JP2859042B2 - セラミック回転体 - Google Patents
セラミック回転体Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は軸中心線上の両端面にセ
ンタ穴を有するセラミック回転体に関するものである。
ンタ穴を有するセラミック回転体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、各種の産業機械装置における超精
密回転体や高温雰囲気下で使用される回転体には、熱膨
張が小さく機械的強度および耐熱性、耐摩耗性に優れ、
かつ比重が小さいことから軽量化が実現できるセラミッ
クスの特徴を利用して、アルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）、ジル
コニア（ＺｒＯ2 ）、窒化珪素（Ｓｉ3 Ｎ4 ）、サイア
ロン及び炭化珪素（ＳｉＣ）等のセラミック焼結体を用
いたセラミック回転体が種々研究され提案されるように
なってきた。
密回転体や高温雰囲気下で使用される回転体には、熱膨
張が小さく機械的強度および耐熱性、耐摩耗性に優れ、
かつ比重が小さいことから軽量化が実現できるセラミッ
クスの特徴を利用して、アルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）、ジル
コニア（ＺｒＯ2 ）、窒化珪素（Ｓｉ3 Ｎ4 ）、サイア
ロン及び炭化珪素（ＳｉＣ）等のセラミック焼結体を用
いたセラミック回転体が種々研究され提案されるように
なってきた。
【０００３】一般に、この種のセラミック回転体、例え
ばターボチャージャーやガスタービン等に使用されるセ
ラミックローターやエアースピンドル等に代表される高
速回転体は、毎分数万〜十数万回転にも達する高速度で
回転することから、動バランスの良いことが要求されて
いる。
ばターボチャージャーやガスタービン等に使用されるセ
ラミックローターやエアースピンドル等に代表される高
速回転体は、毎分数万〜十数万回転にも達する高速度で
回転することから、動バランスの良いことが要求されて
いる。
【０００４】ところが、セラミック成形体は焼成収縮に
よる変形や寸法のバラツキを生じることから、焼成前後
でバランス調整を極めて厳密に行い、アンバランス量を
極力小さくしておく必要があった。
よる変形や寸法のバラツキを生じることから、焼成前後
でバランス調整を極めて厳密に行い、アンバランス量を
極力小さくしておく必要があった。
【０００５】そこで、従来のセラミック回転体において
は、焼成後のセラミック回転体の回転軸両端面に金属等
の別部材を接着し、その略軸中心線上の前記別部材に穴
を穿設した後、該穴を結ぶ線を中心に回転させながらダ
イヤモンド砥石を使用して研削または研磨加工し、最終
のバランス調整を行うまでにアンバランス量を極力小さ
くすることが行われていた。
は、焼成後のセラミック回転体の回転軸両端面に金属等
の別部材を接着し、その略軸中心線上の前記別部材に穴
を穿設した後、該穴を結ぶ線を中心に回転させながらダ
イヤモンド砥石を使用して研削または研磨加工し、最終
のバランス調整を行うまでにアンバランス量を極力小さ
くすることが行われていた。
【０００６】しかしながら、前記セラミック回転体では
最終のバランス調整を行う前に、接着した別部材をはず
したり、研削除去したりしなければならないために、逆
にアンバランス量が増加してしまいバランス調整ができ
ない場合を生じる他、ダイヤモンド砥石を使用する研削
または研磨加工が長時間に及ぶことから高コストになる
等、製造上に大きな問題があった。
最終のバランス調整を行う前に、接着した別部材をはず
したり、研削除去したりしなければならないために、逆
にアンバランス量が増加してしまいバランス調整ができ
ない場合を生じる他、ダイヤモンド砥石を使用する研削
または研磨加工が長時間に及ぶことから高コストになる
等、製造上に大きな問題があった。
【０００７】そこで前記問題を解消せんとして、セラミ
ック成形体の軸中心線上の両端面に直径の異なる大小２
種類から成る穴を同軸状に穿設し、該穴で軸中心を固定
してセラミック成形体を回転させながら研磨加工するこ
とが提案されている（特開昭６０−２０１００３号公報
参照）。
ック成形体の軸中心線上の両端面に直径の異なる大小２
種類から成る穴を同軸状に穿設し、該穴で軸中心を固定
してセラミック成形体を回転させながら研磨加工するこ
とが提案されている（特開昭６０−２０１００３号公報
参照）。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、極めて
脆いセラミック成形体を穿設加工して、その軸中心線上
の両端面に直径の異なる大小２種類から成る穴を同軸状
に設けた場合、特に前記小径の穿設加工時に該小径の穴
を起点とする微小なクラックが入り、焼成により大きな
割れに進展したり、焼成体を研削または研磨加工中に前
記穴からセラミック回転体が破壊したり、更にセラミッ
ク回転体として高速回転中に、残留する微小クラックや
割れからセラミック回転体自体が破壊したりして大事故
につながる恐れがあるため、予めセラミック成形体を静
水圧で加圧して成形体強度を向上させておくという極め
て複雑かつ大掛かりな前処理を施さなければならないと
いう課題があった。
脆いセラミック成形体を穿設加工して、その軸中心線上
の両端面に直径の異なる大小２種類から成る穴を同軸状
に設けた場合、特に前記小径の穿設加工時に該小径の穴
を起点とする微小なクラックが入り、焼成により大きな
割れに進展したり、焼成体を研削または研磨加工中に前
記穴からセラミック回転体が破壊したり、更にセラミッ
ク回転体として高速回転中に、残留する微小クラックや
割れからセラミック回転体自体が破壊したりして大事故
につながる恐れがあるため、予めセラミック成形体を静
水圧で加圧して成形体強度を向上させておくという極め
て複雑かつ大掛かりな前処理を施さなければならないと
いう課題があった。
【０００９】
【発明の目的】本発明は前記課題を解消せんとしてなさ
れたもので、その目的は、特別な前処理を施さなくとも
極めて脆いセラミック成形体にセンタ穴を穿設加工する
ことができ、該加工時にセンタ穴を起点とする微小なク
ラックが入ったりすることがなく、また、予め成形時に
センタ穴を一体的に形成しておいても、乾燥や仮焼、ま
たは焼成等の後工程でクラックが進展したり、焼成前後
の研削または研磨加工において、セラミック成形体やセ
ラミック焼結体が破壊したりする恐れがなく、高速回転
時においてもセンタ穴を起点とする破壊等の大事故につ
ながる恐れがないセラミック回転体を提供するものであ
る。
れたもので、その目的は、特別な前処理を施さなくとも
極めて脆いセラミック成形体にセンタ穴を穿設加工する
ことができ、該加工時にセンタ穴を起点とする微小なク
ラックが入ったりすることがなく、また、予め成形時に
センタ穴を一体的に形成しておいても、乾燥や仮焼、ま
たは焼成等の後工程でクラックが進展したり、焼成前後
の研削または研磨加工において、セラミック成形体やセ
ラミック焼結体が破壊したりする恐れがなく、高速回転
時においてもセンタ穴を起点とする破壊等の大事故につ
ながる恐れがないセラミック回転体を提供するものであ
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明のセラミック回転
体は、軸中心線上の両端面に設けた先端が曲面を成すセ
ンタ穴の逃げ穴が２〜２０°の逃げ穴角を持ち、該セン
タ穴の逃げ穴入口の直径ｄに対するセラミック回転体の
センタ穴を有する軸部の外径Ｄの比ｄ／Ｄが０．２〜
０．３であり、更に前記端面から逃げ穴底部までの深さ
ｌに対する前記軸部の外径Ｄの比ｌ／Ｄが０．３〜０．
５であることを特徴とするものである。
体は、軸中心線上の両端面に設けた先端が曲面を成すセ
ンタ穴の逃げ穴が２〜２０°の逃げ穴角を持ち、該セン
タ穴の逃げ穴入口の直径ｄに対するセラミック回転体の
センタ穴を有する軸部の外径Ｄの比ｄ／Ｄが０．２〜
０．３であり、更に前記端面から逃げ穴底部までの深さ
ｌに対する前記軸部の外径Ｄの比ｌ／Ｄが０．３〜０．
５であることを特徴とするものである。
【００１１】本発明における軸中心線上の両端面に穿設
した逃げ穴の角度が２〜２０°に特定されるのは、該逃
げ穴角が２°未満では、穿設加工時にセンタ穴ドリルに
よりセラミック成形体の軸部に穴を押し広げる応力が作
用して軸部に割れを生じ、また、予め成形時に一体的に
センタ穴を形成する場合、センタ穴の成形型を離型する
際に、微小なクラックを生じ易く、前記各種の後工程で
センタ穴からの割れを生じるため好ましくない。
した逃げ穴の角度が２〜２０°に特定されるのは、該逃
げ穴角が２°未満では、穿設加工時にセンタ穴ドリルに
よりセラミック成形体の軸部に穴を押し広げる応力が作
用して軸部に割れを生じ、また、予め成形時に一体的に
センタ穴を形成する場合、センタ穴の成形型を離型する
際に、微小なクラックを生じ易く、前記各種の後工程で
センタ穴からの割れを生じるため好ましくない。
【００１２】一方、前記逃げ穴角が２０°を越えると、
穿設加工時にセンタ穴ドリルによるセラミック成形体の
軸方向の位置安定性が悪くなり好ましくない。
穿設加工時にセンタ穴ドリルによるセラミック成形体の
軸方向の位置安定性が悪くなり好ましくない。
【００１３】次に、逃げ穴の先端を従来の円錐形状にす
ると、穿設加工する時やセンタ穴成形型を成形体から離
す時に、円錐先端部に微小なクラックを発生し易いこと
から曲面が望ましく、該曲面は逃げ穴壁面から滑らかに
続くことがより望ましい。
ると、穿設加工する時やセンタ穴成形型を成形体から離
す時に、円錐先端部に微小なクラックを発生し易いこと
から曲面が望ましく、該曲面は逃げ穴壁面から滑らかに
続くことがより望ましい。
【００１４】また、センタ穴の逃げ穴入口の直径ｄに対
するセラミック回転体のセンタ穴を有する軸部の外径Ｄ
の比ｄ／Ｄは、０．２〜０．３であることが望ましく、
該比ｄ／Ｄが０．２未満では、後の各種製造工程におい
てセンタ穴の内部に付着したセラミック屑等をはじめと
する異物の除去が困難となり、他方、前記比ｄ／Ｄが
０．３を越えると、穿設加工する時やセンタ穴成形型を
成形体から離す時に、逃げ穴の内壁から軸部の外表面に
達する大きなクラックが生じ易くなる。
するセラミック回転体のセンタ穴を有する軸部の外径Ｄ
の比ｄ／Ｄは、０．２〜０．３であることが望ましく、
該比ｄ／Ｄが０．２未満では、後の各種製造工程におい
てセンタ穴の内部に付着したセラミック屑等をはじめと
する異物の除去が困難となり、他方、前記比ｄ／Ｄが
０．３を越えると、穿設加工する時やセンタ穴成形型を
成形体から離す時に、逃げ穴の内壁から軸部の外表面に
達する大きなクラックが生じ易くなる。
【００１５】更に、セラミック回転体の軸部端面から逃
げ穴底部までの深さｌに対するセンタ穴部の軸外径Ｄの
比ｌ／Ｄは、０．３〜０．５であることが望ましく、該
比ｌ／Ｄが０．３未満では、センタ工具を受けるテーパ
ー面が十分に形成できなかったり、センタ工具の先端が
逃げ穴低部に接触して軸中心よりズレを生じ易くなり、
また、前記比ｌ／Ｄが０．５を越えると、穿設加工する
時やセンタ穴成形型を成形体から離す際、逃げ穴部にク
ラックを生じ易くなる。
げ穴底部までの深さｌに対するセンタ穴部の軸外径Ｄの
比ｌ／Ｄは、０．３〜０．５であることが望ましく、該
比ｌ／Ｄが０．３未満では、センタ工具を受けるテーパ
ー面が十分に形成できなかったり、センタ工具の先端が
逃げ穴低部に接触して軸中心よりズレを生じ易くなり、
また、前記比ｌ／Ｄが０．５を越えると、穿設加工する
時やセンタ穴成形型を成形体から離す際、逃げ穴部にク
ラックを生じ易くなる。
【００１６】
【作用】本発明のセラミック回転体は、軸中心線上の両
端面に穿設した先端が曲面を成すセンタ穴の逃げ穴に２
〜２０°の角度を設けると共に、センタ穴の逃げ穴入口
の直径ｄに対するセラミック回転体のセンタ穴を有する
軸部の外径Ｄの比ｄ／Ｄ、及びセラミック回転体の軸部
端面から逃げ穴底部までの深さｌに対するセンタ穴部の
軸外径Ｄの比ｌ／Ｄを、それぞれ０．２〜０．３及び
０．３〜０．５の範囲に特定することにより、穿設加工
時やセンタ穴成形時に軸部やセンタ穴先端及び内壁に不
必要な応力が集中的に加わらず、成形型の離型もし易く
なる様に作用する。
端面に穿設した先端が曲面を成すセンタ穴の逃げ穴に２
〜２０°の角度を設けると共に、センタ穴の逃げ穴入口
の直径ｄに対するセラミック回転体のセンタ穴を有する
軸部の外径Ｄの比ｄ／Ｄ、及びセラミック回転体の軸部
端面から逃げ穴底部までの深さｌに対するセンタ穴部の
軸外径Ｄの比ｌ／Ｄを、それぞれ０．２〜０．３及び
０．３〜０．５の範囲に特定することにより、穿設加工
時やセンタ穴成形時に軸部やセンタ穴先端及び内壁に不
必要な応力が集中的に加わらず、成形型の離型もし易く
なる様に作用する。
【００１７】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づき詳細に
説明する。
説明する。
【００１８】図１は、本発明のセラミック回転体をセラ
ミックラジアルタービンローターに適用した断面図であ
り、図２は本発明のセラミック回転体の要部を拡大した
一部破断図である。
ミックラジアルタービンローターに適用した断面図であ
り、図２は本発明のセラミック回転体の要部を拡大した
一部破断図である。
【００１９】図１において、１はコーン形状のハブ部１
１の周りに窒化珪素質焼結体から成る翼部１２を有し、
軸部９、１０の軸中心線上の両端面２、３にセンタ穴
４、５を有するセラミックラジアルタービンローターを
成すセラミック回転体である。
１の周りに窒化珪素質焼結体から成る翼部１２を有し、
軸部９、１０の軸中心線上の両端面２、３にセンタ穴
４、５を有するセラミックラジアルタービンローターを
成すセラミック回転体である。
【００２０】前記セラミックラジアルタービンローター
を成すセラミック回転体１の成形体は、泥漿鋳込成形
法、射出成形法や粉末加圧成形法等周知の成形法で成形
することができるが、成形体の密度は各部で異なる不均
一なものとなっている。
を成すセラミック回転体１の成形体は、泥漿鋳込成形
法、射出成形法や粉末加圧成形法等周知の成形法で成形
することができるが、成形体の密度は各部で異なる不均
一なものとなっている。
【００２１】そのために、本発明では成形体の軸中心線
上の両端面に設けたセンタ穴の逃げ穴に角度を設け、該
逃げ穴の先端を曲面にすると共に、センタ穴の逃げ穴入
口の直径ｄに対するセラミック回転体のセンタ穴を有す
る軸部の外径Ｄの比ｄ／Ｄ、及びセラミック回転体の軸
部端面から逃げ穴底部までの深さｌに対するセンタ穴部
の軸外径Ｄの比ｌ／Ｄを特定することにより、欠陥のな
いセンタ穴を形成することができる。
上の両端面に設けたセンタ穴の逃げ穴に角度を設け、該
逃げ穴の先端を曲面にすると共に、センタ穴の逃げ穴入
口の直径ｄに対するセラミック回転体のセンタ穴を有す
る軸部の外径Ｄの比ｄ／Ｄ、及びセラミック回転体の軸
部端面から逃げ穴底部までの深さｌに対するセンタ穴部
の軸外径Ｄの比ｌ／Ｄを特定することにより、欠陥のな
いセンタ穴を形成することができる。
【００２２】かくして形成した二つのセンタ穴で軸中心
を固定し、成形体を回転させれば簡単に、ダイヤモンド
砥石でなくとも一般のグリーンコランダム砥石でも研削
・研磨加工することができ、加工時間の短縮と低コスト
が実現できる上、研削・研磨加工後の成形体は焼成して
もきわめて動バランスの良いセラミック回転体が得られ
る。
を固定し、成形体を回転させれば簡単に、ダイヤモンド
砥石でなくとも一般のグリーンコランダム砥石でも研削
・研磨加工することができ、加工時間の短縮と低コスト
が実現できる上、研削・研磨加工後の成形体は焼成して
もきわめて動バランスの良いセラミック回転体が得られ
る。
【００２３】次に、泥漿鋳込成形法によりセンタ穴を一
体的に成形した窒化珪素質焼結体から成るセラミック回
転体を評価試料とし、センタ穴の形状について、図２に
基づき詳細に説明する。
体的に成形した窒化珪素質焼結体から成るセラミック回
転体を評価試料とし、センタ穴の形状について、図２に
基づき詳細に説明する。
【００２４】図２において、セラミック回転体の一方の
直径がＤで示される軸部９の端面２に形成した深さｌの
センタ穴４の断面を示し、センタ穴４は逃げ穴６が逃げ
穴角７を持ち、逃げ穴６の入口が直径ｄで、その先端が
曲面８を形成している。
直径がＤで示される軸部９の端面２に形成した深さｌの
センタ穴４の断面を示し、センタ穴４は逃げ穴６が逃げ
穴角７を持ち、逃げ穴６の入口が直径ｄで、その先端が
曲面８を形成している。
【００２５】評価試料として窒化珪素（Ｓｉ3 Ｎ4 ）を
主成分とし、焼結助剤としてイットリア（Ｙ2 Ｏ3 ）及
び酸化タングステン（ＷＯ3 ）等を含有し、有機バイン
ダ、分散剤及び溶媒を添加混合した泥漿を、両端面に図
２に示した各部を表１の寸法に形成したセンタ穴形状の
凸部を有する外径１５ｍｍ、長さ５０ｍｍの棒状成形型
に鋳込み、乾燥終了後、仮焼終了後及び焼成終了後に、
センタ穴を実体顕微鏡で目視検査するとともに、仮焼終
了後及び焼成終了後の評価試料には蛍光浸透探傷法でも
クラック等の欠陥の有無を検査した。なお、逃げ穴先端
の形状だけを約１２０°の円錐状に形成したものを比較
例とした。その結果を表１に示す。
主成分とし、焼結助剤としてイットリア（Ｙ2 Ｏ3 ）及
び酸化タングステン（ＷＯ3 ）等を含有し、有機バイン
ダ、分散剤及び溶媒を添加混合した泥漿を、両端面に図
２に示した各部を表１の寸法に形成したセンタ穴形状の
凸部を有する外径１５ｍｍ、長さ５０ｍｍの棒状成形型
に鋳込み、乾燥終了後、仮焼終了後及び焼成終了後に、
センタ穴を実体顕微鏡で目視検査するとともに、仮焼終
了後及び焼成終了後の評価試料には蛍光浸透探傷法でも
クラック等の欠陥の有無を検査した。なお、逃げ穴先端
の形状だけを約１２０°の円錐状に形成したものを比較
例とした。その結果を表１に示す。
【００２６】
【表１】
【００２７】図３は、その他の実施例として本発明のセ
ラミック回転体をセラミック軸流型ローターに適用した
断面図であり、円板状のハブ部１３の周りに窒化珪素質
焼結体から成る翼部１４を有し、軸部９、１０の軸中心
線上の両端面２、３に本発明の寸法形状のセンタ穴４、
５を形成したセラミック回転体１を成すセラミック軸流
型ローターであり、仮焼終了後及び焼成終了後のいずれ
においてもセンタ穴に異常は認められなかった。
ラミック回転体をセラミック軸流型ローターに適用した
断面図であり、円板状のハブ部１３の周りに窒化珪素質
焼結体から成る翼部１４を有し、軸部９、１０の軸中心
線上の両端面２、３に本発明の寸法形状のセンタ穴４、
５を形成したセラミック回転体１を成すセラミック軸流
型ローターであり、仮焼終了後及び焼成終了後のいずれ
においてもセンタ穴に異常は認められなかった。
【００２８】また、図４はその他の実施例として本発明
のセラミック回転体を、エアースピンドルに適用した断
面図であり、アルミナ質焼結体又は炭化珪素質焼結体か
ら成る軸部９、１０の軸中心線上の両端面２、３に、本
発明の寸法形状のセンタ穴４、５を有するセラミック回
転体１であるエアースピンドルであり、仮焼終了後及び
焼成終了後のいずれにおいてもセンタ穴に異常は認めら
れなかった。
のセラミック回転体を、エアースピンドルに適用した断
面図であり、アルミナ質焼結体又は炭化珪素質焼結体か
ら成る軸部９、１０の軸中心線上の両端面２、３に、本
発明の寸法形状のセンタ穴４、５を有するセラミック回
転体１であるエアースピンドルであり、仮焼終了後及び
焼成終了後のいずれにおいてもセンタ穴に異常は認めら
れなかった。
【００２９】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明のセラミッ
ク回転体は軸中心線上の両端面に逃げ穴が２〜２０°の
逃げ穴角を持ち、その先端が曲面を成すセンタ穴を有
し、センタ穴の逃げ穴入口の直径ｄに対するセラミック
回転体のセンタ穴を有する軸部の外径Ｄの比ｄ／Ｄを、
０．２〜０．３の範囲とし、端面から逃げ穴底部までの
深さｌに対するセラミック回転体のセンタ穴を有する軸
部の外径Ｄの比ｌ／Ｄを、０．３〜０．５の範囲とした
ことから、特別な前処理を施さなくとも極めて脆いセラ
ミック成形体にセンタ穴を起点とする微小なクラックが
入ったりすることなく穿設加工することができ、また、
予め成形時にセンタ穴を一体的に形成しておいても、乾
燥や仮焼、または焼成等の後工程でクラックが進展した
り、焼成前後の研削または研磨加工において、セラミッ
ク成形体やセラミック焼結体が破壊したりする恐れがな
く、高速回転時においてもセンタ穴を起点とする破壊等
の大事故につながる恐れがない信頼性の高いセラミック
回転体を得ることができる。
ク回転体は軸中心線上の両端面に逃げ穴が２〜２０°の
逃げ穴角を持ち、その先端が曲面を成すセンタ穴を有
し、センタ穴の逃げ穴入口の直径ｄに対するセラミック
回転体のセンタ穴を有する軸部の外径Ｄの比ｄ／Ｄを、
０．２〜０．３の範囲とし、端面から逃げ穴底部までの
深さｌに対するセラミック回転体のセンタ穴を有する軸
部の外径Ｄの比ｌ／Ｄを、０．３〜０．５の範囲とした
ことから、特別な前処理を施さなくとも極めて脆いセラ
ミック成形体にセンタ穴を起点とする微小なクラックが
入ったりすることなく穿設加工することができ、また、
予め成形時にセンタ穴を一体的に形成しておいても、乾
燥や仮焼、または焼成等の後工程でクラックが進展した
り、焼成前後の研削または研磨加工において、セラミッ
ク成形体やセラミック焼結体が破壊したりする恐れがな
く、高速回転時においてもセンタ穴を起点とする破壊等
の大事故につながる恐れがない信頼性の高いセラミック
回転体を得ることができる。
【図１】本発明のセラミック回転体をセラミックラジア
ルタービンローターに適用した断面図である。
ルタービンローターに適用した断面図である。
【図２】本発明のセラミック回転体の要部を拡大した一
部破断図である。
部破断図である。
【図３】本発明のセラミック回転体をセラミック軸流型
ローターに適用した断面図である。
ローターに適用した断面図である。
【図４】本発明のセラミック回転体をエアースピンドル
に適用した断面図である。
に適用した断面図である。
１ セラミック回転体 ２、３ 端面 ４、５ センタ穴 ６ 逃げ穴 ７ 逃げ穴角 ８ 曲面 ９、１０ 軸部
Claims (1)
- 【請求項１】セラミック回転体の軸中心線上の両端面に
設けた研削・研磨用のセンタ穴が、２〜２０°の逃げ穴
角を有し、該逃げ穴入口の直径ｄに対するセンタ穴を有
する軸部の外径Ｄの比ｄ／Ｄが０．２〜０．３であり、
かつ前記端面から先端が曲面を成す逃げ穴底部までの深
さｌに対する前記軸部の外径Ｄの比ｌ／Ｄが０．３〜
０．５であることを特徴とするセラミック回転体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4201155A JP2859042B2 (ja) | 1992-07-28 | 1992-07-28 | セラミック回転体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4201155A JP2859042B2 (ja) | 1992-07-28 | 1992-07-28 | セラミック回転体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0650101A JPH0650101A (ja) | 1994-02-22 |
| JP2859042B2 true JP2859042B2 (ja) | 1999-02-17 |
Family
ID=16436298
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4201155A Expired - Fee Related JP2859042B2 (ja) | 1992-07-28 | 1992-07-28 | セラミック回転体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2859042B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009293417A (ja) * | 2008-06-03 | 2009-12-17 | Seiko Epson Corp | ノズルベーンの製造方法、ノズルベーン、可変ノズル機構およびターボチャージャ |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60169601A (ja) * | 1984-02-15 | 1985-09-03 | Ngk Insulators Ltd | ラジアル型セラミツクタ−ビンロ−タ−およびその製造法 |
| JPH0635806B2 (ja) * | 1984-08-22 | 1994-05-11 | トヨタ自動車株式会社 | セラミツクスタ−ビンホイ−ルの製造方法 |
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1992
- 1992-07-28 JP JP4201155A patent/JP2859042B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
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| JPH0650101A (ja) | 1994-02-22 |
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