JP2858909B2 - Aluminum foil for electrolytic capacitor electrodes - Google Patents

Aluminum foil for electrolytic capacitor electrodes

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JP2858909B2 JP24492990A JP24492990A JP2858909B2 JP 2858909 B2 JP2858909 B2 JP 2858909B2 JP 24492990 A JP24492990 A JP 24492990A JP 24492990 A JP24492990 A JP 24492990A JP 2858909 B2 JP2858909 B2 JP 2858909B2
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、電解コンデンサの電極用アルミニウム箔
に関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to an aluminum foil for an electrode of an electrolytic capacitor.

なお、この明細書において、合金成分についての
「%」は特に規定しないかぎり重量%を示すものとす
る。
In this specification, "%" for an alloy component indicates% by weight unless otherwise specified.

従来の技術 近時、電解コンデンサの小型軽量化の要請は益々強い
ものがあり、そのために静電容量の一層の向上をはかる
べく種々の検討が行われている。
2. Description of the Related Art In recent years, there has been an increasing demand for smaller and lighter electrolytic capacitors, and for that purpose, various studies have been made to further improve the capacitance.

電解コンデンサ電極用アルミニウム箔は、静電容量を
増大するために一般に電気的あるいは電気科学的なエッ
チングを施すことによって表面積を拡大して使用に供さ
れるが、この表面積の拡大率が静電容量に大きく影響す
ることは周知のとおりである。
An aluminum foil for an electrolytic capacitor electrode is generally used by increasing its surface area by performing electrical or electrochemical etching to increase the capacitance. It is well known that this has a significant effect.

そこで、従来、このエッチングによってなるべく大き
な拡面率が得られるものとするために、その電極用アル
ミニウム箔としては、純度99.98〜99.99%の高純度アル
ミニウムが用いられ、Fe、Siなどの不可避的に存在する
不純物についても、これを析出させることなく、できる
だけ固溶状態にするように製造上も配慮されている。即
ち、析出物の存在は、箔の過溶解現象を招き、静電容量
を低下させるのみならず、化成後の洩れ電流を増大させ
るところから、析出物の存在はむしろ有害なものとされ
てきた。
Therefore, conventionally, in order to obtain as large an area coverage as possible by this etching, high-purity aluminum having a purity of 99.98 to 99.99% has been used as the aluminum foil for the electrode, and inevitably Fe, Si, etc. Regarding existing impurities, consideration is also given to the production so as to make the solid solution as much as possible without precipitating them. That is, the presence of the precipitate causes the overdissolution phenomenon of the foil, and not only lowers the capacitance, but also increases the leakage current after the formation, and the presence of the precipitate has been regarded as rather harmful. .

発明が解決しようとする課題 しかしながら、上記のような従来の基本的な考え方に
従って製造される電極用アルミニウム箔は、使用される
アルミニウム材料の純度、製法上の制約、強度保持等の
諸点から、その静電容量の増大をはかることに対して自
ずと限界があり、近時の更なる静電容量の向上をはかる
ことへの要請に対して必ずしも十分な満足が得られるも
のではなかった。
Problems to be Solved by the Invention However, the aluminum foil for an electrode manufactured according to the conventional basic concept as described above is, from the points of purity of the aluminum material used, restrictions on the manufacturing method, strength retention, etc. There is naturally a limit to increasing the capacitance, and it has not always been possible to obtain sufficient satisfaction with the recent demand for further increasing the capacitance.

本発明者らは、静電容量の一層の向上をはかるために
は、箔表面においてできるだけエッチングの開始点を増
やして、高密度にエッチングピットを発生せしめること
が有効であることに着目し、合金成分の及ぼす影響につ
いて種々研究を行った。
The present inventors have focused on the fact that it is effective to increase the starting point of etching as much as possible on the foil surface and generate etching pits with high density in order to further improve the capacitance. Various studies were conducted on the effects of the components.

その結果、合金成分の析出による析出粒子の存在は、
箔の過溶解現象の誘因になるという有害な一面を有する
のに対し、よく観察するとエッチングピットの数、密度
を増大していることを見出した。即ち、エッチング時に
おいて、上記析出物の存在は、それがエッチング核とし
て機能し、エッチングヒットの開始点が上記析出物粒子
の周りから、あるいは粒子そのものから発生しているも
のであることを知り得た。而して、析出物粒子の存在に
よって箔に過溶解現象を生じるのは、該析出物粒子が箔
の内部にまで存在していることによるものであることが
判ってきた。
As a result, the presence of precipitated particles due to the precipitation of alloy components is
While having a detrimental surface that causes the overdissolution phenomenon of the foil, a close observation has revealed that the number and density of etching pits have increased. That is, at the time of etching, the presence of the precipitate can be known as that it functions as an etching nucleus, and the starting point of the etching hit originates from around the precipitate particle or from the particle itself. Was. Thus, it has been found that the cause of the overdissolution phenomenon in the foil due to the presence of the precipitate particles is that the precipitate particles exist inside the foil.

課題を解決するための手段 この発明は、上記のような知見に基いて、析出粒子の
形成要素としてアルミニウム中に含まれる鉄(Fe)を利
用し、Al−Fe金属間化合物による微細な析出粒子を箔の
表面層のみに分散状に存在せしめることで、エッチング
の開始点となる核を増やし、内部には、析出粒子を極め
て少ないものするか、望ましくは存在しないものとする
ことによって、エッチングピットの数を増大しつゝ、箔
の過溶解を防止し、もって静電容量の一層の向上をはか
ることに成功をおさめ得たものである。
Means for Solving the Problems Based on the above findings, the present invention utilizes iron (Fe) contained in aluminum as a forming element of precipitated particles, and forms fine precipitated particles of Al-Fe intermetallic compound. By dispersing only in the surface layer of the foil to increase the number of nuclei serving as starting points of etching.In the interior, the number of precipitated particles is extremely small or desirably absent. As a result, it was possible to prevent the foil from being excessively melted, thereby achieving a further improvement in the capacitance.

従って、この発明に係る電解コンデンサ電極用アルミ
ニウム箔は、厚さ10μm以下の2つの表面層と、これら
の間に介在された1つの内層とを有し、上記表面層は、
Fe:0.001〜0.3%を含んで残部アルミニウム及び不可避
不純物からなり、かつ平均粒子径10μm以下のAl−Fe系
金属間化合物粒子が分散され、前記内層は、Fe、Si、Cu
の含有量がそれぞれ0.01%以下に規制された高純度アル
ミニウムからなり、かつFe及びSiの析出量がそれらの含
有量の20%以下であることを特徴とするものである。
Therefore, the aluminum foil for an electrolytic capacitor electrode according to the present invention has two surface layers having a thickness of 10 μm or less, and one inner layer interposed therebetween, and the surface layer includes:
Fe: Al-Fe-based intermetallic compound particles containing 0.001 to 0.3%, the balance being aluminum and unavoidable impurities and having an average particle diameter of 10 μm or less are dispersed, and the inner layer is made of Fe, Si, Cu
Is made of high-purity aluminum whose content is regulated to 0.01% or less, respectively, and the precipitation amount of Fe and Si is 20% or less of those contents.

表面層中には、上記Feのほかに更にAl−Feと化合物を
作る元素として、Si:0.5%以下、Mn:0.5%以下、Cu:0.5
%以下、Ni:0.5%以下のうちの1種または2種以上の含
有が許容される。
In the surface layer, in addition to the above-mentioned Fe, as elements further forming a compound with Al-Fe, Si: 0.5% or less, Mn: 0.5% or less, Cu: 0.5% or less.
% Or less, and Ni: 0.5% or less.

また内層は、エッチングピットのトンネル状の成長を
助長するために、ミラー指数(100)面結晶の占有率が8
0%以上であるものとすることが好ましい。
In order to promote the tunnel-like growth of the etching pit, the inner layer has a Miller index (100) plane occupancy of 8%.
Preferably, it is 0% or more.

以下、この発明の構成事項について更に詳しく説明す
る。
Hereinafter, the components of the present invention will be described in more detail.

先ず、表面層においてその厚さが10μm以下に規制さ
れるのは、電解コンデンサ電極用アルミニウム箔の全体
厚さが一般に概ね75〜100μm程度に形成されることゝ
の関係で、上記表面層厚さを全体厚さの10%程度以下の
ものとし、エッチング時における腐食減量を減らし、箔
強度の著しい低下を防止するためである。即ち、表面層
にはFeその他の元素が含有されることゝの関係で、エッ
チング時の表面溶解が進行し易いことから、該表面層を
エッチングピットの開始点を増やすことの目的に主とし
て利用し、該ピットを深く、太くトンネル状に成長させ
るのは専らに内層に依存せしめるものとするのが有利で
あるからである。従って表面層の厚さは、少なくとも10
μm以下でないと効果がなく、望ましくは5μm以下に
すべきである。
First, the reason why the thickness of the surface layer is regulated to 10 μm or less is that the overall thickness of the aluminum foil for the electrolytic capacitor electrode is generally formed to about 75 to 100 μm. Is about 10% or less of the total thickness to reduce the corrosion loss at the time of etching and prevent a remarkable decrease in foil strength. In other words, since the surface layer contains Fe and other elements, the surface dissolution at the time of etching is likely to proceed due to the fact that the surface layer is mainly used for the purpose of increasing the starting point of the etching pit. This is because it is advantageous that the pits are grown deeply and thickly in a tunnel-like manner solely depending on the inner layer. Therefore, the thickness of the surface layer should be at least 10
There is no effect unless it is less than μm, and preferably it should be 5 μm or less.

また、表面層はFe:0.001〜0.3%を含有し、Al−Fe系
金属間化合物を析出せしめるものとし、その析出粒子を
全体に分散せしめるものとする。Al−Fe系金属間化合物
は、アルミニウムより電位的に貴であり、エッチング開
始点を形成するのに有利である。しかしながら、その粒
子径が10μmをこえると、局部的に表面溶解が起こり、
静電容量を低下する。好ましくは平均粒子径で5μm以
下、更に好ましくは0.1〜1.0μmの小さい粒子が大部分
を占めて、それが表面層の全体に均一に分散しているも
のであることが望ましい。Feの含有量において、それが
0.001%未満では、上記Al−Fe系金属間化合物粒子の生
成が難しく、0.3%を超えると粒子径が10μmより大き
な粒子ができるので好ましくない。望ましくはFe:0.003
〜0.05%程度の含有量とするのが良い。
The surface layer contains 0.001 to 0.3% of Fe to precipitate the Al-Fe intermetallic compound and to disperse the precipitated particles throughout. An Al-Fe intermetallic compound is more noble in potential than aluminum and is advantageous for forming an etching starting point. However, when the particle size exceeds 10 μm, surface dissolution occurs locally,
Decrease capacitance. Preferably, small particles having an average particle diameter of 5 μm or less, more preferably 0.1 to 1.0 μm, occupy the majority, and are desirably uniformly dispersed throughout the surface layer. In the Fe content, it is
If it is less than 0.001%, it is difficult to generate the Al-Fe intermetallic compound particles, and if it exceeds 0.3%, particles having a particle size larger than 10 μm are not preferable. Desirably Fe: 0.003
The content is preferably about 0.05%.

表面層中に、更にAl−Feと化合物をつくる元素、即ち
Si、Mn、Cu、およびNiのうちの1種または2種以上を、
いずれも0.5%まで含有することが許容される。これら
の元素の含有は、Al−Fe系金属間化合物のほかに、更に
析出Si、Al−Mn系、Al−Cu系等の粒子を生成し、これを
表面層中に分散して更にエッチングピットの開始点を増
やすのに有効に機能しうる。しかしながら、いずれの元
素も、その含有量が0.5%を超えると、粒子径が10μm
より大きな粒子が形成されるとか、あるいは加工硬化が
大きくなって箔圧延性が悪くなる。従って、これらの元
素の許容含有量はせいぜい0.5%以下であり、好ましく
は0.2%以下である。
In the surface layer, an element that further forms a compound with Al-Fe, that is,
One or more of Si, Mn, Cu, and Ni,
Both are allowed to contain up to 0.5%. The inclusion of these elements generates particles of precipitated Si, Al-Mn, Al-Cu, etc., in addition to the Al-Fe intermetallic compound, which are dispersed in the surface layer to further etch pits. Can effectively work to increase the starting point of However, when the content of any of the elements exceeds 0.5%, the particle diameter becomes 10 μm.
Larger particles are formed, or work hardening is increased, resulting in poor foil rollability. Therefore, the allowable content of these elements is at most 0.5%, preferably at most 0.2%.

内層は、前述のように表面層によって高密度に形成さ
れるエッチングピットを、更に深くトンネル状に進行さ
せ、拡面率を増大すると共に、過溶解を防止するもので
ある。従ってAl純度を高いものとし、含有不純物を少な
くして析出粒子が少ない状態にするか、望ましくは析出
粒子が存在しない状態のものとすることが必要である。
そのために、不可避的に含有される不純物としてのFe、
Si、及びCuの含有量は、いずれも0.01%以下であること
が必要であり、また特にFe、Siの析出量が含有量の20%
以下に規制されなければならない。いずれも上記上限値
をこえてFe、Si、Cuを過多に含有し、Fe、Siの析出量が
増えると、過溶解現象につながり、静電容量の低下を招
く。なお、Cuは、固溶限が大きいので、上記含有量の範
囲では析出量の点は格別問題にならない。その他の不純
物、例えばMn、Mg、Cr、Pbは、それぞれ0.005%以下、Z
n、Gaは0.01%以下の程度であれば、それらの含有が許
容される。
The inner layer, as described above, allows the etching pits formed by the surface layer to have a high density to progress deeper in a tunnel-like manner, thereby increasing the area coverage and preventing overdissolution. Therefore, it is necessary to increase the Al purity and reduce the content of impurities to reduce the number of precipitated particles, or desirably, to a state in which no precipitated particles are present.
Therefore, Fe as an unavoidable impurity,
The content of each of Si and Cu needs to be 0.01% or less, and particularly, the precipitation amount of Fe and Si is 20% of the content.
The following must be regulated: All of them exceed the above upper limit and contain excessive amounts of Fe, Si, and Cu, and when the amount of precipitation of Fe and Si increases, this leads to an over-dissolution phenomenon, which leads to a decrease in capacitance. In addition, since Cu has a large solid solubility limit, the amount of precipitation does not become a particular problem in the above content range. Other impurities, for example, Mn, Mg, Cr, Pb are each 0.005% or less, Z
As long as n and Ga are not more than 0.01%, their content is acceptable.

また、内層は、エッチングピットをトンネル状に進行
させて表面積を大きくするために、その結晶組織におい
てミラー指数(100)面結晶の占有率を高いものとする
ことが望ましい。即ち、該(100)面結晶占有率を少な
くとも全体の80%以上、望ましくは90%以上とするのが
良い。
In order to increase the surface area of the inner layer by causing the etching pits to progress in a tunnel shape, it is desirable that the crystal structure has a high occupancy of the Miller index (100) plane crystal. That is, the (100) plane crystal occupancy is preferably at least 80% or more, and more preferably 90% or more.

この発明に係る上記3層構成の電解コンデンサ電極箔
の製造は、表面層及び内層の構成材料を各別に製作し、
それらを熱間圧延によって圧着したのち、冷間圧延、及
び要すれば中間焼鈍を介在させて箔圧延を行い、所定厚
みに製造する。そして、最終焼鈍を施すことによって、
Al−Fe系金属間化合物等の粒子の析出状態を前記の所定
範囲にコントロールすることによって最も簡易に製造し
うる。この製造方法による場合、表面層の構成材料とし
て、内層の構成材料より含有Fe量の多いものを用いるこ
とが必要であることはいうまでもない。しかし、この発
明のアルミニウム箔は、上記の製法に限定されるもので
はなく、例えば表面層と内層の材料を各別に製造し、最
終工程で両者を貼合わせる方法によって製造するものと
しても良い。
In the production of the three-layer electrolytic capacitor electrode foil according to the present invention, the constituent materials of the surface layer and the inner layer are separately manufactured,
After they are press-bonded by hot rolling, cold rolling and, if necessary, intermediate annealing are performed to perform foil rolling to produce a predetermined thickness. And by performing the final annealing,
The simplest production can be achieved by controlling the precipitation state of the particles such as the Al-Fe intermetallic compound within the above-mentioned predetermined range. In the case of this manufacturing method, it is needless to say that it is necessary to use a material having a higher Fe content than the material of the inner layer as the material of the surface layer. However, the aluminum foil of the present invention is not limited to the above-described manufacturing method. For example, the aluminum foil may be manufactured by a method in which the materials for the surface layer and the inner layer are separately manufactured, and both are bonded in the final step.

表面層の構成材料の製造において、該層中での有害な
粗大な金属粒子は鋳造凝固時に生成することが多い。従
って、この粗大粒子の生成を回避するために、特に含有
Fe量が比較的多い場合には、殊更、表面層材料スラブを
冷却速度10℃/sec以上の急冷凝固法の採用によって過飽
和固溶体に製作することが望ましい。
In the production of surface layer components, harmful coarse metal particles in the layer are often generated during casting solidification. Therefore, in order to avoid the formation of coarse particles,
When the amount of Fe is relatively large, it is particularly desirable to manufacture the surface layer material slab into a supersaturated solid solution by employing a rapid solidification method at a cooling rate of 10 ° C./sec or more.

発明の効果 この発明のアルミニウム箔によれば、従来の一般的な
純度99.98〜99.99%の高純度アルミニウムによる単層箔
として製造されるコンデンサ電極用アルミニウム箔に較
べ、エッチングによるトンネル状ピットの数を増大し、
静電容量を更に一層優れたものとすることができ、ひい
ては電解コンデンサの軽量小型化の要請に一段と好適に
対応しうる。
According to the aluminum foil of the present invention, the number of tunnel-like pits formed by etching is smaller than that of a conventional aluminum foil for a capacitor electrode manufactured as a single-layer foil made of high-purity aluminum having a general purity of 99.98 to 99.99%. Increase,
The capacitance can be further improved, and the demand for a lighter and smaller electrolytic capacitor can be more suitably met.

実施例 (実施例1〜12、比較例1〜3) Fe、及びSi、Mn、Cu、Niをそれぞれ第1表に示す各種
の割合に含有し、その他痕跡量の不可避不純物を含む高
純度アルミニウムを用い、半連続鋳造法及び一部のもの
は冷却速度30℃/secの急冷凝固法によってそれぞれ各種
の表面層用アルミニウムスラブを製造した。そしてこれ
らのスラブを熱間圧延し、厚さ5mmの表面層用シートに
製造した。
Examples (Examples 1 to 12, Comparative Examples 1 to 3) High-purity aluminum containing Fe, Si, Mn, Cu, and Ni in various proportions shown in Table 1 and other trace amounts of unavoidable impurities. Various aluminum slabs for the surface layer were produced by semi-continuous casting and, in some cases, by rapid solidification at a cooling rate of 30 ° C./sec. These slabs were hot-rolled to produce a surface layer sheet having a thickness of 5 mm.

一方、Fe:0.001%、Si:0.001%、Cu:0.004%を含有す
る純度99.99%、厚さ300mmのアルミニウムスラブを、60
0℃×20時間均質化処理して内層用材料とした。
On the other hand, an aluminum slab with a purity of 99.99% and a thickness of 300 mm containing 0.001% of Fe, 0.001% of Si and 0.004% of Cu,
It was homogenized at 0 ° C. for 20 hours to obtain an inner layer material.

そして、上記内層用材料の両面に表面層用シートを重
ね、熱間圧延にて圧着させたのち、冷間圧延、及び箔圧
延を行って厚さ0.1mmのアルミニウム・クラッド箔と
し、これを真空下に480℃×5時間最終焼鈍して各種の
アルミニウム箔試料を得た。
Then, a sheet for the surface layer is superimposed on both surfaces of the material for the inner layer, and after being pressed by hot rolling, cold rolling and foil rolling are performed to obtain an aluminum clad foil having a thickness of 0.1 mm. It was finally annealed at 480 ° C. for 5 hours to obtain various aluminum foil samples.

上記によって得られた各種試料は、いずれも表面層の
厚さが約1.6μmであり、内層の(100)面結晶占有率は
85〜95%の範囲にあり、また内部のFe、Si、Cuの析出量
は含有量の10%以下であった。また、表面層中の析出粒
子の大きさは、第1表に示すとおりであった。
In each of the various samples obtained above, the thickness of the surface layer was about 1.6 μm, and the (100) plane crystal occupancy of the inner layer was
It was in the range of 85-95%, and the precipitation amount of Fe, Si, and Cu inside was 10% or less of the content. The size of the precipitated particles in the surface layer was as shown in Table 1.

そこで、上記各種の試料につき、次の条件にて電解エ
ッチング及び化成を行った。
Therefore, the various samples were subjected to electrolytic etching and chemical formation under the following conditions.

〔電解エッチング条件〕[Electrolytic etching conditions]

電解液 :4%塩酸水溶液 液 温:70℃ 電流密度:17A/dm2 時 間:6分間 〔化成条件〕 化成液 :ホウ酸20g/+ホウ酸アンモニウム20g/ 液 温:20±5℃ 電流密度:1200mA/dm2 化成電圧:350V そして、上記各試料の静電容量を調べた。その結果を
従来箔との対比において第1表に併記する。
Electrolyte: 4% aqueous hydrochloric acid solution Temperature: 70 ° C Current density: 17 A / dm 2 hours: 6 minutes [Chemical formation conditions] Chemical solution: boric acid 20 g / + ammonium borate 20 g / solution temperature: 20 ± 5 ° C. Current density : 1200 mA / dm 2 Formation voltage: 350 V Then, the capacitance of each of the samples was examined. The results are shown in Table 1 in comparison with the conventional foil.

尚、従来箔は、上記実施例の内層用アルミニウム材料
と同一組成の高純度アルミニウムを用い、均質化処理、
熱間圧延、箔圧延、最終焼鈍(真空中480℃×5時間)
の順次的実施により厚さ0.1mmの単層箔に製造したもの
であり、(100)面結晶占有率95%のものである。
The conventional foil is made of high-purity aluminum having the same composition as the aluminum material for the inner layer of the above embodiment,
Hot rolling, foil rolling, final annealing (480 ° C x 5 hours in vacuum)
Was manufactured into a single-layer foil having a thickness of 0.1 mm, and the (100) plane crystal occupation ratio was 95%.

(実施例13〜16) 第2表に示す組成のアルミニウムスラブを熱間圧延し
て厚さ5mmの表面層用シートを製造した。
(Examples 13 to 16) Aluminum slabs having the compositions shown in Table 2 were hot-rolled to produce surface layer sheets having a thickness of 5 mm.

一方、Fe:0.006%、Si:0.006%、Cu:0.002%を含有す
る純度99.98%、厚さ300mmの高純度アルミニウムスラブ
を、600℃×20時間均質化処理して内層用材料とした。
On the other hand, a high-purity aluminum slab having a purity of 99.98% and a thickness of 300 mm containing Fe: 0.006%, Si: 0.006%, and Cu: 0.002% was homogenized at 600 ° C. for 20 hours to obtain an inner layer material.

そして、上記内層用シートの両面に表面層用シートを
重ね、熱間圧延して圧着したのち、冷間圧延、箔圧延、
中間焼鈍(300℃×10時間)、箔圧延(圧下率15%)し
て、厚さ0.1mmのクラッド箔とし、更にこれを真空下で5
40℃×5時間最終焼鈍を施して各種のアルミニウム箔試
料を得た。
Then, the sheet for the surface layer is superimposed on both sides of the sheet for the inner layer, hot-rolled and pressed, then cold-rolled, foil-rolled,
Intermediate annealing (300 ° C × 10 hours), foil rolling (rolling rate 15%) to form a 0.1 mm thick clad foil,
The final annealing was performed at 40 ° C. for 5 hours to obtain various aluminum foil samples.

これによって得られた試料は、いずれも表面層の厚さ
が約1.6μmであり、内層の(100)面結晶占有率は85〜
90%の範囲にあり、また内部のFe、Si、Cuの析出量は含
有量の10%以下であった。また、表面層中の析出粒子の
大きさは、第2表に示すとおりであった。
In each of the samples obtained in this manner, the thickness of the surface layer was about 1.6 μm, and the (100) plane crystal occupancy of the inner layer was 85 to 85%.
It was in the range of 90%, and the precipitation amount of Fe, Si, and Cu inside was 10% or less of the content. The size of the precipitated particles in the surface layer was as shown in Table 2.

そこで、上記各種の試料につき、前記同様の条件にて
電解エッチング及び化成を行い、それぞれの静電容量を
調べた。その結果を第2表に従来箔との比較において併
記する。
Therefore, the various samples were subjected to electrolytic etching and chemical formation under the same conditions as described above, and their respective capacitances were examined. The results are shown in Table 2 in comparison with the conventional foil.

尚、第2表中の従来箔は、上記実施例の内層用アルミ
ニウム材料と同一組成の高純度アルミニウムを用い、均
質化処理、熱間圧延、箔圧延、最終焼鈍(真空中540℃
×5時間)の順次的実施により厚さ0.1mmの単層箔に製
造したものであり、(100)面結晶占有率92%のもので
ある。
The conventional foils in Table 2 were made of high-purity aluminum having the same composition as the aluminum material for the inner layer of the above embodiment, and were homogenized, hot-rolled, foil-rolled, and finally annealed (540 ° C. in vacuum).
× 5 hours) to produce a single-layer foil having a thickness of 0.1 mm and a (100) plane crystal occupancy of 92%.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 谷尾 真 大阪府堺市海山町6丁224番地 昭和ア ルミニウム株式会社内 (72)発明者 西崎 武 大阪府堺市海山町6丁224番地 昭和ア ルミニウム株式会社内 (72)発明者 田村 喬 大阪府堺市海山町6丁224番地 昭和ア ルミニウム株式会社内 (72)発明者 御所名 健司 大阪府堺市海山町6丁224番地 昭和ア ルミニウム株式会社内 (56)参考文献 特開 昭59−65424(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C22C 21/00 - 21/18 H01G 9/04──────────────────────────────────────────────────の Continuing on the front page (72) Makoto Tanio, Inventor: 6,224, Kaiyamacho, Sakai City, Osaka Prefecture (72) Inventor: Takeshi Nishizaki 6,224, Kaiyamacho, Sakai City, Osaka Prefecture: Aluminum Showa Inside (72) Inventor Takashi Tamura 6,224 Kaiyamacho, Sakai City, Osaka Prefecture Inside Showa Aluminum Co., Ltd. (72) Inventor's name Kenji 6,224 Kaiyamacho, Sakai City, Osaka Prefecture Inside Showa Aluminum Co., Ltd. (56) References JP-A-59-65424 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) C22C 21/00-21/18 H01G 9/04

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】厚さ10μm以下の2つの表面層と、これら
の間に介在された1つの内層とを有し、 上記表面層は、Fe:0.001〜0.3%を含んで残部アルミニ
ウム及び不可避不純物からなり、かつ平均粒子径10μm
以下のAl−Fe系金属間化合物粒子が分散され、 前記内層は、Fe、Si、Cuの含有量がそれぞれ0.01%以下
に規制された高純度アルミニウムからなり、かつFe及び
Siの析出量がそれらの含有量の20%以下であることを特
徴とする電解コンデンサ電極用アルミニウム箔。
The present invention has two surface layers having a thickness of 10 μm or less and one inner layer interposed therebetween. The surface layer contains 0.001 to 0.3% of Fe, the balance being aluminum and unavoidable impurities. Consisting of and an average particle diameter of 10 μm
The following Al-Fe intermetallic compound particles are dispersed, The inner layer is made of high-purity aluminum in which the contents of Fe, Si, and Cu are each regulated to 0.01% or less, and Fe and
An aluminum foil for an electrolytic capacitor electrode, wherein the amount of Si deposited is 20% or less of the content thereof.
【請求項2】表面層に、更にSi:0.5%以下、Mn:0.5%以
下、Cu:0.5%以下、Ni:0.5%以下のうちの1種または2
種以上が含有されてなる請求項(1)記載の電解コンデ
ンサ電極用アルミニウム箔。
2. The surface layer further comprises one or more of Si: 0.5% or less, Mn: 0.5% or less, Cu: 0.5% or less, Ni: 0.5% or less.
The aluminum foil for an electrolytic capacitor electrode according to claim 1, wherein the aluminum foil contains at least one kind.
【請求項3】内層のミラー指数(100)面結晶占有率が8
0%以上である請求項(1)または(2)記載の電解コ
ンデンサ電極用アルミニウム箔。
3. The crystal occupation ratio of the Miller index (100) plane of the inner layer is 8
The aluminum foil for an electrolytic capacitor electrode according to claim 1 or 2, wherein the aluminum foil is at least 0%.
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