JP2852520B2 - Photosensitive lithographic printing plate - Google Patents

Photosensitive lithographic printing plate

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JP2852520B2
JP2852520B2 JP63277103A JP27710388A JP2852520B2 JP 2852520 B2 JP2852520 B2 JP 2852520B2 JP 63277103 A JP63277103 A JP 63277103A JP 27710388 A JP27710388 A JP 27710388A JP 2852520 B2 JP2852520 B2 JP 2852520B2
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JP
Japan
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acid
diazo
printing plate
photosensitive
lithographic printing
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昌則 今井
則章 渡辺
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は感光性平版印刷版に関するものである。更に
詳しくは、親水性表面を有する支持体との接着性を改良
した、光網状化可能な重合体からなる感光層を設けた感
光性平版印刷版に関するものである。
The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate. More specifically, the present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate provided with a photosensitive layer made of a polymer capable of photoreticulation and having improved adhesion to a support having a hydrophilic surface.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

環付加反応によって架橋する光架橋性材料はよく知ら
れており、これらは、感光性平版印刷版等の製造に用い
る感光性組成物の主要成分として数多く用いられてい
る。これらの架橋材料のうちマレイミド基を側鎖に有す
る光架橋性ポリマーは高感度でありホトレジストとして
有用であるにもかかわらず、支持体や他の層との接着性
が良好でないという問題があるために実用化されていな
い。接着性が悪いと、現像中ブラシなどにより画像が剥
離したり、傷を生じたりして、十分な耐刷力を得ること
が出来ない。又、低露光時では、この傾向が顕著な為、
結果的に感度が低くなる。
Photocrosslinkable materials that are crosslinked by a cycloaddition reaction are well known, and many of them are used as main components of a photosensitive composition used for producing a photosensitive lithographic printing plate or the like. Among these cross-linking materials, a photo-crosslinkable polymer having a maleimide group in the side chain has a problem that the adhesion to a support or another layer is not good, though it is highly sensitive and useful as a photoresist. Has not been put to practical use. If the adhesiveness is poor, the image may be peeled off or damaged by a brush or the like during development, and sufficient printing durability cannot be obtained. Also, at the time of low exposure, this tendency is remarkable,
As a result, the sensitivity is reduced.

接着性を改良しようという試みは、特開昭62−78544
号に開示されているように、感光層中へネガ作用ジアゾ
樹脂を加える試みや、特開昭62−85255号に記載されて
いるように、アルミニウム支持体上に設けた、陽極酸化
皮膜のポアを拡げ、物理的なアンカー効果によって接着
力を得る試みが知られている。
Attempts to improve adhesion have been made in Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-78544.
As disclosed in JP-A-62-85255, an attempt was made to add a negative-acting diazo resin to a photosensitive layer, and as described in JP-A-62-85255, pores of an anodized film provided on an aluminum support were disclosed. Attempts have been made to obtain a bonding force by a physical anchor effect.

しかしながら、ジアゾ樹脂の感光層中への添加は、感
度を低下させる他、塗布液の状態での顔料(着色材)の
安定性を損う等の問題がある。又、支持体表面のアンカ
ー効果を高める方法は、印刷時に、非画像部がインキを
受けつけ易くなり、印刷汚れを起こし易いという欠点を
有している。
However, addition of the diazo resin to the photosensitive layer has problems such as lowering the sensitivity and impairing the stability of the pigment (coloring material) in the state of the coating liquid. Further, the method of enhancing the anchor effect on the surface of the support has a drawback that the non-image portion is liable to receive the ink during printing, and the printing stain is easily caused.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

従って、本発明はマレイミド基を側鎖に有する光網状
化可能な重合体のすぐれた感度を保持しつつ、印刷性能
にすぐれた平版印刷版を与える感光性平版印刷版を提供
することを目的とする。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate that provides a lithographic printing plate with excellent printing performance while maintaining excellent sensitivity of a photoreticulated polymer having a maleimide group in a side chain. I do.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明は、親水化処理された支持体とマレイミド基を
側鎖に有する光網状化可能な重合体を有する感光層の中
間に、ネガ作用ジアゾ樹脂層を設ける事により上記目的
が解決出来るとの知見に基づいてなされたものである。
According to the present invention, the above object can be solved by providing a negative-working diazo resin layer between a hydrophilic-treated support and a photosensitive layer having a photoreticulated polymer having a maleimide group in a side chain. This is based on knowledge.

すなわち、本発明は、親水性表面を有する支持体上
に、中間接着性層としてのネガ作用ジアゾ樹脂層と、マ
レイミド基を側鎖に有する光網状化可能な重合体を有す
る感光層を設けた事を特徴とする感光性平版印刷版であ
る。
That is, in the present invention, on a support having a hydrophilic surface, a negative-working diazo resin layer as an intermediate adhesive layer and a photosensitive layer having a photoreticulable polymer having a maleimide group in a side chain are provided. It is a photosensitive lithographic printing plate characterized by the following.

本発明に用いるマレイミド基を側鎖に有する光網状化
可能な重合体としては、特開昭52−988号(対応米国特
許4,079,041号)明細書や、独国特許2,626,769号明細
書、ヨーロッパ特許21,019号明細書、ヨーロッパ特許3,
552号明細書やディー・アンゲバンドゥテ・マクロモレ
クラーレ・ケミー(Die Angewandte Makromolokulare C
hemie)115(1983)の163〜181ページに記載されている
下記一般式(I) (式中RおよびR1はそれぞれ独立して最高4個の炭素原
子を有するアルキル基を表わすか、又はRとR1が一緒に
なって5員又は6員の炭素環を形成してもよい。) で表わされるマレイミド基を側鎖に有する重合体や、特
開昭49−128991号、同49−128992号、同49−128993号、
同50−5376号、同50−5377号、同50−5379号、同50−53
78号、同50−5380号、同53−5298号、同53−5299号、同
53−5300、同50−50107号、同51−47940号、同52−1390
7号、同50−45076号、同52−121700号、同50−10884
号、同50−45087号、独国特許第2,349,948号、同第2,61
6,276号各明細書に記載されている下記一般式(II) (式中R2は芳香族基を表わし、R3は水素原子、ハロゲン
原子、アルキル基又はシアノ基を表わす) で表わされるマレイミド基を側鎖に有する重合体等をあ
げることが出来る。これらの重合体の平均分子量は1000
以上、好ましくは3〜4万である。またこれらの重合体
は1分子当り平均2個以上のマレイミド基を側鎖に有す
る。これらのマレイミド基を側鎖に有する重合体中でも
特に酸基を有する重合体が、現像時アルカリ水を用いる
ことが出来、公害防止の観点から有利である。酸基を有
するマレイミド基重合体の酸価は20〜250の範囲が好ま
しく、更に好ましくは50〜150の範囲である。特にこれ
らの酸価を有する重合体の中でもディー・アンゲハンド
ゥテ・マクロモレクラーレ・ケミー(Die Angewandte M
akromolekulare Chemie)128(1984)の71〜91ページに
記載されている様なN−〔2−(メタクリロイルオキ
シ)エチル〕−2,3−ジメチルマレイミドとメタクリル
酸あるいはアクリル酸の共重合体が有用である。更にこ
の共重合体の合成に際して第3成分のビニルモノマーを
共重合することによって目的に応じた多元共重合体を用
意に合成することができる。たとえば第3成分のビニル
モノマーとして、そのホモポリマーのガラス転移点が室
温以下のアルキルメタアクリレートやアルキルアクリレ
ートを用いることによって共重合体に柔軟性を与えるこ
とが出来る。
Examples of the polymer capable of photoreticulation having a maleimide group on a side chain used in the present invention include JP-A-52-988 (corresponding to U.S. Pat. No. 4,079,041), German Patent 2,626,769, and European Patent 21,019. No., European Patent 3,
No. 552 and Die Angewandte Makromolokulare C
hemie) 115 (1983), pp. 163 to 181. (Wherein R and R 1 each independently represent an alkyl group having up to 4 carbon atoms, or R and R 1 may together form a 5- or 6-membered carbocyclic ring And a polymer having a maleimide group represented by a side chain in JP-A-49-128991, JP-A-49-128992, JP-A-49-128993,
No. 50-5376, No. 50-5377, No. 50-5379, No. 50-53
No. 78, No. 50-5380, No. 53-5298, No. 53-5299, No.
53-5300, 50-50107, 51-47940, 52-1390
No. 7, No. 50-45076, No. 52-121700, No. 50-10884
No. 50-45087, German Patent No. 2,349,948, No. 2,61
The following general formula (II) described in each specification of No. 6,276 (Wherein R 2 represents an aromatic group, and R 3 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group or a cyano group), and a polymer having a maleimide group in the side chain. The average molecular weight of these polymers is 1000
As mentioned above, it is preferably 30,000 to 40,000. These polymers have an average of two or more maleimide groups per molecule in the side chain. Among these polymers having a maleimide group in the side chain, a polymer having an acid group is particularly advantageous from the viewpoint of preventing pollution since alkaline water can be used during development. The acid value of the maleimide group polymer having an acid group is preferably in the range of 20 to 250, and more preferably in the range of 50 to 150. In particular, among polymers having these acid numbers, Die Angewandte M.
A copolymer of N- [2- (methacryloyloxy) ethyl] -2,3-dimethylmaleimide and methacrylic acid or acrylic acid as described on pages 71 to 91 of Akromolekulare Chemie 128 (1984) is useful. is there. Further, a multi-component copolymer suitable for the purpose can be easily synthesized by copolymerizing the vinyl monomer of the third component in synthesizing the copolymer. For example, by using an alkyl methacrylate or an alkyl acrylate whose homopolymer has a glass transition temperature of room temperature or lower as the vinyl monomer of the third component, flexibility can be given to the copolymer.

本発明において必要に応じて用いられる光増感剤は30
0nm以上の範囲で実際に充分な光吸収を可能にする極大
吸収を有する三重項増感剤が好ましい。この様な増感剤
としてはチオキサントン、チオキサントン誘導体、たと
えば2−クロルチオキサントン、2−イソプルリウチオ
キサントン、ジメチルチオキサントン、メチルチオキサ
ントン−1−エチルカルボキシレート等や5−ニトロア
セナフテン等をあげることが出来る。この他特開昭59−
206425号公報に記載されている1,2−ジシアノベンゼ
ン、クロラニル、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノベンゾ
キノン等の電子受容化合物も有効である。これらの増感
剤の添加量は全組成物の1〜20重量%、より好ましくは
3〜10重量%である。
The photosensitizer optionally used in the present invention is 30
Triplet sensitizers having a maximum absorption that actually allows sufficient light absorption in the range of 0 nm or more are preferred. Examples of such a sensitizer include thioxanthone, a thioxanthone derivative, for example, 2-chlorothioxanthone, 2-isopluriuthioxanthone, dimethylthioxanthone, methylthioxanthone-1-ethylcarboxylate, and 5-nitroacenaphthene. . In addition to this,
Electron accepting compounds such as 1,2-dicyanobenzene, chloranil, and 2,3-dichloro-5,6-dicyanobenzoquinone described in 206425 are also effective. The addition amount of these sensitizers is 1 to 20% by weight, more preferably 3 to 10% by weight of the total composition.

以上の他に感光層には更に酸化防止剤加えておくこと
が好ましく、例えばジ−t−ブチル−p−クレゾール、
ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t
−ブチルフェノール)、2−メルカプトベンゾイミダゾ
ール等が有用であり、また場合によっては感光層の着色
を目的として染料もしくは顔料や焼出剤として光酸発生
剤(例えばトリアジン系、オキサゾール系のトリハロメ
チル化合物)とpH指示薬、アジド化合物とロイコ染料や
スピロピラン化合物等を添加することが出来る。
In addition to the above, it is preferable to further add an antioxidant to the photosensitive layer, for example, di-t-butyl-p-cresol,
Benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t
-Butylphenol), 2-mercaptobenzimidazole, and the like are useful, and in some cases, a dye or pigment for the purpose of coloring the photosensitive layer, or a photoacid generator (for example, a triazine-based or oxazole-based trihalomethyl compound) as a printing agent. And a pH indicator, an azide compound, a leuco dye and a spiropyran compound.

上述のごとき感光性組成物を、例えば、2−メトキシ
エタノール、2−メトキシエチルアセテート、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、3−メトキシプロパ
ノール、3−メトキシプロピルアセテート、メチルエチ
ルケトン、エチレンジクロライドなどの適当な溶剤の単
独またはこれらを適当に組合せた混合溶媒に溶解して支
持体上に塗設する。その被覆量は乾燥後の重量で約0.1g
/m2〜約10g/m2の範囲が適当であり、より好ましくは0.5
〜5g/m2である。
The photosensitive composition as described above can be used alone or in a suitable solvent such as 2-methoxyethanol, 2-methoxyethyl acetate, propylene glycol monomethyl ether, 3-methoxypropanol, 3-methoxypropyl acetate, methyl ethyl ketone, and ethylene dichloride. These are dissolved in an appropriately combined solvent mixture and coated on a support. The coating amount is about 0.1g by weight after drying
/ m 2 ~ about a range of 10 g / m 2 are suitable, more preferably 0.5
It is a ~5g / m 2.

本発明に用いる親水性を有する表面を有する支持体
は、寸度的に安定な板状物である事が望ましい。かかる
寸度的に安定な板状物としては、従来印刷物の支持体と
して使用されたものが含まれ、それらは本発明に好適に
使用することができる。かかる支持体としては、紙、プ
ラスチックス(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリスチレンなど)がラミネートされた紙、アルミニウ
ム(アルミニウム合金も含む。)、亜鉛、銅などのよう
な金属の板、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プ
ロピオン酸セルロース、酢酸セルロース、酢酸酪酸セル
ロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポ
リカーボネート、ポリビニルアセタールなどのようなプ
ラクチックのフィルム、上記の如き金属がラミネートも
しくは蒸着された紙もしくはプラクチックフィルムなど
が含まれる。これらの支持体のうち、アルミニウム板は
寸度的に著しく安定であり、しかも安価であるうえ、本
発明の組成物との接着性が特に良好なので好ましい。さ
らに、特公昭48−18327号公報に記載されているような
ポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウム
シートが結合された複合体シートも好ましい。
The support having a hydrophilic surface used in the present invention is preferably a dimensionally stable plate. Such dimensionally stable plate-like materials include those conventionally used as supports for printed matter, and they can be suitably used in the present invention. Such supports include paper, plastics (eg, polyethylene, polypropylene,
Paper laminated with polystyrene, etc.), metal plates such as aluminum (including aluminum alloy), zinc, copper, etc., cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate , A plastic film such as polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc .; a paper or a plastic film on which a metal as described above is laminated or vapor-deposited; Among these supports, the aluminum plate is preferable because it is extremely dimensionally stable, is inexpensive, and has particularly good adhesion to the composition of the present invention. Further, a composite sheet in which an aluminum sheet is bonded on a polyethylene terephthalate film as described in JP-B-48-18327 is also preferable.

また、金属、特にアルミニウムの支持体の場合には、
砂目立て処理、陽極酸化処理などの表面処理がなされて
いる事が好ましい。
Also, in the case of a support of metal, especially aluminum,
It is preferable that a surface treatment such as a graining treatment and an anodizing treatment is performed.

さらに、表面の親水性を高める為に、珪酸ソーダ、弗
化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬
処理が、行なわれる事が好ましい。米国特許第2,714,06
6号明細書に記載されている如く、砂目立てしたのち珪
酸ナトリウム水溶液に浸漬されたアルミニウム板、特公
昭47−5125号公報に記載されているようにアルミニウム
板を陽極酸化処理したのちに、アルカリ金属珪酸塩の水
溶液に浸漬処理したものも好適に使用される。
Further, in order to enhance the hydrophilicity of the surface, it is preferable to perform a dipping treatment in an aqueous solution of sodium silicate, potassium fluorozirconate, phosphate or the like. US Patent 2,714,06
As described in the specification of Japanese Patent No. 6, as described in Japanese Patent Publication No. 47-5125, an aluminum plate immersed in an aqueous solution of sodium silicate after graining is subjected to anodizing treatment. Those immersed in an aqueous solution of a metal silicate are also preferably used.

また、米国特許第3,658,662号明細書に記載されてい
るようなシリケート電着も有効である。
Also, silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662 is effective.

更には特公昭46−27481号公報、特開昭52−58602号公
報、特開昭52−30503号公報に開示されているような電
解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化処理及び珪
酸ソーダ処理を組合せた表面処理も有用である。
Further, a support provided with electrolytic grains as disclosed in JP-B-46-27481, JP-A-52-58602 and JP-A-52-30503, and the above-described anodizing treatment and sodium silicate Surface treatments that combine treatments are also useful.

更には、特開昭56−28893号公報に開示されているよ
うな、ブラシグレイン、電解グレイン、陽極酸化処理さ
らに珪酸ソーダ処理を順に行ったものも好適である。更
にこれらの処理を行った後に、水溶性の樹脂、たとえば
ポリビニルフォスルホン酸、スルホン酸基を側鎖に有す
る重合体および共重合体、ポリアクリル酸等を下塗りし
たものも好適である。
Further, it is also preferable to sequentially perform brush grain, electrolytic grain, anodizing treatment and sodium silicate treatment as disclosed in JP-A-56-28893. Further, after these treatments are performed, a water-soluble resin, for example, a polyvinyl sulfonic acid, a polymer or a copolymer having a sulfonic acid group in a side chain, a polyacrylic acid, or the like, is preferably undercoated.

これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とする
ために施される以外に、その上に設けられる感光性組成
物との有害な反応を防ぐため、更には感光層との密着性
の向上等のために施される。ものである。
These hydrophilic treatments are performed not only to make the surface of the support hydrophilic, but also to prevent harmful reaction with the photosensitive composition provided thereon, It is performed for the improvement of the quality. Things.

中間接着性層として存在するネガ作用ジアゾ樹脂とし
ては、各種公知の物が使用出来る。このようなジアゾ樹
脂としては4−ジアゾ−ジフェニルアミン、1−ジアゾ
−4−4−N,N−ジメチルアミノベンゼン、1−ジアゾ
−4−N,N−ジエチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4
−N−エチル−N−ヒドロキシエチルアミノベンゼン、
1−ジアゾ−4−N−メチル−N−ヒドロキシエチルア
ミノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジエトキシ−4−ベ
ンゾイルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N−ベンジ
ルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N,N−ジメチルア
ミノベンゼン、1−ジアゾ−4−モルフォリノベンゼ
ン、1−ジアゾ−2,5−ジメトキシ−4−p−トリメル
カプトベンエン、1−ジアゾ−2−エトキシ−4−N,N
−ジメチルアミノベンゼン、p−ジアゾ−ジメチルアニ
リン、1−ジアゾ−2,5−ジブトキシ−4−モルフォリ
ノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジエトキシ−4−モル
フォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジメトキシ−4
−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジエトキ
シ−4−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジ
エトキシ−4−p−トリルメルカプトベンゼン、1−ジ
アゾ−3−エトキシ−4−N−メチル−N−ベンジルア
ミノベンゼン、1−ジアゾ−3−クロロ−4−N,N−ジ
エチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−3−メチル−4−
ピロリジノベンゼン、1−ジアゾ−2−クロロ−4−N,
N−ジメチルアミノ−5−メトキシベンゼン、1−ジア
ゾ−3−メトキシ−4−ピロリジノベンゼン、3−メト
キシ−4−ジアゾジフェニルアミン、3−エトキシ−4
−ジアゾジフェニルアミン、3−(n−プロポキシ)−
4−ジアゾジフェニルアミン、3−イソプロポキシ−4
−ジアゾジフェニルアミンのようなジアゾモノマーと、
ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアル
デヒド、ブチルアセトアルデヒド、イソブチルアルデヒ
ド、またはベンズアルデヒドのような縮合剤をモル比で
各々1:1〜1:0.5〜好ましくは1:0.8〜1:0.6とし、これを
通常の方法で縮合して得られた縮合物と陰イオンとの反
応生成物があげられる。陰イオンとしては、四フッ化ホ
ウ酸、六フッ化燐酸、トリイソプロピルナフタレンスル
ホン酸、5−ニトロオルト−トルエンスルホン酸、5−
スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン
酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2−ニト
ロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン
酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロカプ
リルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン
酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキシ−
4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン
酸、及びパラトルエンスルホン酸Y2ZnCl2、等をあげる
ことができる。これらの中でも特に六フッ化燐酸、トリ
イソプロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベ
ンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が
好適である。
As the negative-working diazo resin existing as the intermediate adhesive layer, various known products can be used. Such diazo resins include 4-diazo-diphenylamine, 1-diazo-4-4-N, N-dimethylaminobenzene, 1-diazo-4-N, N-diethylaminobenzene, 1-diazo-4
-N-ethyl-N-hydroxyethylaminobenzene,
1-diazo-4-N-methyl-N-hydroxyethylaminobenzene, 1-diazo-2,5-diethoxy-4-benzoylaminobenzene, 1-diazo-4-N-benzylaminobenzene, 1-diazo-4 -N, N-dimethylaminobenzene, 1-diazo-4-morpholinobenzene, 1-diazo-2,5-dimethoxy-4-p-trimercaptobenene, 1-diazo-2-ethoxy-4-N, N
-Dimethylaminobenzene, p-diazo-dimethylaniline, 1-diazo-2,5-dibutoxy-4-morpholinobenzene, 1-diazo-2,5-diethoxy-4-morpholinobenzene, 1-diazo-2, 5-dimethoxy-4
-Morpholinobenzene, 1-diazo-2,5-diethoxy-4-morpholinobenzene, 1-diazo-2,5-diethoxy-4-p-tolylmercaptobenzene, 1-diazo-3-ethoxy-4-N -Methyl-N-benzylaminobenzene, 1-diazo-3-chloro-4-N, N-diethylaminobenzene, 1-diazo-3-methyl-4-
Pyrrolidinobenzene, 1-diazo-2-chloro-4-N,
N-dimethylamino-5-methoxybenzene, 1-diazo-3-methoxy-4-pyrrolidinobenzene, 3-methoxy-4-diazodiphenylamine, 3-ethoxy-4
-Diazodiphenylamine, 3- (n-propoxy)-
4-diazodiphenylamine, 3-isopropoxy-4
A diazo monomer such as diazodiphenylamine;
A condensing agent such as formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, butylacetaldehyde, isobutyraldehyde, or benzaldehyde is used at a molar ratio of 1: 1 to 1: 0.5 to preferably 1: 0.8 to 1: 0.6, respectively. A reaction product of a condensate obtained by condensation with an anion is exemplified. Examples of anions include tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitroortho-toluenesulfonic acid,
Sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, Dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, 2-methoxy-
4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid Y 2 ZnCl 2 , and the like can be given. Among them, alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid are particularly preferable.

このジアゾ樹脂層の厚みは広範囲に変更可能である
が、露光した時に、上層の感光層と均一な結合形成反応
を行い得る厚みでなければならない。
The thickness of the diazo resin layer can be varied over a wide range, but it must be a thickness that allows a uniform bond-forming reaction with the upper photosensitive layer upon exposure.

通常乾燥固体で1〜50mg/m2の塗布割合が良く、5〜2
0mg/m2が特に良好である。
Usually a dry solid with a good coating rate of 1 to 50 mg / m2, 5 to 2
0 mg / m 2 is particularly good.

更に、ジアゾ樹脂層及び感光層中にジアゾ樹脂の安定
化剤として、りん酸、亜りん酸、酒石酸、クエン酸、り
んご酸、ジピコリン酸、多核芳香族スルホン酸およびそ
の塩、スルホサリチル酸等を必要に応じて添加すること
ができる。
In addition, phosphoric acid, phosphorous acid, tartaric acid, citric acid, malic acid, dipicolinic acid, polynuclear aromatic sulfonic acids and salts thereof, sulfosalicylic acid, etc. are required as diazo resin stabilizers in the diazo resin layer and the photosensitive layer. It can be added according to.

本発明の感光性平版印刷版をメタルハライドランプ、
高圧水銀灯などのような紫外線に富んだ光源を用いて画
像露光し、現像液で処理して感光層の未露光部を除去
し、最後にガム液を塗布することにより平版印刷版とす
る。更に耐刷力を上げる為に現像後、後露光してもよ
い。上記現像液として好ましいものは、ベンジルアルコ
ール、2−フェノキシエタノール、2−ブトキシエタノ
ールのような有機溶媒を少量含むアルカリ水溶液であ
り、例えば米国特許第3,475,171号および同第3,615,480
号に記載されているものを挙げることができる。更に、
特開昭50−26601号、特公昭56−39464号、同56−42860
号の各公報に記載されている現像液も本発明の感光性平
版印刷版の現像液として優れている。
A metal halide lamp comprising the photosensitive lithographic printing plate of the present invention;
An image is exposed using a light source rich in ultraviolet rays such as a high-pressure mercury lamp, the unexposed portion of the photosensitive layer is removed by processing with a developing solution, and finally a gum solution is applied to obtain a lithographic printing plate. After development, post-exposure may be performed to further increase the printing durability. Preferred as the developer are alkaline aqueous solutions containing a small amount of an organic solvent such as benzyl alcohol, 2-phenoxyethanol and 2-butoxyethanol, for example, U.S. Patent Nos. 3,475,171 and 3,615,480.
Can be mentioned. Furthermore,
JP-A-50-26601, JP-B-56-39464, JP-B-56-42860
The developer described in each of the publications is also excellent as a developer for the photosensitive lithographic printing plate of the present invention.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明の感光性平版印刷版は高感度であり、かつ、耐
刷性にすぐれた平版印刷板を与える。
The photosensitive lithographic printing plate of the present invention provides a lithographic printing plate having high sensitivity and excellent printing durability.

〔実施例〕〔Example〕

以下、実施例に基づいて更に詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples.

実施例1 厚さ0.30mmのアルミニウム板をナイロンブラシと400
メッシュのパミストンの水懸濁液を用いその表面を砂目
立てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化ナトリウム
に70℃で60秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗
後、20%HNO3で中和洗浄、水洗した。これをVA=12.7V
の条件下で正弦波の交番波形電流を用いて1%硝酸水溶
液中で160クーロン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処
理を行った。その表面粗さを測定したところ、0.6μ(R
a表示)であった。ひきつづいて30%のH2SO4水溶液中に
浸漬し55℃で2分間デスマット処理した後、20%H2SO4
水溶液中、電流密度2A/dm2において厚さが2.7g/m2とな
るように2分間陽極酸化処理した。その後70℃のケイ酸
ソーダ2.5%水溶液に1分間浸漬し、水洗し、乾燥させ
た。
Example 1 A 0.30 mm thick aluminum plate was coated with a nylon brush and 400
The surface was sand-grained using an aqueous suspension of mesh pumistone, and then thoroughly washed with water. After being immersed in 10% sodium hydroxide at 70 ° C. for 60 seconds for etching, washed with running water, washed with 20% HNO 3 for neutralization and washed with water. This is V A = 12.7V
The electrolytic surface roughening treatment was performed in a 1% nitric acid aqueous solution at an anode-time electricity quantity of 160 coulomb / dm 2 using a sine wave alternating current under the above conditions. When the surface roughness was measured, it was 0.6μ (R
a display). Subsequently, after immersion in a 30% H 2 SO 4 aqueous solution and desmutting at 55 ° C. for 2 minutes, 20% H 2 SO 4
In an aqueous solution, anodizing was performed for 2 minutes so that the thickness became 2.7 g / m 2 at a current density of 2 A / dm 2 . Thereafter, it was immersed in a 2.5% aqueous solution of sodium silicate at 70 ° C. for 1 minute, washed with water, and dried.

次に下記のジアゾ樹脂液を調製した。 Next, the following diazo resin liquid was prepared.

この液を回転塗布機を用いて、先の基板上に乾燥後の重
量にして10mg/m2となるように塗布した。
This solution was applied to the above substrate using a spin coater so that the weight after drying was 10 mg / m 2 .

次いで、80℃で1分間乾燥した。 Then, it was dried at 80 ° C. for 1 minute.

次に、下記感光性組成物Iを調製した。 Next, the following photosensitive composition I was prepared.

この感光性組成物を先のジアゾ樹脂を設けた基板の上
に回転塗布機を用いて、乾燥後の重量にして、1.5g/m2
となるように塗布した。
The photosensitive composition was dried on a substrate provided with the above diazo resin using a spin coater, and dried to a weight of 1.5 g / m 2.
It applied so that it might become.

次いで、80℃で2分間乾燥した。 Then, it was dried at 80 ° C. for 2 minutes.

こうして得られた印刷版をAとする。 The printing plate thus obtained is designated as A.

(比較例) 実施例1と同じ基板上に、ジアゾ樹脂層を設けず、こ
の感光液を乾燥重量で1.5g/m2となるように塗布、乾燥
して印刷版Bを得た。
(Comparative Example) A printing plate B was obtained by applying and drying this photosensitive solution to a dry weight of 1.5 g / m 2 on the same substrate as in Example 1 without providing a diazo resin layer.

これらの感光板にステップウェッジ(濃度段差0.15、
濃度段数15段)を密着させ、米国ヌアーク社製プリンタ
ー(2KWメタルハライドランプ)で10カウント露光し
た。露光後下記の現像液で25℃、1分間現像し印刷版を
得た。
Step wedges (density step 0.15,
(15 steps of density), and exposure was performed 10 times with a printer (2KW metal halide lamp) manufactured by Nuark, USA. After exposure, the plate was developed with the following developer at 25 ° C. for 1 minute to obtain a printing plate.

現像液 ベンジルアルコール 4.5g イソプロピルナフタレンスルオン酸 のナトリウム塩の38%水溶液 4.5g トリエタノールアミン 1.5g モノエタノールアミン 0.1g 亜硫酸ナトリウム 0.3g 純 水 100g 本発明の印刷版Aは、画像もしっかりしており感度も
高いが、Bは基板との密着が悪い為、感度が低いばかり
でなく、画像部に、現像時にわずかにこすった時のキズ
が無数についていた。
Developer Benzyl alcohol 4.5 g 38% aqueous solution of sodium salt of isopropyl naphthalene sulphonic acid 4.5 g Triethanolamine 1.5 g Monoethanolamine 0.1 g Sodium sulfite 0.3 g Pure water 100 g The printing plate A of the present invention has a firm image and high sensitivity, but B has poor adhesion to the substrate, so that not only the sensitivity is low, but also the image portion has scratches when slightly rubbed during development. There were countless.

これら印刷版を、ハイデルSOR印刷機に取り付け印刷
した所、Aは5万枚の印刷物を得る事が出きたが、Bの
印刷枚数は1,000枚で、細部の網がとび、調子再現性の
悪いサンプルしか得られず、又、10,000枚で画像全体に
摩擦が生じた。
When these printing plates were attached to a Heidel SOR printing machine and printed, A was able to obtain 50,000 copies, but B had 1,000 prints, the detail was skipped, and tone reproduction was poor. Only a sample was obtained, and the entire image was rubbed at 10,000 sheets.

〔実施例2〕 実施例1で用いたのと同じ基板に、下記のジアゾ樹脂
液を塗布乾燥した。乾燥重量は10mg/m2なるよう調整し
た。
[Example 2] The following diazo resin liquid was applied to the same substrate used in Example 1 and dried. The dry weight was adjusted to 10 mg / m 2 .

次に下記感光液IIを調製した。 Next, the following photosensitive solution II was prepared.

この感光性組成物を先のジアゾ樹脂を塗布した基板に
回転塗布機を用いて、乾燥後の重量にして、1.5g/m2
なるように塗布した。この印刷版をCとした。
The photosensitive composition was applied to the substrate to which the diazo resin had been applied using a spin coater so that the weight after drying was 1.5 g / m 2 . This printing plate was designated as C.

(比較例2) 感光液IIの中へP−ジアゾジフェニルアミンとホルム
アルデヒドとの縮合物のPF6塩を0.2g添加した、感光液I
IIを作成した。
(Comparative Example 2) a PF 6 salt of a condensate of P- diazo diphenylamine with formaldehyde into the photosensitive solution II was added 0.2 g, photosensitive liquid I
Made II.

実施例1で用いた基板に、ジアゾ樹脂層を設けずに、
感光液IIIを塗布・乾燥した。乾燥重量は1.5g/m2であっ
た。この印刷版をDとした。
Without providing a diazo resin layer on the substrate used in Example 1,
Photosensitive solution III was applied and dried. Dry weight was 1.5 g / m 2. This printing plate was designated as D.

又、この感光液IIIを室内で一晩放置した所、底に顔
料の沈でんが生じた。
Further, when this photosensitive solution III was allowed to stand in a room overnight, sedimentation of the pigment occurred at the bottom.

(結果) 実施例1と同様に、露光・現像した結果を示す。又、
印刷時間に得られた耐刷枚数を示す。
(Results) The results of exposure and development are shown in the same manner as in Example 1. or,
This shows the number of printings obtained during the printing time.

本発明の印刷版Cの方が、高感度であり、高耐刷性を
示した。又、塗布液の安定性にもすぐれていた。
The printing plate C of the invention had higher sensitivity and higher printing durability. Also, the stability of the coating solution was excellent.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−294238(JP,A) 特開 昭62−85255(JP,A) 特開 昭55−160010(JP,A) 特開 昭59−208552(JP,A) 特開 昭59−53836(JP,A) 特開 昭53−145706(JP,A) 特公 昭50−7481(JP,B1) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (56) References JP-A-62-294238 (JP, A) JP-A-62-85255 (JP, A) JP-A-55-160010 (JP, A) JP-A-59-1985 208552 (JP, A) JP-A-59-53836 (JP, A) JP-A-53-145706 (JP, A) JP-B-50-7481 (JP, B1)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】親水性表面を有する支持体上に、中間接着
性層としての、5〜20mg/m2の厚みを有するネガ作用ジ
アゾ樹脂層と、マレイミド基を側鎖に有する光網状化可
能な重合体を有する感光層を設けたことを特徴とする感
光性平版印刷版。
1. A negative working diazo resin layer having a thickness of 5 to 20 mg / m 2 as an intermediate adhesive layer on a support having a hydrophilic surface, and a photoreticulation having a maleimide group in a side chain. A photosensitive lithographic printing plate comprising a photosensitive layer having a polymer.
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JPS5637695B2 (en) * 1973-05-18 1981-09-02
US4104072A (en) * 1977-05-19 1978-08-01 Polychrome Corporation Water developable lithographic printing plate having dual photosensitive layering
EP0021019B1 (en) * 1979-05-18 1984-10-17 Ciba-Geigy Ag Photocrosslinkable copolymers, photosensitive recording material containing them, its utilisation in the production of photographic pictures and process for the production of photographic pictures
JPS5953836A (en) * 1982-09-21 1984-03-28 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive lithographic plate
JPS59208552A (en) * 1983-05-12 1984-11-26 Fuji Yakuhin Kogyo Kk Photosensitive lithographic printing plate
JPS6285255A (en) * 1985-10-09 1987-04-18 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive lithographic printing plate
JPS62294238A (en) * 1986-06-13 1987-12-21 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition

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