JP2852721B2 - 注入管装置、これを用いた地盤注入工法および地盤注入機構 - Google Patents
注入管装置、これを用いた地盤注入工法および地盤注入機構Info
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- JP2852721B2 JP2852721B2 JP11405994A JP11405994A JP2852721B2 JP 2852721 B2 JP2852721 B2 JP 2852721B2 JP 11405994 A JP11405994 A JP 11405994A JP 11405994 A JP11405994 A JP 11405994A JP 2852721 B2 JP2852721 B2 JP 2852721B2
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- Consolidation Of Soil By Introduction Of Solidifying Substances Into Soil (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は複数本の独立した細管を
結束して構成される注入管装置、これを用いた地盤注入
工法および地盤注入機構に係り、特に、地盤状況が各層
毎に異なる地盤に対して、これら各層毎に最適な注入を
同時に達成し得るのみならず、地盤中の縦方向、横方向
への立体的な同時注入をも可能であり、このため、注入
工期も短縮される注入管装置、これを用いた地盤注入工
法および地盤注入機構に関する。
結束して構成される注入管装置、これを用いた地盤注入
工法および地盤注入機構に係り、特に、地盤状況が各層
毎に異なる地盤に対して、これら各層毎に最適な注入を
同時に達成し得るのみならず、地盤中の縦方向、横方向
への立体的な同時注入をも可能であり、このため、注入
工期も短縮される注入管装置、これを用いた地盤注入工
法および地盤注入機構に関する。
【０００２】
【従来の技術】地盤は通常、各層毎に透水係数や間隙率
が異なるため、各層毎に地盤状況が異なるものである。
が異なるため、各層毎に地盤状況が異なるものである。
【０００３】この種の地盤への薬液注入に際して、従
来、図示しないが、軸方向の異なる位置に複数の吐出口
を有する二重管等の注入管が用いられ、注入に際して、
この注入管を地盤中に埋設の後、注入管上端から注入材
を導入して上述複数の吐出口から前記注入材を地盤中に
同時注入していた。
来、図示しないが、軸方向の異なる位置に複数の吐出口
を有する二重管等の注入管が用いられ、注入に際して、
この注入管を地盤中に埋設の後、注入管上端から注入材
を導入して上述複数の吐出口から前記注入材を地盤中に
同時注入していた。
【０００４】さらに、上述の注入管を複数本、地盤中に
間隙をあけて埋設の後、上述と同様にこれら注入管の吐
出口を通じて注入材を地盤中に同時注入していた。
間隙をあけて埋設の後、上述と同様にこれら注入管の吐
出口を通じて注入材を地盤中に同時注入していた。
【０００５】
【発明が解決しようとする問題点】しかし、上述の注入
方法では、高さ方向に異なる複数の吐出口から注入され
る注入材は同種かつ同量であり、このため、地盤状況が
異なる各層毎への最適な同時注入は達成し得ず、このよ
うな注入を行うためには各層毎に異なる注入管を必要と
し、工程が厄介になるのみならず、注入工期も長びいて
しまう。
方法では、高さ方向に異なる複数の吐出口から注入され
る注入材は同種かつ同量であり、このため、地盤状況が
異なる各層毎への最適な同時注入は達成し得ず、このよ
うな注入を行うためには各層毎に異なる注入管を必要と
し、工程が厄介になるのみならず、注入工期も長びいて
しまう。
【０００６】そこで、本発明の目的は地盤状況が各層毎
に異なる地盤に対して、これら各層毎に最適な注入を同
時に達成するのみならず、地盤中の縦方向、横方向への
立体的な同時注入も可能であり、このため、注入工期も
短縮され、上述の公知技術に存する欠点を改良した注入
管装置、これを用いた地盤注入工法および地盤注入機構
を提供することにある。
に異なる地盤に対して、これら各層毎に最適な注入を同
時に達成するのみならず、地盤中の縦方向、横方向への
立体的な同時注入も可能であり、このため、注入工期も
短縮され、上述の公知技術に存する欠点を改良した注入
管装置、これを用いた地盤注入工法および地盤注入機構
を提供することにある。
【０００７】
【問題点を解決するための手段】上述の目的を達成する
ため、本発明の注入管装置によれば、流路およびこの流
路に連通した吐出口をそれぞれ有する複数本の独立した
細管を、前記各吐出口が互いに軸方向に間隔を置いて位
置するように結束してなることを特徴とする。
ため、本発明の注入管装置によれば、流路およびこの流
路に連通した吐出口をそれぞれ有する複数本の独立した
細管を、前記各吐出口が互いに軸方向に間隔を置いて位
置するように結束してなることを特徴とする。
【０００８】さらに、上述の目的を達成するため、本発
明の地盤注入工法によれば、上述のように構成される注
入管装置を地盤中に設置し、次いで前記注入管装置の吐
出口を通して地盤中に注入材を注入することを特徴と
し、また、前記注入管装置を地盤中に複数本、間隔をあ
けて設置し、次いで前述と同様、前記注入管装置の吐出
口を通して地盤中に注入材を注入することを特徴とす
る。
明の地盤注入工法によれば、上述のように構成される注
入管装置を地盤中に設置し、次いで前記注入管装置の吐
出口を通して地盤中に注入材を注入することを特徴と
し、また、前記注入管装置を地盤中に複数本、間隔をあ
けて設置し、次いで前述と同様、前記注入管装置の吐出
口を通して地盤中に注入材を注入することを特徴とす
る。
【０００９】さらにまた、上述の目的を達成するため、
本発明の地盤注入機構によれば、前記注入管装置を地盤
中に複数本、間隔をあけて埋設することにより構成され
る注入系統と、該注入系統の各注入管装置と連結され
る、注入材配合槽が備えられた供給系統とからなり、前
記注入管装置の吐出口を通して地盤中に注入材を注入す
ることを特徴とする。
本発明の地盤注入機構によれば、前記注入管装置を地盤
中に複数本、間隔をあけて埋設することにより構成され
る注入系統と、該注入系統の各注入管装置と連結され
る、注入材配合槽が備えられた供給系統とからなり、前
記注入管装置の吐出口を通して地盤中に注入材を注入す
ることを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施例】以下、本発明を添付図面を用いて詳述
する。図１は本発明にかかる注入管装置の一具体例の部
分側面図であり、図２はその平面図であり、図３は本発
明にかかる注入管装置の吐出口の一具体例の説明図であ
り、図４は前記吐出口の他の具体例の説明図であり、図
５は前記吐出口のさらに他の具体例の断面図であり、図
６は本発明にかかる注入管装置を用いた地盤注入の説明
図であり、図７は本発明にかかる注入管装置の他の具体
例の断面図であり、図８は本発明にかかる注入管装置の
さらに他の具体例の断面図であり、図９は本発明にかか
る注入管装置のさらに他の具体例の平面図であり、図10
は本発明にかかる注入管装置の吐出口部分の変形例を示
した部分断面図であり、図11は本発明にかかる注入管装
置とだき合わせて用いられる補助部材であって、(a) は
コーンを備えたロッド、(b) は斜水管であり、図12は本
発明にかかる地盤注入機構の一態様を表した説明図であ
り、図13は本発明にかかる地盤注入機構の複数の注入系
統を備えた一態様のフローシートであり、図14は本発明
にかかる地盤注入機構の注入系統Ｘの一態様を表した説
明図であり、図15は本発明にかかる地盤注入機構の他の
一態様を表した説明図であり、図16は本発明にかかる地
盤注入機構の複数の注入管装置を備えた一態様の説明図
であり、図17は本発明にかかる地盤注入機構の他の一態
様の説明図であり、図18は本発明にかかる地盤注入機構
の複数の注入管装置を備えた他の一態様の説明図であ
り、図19は本発明にかかる地盤注入機構の他の一態様の
説明図であり、図20は本発明にかかる地盤注入機構の他
の一態様を表した説明図であり、図21は図20における注
入管装置の注入材導入部分の説明図であり、図22は本発
明にかかる地盤注入機構の他の一態様の説明図であり、
図23は本発明にかかる地盤注入機構の複数の注入管装置
を備えた他の一態様の説明図であり、図24は本発明にか
かる地盤注入機構による注入状況を表した模式図であ
り、図25は本発明にかかる地盤注入機構において、多数
の注入管装置を多方向に並列した例の説明図である。
する。図１は本発明にかかる注入管装置の一具体例の部
分側面図であり、図２はその平面図であり、図３は本発
明にかかる注入管装置の吐出口の一具体例の説明図であ
り、図４は前記吐出口の他の具体例の説明図であり、図
５は前記吐出口のさらに他の具体例の断面図であり、図
６は本発明にかかる注入管装置を用いた地盤注入の説明
図であり、図７は本発明にかかる注入管装置の他の具体
例の断面図であり、図８は本発明にかかる注入管装置の
さらに他の具体例の断面図であり、図９は本発明にかか
る注入管装置のさらに他の具体例の平面図であり、図10
は本発明にかかる注入管装置の吐出口部分の変形例を示
した部分断面図であり、図11は本発明にかかる注入管装
置とだき合わせて用いられる補助部材であって、(a) は
コーンを備えたロッド、(b) は斜水管であり、図12は本
発明にかかる地盤注入機構の一態様を表した説明図であ
り、図13は本発明にかかる地盤注入機構の複数の注入系
統を備えた一態様のフローシートであり、図14は本発明
にかかる地盤注入機構の注入系統Ｘの一態様を表した説
明図であり、図15は本発明にかかる地盤注入機構の他の
一態様を表した説明図であり、図16は本発明にかかる地
盤注入機構の複数の注入管装置を備えた一態様の説明図
であり、図17は本発明にかかる地盤注入機構の他の一態
様の説明図であり、図18は本発明にかかる地盤注入機構
の複数の注入管装置を備えた他の一態様の説明図であ
り、図19は本発明にかかる地盤注入機構の他の一態様の
説明図であり、図20は本発明にかかる地盤注入機構の他
の一態様を表した説明図であり、図21は図20における注
入管装置の注入材導入部分の説明図であり、図22は本発
明にかかる地盤注入機構の他の一態様の説明図であり、
図23は本発明にかかる地盤注入機構の複数の注入管装置
を備えた他の一態様の説明図であり、図24は本発明にか
かる地盤注入機構による注入状況を表した模式図であ
り、図25は本発明にかかる地盤注入機構において、多数
の注入管装置を多方向に並列した例の説明図である。
【００１１】注入管装置 まず、図１〜６を用いて本発明にかかる注入管装置を説
明すると、図１および２において、１は本発明にかかる
注入管装置であって、流路２およびこの流路２に連通し
た吐出口３を有する細管４を複数本、例えば、固着剤等
を用いて結束することにより構成される。このとき、吐
出口３、３…３は図６に示されるように、それぞれ互い
に軸方向に間隔を置いて位置するように、すなわち、軸
方向の異なる個所に位置するよう結束される。
明すると、図１および２において、１は本発明にかかる
注入管装置であって、流路２およびこの流路２に連通し
た吐出口３を有する細管４を複数本、例えば、固着剤等
を用いて結束することにより構成される。このとき、吐
出口３、３…３は図６に示されるように、それぞれ互い
に軸方向に間隔を置いて位置するように、すなわち、軸
方向の異なる個所に位置するよう結束される。
【００１２】吐出口３は例えば、図３に示されるよう
に、細管４の先端４ａに袋体５を嵌め込んで平べったく
形成してもよく、また、図４に示されるように、細管４
の先端４ａに栓６を嵌めておき、流路２から後述の注入
材を導入したときの流圧により栓６を取りはずして先端
４ａを吐出口３とすることもでき、さらに、図５に示さ
れるように、細管４の管壁に穿設することもできる。こ
の場合、吐出口３はゴムスリーブ７で覆うとともに、細
管４の先端４ａを閉塞する。このとき、細管４の流路２
を通る注入材は矢印方向に流れ、ゴムスリーブ７を押し
上げて吐出口３から地盤中に注入される。
に、細管４の先端４ａに袋体５を嵌め込んで平べったく
形成してもよく、また、図４に示されるように、細管４
の先端４ａに栓６を嵌めておき、流路２から後述の注入
材を導入したときの流圧により栓６を取りはずして先端
４ａを吐出口３とすることもでき、さらに、図５に示さ
れるように、細管４の管壁に穿設することもできる。こ
の場合、吐出口３はゴムスリーブ７で覆うとともに、細
管４の先端４ａを閉塞する。このとき、細管４の流路２
を通る注入材は矢印方向に流れ、ゴムスリーブ７を押し
上げて吐出口３から地盤中に注入される。
【００１３】なお、図７、図８および図９はそれぞれ、
本発明にかかる注入管装置の他の具体例を表した図面で
ある。
本発明にかかる注入管装置の他の具体例を表した図面で
ある。
【００１４】このうち、図７は流路２およびこの流路２
に連通した吐出口３を有する細管４を複数本保護管22の
内部に挿入することにより形成される注入管装置１の断
面図である。このとき、複数本の細管４、４、・・４は
結束した状態で保護管22内に挿入され、かつ吐出口３、
３・・３はそれぞれ保護管22の側壁の互いに軸方向に間
隔を置いた位置を貫通して配置される。この場合もま
た、吐出口３、３・・３は図５と同様、それぞれ、ゴム
スリーブ７で覆われる。
に連通した吐出口３を有する細管４を複数本保護管22の
内部に挿入することにより形成される注入管装置１の断
面図である。このとき、複数本の細管４、４、・・４は
結束した状態で保護管22内に挿入され、かつ吐出口３、
３・・３はそれぞれ保護管22の側壁の互いに軸方向に間
隔を置いた位置を貫通して配置される。この場合もま
た、吐出口３、３・・３は図５と同様、それぞれ、ゴム
スリーブ７で覆われる。
【００１５】また、図８は合成樹脂等からなる中実の棒
状体22ａの内部に軸方向に沿って、先端に吐出口３、３
・・３を有する流路２、２・・２を複数本開孔すること
により形成される注入管装置１の断面図である。このと
き流路２、２・・２は同時に、棒状体22ａ内で結束した
状態の細管４、４・・４を形成する。また、吐出口３、
３・・３は図７と同様、棒状体22ａの側壁の互いに軸方
向に間隔を置いた位置を開孔することにより配置され
る。この場合もまた、吐出口３、３・・３は上述と同
様、それぞれゴムスリーブ７で覆われる。
状体22ａの内部に軸方向に沿って、先端に吐出口３、３
・・３を有する流路２、２・・２を複数本開孔すること
により形成される注入管装置１の断面図である。このと
き流路２、２・・２は同時に、棒状体22ａ内で結束した
状態の細管４、４・・４を形成する。また、吐出口３、
３・・３は図７と同様、棒状体22ａの側壁の互いに軸方
向に間隔を置いた位置を開孔することにより配置され
る。この場合もまた、吐出口３、３・・３は上述と同
様、それぞれゴムスリーブ７で覆われる。
【００１６】さらに、図９は補強管22ｂの周壁に長さ方
向に沿って、流路２およびこの流路２に連通した吐出口
３（上述と同様であるので図示せず）を有する細管４を
複数本配置することにより構成される注入管装置１の平
面図である。この補強管22ｂは注入管装置１の機械的強
度を付与すると同時に、注入管装置１を地盤中に設置
後、この補強管22ｂを通して硬化材を注入し、注入管装
置１と地盤との空隙にシールを形成し得るものである。
さらに、この補強管22ｂはこの中に後述の図11ａに示さ
れるコーン25付きロッド24、あるいは図11ｂに示される
射水管26を挿入して、注入管装置１の地盤への挿入を容
易にすることもできる。
向に沿って、流路２およびこの流路２に連通した吐出口
３（上述と同様であるので図示せず）を有する細管４を
複数本配置することにより構成される注入管装置１の平
面図である。この補強管22ｂは注入管装置１の機械的強
度を付与すると同時に、注入管装置１を地盤中に設置
後、この補強管22ｂを通して硬化材を注入し、注入管装
置１と地盤との空隙にシールを形成し得るものである。
さらに、この補強管22ｂはこの中に後述の図11ａに示さ
れるコーン25付きロッド24、あるいは図11ｂに示される
射水管26を挿入して、注入管装置１の地盤への挿入を容
易にすることもできる。
【００１７】なお、上述の細管４は図10に示されるよう
に、二本の細管４ａ、４ａを一組とし、これらの先端４
ｂ、４ｂをそれぞれ袋体５、５にはめ込み、さらに、こ
れら袋体５、５の先端５ａ、５ａを一つの管23にはめ込
み、この先端を吐出口３とすることにより構成すること
もできる。この場合、細管４は複数本、上述の吐出口３
が互いに軸方向に間隔を置いて位置するように結束され
る。このような細管４では、例えば、主剤（Ａ液）およ
び反応剤（Ｂ液）をそれぞれ、細管４ａ、４ａの流路２
ａ、２ａを通し、次いで、袋体５、５の流路５ｂ、５ｂ
を通して先端５ａ、５ａから管23の空間23ａに導入し、
ここでこれらＡ液およびＢ液を合流して吐出口３からＡ
Ｂ合流液を吐出することができる。
に、二本の細管４ａ、４ａを一組とし、これらの先端４
ｂ、４ｂをそれぞれ袋体５、５にはめ込み、さらに、こ
れら袋体５、５の先端５ａ、５ａを一つの管23にはめ込
み、この先端を吐出口３とすることにより構成すること
もできる。この場合、細管４は複数本、上述の吐出口３
が互いに軸方向に間隔を置いて位置するように結束され
る。このような細管４では、例えば、主剤（Ａ液）およ
び反応剤（Ｂ液）をそれぞれ、細管４ａ、４ａの流路２
ａ、２ａを通し、次いで、袋体５、５の流路５ｂ、５ｂ
を通して先端５ａ、５ａから管23の空間23ａに導入し、
ここでこれらＡ液およびＢ液を合流して吐出口３からＡ
Ｂ合流液を吐出することができる。
【００１８】上述の構成からなる本発明注入管装置は地
盤中に設置するに当たって、図11ａに示される、先端に
コーン25を備えた鉄製等のロッド24（内部が中実のもの
でもよい）とだき合わせて地盤中に打設され、あるいは
図11ｂに示される射水管26とだき合わせて噴射口27から
高圧水を射水しながら地盤中に設置される。これらロッ
ド24および射水管26は通常、本発明注入管装置を地盤中
に設置の後、地盤から引き抜かれるが、注入管装置と一
体化されたものであってもよい。
盤中に設置するに当たって、図11ａに示される、先端に
コーン25を備えた鉄製等のロッド24（内部が中実のもの
でもよい）とだき合わせて地盤中に打設され、あるいは
図11ｂに示される射水管26とだき合わせて噴射口27から
高圧水を射水しながら地盤中に設置される。これらロッ
ド24および射水管26は通常、本発明注入管装置を地盤中
に設置の後、地盤から引き抜かれるが、注入管装置と一
体化されたものであってもよい。
【００１９】なお、本発明に用いられる細管４は鉄製材
料、ポリ塩化ビニル等の硬質樹脂製材料、ポリエチレン
等の軟質樹脂材料、ナイロン、ポリプロピレン、等の材
料からなる管、ホース等である。
料、ポリ塩化ビニル等の硬質樹脂製材料、ポリエチレン
等の軟質樹脂材料、ナイロン、ポリプロピレン、等の材
料からなる管、ホース等である。
【００２０】上述の注入管装置を用いた地盤注入工法 次に、上述のようにして構成される注入管装置を用いた
本発明にかかる地盤注入工法を図６を用いて説明する
と、まず、本発明にかかる注入管装置１を、地盤８に設
けられたボーリング孔９に挿入設置する。
本発明にかかる地盤注入工法を図６を用いて説明する
と、まず、本発明にかかる注入管装置１を、地盤８に設
けられたボーリング孔９に挿入設置する。
【００２１】次いで、注入管装置１と地盤壁８ａとのす
き間に硬化材を填充し、硬化してシール10を形成する。
この硬化材としては通常の瞬結性グラウトが用いられ
る。
き間に硬化材を填充し、硬化してシール10を形成する。
この硬化材としては通常の瞬結性グラウトが用いられ
る。
【００２２】このようにして、注入管装置１を地盤８中
に設置の後、注入管装置１の細管４、４…４を通して注
入材を送液し、吐出口３、３…３から地盤中に注入す
る。
に設置の後、注入管装置１の細管４、４…４を通して注
入材を送液し、吐出口３、３…３から地盤中に注入す
る。
【００２３】このとき、吐出口３、３…３はそれぞれ、
互いに軸方向に間隔を置いて位置しており、地盤８中の
地盤状況の異なる各層にそれぞれ別々に、独立して開孔
するから、これら各層に最適の注入量を細管４を通して
矢印方向に同時注入することができる。なお、上述の注
入において、注入管装置１を引き上げたり、引き下げた
りしてステージを変化させて注入することもできる。
互いに軸方向に間隔を置いて位置しており、地盤８中の
地盤状況の異なる各層にそれぞれ別々に、独立して開孔
するから、これら各層に最適の注入量を細管４を通して
矢印方向に同時注入することができる。なお、上述の注
入において、注入管装置１を引き上げたり、引き下げた
りしてステージを変化させて注入することもできる。
【００２４】さらに、本発明にかかる上述の地盤注入工
法において、本発明にかかる注入管装置１を地盤中に複
数本、間隔をあけて埋設し、上述と同様に各吐出口から
地盤中に注入材を注入することもできる。この場合、注
入材は地盤中の縦方向、および横方向に立体的に同時注
入され、注入工期が短縮される。この場合も、注入管装
置１をそれぞれ引き上げたり、引き下げたりして上述と
同様に注入することもできる。
法において、本発明にかかる注入管装置１を地盤中に複
数本、間隔をあけて埋設し、上述と同様に各吐出口から
地盤中に注入材を注入することもできる。この場合、注
入材は地盤中の縦方向、および横方向に立体的に同時注
入され、注入工期が短縮される。この場合も、注入管装
置１をそれぞれ引き上げたり、引き下げたりして上述と
同様に注入することもできる。
【００２５】上述の注入管装置を用いた地盤注入機構 さらに、上述の注入管装置を用いた本発明にかかる地盤
注入機構を図12を用いて説明する。図12中、Ｘは注入系
統であり、Ｙは供給系統である。注入系統Ｘは独立した
細管４を複数本結束して構成される上述の注入管装置１
を地盤８中に埋設することにより構成される。
注入機構を図12を用いて説明する。図12中、Ｘは注入系
統であり、Ｙは供給系統である。注入系統Ｘは独立した
細管４を複数本結束して構成される上述の注入管装置１
を地盤８中に埋設することにより構成される。
【００２６】供給系統Ｙは注入材配合槽11および必要に
応じて圧力ポット12を備え、これらはポンプ13を介して
パイプ14で連結される。注入材配合槽11では、例えばＡ
液として水ガラス水溶液、Ｂ液として反応剤をそれぞれ
配合して注入材15を形成し、この注入材15をポンプ13の
作動によりパイプ14を介して圧力ポット12に加圧しなが
ら送液する。圧力ポット12に送液された注入材15はこの
圧力ポット12内で一定の圧力を維持するようにポンプ13
およびコンプレッサー16のいずれか一方または両方の作
動により調整される。そして、この圧力はコントローラ
17によってポンプ13およびコンプレッサー16のいずれか
一方または両方と、弁18とを自動操作することにより一
定に保たれ、細管４を通して注入管装置１に一定圧の注
入材が送液される。20は圧力計である。
応じて圧力ポット12を備え、これらはポンプ13を介して
パイプ14で連結される。注入材配合槽11では、例えばＡ
液として水ガラス水溶液、Ｂ液として反応剤をそれぞれ
配合して注入材15を形成し、この注入材15をポンプ13の
作動によりパイプ14を介して圧力ポット12に加圧しなが
ら送液する。圧力ポット12に送液された注入材15はこの
圧力ポット12内で一定の圧力を維持するようにポンプ13
およびコンプレッサー16のいずれか一方または両方の作
動により調整される。そして、この圧力はコントローラ
17によってポンプ13およびコンプレッサー16のいずれか
一方または両方と、弁18とを自動操作することにより一
定に保たれ、細管４を通して注入管装置１に一定圧の注
入材が送液される。20は圧力計である。
【００２７】さらに、コントローラ17は流量計19、圧力
計20からの情報を得、この情報をポンプ13、コンプレッ
サー16、弁18に指示することにより、注入管装置１に所
定量の注入量を送液し得る。このような構成により、１
個の圧力ポット12を通して多数の細管４、４・・４に同
時に注入液を送液し、かつ一本、一本の細管への注入を
自動的に管理することができる。なお、弁18は電磁弁で
もよく、コンプレッサーで可動するものでもよい。
計20からの情報を得、この情報をポンプ13、コンプレッ
サー16、弁18に指示することにより、注入管装置１に所
定量の注入量を送液し得る。このような構成により、１
個の圧力ポット12を通して多数の細管４、４・・４に同
時に注入液を送液し、かつ一本、一本の細管への注入を
自動的に管理することができる。なお、弁18は電磁弁で
もよく、コンプレッサーで可動するものでもよい。
【００２８】なお、図12の地盤注入機構において、注入
管装置１を地盤８中に複数本、間隔をあけて設置するよ
うに注入系統Ｘを構成することもできる。この注入機構
を図13にブロック図で示す。図13において、Ｘ１、Ｘ
２、Ｘ３・・Ｘｎはそれぞれ、各注入管装置（図示せ
ず）に連絡される図12と同様の注入機構であり、これら
各注入管装置はそれぞれ供給系統Ｙと連結される。
管装置１を地盤８中に複数本、間隔をあけて設置するよ
うに注入系統Ｘを構成することもできる。この注入機構
を図13にブロック図で示す。図13において、Ｘ１、Ｘ
２、Ｘ３・・Ｘｎはそれぞれ、各注入管装置（図示せ
ず）に連絡される図12と同様の注入機構であり、これら
各注入管装置はそれぞれ供給系統Ｙと連結される。
【００２９】さらに、図12の地盤注入機構における注入
系統Ｘとして、図14の注入系統を用いることができる。
この場合、図12における供給系統Ｙの圧力ポット12から
の注入液は図14における弁18、圧力計20を通して、複数
の細管４、４・・４に送液され、地盤８中の注入管装置
１を通して吐出口３から地盤８中に注入される。
系統Ｘとして、図14の注入系統を用いることができる。
この場合、図12における供給系統Ｙの圧力ポット12から
の注入液は図14における弁18、圧力計20を通して、複数
の細管４、４・・４に送液され、地盤８中の注入管装置
１を通して吐出口３から地盤８中に注入される。
【００３０】上述の図14に示される注入系統Ｘでは、吐
出口３が噴射孔の場合、圧力計20に現れる管内圧力を所
定圧に保つとき、各吐出口３、３・・３からの噴射量は
吐出口３、３・・３の口径によって定められる。したが
って、各土層に応じた吐出口径の細管の用いた場合、図
14に示されるような簡便な注入系統Ｘであっても、注入
量の管理を行うことができる。
出口３が噴射孔の場合、圧力計20に現れる管内圧力を所
定圧に保つとき、各吐出口３、３・・３からの噴射量は
吐出口３、３・・３の口径によって定められる。したが
って、各土層に応じた吐出口径の細管の用いた場合、図
14に示されるような簡便な注入系統Ｘであっても、注入
量の管理を行うことができる。
【００３１】図15は本発明注入機構の他の具体例を示
す。図15では、注入系統Ｘは図12のものと同様である
が、供給系統Ｙは図12における圧力ポット12を備えてお
らず、ポンプ13によって所定の圧力を保ちながら、注入
材配合槽11中の注入材15を注入系統Ｘに送液する。注入
系統Ｘでは、図12と同様にして注入材15を細管４から注
入管装置１に送液して、吐出口３から地盤８中に注入す
る。なお、図15の注入機構では、注入系統Ｘに送液され
た注入材15をパイプを介して注入材配合槽11中に還流す
る構造を示す。さらに、図15では、単独の注入管装置１
を備えた例を示したが、図13のように複数の注入系統Ｘ
１、Ｘ２、Ｘ３・・Ｘｎを備え、複数の注入管装置から
注入する機構とすることもできる。
す。図15では、注入系統Ｘは図12のものと同様である
が、供給系統Ｙは図12における圧力ポット12を備えてお
らず、ポンプ13によって所定の圧力を保ちながら、注入
材配合槽11中の注入材15を注入系統Ｘに送液する。注入
系統Ｘでは、図12と同様にして注入材15を細管４から注
入管装置１に送液して、吐出口３から地盤８中に注入す
る。なお、図15の注入機構では、注入系統Ｘに送液され
た注入材15をパイプを介して注入材配合槽11中に還流す
る構造を示す。さらに、図15では、単独の注入管装置１
を備えた例を示したが、図13のように複数の注入系統Ｘ
１、Ｘ２、Ｘ３・・Ｘｎを備え、複数の注入管装置から
注入する機構とすることもできる。
【００３２】上述の複数の注入管装置を備えた具体例を
図16に示す。図16において、注入系統Ｘのそれぞれの注
入管装置１、１・・１は図14と同様であり、また、供給
系統Ｙは図15と同様、圧力ポットを備えておらず、ポン
プ13によって所定の圧力を保ちながら、注入材配合槽11
中の注入材15を注入系統Ｘに送液する。注入系統Ｘへの
注入材15の送液は注入材配合槽11からポンプ13および弁
18を介して再び注入材配合槽11に還流するパイプから分
枝し、弁18、圧力計20を介してそれぞれの注入管装置
１、１・・１の細管に送液することにより行う。
図16に示す。図16において、注入系統Ｘのそれぞれの注
入管装置１、１・・１は図14と同様であり、また、供給
系統Ｙは図15と同様、圧力ポットを備えておらず、ポン
プ13によって所定の圧力を保ちながら、注入材配合槽11
中の注入材15を注入系統Ｘに送液する。注入系統Ｘへの
注入材15の送液は注入材配合槽11からポンプ13および弁
18を介して再び注入材配合槽11に還流するパイプから分
枝し、弁18、圧力計20を介してそれぞれの注入管装置
１、１・・１の細管に送液することにより行う。
【００３３】なお、上述の本発明にかかる地盤注入機構
は図17に示されるように、加圧ポンプ13を注入系統Ｘの
各細管４、４・・４にそれぞれ直接設けてもよく、この
場合、注入管装置１、１…１は加圧ポンプ13および細管
４、４・・４を通して供給系統Ｙの注入材配合槽11と直
接連結される。なお、図17において、19は流量計であ
る。
は図17に示されるように、加圧ポンプ13を注入系統Ｘの
各細管４、４・・４にそれぞれ直接設けてもよく、この
場合、注入管装置１、１…１は加圧ポンプ13および細管
４、４・・４を通して供給系統Ｙの注入材配合槽11と直
接連結される。なお、図17において、19は流量計であ
る。
【００３４】なお、図17では単独の注入管装置１を備え
た例を示したが、図13のように、複数の注入系統Ｘ１、
Ｘ２、Ｘ３・・Ｘｎを備え、複数の注入管装置から注入
する機構とすることもできる。このような複数の注入管
装置を備えた具体例を図18に示す。図18において、注入
系統Ｘの各細管４、４・・４はそれぞれ供給系統Ｙの注
入材配合槽11と流量計19を介して連絡される。さらに、
これら各細管４、４・・４は注入系統Ｘにおいて、それ
ぞれ、ポンプ13、圧力計20、流量計19を介して図14に示
される注入管装置１の弁18に連絡される。この注入管装
置１は弁18の下流でさらに複数の細管４、４・・４に分
枝され、地盤８中に設置される。そして、注入材15は各
細管４、４・・４を通して注入管装置１の弁18に送液さ
れた後、さらに分枝された細管４、４・・４を介して地
盤８中に導入され、吐出口３、３・・３から地盤中に注
入される。
た例を示したが、図13のように、複数の注入系統Ｘ１、
Ｘ２、Ｘ３・・Ｘｎを備え、複数の注入管装置から注入
する機構とすることもできる。このような複数の注入管
装置を備えた具体例を図18に示す。図18において、注入
系統Ｘの各細管４、４・・４はそれぞれ供給系統Ｙの注
入材配合槽11と流量計19を介して連絡される。さらに、
これら各細管４、４・・４は注入系統Ｘにおいて、それ
ぞれ、ポンプ13、圧力計20、流量計19を介して図14に示
される注入管装置１の弁18に連絡される。この注入管装
置１は弁18の下流でさらに複数の細管４、４・・４に分
枝され、地盤８中に設置される。そして、注入材15は各
細管４、４・・４を通して注入管装置１の弁18に送液さ
れた後、さらに分枝された細管４、４・・４を介して地
盤８中に導入され、吐出口３、３・・３から地盤中に注
入される。
【００３５】さらに、本発明にかかる地盤注入機構は図
19に示されるように、注入系統Ｘの各注入管装置１、１
…１に電磁弁21を設けることもできる。この場合、注入
管装置１、１…１は電磁弁21を通して供給系統Ｙと連結
される。この機構では、電磁弁21を全部開くと同時注入
が行われるが、一つの電磁弁21のみを開け、他は全部閉
じ、この操作を次々と切り換えながら注入を行うことも
できる。
19に示されるように、注入系統Ｘの各注入管装置１、１
…１に電磁弁21を設けることもできる。この場合、注入
管装置１、１…１は電磁弁21を通して供給系統Ｙと連結
される。この機構では、電磁弁21を全部開くと同時注入
が行われるが、一つの電磁弁21のみを開け、他は全部閉
じ、この操作を次々と切り換えながら注入を行うことも
できる。
【００３６】さらに、図20に示される本発明にかかる注
入機構は注入管装置１の各細管４、４…４に、それぞれ
電磁弁21を設けた例である。この場合、各細管４、４…
４は電磁弁21を通して供給系統に連結される。図21は図
20のＺ部分の拡大図である。
入機構は注入管装置１の各細管４、４…４に、それぞれ
電磁弁21を設けた例である。この場合、各細管４、４…
４は電磁弁21を通して供給系統に連結される。図21は図
20のＺ部分の拡大図である。
【００３７】図22は本発明注入機構のさらに他の具体例
を示したフローシートであり、図23は図22の注入機構を
用いて複数の注入管装置に適用した他の例を示す。図22
および図23を一体として説明すると、弁18ａ−１乃至弁
18ａ−ｎのいずれかを閉束する工程をくり返すことによ
り、対象とするＸ１・・・Ｘｎの注入系統への流量を把
握することができる。この場合、注入系統ＸはＸ１、・
・・Ｘｎというように複数であってもよい。
を示したフローシートであり、図23は図22の注入機構を
用いて複数の注入管装置に適用した他の例を示す。図22
および図23を一体として説明すると、弁18ａ−１乃至弁
18ａ−ｎのいずれかを閉束する工程をくり返すことによ
り、対象とするＸ１・・・Ｘｎの注入系統への流量を把
握することができる。この場合、注入系統ＸはＸ１、・
・・Ｘｎというように複数であってもよい。
【００３８】本発明注入機構は多数の吐出口を有する注
入管装置を用いて注入材を一度に注入することに特徴を
有するが、それぞれの吐出口からどれだけの量の注入が
なされているかを正確に把握することはきわめて重要な
ことである。ところで、一般に、多数の管路に流量計を
設けてそれぞれの流量を測定するにより吐出口からの流
量を測定するが、これは実用上複雑となるばかりでな
く、高価ともなる。このような問題点を解決するため
に、本発明者は図22、図23を用いて次の手法を試みた。
入管装置を用いて注入材を一度に注入することに特徴を
有するが、それぞれの吐出口からどれだけの量の注入が
なされているかを正確に把握することはきわめて重要な
ことである。ところで、一般に、多数の管路に流量計を
設けてそれぞれの流量を測定するにより吐出口からの流
量を測定するが、これは実用上複雑となるばかりでな
く、高価ともなる。このような問題点を解決するため
に、本発明者は図22、図23を用いて次の手法を試みた。
【００３９】すなわち、弁18−１・・・18−ｎが開いて
いるときの流量
いるときの流量
【数１】 を流量計19で計測しながら、弁18−ｉを閉じたときの流
量の減少を計測すれば、この減少は弁18−ｉの弁を通過
した流量に相当する。このような弁の閉束プロセスを各
弁毎に短時間にくり返せば、実際の注入にはほとんど影
響を及ぼすことなく、各吐出口から吐出される注入量を
把握でき、各細管からの注入量を注入の開始から完了ま
でコントロールすることができる。
量の減少を計測すれば、この減少は弁18−ｉの弁を通過
した流量に相当する。このような弁の閉束プロセスを各
弁毎に短時間にくり返せば、実際の注入にはほとんど影
響を及ぼすことなく、各吐出口から吐出される注入量を
把握でき、各細管からの注入量を注入の開始から完了ま
でコントロールすることができる。
【００４０】さらに、この操作をコントローラで行うこ
とにより、それぞれの注入管装置ならびに各注入管装置
の細管からの注入を計画通りに達成し得る。このように
して、全注入領域にあらかじめ本発明注入管装置を設置
しておいて、短期間のうちに全注入領域の三次元注入、
固結を達成し得る。
とにより、それぞれの注入管装置ならびに各注入管装置
の細管からの注入を計画通りに達成し得る。このように
して、全注入領域にあらかじめ本発明注入管装置を設置
しておいて、短期間のうちに全注入領域の三次元注入、
固結を達成し得る。
【００４１】
【作用】上述のようにして構成される本発明は複数本の
独立した細管を結束して構成される注入管装置であり、
さらにはこの注入管装置を用いた地盤注入工法および地
盤注入機構である。そして、上述の注入管装置の吐出口
はそれぞれ、互いに軸方向に間隔を置いて位置してお
り、地盤中の地盤状況の異なる各層にそれぞれ別々に独
立して開孔するから、これら各層に最適の注入量が細管
を通して同時注入することができる。さらに、本発明の
注入管装置を複数本地盤中に間隔をあけて埋設した場合
には、注入材は地盤中のたて方向、および横方向に立体
的に同時注入され、このため、注入工期が短縮される。
独立した細管を結束して構成される注入管装置であり、
さらにはこの注入管装置を用いた地盤注入工法および地
盤注入機構である。そして、上述の注入管装置の吐出口
はそれぞれ、互いに軸方向に間隔を置いて位置してお
り、地盤中の地盤状況の異なる各層にそれぞれ別々に独
立して開孔するから、これら各層に最適の注入量が細管
を通して同時注入することができる。さらに、本発明の
注入管装置を複数本地盤中に間隔をあけて埋設した場合
には、注入材は地盤中のたて方向、および横方向に立体
的に同時注入され、このため、注入工期が短縮される。
【００４２】図24は本発明にかかる注入管装置を用いて
注入した際の注入状況を示した模式図であって、多数の
注入領域Ａ、Ａ・・・Ａに同時注入される。なお、本発
明では、図25に示されるように、注入系統Ｘにおいて、
多数の注入管装置１、１・・・１を多方向に並列して地
盤中に設置し、広範囲に同時注入することもできる。
注入した際の注入状況を示した模式図であって、多数の
注入領域Ａ、Ａ・・・Ａに同時注入される。なお、本発
明では、図25に示されるように、注入系統Ｘにおいて、
多数の注入管装置１、１・・・１を多方向に並列して地
盤中に設置し、広範囲に同時注入することもできる。
【００４３】
【発明の効果】以上のとおり、本発明は複数本の独立し
た細管を結束して構成する注入管装置、これを用いた地
盤注入工法および地盤注入機構に係り、特に、地盤状況
が各層毎に異なる地盤に対して、これら各層毎に最適な
注入を同時に達成し得るのみならず、地盤中のたて方
向、横方向への立体的な同時注入をも可能であり、この
ため注入工期も短縮される。
た細管を結束して構成する注入管装置、これを用いた地
盤注入工法および地盤注入機構に係り、特に、地盤状況
が各層毎に異なる地盤に対して、これら各層毎に最適な
注入を同時に達成し得るのみならず、地盤中のたて方
向、横方向への立体的な同時注入をも可能であり、この
ため注入工期も短縮される。
【図１】本発明にかかる注入管装置の一具体例の部分側
面図である。
面図である。
【図２】本発明にかかる注入管装置の平面図である。
【図３】本発明にかかる注入管装置の吐出口の一具体例
の説明図である。
の説明図である。
【図４】前記吐出口の他の具体例の説明図である。
【図５】前記吐出口のさらに他の具体例の断面図であ
る。
る。
【図６】本発明にかかる注入管装置を用いた地盤注入の
説明図である。
説明図である。
【図７】本発明にかかる注入管装置の他の具体例の断面
図である。
図である。
【図８】本発明にかかる注入管装置のさらに他の具体例
の断面図である。
の断面図である。
【図９】本発明にかかる注入管装置のさらに他の具体例
の平面図である。
の平面図である。
【図１０】本発明にかかる注入管装置の吐出口部分の変
形例を示した部分断面図である。
形例を示した部分断面図である。
【図１１】本発明にかかる注入管装置とだき合わせて用
いられる補助部材であって、(a)はコーンを備えたロッ
ド、(b) は射水管である。
いられる補助部材であって、(a)はコーンを備えたロッ
ド、(b) は射水管である。
【図１２】本発明にかかる地盤注入機構の一態様を表し
た説明図である。
た説明図である。
【図１３】本発明にかかる地盤注入機構の複数の注入系
統を備えた一態様のフローシートである。
統を備えた一態様のフローシートである。
【図１４】本発明にかかる地盤注入機構の注入系統Ｘの
一態様を表した説明図である。
一態様を表した説明図である。
【図１５】本発明にかかる地盤注入機構の他の一態様を
表した説明図である。
表した説明図である。
【図１６】本発明にかかる地盤注入機構の複数の注入管
装置を備えた一態様の説明図である。
装置を備えた一態様の説明図である。
【図１７】本発明にかかる地盤注入機構の他の一態様を
表した説明図である。
表した説明図である。
【図１８】本発明にかかる地盤注入機構の複数の注入管
装置を備えた他の一態様の説明図である。
装置を備えた他の一態様の説明図である。
【図１９】本発明にかかる地盤注入機構の他の一態様を
表した説明図である。
表した説明図である。
【図２０】本発明にかかる地盤注入機構の他の一態様を
表した説明図である。
表した説明図である。
【図２１】図20における注入管装置の注入材導入部分の
説明図である。
説明図である。
【図２２】本発明にかかる地盤注入機構の他の一態様の
説明図である。
説明図である。
【図２３】本発明にかかる地盤注入機構の複数の注入管
装置を備えた他の一態様の説明図である。
装置を備えた他の一態様の説明図である。
【図２４】本発明にかかる地盤注入機構による注入状況
を表した模式図である。
を表した模式図である。
【図２５】本発明にかかる地盤注入機構において、多数
の注入管装置を多方向に並列した例の説明図である。
の注入管装置を多方向に並列した例の説明図である。
１ 注入管装置 ２ 流路 ３ 吐出口 ４ 細管 4a 先端 ８ 地盤 8a 地盤壁 10 シール 11 注入材配合槽 12 圧力ポット 13 ポンプ 14 パイプ 15 注入材 16 コンプレッサー 17 コントローラ 18 弁 19 流量計 21 電磁弁 Ｘ 注入系統 Ｙ 供給系統
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) E02D 3/12 101
Claims (11)
- 【請求項１】 吐出口をそれぞれ有する複数本の独立し
た細管を、各吐出口が互いに軸方向に間隔を置いて位置
するように結束してなるグラウト注入管装置において、
これら吐出口はそれぞれ袋体、栓またはスリーブによっ
て閉塞され、細管に注入材を導入したときの流圧によっ
て開口するようにしたことを特徴とする注入管装置。 - 【請求項２】 吐出口をそれぞれ有する複数本の独立し
た細管を、各吐出口が互いに軸方向に間隔を置いて位置
するように結束し、かつ、これら吐出口がそれぞれ袋
体、栓またはスリーブによって閉塞され、細管に注入材
を導入したときの流圧によって開口するように構成され
たグラウト注入管装置を地盤に設置し、次いで、前記注
入管装置の吐出口を通して地盤中に注入材を注入するこ
とを特徴とする地盤注入工法。 - 【請求項３】 請求項２において、前記グラウト注入管
装置の吐出口を通して地盤中に注入材を注入するに先立
って、前記注入管装置と地盤壁とのすき間に硬化材を填
充してシールを形成することを特徴とする請求項２の地
盤注入工法。 - 【請求項４】 吐出口をそれぞれ有する複数本の独立し
た細管を、各吐出口が互いに軸方向に間隔を置いて位置
するように結束し、かつ、これら吐出口がそれぞれ袋
体、栓またはスリーブによって閉塞され、細管に注入材
を導入したときの流圧によって開口するように構成され
たグラウト注入管装置を地盤に複数本、間隔をあけて設
置し、次いで、前記注入管装置の吐出口を通して地盤中
に注入材を注入することを特徴とする地盤注入工法。 - 【請求項５】 請求項４において、地盤中に注入材を注
入するに先立って、前記それぞれの注入管装置と地盤壁
とのすき間に硬化材を填充してシールを形成することを
特徴とする請求項４の地盤注入工法。 - 【請求項６】 吐出口をそれぞれ有する複数本の独立し
た細管を、各吐出口が互いに軸方向に間隔を置いて位置
するように結束し、かつ、これら吐出口がそれぞれ袋
体、栓またはスリーブによって閉塞され、細管に注入材
を導入したときの流圧によって開口するように構成され
たグラウト注入管装置を地盤中に設置してなる注入系統
と、この注入系統の注入管装置と連結される注入材配合
槽が備えられた供給系統からなり、前記注入管装置の吐
出口を通して前記注入材配合槽中の注入材を地盤中に注
入することを特徴とする地盤注入機構。 - 【請求項７】 請求項６の地盤注入機構において、前記
注入管装置を地盤中に複数本、間隔をあけて設置するこ
とにより注入系統が構成され、かつ、これら各注入管は
それぞれ注入系統の注入材配合槽と連結されてなる請求
項６の地盤注入機構。 - 【請求項８】 請求項６の地盤注入機構において、前記
供給系統には前記注入材配合槽と連結される圧力ポット
が備えられ、この圧力ポットを介して、前記注入管装置
が注入材配合槽と連結されてなる請求項６の地盤注入機
構。 - 【請求項９】 請求項６または７の地盤注入機構におい
て、前記注入系統の注入管装置には、加圧ポンプが備え
られ、この加圧ポンプを通して前記供給系統の注入材配
合槽と連結される請求項６または７のいずれかの地盤注
入機構。 - 【請求項１０】 請求項６または７の地盤注入機構にお
いて、前記注入系統の注入管装置には、電磁弁が備えら
れ、この電磁弁を通して前記供給系統の注入材配合槽と
連結される請求項６または７のいずれかの地盤注入機
構。 - 【請求項１１】 請求項６または７の地盤注入機構にお
いて、前記注入管装置の各細管には電磁弁が備えられ、
この電磁弁を通して前記供給系統の注入材配合槽と連結
される請求項６または７のいずれかの地盤注入機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11405994A JP2852721B2 (ja) | 1994-04-30 | 1994-04-30 | 注入管装置、これを用いた地盤注入工法および地盤注入機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11405994A JP2852721B2 (ja) | 1994-04-30 | 1994-04-30 | 注入管装置、これを用いた地盤注入工法および地盤注入機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07300849A JPH07300849A (ja) | 1995-11-14 |
| JP2852721B2 true JP2852721B2 (ja) | 1999-02-03 |
Family
ID=14628008
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11405994A Expired - Lifetime JP2852721B2 (ja) | 1994-04-30 | 1994-04-30 | 注入管装置、これを用いた地盤注入工法および地盤注入機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2852721B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5971606B1 (ja) * | 2015-12-18 | 2016-08-17 | 強化土株式会社 | 土壌浄化工法 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0892114B1 (en) * | 1997-07-14 | 2003-09-10 | Kyokado Engineering Co., Ltd. | Method and device for placing an improvement material into a soft ground through a vast number of points |
| JP3275005B2 (ja) * | 1998-07-31 | 2002-04-15 | 強化土エンジニヤリング株式会社 | 多点地盤注入工法および装置 |
| JP5250660B2 (ja) * | 2011-05-10 | 2013-07-31 | 株式会社エヌ・アイ・ティ | マンホール等浮上防止工法 |
| JP5971537B1 (ja) * | 2015-12-18 | 2016-08-17 | 強化土株式会社 | 地盤改良工法 |
-
1994
- 1994-04-30 JP JP11405994A patent/JP2852721B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 日本材料学会土質安定材料委員会編「地盤改良工法便覧」初版、日刊工業新聞社、平成３年７月３１日、ｐ．４１１−４４４ |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5971606B1 (ja) * | 2015-12-18 | 2016-08-17 | 強化土株式会社 | 土壌浄化工法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07300849A (ja) | 1995-11-14 |
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