を計測位置との関係で見ることにより、イオンビー
ムの軌道の傾きを知ることができる。
位置を計測位置との関係で見ることにより、イオンビー
ムの軌道の傾きを知ることができる。
また、上記のようにして得られる複数の波形の各広が
り幅を計測位置との関係で見ることにより、イオンビー
ムの形状の変形を知ることができる。
り幅を計測位置との関係で見ることにより、イオンビー
ムの形状の変形を知ることができる。
第１図は、この発明に係るイオンビームのモニタ方法
を実施するモニタ装置を含むイオン注入装置の一例を部
分的に示す図である。第７図の例と同一または相当する
部分には同一符号を付し、以下においては従来例との相
違点を主に説明する。
を実施するモニタ装置を含むイオン注入装置の一例を部
分的に示す図である。第７図の例と同一または相当する
部分には同一符号を付し、以下においては従来例との相
違点を主に説明する。
この実施例においては、Ｘ方向に走査されるイオンビ
ーム２をＹ方向に電気的に走査する走査手段として、前
述したような一組の偏向電極８を用いている。そして、
前述した偏向電源10に、切換スイッチ28を介して、走査
電源30を接続しており、これから偏向電極８に走査電圧
（三角波電圧）を印加することができるようにしてい
る。
ーム２をＹ方向に電気的に走査する走査手段として、前
述したような一組の偏向電極８を用いている。そして、
前述した偏向電源10に、切換スイッチ28を介して、走査
電源30を接続しており、これから偏向電極８に走査電圧
（三角波電圧）を印加することができるようにしてい
る。
また、前述した多点モニタ20から引き出されている複
数本のリード線21にスイッチ（例えばアナログスイッ
チ）36を接続して、多点モニタ20内の各ファラデーカッ
プ203（第８図参照）で計測するビーム電流値を択一的
に切り換えて出力することができるようにしている。
数本のリード線21にスイッチ（例えばアナログスイッ
チ）36を接続して、多点モニタ20内の各ファラデーカッ
プ203（第８図参照）で計測するビーム電流値を択一的
に切り換えて出力することができるようにしている。
また、例えばシンクロスコープのような表示装置34を
設け、そのＸ軸端子341に、前記走査電源30から出力さ
れる走査電圧に比例した信号を信号線32を経由して入力
し、Ｙ軸端子342に、スイッチ36から出力されるビーム
電流値を入力するようにしている。
設け、そのＸ軸端子341に、前記走査電源30から出力さ
れる走査電圧に比例した信号を信号線32を経由して入力
し、Ｙ軸端子342に、スイッチ36から出力されるビーム
電流値を入力するようにしている。
Ｘ方向に走査されるイオンビーム２の照射領域に多点
モニタ20を入れ、かつ偏向電極８によってイオンビーム
２をＹ方向に走査した場合、スイッチ36によって多点モ
ニタ20内の任意の一個のファラデーカップを選択してお
くと、表示装置34には、イオンビーム２のＹ方向の走査
位置をＸ軸としビーム電流値をＹ軸として、例えば第２
図に示すような山型の波形が表示される。これは、イオ
ンビーム２はＹ方向にも幾らかの幅を持っており、その
中央部が選択されたファラデーカップをちょうど通過す
るときにビーム電流値が最大になるからである。
モニタ20を入れ、かつ偏向電極８によってイオンビーム
２をＹ方向に走査した場合、スイッチ36によって多点モ
ニタ20内の任意の一個のファラデーカップを選択してお
くと、表示装置34には、イオンビーム２のＹ方向の走査
位置をＸ軸としビーム電流値をＹ軸として、例えば第２
図に示すような山型の波形が表示される。これは、イオ
ンビーム２はＹ方向にも幾らかの幅を持っており、その
中央部が選択されたファラデーカップをちょうど通過す
るときにビーム電流値が最大になるからである。
なお、第２図において波形が微小な山の集まりになっ
ているのは、イオンビームをＸ方向にも走査しているか
らである。
ているのは、イオンビームをＸ方向にも走査しているか
らである。
そして、スイッチ36を切り換えて選択するファラデー
カップを切り換え、Ｘ方向上での計測位置を変えること
で、第２図のような波形が複数得られる。
カップを切り換え、Ｘ方向上での計測位置を変えること
で、第２図のような波形が複数得られる。
このようにして得られた複数の波形の各ピーク値YPを
計測位置との関係で見ることにより、イオンビーム２の
Ｘ方向における単位面積当りの電流値の分布を知ること
ができる。例えば、第３図に示すようなグラフを描くこ
とができ、この図は、イオンビーム２の単位面積当りの
電流値がＸ方向の両端部で低下していることを示してい
る。
計測位置との関係で見ることにより、イオンビーム２の
Ｘ方向における単位面積当りの電流値の分布を知ること
ができる。例えば、第３図に示すようなグラフを描くこ
とができ、この図は、イオンビーム２の単位面積当りの
電流値がＸ方向の両端部で低下していることを示してい
る。
また、複数の第２図のような波形の各中心位置XOを計
測位置との関係で見ることにより、イオンビーム２の軌
道の傾きを知ることができる。例えば、第４図に示すよ
うなグラフを描くことができ、この図は、イオンビーム
２の軌道が例えば第９図に示したように傾いていること
を示している。
測位置との関係で見ることにより、イオンビーム２の軌
道の傾きを知ることができる。例えば、第４図に示すよ
うなグラフを描くことができ、この図は、イオンビーム
２の軌道が例えば第９図に示したように傾いていること
を示している。
また、複数の第２図のような波形の各広がり幅ΔＸを
計測位置との関係で見ることにより、イオンビーム２の
形状の変形を知ることができる。例えば、第５図に示す
ようなグラフを描くことができ、この図は、イオンビー
ム２の形状が例えば第10図に示したように変形している
ことを示している。
計測位置との関係で見ることにより、イオンビーム２の
形状の変形を知ることができる。例えば、第５図に示す
ようなグラフを描くことができ、この図は、イオンビー
ム２の形状が例えば第10図に示したように変形している
ことを示している。
その結果、例えば、イオンビーム２の単位面積当りの
電流値がＸ方向で変化しているような場合、その原因が
イオンビーム２の軌道の傾きによるものか変形によるも
のかの判別が容易に付くため、それを適正なものとする
対応も取りやすくなる。
電流値がＸ方向で変化しているような場合、その原因が
イオンビーム２の軌道の傾きによるものか変形によるも
のかの判別が容易に付くため、それを適正なものとする
対応も取りやすくなる。
なお、上記のような多点モニタ20を用いる代わりに、
単一のファラデーカップがＸ方向に移動するような装置
を用いても良い。
単一のファラデーカップがＸ方向に移動するような装置
を用いても良い。
第６図はその一例を示すものであり、この装置は、イ
オンビーム２を受けてその所定領域のビーム電流を計測
する単一のファラデーカップを含むファラデー部38と、
このファラデー部38をＸ方向に前後動させる駆動装置42
と、このファラデー部38のＸ方向の位置を検出する位置
検出器40とを備えている。このファラデー部38を移動さ
せることにより、Ｘ方向上での計測位置を変えることが
できる。
オンビーム２を受けてその所定領域のビーム電流を計測
する単一のファラデーカップを含むファラデー部38と、
このファラデー部38をＸ方向に前後動させる駆動装置42
と、このファラデー部38のＸ方向の位置を検出する位置
検出器40とを備えている。このファラデー部38を移動さ
せることにより、Ｘ方向上での計測位置を変えることが
できる。
従って、このファラデー部38からのビーム電流を、前
述した表示装置34のＹ軸端子342に入力すれば、第１図
の実施例の場合と同様のモニタを行うことができる。
述した表示装置34のＹ軸端子342に入力すれば、第１図
の実施例の場合と同様のモニタを行うことができる。
また、第２図に示すような波形を、表示装置34におい
て、記録という形で表示するようにしても良い。その場
合、表示装置34として、例えば、Ｙ方向の走査の周波数
を低くすればＸ−Ｙプロッタのようなものを用いること
ができ、周波数が高いままでもディジタルオシロスコー
プのようなものを用いることができる。つまりこの明細
書では、「表示」なる用語は、その一態様として記録を
含むものとして用いている。
て、記録という形で表示するようにしても良い。その場
合、表示装置34として、例えば、Ｙ方向の走査の周波数
を低くすればＸ−Ｙプロッタのようなものを用いること
ができ、周波数が高いままでもディジタルオシロスコー
プのようなものを用いることができる。つまりこの明細
書では、「表示」なる用語は、その一態様として記録を
含むものとして用いている。
また、上記各例では、イオンビーム２のＸ方向の走査
手段として走査電極４および12を、イオンビーム２のＹ
方向の偏向手段あるいは走査手段として偏向電極８をそ
れぞれ用いているが、それらの代わりに電磁石を用いて
イオンビーム２を磁界によって走査あるいは偏向させる
ようにしても良い。
手段として走査電極４および12を、イオンビーム２のＹ
方向の偏向手段あるいは走査手段として偏向電極８をそ
れぞれ用いているが、それらの代わりに電磁石を用いて
イオンビーム２を磁界によって走査あるいは偏向させる
ようにしても良い。
また、この明細書においてＸ方向およびＹ方向は、直
交する２方向を表すだけであり、従って例えば、Ｘ方向
を水平方向と見ても、垂直方向と見ても、更にはそれら
から傾いた方向と見ても良い。
交する２方向を表すだけであり、従って例えば、Ｘ方向
を水平方向と見ても、垂直方向と見ても、更にはそれら
から傾いた方向と見ても良い。
以上のようにこの発明によれば、Ｘ方向に走査された
イオンビームのＸ方向における単位面積当りの電流値の
分布を知ることができる他、同イオンビームの軌道の傾
きおよび形状の変形を知ることができる。
イオンビームのＸ方向における単位面積当りの電流値の
分布を知ることができる他、同イオンビームの軌道の傾
きおよび形状の変形を知ることができる。
その結果、例えば、イオンビームの単位面積当りの電
流値がＸ方向で変化しているような場合、その原因がイ
オンビームの軌道の傾きによるものか変形によるものか
の判別が容易に付くため、それを適正なものにする対応
も取りやすくなる。
流値がＸ方向で変化しているような場合、その原因がイ
オンビームの軌道の傾きによるものか変形によるものか
の判別が容易に付くため、それを適正なものにする対応
も取りやすくなる。
第１図は、この発明に係るイオンビームのモニタ方法を
実施するモニタ装置を含むイオン注入装置の一例を部分
的に示す図である。第２図は、第１図中の表示装置に表
示される波形の一例を示す図である。第３図は、第２図
のような波形を計測位置を変えて複数求め、そのピーク
値YPを計測位置との関係で表したグラフである。第４図
は、第２図のような波形を計測位置を変えて複数求め、
その中心位置XOを計測位置との関係で表したグラフであ
る。第５図は、第２図のような波形を計測位置を変えて
複数求め、その広がり幅ΔＸを計測位置との関係で表し
たグラフである。第６図は、ファラデー部およびその駆
動装置周りを示す図である。第７図は、従来のイオンビ
ームのモニタ装置を含むイオン注入装置の一例を部分的
に示す図である。第８図は、第１図および第７図中の多
点モニタの詳細例を部分的に示す断面図である。第９図
は、イオンビームの軌道の傾いた場合の例を示す図であ
る。第10図は、イオンビームの形状が変化した場合の例
を示す図である。 ２…イオンビーム、４…走査電極、８…偏向電極（走査
手段）、12…走査電極、20…多点ビーム（ビーム電流計
測手段）、24…ターゲット、30…走査電源、34…表示装
置（表示手段）、36…スイッチ、38…ファラデー部（ビ
ーム電流計測手段）、40…位置検出器、42…駆動装置。
実施するモニタ装置を含むイオン注入装置の一例を部分
的に示す図である。第２図は、第１図中の表示装置に表
示される波形の一例を示す図である。第３図は、第２図
のような波形を計測位置を変えて複数求め、そのピーク
値YPを計測位置との関係で表したグラフである。第４図
は、第２図のような波形を計測位置を変えて複数求め、
その中心位置XOを計測位置との関係で表したグラフであ
る。第５図は、第２図のような波形を計測位置を変えて
複数求め、その広がり幅ΔＸを計測位置との関係で表し
たグラフである。第６図は、ファラデー部およびその駆
動装置周りを示す図である。第７図は、従来のイオンビ
ームのモニタ装置を含むイオン注入装置の一例を部分的
に示す図である。第８図は、第１図および第７図中の多
点モニタの詳細例を部分的に示す断面図である。第９図
は、イオンビームの軌道の傾いた場合の例を示す図であ
る。第10図は、イオンビームの形状が変化した場合の例
を示す図である。 ２…イオンビーム、４…走査電極、８…偏向電極（走査
手段）、12…走査電極、20…多点ビーム（ビーム電流計
測手段）、24…ターゲット、30…走査電源、34…表示装
置（表示手段）、36…スイッチ、38…ファラデー部（ビ
ーム電流計測手段）、40…位置検出器、42…駆動装置。
Claims (3)
- 【請求項１】Ｘ方向に電気的に走査されるイオンビーム
の照射領域内の所定領域のビーム電流を計測するもので
あってしかも計測位置をＸ方向上で複数個所に変えるこ
とのできるビーム電流計測手段を用い、イオンビームを
Ｘ方向と共にそれと直交するＹ方向に電気的に走査しな
がら、前記ビーム電流計測手段で計測するビーム電流値
を、表示手段において、イオンビームのＹ方向の走査位
置に応じた位置に表示させ、かつこのような操作を、前
記ビーム電流計測手段による計測位置をＸ方向上で複数
個所に変えて行うことを特徴とするイオンビームのモニ
タ方法。 - 【請求項２】Ｘ方向に電気的に走査されるイオンビーム
をＸ方向と直交するＹ方向に電気的に走査する走査手段
と、この走査手段に走査電圧を供給する走査電源と、イ
オンビームを受けてその所定領域のビーム電流をそれぞ
れ計測する複数の互いに同一面積のファラデーカップを
Ｘ方向に並べたものを含む多点モニタと、この多点モニ
タ内の各ファラデーカップで計測するビーム電流値を択
一的に切り換えて出力するスイッチと、このスイッチか
ら出力されるビーム電流値を前記走査電源から出力され
る走査電圧に応じた位置に表示する表示装置とを備える
ことを特徴とするイオンビームのモニタ装置。 - 【請求項３】Ｘ方向に電気的に走査されるイオンビーム
をＸ方向と直交するＹ方向に電気的に走査する走査手段
と、この走査手段に走査電圧を供給する走査電源と、イ
オンビームを受けてその所定領域のビーム電流を計測す
るファラデーカップと、このファラデーカップをＸ方向
に移動させる駆動装置と、前記ファラデーカップのＸ方
向の位置を検出する位置検出器と、前記ファラデーカッ
プから出力されるビーム電流値を前記走査電源から出力
される走査電圧に応じた位置に表示する表示装置とを備
えることを特徴とするイオンビームのモニタ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2024714A JP2870924B2 (ja) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | イオンビームのモニタ方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2024714A JP2870924B2 (ja) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | イオンビームのモニタ方法およびその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03230462A JPH03230462A (ja) | 1991-10-14 |
| JP2870924B2 true JP2870924B2 (ja) | 1999-03-17 |
Family
ID=12145838
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2024714A Expired - Fee Related JP2870924B2 (ja) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | イオンビームのモニタ方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2870924B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4882456B2 (ja) | 2006-03-31 | 2012-02-22 | 株式会社Ｉｈｉ | イオン注入装置 |
| NL2005249A (en) * | 2009-09-24 | 2011-03-28 | Asml Netherlands Bv | Radiation detector. |
| CN111063600B (zh) * | 2019-12-26 | 2022-10-28 | 华虹半导体(无锡)有限公司 | 一种实时监控离子注入剂量的装置及使用方法 |
-
1990
- 1990-02-02 JP JP2024714A patent/JP2870924B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03230462A (ja) | 1991-10-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2969788B2 (ja) | イオンビームの平行度測定方法、走査波形整形方法およびイオン注入装置 | |
| JP3291880B2 (ja) | 走査形電子顕微鏡 | |
| EP0975004B1 (en) | Method for measuring distribution of beams of charged particles and methods relating thereto | |
| JPS63503340A (ja) | イオン注入のための注入量の測定及び均一性のモニタリング装置 | |
| JP2709594B2 (ja) | イオンビームの制御方法及びそのために使用するディスプレイ装置 | |
| JPH0922676A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
| JP2870924B2 (ja) | イオンビームのモニタ方法およびその装置 | |
| JPS62190641A (ja) | 試料上での二次粒子の検知方法および装置 | |
| KR20220011176A (ko) | 하전 입자선 장치 | |
| US3842272A (en) | Scanning charged particle microprobe with external spurious electric field effect correction | |
| US3986027A (en) | Stereo scanning microprobe | |
| JPS6329786B2 (ja) | ||
| JPH02312152A (ja) | イオン注入装置 | |
| JP2674356B2 (ja) | イオン注入装置 | |
| JPH025346A (ja) | イオン注入装置およびイオンビームの調整方法 | |
| JP2551954B2 (ja) | 走査トンネル顕微鏡 | |
| Jobes et al. | Plasma Density Contour Measurements Using Molecular Ion Beam Breakup | |
| JPH0317947A (ja) | イオン注入装置 | |
| JP4213883B2 (ja) | 磁界の測定方法および磁界測定装置、ならびに電流波形測定方法および電界測定方法 | |
| JP3117250B2 (ja) | イオンビームモニタ装置付きイオン注入装置 | |
| JPH0817196B2 (ja) | 電子ビームプローブ装置 | |
| JPH049682A (ja) | 集積回路の導電路上の電位測定方法 | |
| JPS6028151A (ja) | 走査形ストロボイオン顕微鏡 | |
| JPS62206451A (ja) | 高電圧波形測定装置 | |
| JP2575750B2 (ja) | 静電偏向器とストロボ電子ビーム装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |