JPS626253A - Photosensitive composition - Google Patents

Photosensitive composition

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JPS626253A
JPS626253A JP14494585A JP14494585A JPS626253A JP S626253 A JPS626253 A JP S626253A JP 14494585 A JP14494585 A JP 14494585A JP 14494585 A JP14494585 A JP 14494585A JP S626253 A JPS626253 A JP S626253A
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acid
photosensitive
side chain
soluble
photosensitive composition
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Masanori Imai
今井 昌則
Mitsuru Koike
充 小池
Nobuyuki Kita
喜多 信行
Shiro Tan
丹 史朗
Koichi Kawamura
浩一 川村
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers

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Abstract

PURPOSE:To obtain a photosensitive composition capable of effectively preventing oxygen effect at the time of imagewise exposure even if an oxygen blocking layer is not formed on the surface of a photosensitive layer and obtaining a lithographic plate high in printing resistance by using an alkali- soluble or swellable polymer capable of film-forming made of an acidic vinyl copolymer. CONSTITUTION:The photosensitive composition is composed of an ethylenically unsaturated polymerizable compound, an alkali-soluble or -swellable polymer capable of forming a film, a photopolymerization initiator, and an diazo resin. Said alkali-soluble or -swellable polymer capable of forming a film is an acidic vinyl copolymer comprising (A) structural units each having an allyl group on the side chain, and (B) structural units having an NC or OH group on the side chain, and it is preferred to contain (A) in an amount of 20-80mol%, especially, 50-80mol%, and (B) in an amount of 70-10mol%, especially, 40-10mol%, and if (A) is <=20mol%, curing is not made sufficient by photopolymerization, and when it is used as the photosensitive layer of the lithographic plate, high printing resistance can not be obtained.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は感光性平版印刷版の製造に適した感光性組成物
に関するものである。更に詳しくは製版時の酸累の影響
を低減させた新規な光重合性感光性組成物に関するもの
である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to a photosensitive composition suitable for producing a photosensitive lithographic printing plate. More specifically, the present invention relates to a novel photopolymerizable photosensitive composition that reduces the influence of acid buildup during plate making.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

光重合性組成物を感光性平版印刷版に適した感光性画像
形成層として用いる試みが行われている。
Attempts have been made to use photopolymerizable compositions as photosensitive imaging layers suitable for photosensitive lithographic printing plates.

たとえば特公昭46−32714号明細書には、有機溶
媒可溶性重合体、エチレン性不飽和付加重合性化合物と
光重合開始剤からなる基本組成が開示され、特公昭49
−34041号明細書には、不飽和二重結合を有機溶媒
可溶性重合体中に導入し、硬化効率を改善した組成が開
示されている。
For example, Japanese Patent Publication No. 46-32714 discloses a basic composition consisting of an organic solvent soluble polymer, an ethylenically unsaturated addition polymerizable compound, and a photopolymerization initiator;
No. 34041 discloses a composition in which unsaturated double bonds are introduced into an organic solvent-soluble polymer to improve curing efficiency.

又特公昭48−38403号、特公昭53−27605
号及び英国特許第1388492号各明細書に4、新規
な光重合開始剤を用いた組成等が記載されており、一部
で実用に供されているが、いずれの感光性組成物も平版
印刷版の感光層として用いると、画像露光時に酸素によ
る重合阻害を著しく受けるという欠点があり、感光層表
面に水溶性樹脂からなる酸素しゃ断層を設けなければな
らなかった。そこで、この酸素による重合阻害の影響を
低減させるために上記の光重合性組成にネガ作用を有す
るジアゾ樹脂を添加する試みが行なわれている。このジ
アゾ樹脂を添加する技術は、たとえば特開昭59−20
6825号、特開昭59−53836号、特開昭51−
178449号、特開昭57−196230号、及び米
国特許第4316949号各明細書に記載されているが
、これらとて未だ十分な効果を有しているとはいえなか
った。
Special Publication No. 48-38403, Special Publication No. 53-27605
No. 4 and British Patent No. 1,388,492, compositions using novel photopolymerization initiators are described, and some of them have been put to practical use, but none of the photosensitive compositions are suitable for lithographic printing. When used as a photosensitive layer of a printing plate, there is a drawback that polymerization is significantly inhibited by oxygen during image exposure, and an oxygen-blocking layer made of a water-soluble resin must be provided on the surface of the photosensitive layer. Therefore, attempts have been made to add a diazo resin having a negative effect to the above-mentioned photopolymerizable composition in order to reduce the influence of oxygen on polymerization inhibition. The technique of adding this diazo resin is known, for example, from Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-20
No. 6825, JP-A-59-53836, JP-A-51-
178449, Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-196230, and US Pat. No. 4,316,949, these methods have not yet been said to have sufficient effects.

さらに、特開昭59−53835号明細書には、(i)
エチレン性不飽和付加重合性化合物、(ii )アリル
基を側鎖に有するビニル共重合体、(iii )光重合
開始剤、および(iv )ネガ作用ジアゾ樹脂からなる
感光性組成物が開示されているが、これとて十分な効果
を有しているとはいえなかった。
Furthermore, in JP-A-59-53835, (i)
A photosensitive composition comprising an ethylenically unsaturated addition polymerizable compound, (ii) a vinyl copolymer having an allyl group in its side chain, (iii) a photopolymerization initiator, and (iv) a negative-acting diazo resin is disclosed. However, it could not be said that it had a sufficient effect.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

従って本発明は、感光層表面に酸素遮断層を設けなくと
も画像露光時の酸素の影響を有効に防止でき、かつ平版
印刷版において高耐刷力が得られる感光性組成物を得る
ことを目的とする。
Therefore, an object of the present invention is to obtain a photosensitive composition that can effectively prevent the influence of oxygen during image exposure without providing an oxygen barrier layer on the surface of the photosensitive layer, and that can provide high printing durability in planographic printing plates. shall be.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明は、特開昭59−53835号明細書に開示され
た感光性組成物において、成分(ii )のビニル共重
合体として、特にアリル基を側鎖に有する構造単位と、
二) IJル基及び/又は水酸基を側鎖に有する構造単
位を含有する酸性共重合体を用いると、酸素の影響を著
しく低下させた感光性プレートが得られるとの知見に基
づいてなされたのである。
The present invention provides a photosensitive composition disclosed in JP-A No. 59-53835, in which the component (ii) is a vinyl copolymer containing, in particular, a structural unit having an allyl group in its side chain;
2) This was done based on the knowledge that a photosensitive plate with significantly reduced effects of oxygen can be obtained by using an acidic copolymer containing a structural unit having an IJ group and/or a hydroxyl group in its side chain. be.

すなわち、本発明は、(1)エチレン性不飽和重合性化
合物、(2)アルカリ水可溶性又は膨潤性でかつフィル
ム形成可能な重合体、(3)光重合開始剤及び(4)ジ
アゾ樹脂を含有する感光性組成物において、アルカリ水
可溶性又は膨潤性でかつフィルム形成可能な重合体が(
A)アリル基を側鎖に有する構造単位と(B)ニトリル
基及び/又は水酸基を側鎖に有する構造単位とを含有す
る酸性ビニル共重合体であることを特徴とする感光性組
成物を提供する。
That is, the present invention comprises (1) an ethylenically unsaturated polymerizable compound, (2) a polymer that is soluble or swellable in alkaline water and capable of forming a film, (3) a photopolymerization initiator, and (4) a diazo resin. In the photosensitive composition, an alkaline water-soluble or swellable and film-forming polymer (
Provided is a photosensitive composition characterized by being an acidic vinyl copolymer containing A) a structural unit having an allyl group in its side chain; and (B) a structural unit having a nitrile group and/or a hydroxyl group in its side chain. do.

本発明は、成分(2)のアルカリ水可溶性又は膨潤性で
かつフィルム形成可能な重合体として、上記2種の構造
単位(A)と(B)とを−分子中に有する特定のポリマ
ーを用いることを特徴としている。つまり、特開昭59
−53836号明細書に記載されているような単なるア
リル基を側鎖に有するビニル共重合体はネガ作用ジアゾ
樹脂によっては光硬化しないが、この共重合体にニトリ
ル基及び/又は水酸基を側鎖に有する構造単位を導入す
ることによって、ジアゾ樹脂との光硬化が起こり、酸素
の存在下でも画像形成が可能になるからである。そして
更にこれらの組成物にエチレン性不飽和付゛加重合性化
合物と光重合開始剤を加えることによって、光重合によ
る架橋とジアゾ樹脂による架橋とを同時に行なわせ、酸
素の存在下でも画像形成を可能にしたのである。
The present invention uses a specific polymer having the above two types of structural units (A) and (B) in the molecule as the alkaline water-soluble or swellable and film-formable polymer of component (2). It is characterized by In other words, JP-A-59
A vinyl copolymer having a simple allyl group in the side chain as described in No. 53836 is not photocured by a negative working diazo resin, but a nitrile group and/or hydroxyl group is added to the side chain in this copolymer. This is because by introducing the structural unit having the diazo resin, photocuring with the diazo resin occurs, and image formation becomes possible even in the presence of oxygen. Furthermore, by adding an ethylenically unsaturated polymerizable compound and a photopolymerization initiator to these compositions, crosslinking by photopolymerization and crosslinking by diazo resin are performed simultaneously, and image formation is possible even in the presence of oxygen. It made it possible.

なお、ここで、アルカリ水可溶性又は膨潤性でかつフィ
ルム形成可能な重合体とは約1μの膜厚のフィルムを2
0重量%以下の有機溶媒(たとえばベンジルアルコール
)を含む層重量%(以下、%と略称する。)の水酸化ナ
トリウム水溶液に常温で約5分間浸漬させた場合に溶解
又は体積で165倍以上膨潤する重合体をさす。
Note that the polymer that is soluble or swellable in alkaline water and capable of forming a film is defined as a film having a thickness of approximately 1 μm.
Dissolves or swells by 165 times or more in volume when immersed in a layer weight% (hereinafter abbreviated as %) aqueous sodium hydroxide solution containing 0% by weight or less of an organic solvent (for example, benzyl alcohol) at room temperature for about 5 minutes. refers to a polymer that

本発明の成分(2)の酸性共重合体は、(i)ニトリル
基及び/又は水酸基を側鎖に有する構造単位とカルボン
酸、カルボン酸ハライド、カルボン酸無水物を側鎖に有
する構造単位からなる共重合体に水酸基、アミノ基、グ
リシジル基、イソシアネート基を有するアリル化合物を
高分子反応によって側鎖に付加させたものと、(’ i
i )二) IJル基及び/又は水酸基を側鎖に有する
ビニル単量体、アリル基を側鎖に有するビニル単量体お
よびカルボン酸、スルフォン酸等の酸性基を側鎖に有す
るビニル単量体を多元共重合させたものをあげることが
出来る。ここでニトリル基及び/又は水酸基を側鎖に有
する構造単位(B)は、ニトリル基及び/又は水酸基を
側鎖に有するビニル単量体を共重合することによって得
られる。このようなビニル単量体としては、具体的には
、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシ
プロピル(メタ)アクリレート、ブチレングリコールモ
ノ(メタ)アクリレート、ヘキサメチレングリコール(
メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)
アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)
アクリレート、N−ヒドロキシフェニル(メタ)アクリ
ルアミド、(メタ)アクリロニトリル、シアノエトキシ
フェニル(メタ)アクリルアミド、シアノエチル(メタ
)アクリレート等をあげることが出来る。水酸基、アミ
ノ基、グリシジル基、イソシアネート基を側鎖に有する
アリル化合物としてはアリルアルコール、アリルグリシ
ジルエーテルや特開昭59−53836号明細書中に一
般式[1−a、:lで表わされる化合物等をあげること
ができる。アリル基を側鎖に有するビニル単量体(A)
としては、前記の水酸基、アミノ基、グリシジル基、イ
ソシアネート基を側鎖に有するアリル化合物と(メタ)
アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸との
縮合反応により合成されたものをあげることが出来る。
The acidic copolymer of component (2) of the present invention is composed of (i) a structural unit having a nitrile group and/or a hydroxyl group in its side chain, and a structural unit having a carboxylic acid, a carboxylic acid halide, or a carboxylic acid anhydride in its side chain. ('i
i) 2) Vinyl monomers having an IJ group and/or hydroxyl group in the side chain, vinyl monomers having an allyl group in the side chain, and vinyl monomers having an acidic group such as carboxylic acid or sulfonic acid in the side chain. Examples include those whose bodies are multi-component copolymerized. The structural unit (B) having a nitrile group and/or a hydroxyl group in its side chain is obtained by copolymerizing a vinyl monomer having a nitrile group and/or a hydroxyl group in its side chain. Specifically, such vinyl monomers include hydroxyethyl (meth)acrylate, hydroxypropyl (meth)acrylate, butylene glycol mono(meth)acrylate, hexamethylene glycol (
meth) acrylate, polyethylene glycol (meth)
Acrylate, polypropylene glycol mono(meth)
Examples include acrylate, N-hydroxyphenyl (meth)acrylamide, (meth)acrylonitrile, cyanoethoxyphenyl (meth)acrylamide, and cyanoethyl (meth)acrylate. Examples of allyl compounds having a hydroxyl group, an amino group, a glycidyl group, or an isocyanate group in their side chains include allyl alcohol, allyl glycidyl ether, and compounds represented by the general formula [1-a, :l described in JP-A No. 59-53836. etc. can be given. Vinyl monomer (A) having an allyl group in its side chain
As for the allyl compound having the above-mentioned hydroxyl group, amino group, glycidyl group, or isocyanate group in the side chain and (meth)
Examples include those synthesized by condensation reactions with acrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, and maleic acid.

カルボン酸基又はスルフォン酸基を側鎖に有するビニル
単量体としては、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、ク
ロトン酸、無水イタコン酸、無水マレイン酸、ビニルベ
ンゼンスルホン酸等をあげることができる。
Examples of the vinyl monomer having a carboxylic acid group or a sulfonic acid group in its side chain include (meth)acrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, itaconic anhydride, maleic anhydride, and vinylbenzenesulfonic acid.

酸性ビニル共重合体中のアリル基を側鎖に有する構造単
位(A)は20〜80モル%が好ましく、更に好ましい
範囲は50〜80モル%である。20モル%未満では光
重合での硬化が十分でなく、平版印刷版の感光層として
用いた場合、高耐刷力が得られない。またニトリル基及
び/又は水酸基を側鎖に有する構造単位(B)は70〜
10モル%が好ましく、更に好ましくは40−10モル
%である。10モル%以下ではジアゾ樹脂との光硬化が
十分でなく、露光時酸素による影響を著しく受は露光機
の真空度が不完全な場合、感度が低下する。共重合体中
での酸含有量は酸価で10〜200好ましくは20〜1
50の範囲である。酸価10以下ではアルカリ水溶解性
が劣り好ましくない。
The structural unit (A) having an allyl group in its side chain in the acidic vinyl copolymer is preferably from 20 to 80 mol%, and more preferably from 50 to 80 mol%. If the amount is less than 20 mol %, curing by photopolymerization is insufficient, and high printing durability cannot be obtained when used as a photosensitive layer of a lithographic printing plate. Moreover, the structural unit (B) having a nitrile group and/or a hydroxyl group in the side chain is 70 to
It is preferably 10 mol%, more preferably 40-10 mol%. If it is less than 10 mol %, photocuring with the diazo resin will not be sufficient, and the effect of oxygen during exposure will be significant, and if the degree of vacuum in the exposure machine is incomplete, sensitivity will decrease. The acid content in the copolymer has an acid value of 10 to 200, preferably 20 to 1.
The range is 50. If the acid value is less than 10, the solubility in alkaline water will be poor, which is not preferable.

また酸価200以上では硬化した感光層のアルカリ水に
対する膨潤性が大で好ましくない。
Further, an acid value of 200 or more is not preferable because the cured photosensitive layer has a high swelling property in alkaline water.

これらの酸性ビニル共重合体中においても、アリル(メ
タ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/ヒドロキシエ
チルメタアクリレート又はシアノエチル(メタ)アクリ
レート又はシアノエトキシフェニルアクリルアミド共重
合体がもっとも好適である。
Among these acidic vinyl copolymers, allyl (meth)acrylate/(meth)acrylic acid/hydroxyethyl methacrylate, cyanoethyl (meth)acrylate, or cyanoethoxyphenylacrylamide copolymers are most preferred.

本発明の成分(1)であるエチレン性不飽和重合性化合
物としては常圧で沸点100℃以上であり、かつ少なく
とも1分子中に1個、より好ましくは2個以上の付加重
合可能な不飽和基を有する分子量10,000以下のモ
ノマー又はオリゴマーが好ましい。このようなモノマー
はオリゴマーとして具体的には、ポリエチレングリコー
ルモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコー
ルモノ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ
)アクリレート等の単官能のアクリレートやメタクリレ
ート;ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート
、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ト
リメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリ
スリトールトリ (メタ)アクリレート、ペンタエリス
リトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオー
ルジ(メタ)アクリレート、トリ(アクリロイルオキシ
エチル)イソシアヌレート、グリセリンやトリメチロー
ルエタン等の多価アルコールにエチレンオキサイドやプ
ロピレンオキサイドを付加させた後(メタ)アクリレー
ト化したもの、特公昭48−41708号、特公昭50
−6034号、特開昭51−37193号各明細明細記
載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭4
8−64183号、特公昭49−43191号、特公昭
52−3.0490明細明細書に記載されているポリエ
ステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリ
ル酸反応させたエポキシアクリレ−ト類等の多官能のア
クリレートやメタクリレートが例示される。さらに詳細
には日本接着協会誌Vo120、No、 7.300〜
308ページに光硬化性モノマー及びオリゴマーとして
紹介されている重合性化合物を用いることもできる。
The ethylenically unsaturated polymerizable compound, which is component (1) of the present invention, has a boiling point of 100°C or higher at normal pressure, and has at least one, more preferably two or more addition-polymerizable unsaturated molecules in one molecule. A monomer or oligomer having a molecular weight of 10,000 or less is preferred. Specifically, such monomers are oligomers such as monofunctional acrylates and methacrylates such as polyethylene glycol mono(meth)acrylate, polypropylene glycol mono(meth)acrylate, and phenoxyethyl(meth)acrylate; polyethylene glycol di(meth)acrylate , polyethylene glycol di(meth)acrylate, trimethylolethane tri(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate Acrylate, hexanediol di(meth)acrylate, tri(acryloyloxyethyl)isocyanurate, polyhydric alcohols such as glycerin and trimethylolethane added with ethylene oxide or propylene oxide and then converted into (meth)acrylate, Tokkosho No. 48-41708, Special Publication 1977
Urethane acrylates as described in the specifications of JP-A-6034 and JP-A-51-37193;
Polyester acrylates, epoxy acrylates prepared by reacting an epoxy resin with (meth)acrylic acid, etc. described in Japanese Patent Publication No. 8-64183, Japanese Patent Publication No. 49-43191, and Japanese Patent Publication No. 3.0490 of 1982 Examples include polyfunctional acrylates and methacrylates. For more details, see Japan Adhesive Association Journal Vol. 120, No. 7.300~
Polymerizable compounds introduced as photocurable monomers and oligomers on page 308 can also be used.

成分(1)の使用量は、全組成に対して5〜50%、好
ましくは10〜40%である。又、成分(1)を成分(
2)に対して、重量比で0.5 / 9.5〜515の
範囲とするの・が好ましく、更に好ましい範囲は1/9
〜3/7である。
The amount of component (1) used is 5 to 50%, preferably 10 to 40%, based on the total composition. Also, component (1) can be replaced with component (
2), it is preferable that the weight ratio is in the range of 0.5/9.5 to 515, and the more preferable range is 1/9.
~3/7.

本発明の成分(3)である光重合開始剤としては米国特
許第2.367、661号、米国特許第2、367、6
70明細明細書に記載されているα−カルボニル化合物
、米国特許第2.448.828号明細書に記載されて
いるアシロインエーテル、゛米国特許第2.722.5
12号明細書に記載されているα−炭化水素で置換され
た芳香族アシロイン化合物、米国特許第3.046,1
27、米国特許第2.951.758号各明細書に記載
されている多核キノン化合物、米国特許第3.549.
367号明細書に記載されているトリアリールイミダゾ
ールダイマー/p−アミノフェニルケトンの組合せ、米
国特許第4.239.850号明細書中に記載されてい
るトリハロメチル−8−トリアジン系化合物、米国特許
第3,751,259号明細書に記載されているアクリ
ジン及びフェナジン化合物、米国特許第4,212,9
70号明細書に記載されているオキサジアゾール化合物
等が含まれ、その使用量は全組成に対して約0.5〜1
5%、より好ましくは2−10%である。
As the photopolymerization initiator which is component (3) of the present invention, US Pat.
α-carbonyl compounds described in US Pat. No. 70, Asiloin ethers described in US Pat. No. 2.448.828, U.S. Pat. No. 2.722.5
Aromatic acyloin compounds substituted with α-hydrocarbons described in US Pat. No. 3.046,1
27, polynuclear quinone compounds described in each specification of U.S. Patent No. 2.951.758, U.S. Patent No. 3.549.
The triarylimidazole dimer/p-aminophenyl ketone combination described in US Pat. No. 367, the trihalomethyl-8-triazine compound described in US Pat. Acridine and phenazine compounds described in U.S. Pat. No. 3,751,259, U.S. Pat. No. 4,212,9
Contains the oxadiazole compound described in Specification No. 70, and the amount used is about 0.5 to 1
5%, more preferably 2-10%.

本発明の成分(4)であるジアゾ樹脂としては、ネガ作
用を有し、実質的に水不溶性で有機溶媒可溶性のものが
適している。このようなジアゾ樹脂としては4−ジアゾ
−ジフェニルアミン、■−ジアゾー4−N、N−ジメチ
ルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N、N−ジエチル
アミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N=エチル−N−ヒ
ドロキシエチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N−
メチル−N−ヒドロキシエチルアミノベンゼン、1−ジ
アゾ−2,5−ジェトキシ−4−ベンゾイルアミノベン
ゼン、1−ジアゾ−4−N−ベンジルアミノベンゼン、
1−ジアゾ−4−N、N−ジメチルアミノベンゼン、1
−ジアゾ−4−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−2
,5−ジメトキシ=4−P−)リルメルカブトベンゼン
、1−ジアソ′−2−エトキシ−4−N、N−ジメチル
アミノベンゼン、P−ジアゾ−ジメチルアニリン、1−
ジアゾ−2,5−ジブトキシ−4−モルフォリノベンゼ
ン、1−ジアゾ−2,5−ジェトキシ−4−モルフォリ
ノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジメトキシ−4−モ
ルフォリノベンゼン、■−ジアゾー2.5−ジェトキシ
ー4−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジ
ェトキシ−4−P−トリルメルカプトベンセ゛ン、1−
ジアソ′−3=エトキシー4−N−メチル−N−ベンジ
ルアミノベンゼン、1−ジアゾ−3−クロロ−4−N、
N=ニジエチルアミノベンゼン1−ジアゾ−3−メチル
−4−ピロリジノベンゼン、1−ジアゾ−2−クロロ−
4−N、N−ジメチルアミノ−5−メトキシベンゼン、
■−ジアゾー3−メトキシー4−ピロリジノベンゼン、
3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン、3−エト
キシ−4−ジアゾジフェニルアミン、3−(n−プロポ
キシ)−4−ジアゾジフェニルアミン、3−(イソプロ
ポキシ)−4−ジアゾジフェニルアミンのようなジアゾ
モノマーと、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プ
ロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、イソブチルア
ルデヒド、またはベンズアルデヒドのような縮合剤をモ
ル比で各々1:1〜1:0.5、好ましくはt:O,a
〜l:0.6を通常の方法で縮合して得られた縮合物と
陰イオンとの反応生成物である。陰イオンとして四フッ
化ホウ酸、六フッ化燐酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、5−ニトロオルト−トルエンスルホン酸、
5−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスル
ホン酸、2.4.6−)ジメチルベンゼンスルホン酸、
2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンス
ルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオ
ロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンス
ルホン酸、1−ナフト−ルー5−スルホン酸、2−メト
キシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスル
ホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等をあげることが
できる。これらの中でも特に六フッ化燐やトリイソプロ
ピルナフタレンスルホン酸や2.5−ジメチルベンゼン
スルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適で
ある。これらのジアゾ樹脂の全組成物に対する添加量は
1〜30%であり、より好ましくは3〜15%である。
As the diazo resin which is component (4) of the present invention, those having a negative effect, being substantially water-insoluble and soluble in organic solvents are suitable. Such diazo resins include 4-diazo-diphenylamine, ■-diazo-4-N, N-dimethylaminobenzene, 1-diazo-4-N, N-diethylaminobenzene, 1-diazo-4-N=ethyl-N -hydroxyethylaminobenzene, 1-diazo-4-N-
Methyl-N-hydroxyethylaminobenzene, 1-diazo-2,5-jethoxy-4-benzoylaminobenzene, 1-diazo-4-N-benzylaminobenzene,
1-Diazo-4-N,N-dimethylaminobenzene, 1
-Diazo-4-morpholinobenzene, 1-diazo-2
,5-dimethoxy=4-P-)lylmercabutobenzene, 1-diaso'-2-ethoxy-4-N,N-dimethylaminobenzene, P-diazo-dimethylaniline, 1-
Diazo-2,5-dibutoxy-4-morpholinobenzene, 1-diazo-2,5-jethoxy-4-morpholinobenzene, 1-diazo-2,5-dimethoxy-4-morpholinobenzene, ■-diazo2 .5-Jetoxy 4-morpholinobenzene, 1-diazo-2,5-jetoxy-4-P-tolylmercaptobenzene, 1-
Diaso'-3=ethoxy 4-N-methyl-N-benzylaminobenzene, 1-diazo-3-chloro-4-N,
N = Nidiethylaminobenzene 1-diazo-3-methyl-4-pyrrolidinobenzene, 1-diazo-2-chloro-
4-N,N-dimethylamino-5-methoxybenzene,
■-diazo 3-methoxy 4-pyrrolidinobenzene,
Diazo monomers such as 3-methoxy-4-diazodiphenylamine, 3-ethoxy-4-diazodiphenylamine, 3-(n-propoxy)-4-diazodiphenylamine, 3-(isopropoxy)-4-diazodiphenylamine, and formaldehyde. , acetaldehyde, propionaldehyde, butyraldehyde, isobutyraldehyde, or benzaldehyde in a molar ratio of 1:1 to 1:0.5, preferably t:O, a
It is a reaction product of a condensate obtained by condensing ~1:0.6 in a conventional manner and an anion. Anions include tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitroortho-toluenesulfonic acid,
5-sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2.4.6-)dimethylbenzenesulfonic acid,
2-Nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphtho-5-sulfonic acid, 2-methoxy-4-hydroxy- Examples include 5-benzoyl-benzenesulfonic acid and para-toluenesulfonic acid. Among these, phosphorus hexafluoride and alkyl aromatic sulfonic acids such as triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid are particularly suitable. The amount of these diazo resins added to the total composition is 1 to 30%, more preferably 3 to 15%.

以上の他に更に熱重合防止剤を加えておくことが好まし
く、例えばハイドロキノン、p−メトキシフェノール、
ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−
ブチルカテコール、ベンゾキノン、4.4′−チオビス
(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2.2−
メチレンビス゛(4−メチル−6−t−ブチルフェノー
ル)、2−メルカプトベンゾイミダゾール等が有用であ
り、また場合によっては感光層の着色を目的として染料
もしくは顔料や焼出剤としてPH指示薬等を添加するこ
ともできる。
In addition to the above, it is preferable to add a thermal polymerization inhibitor, such as hydroquinone, p-methoxyphenol,
Di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-
Butylcatechol, benzoquinone, 4.4'-thiobis(3-methyl-6-t-butylphenol), 2.2-
Methylene bis(4-methyl-6-t-butylphenol), 2-mercaptobenzimidazole, etc. are useful, and in some cases, dyes or pigments, and a PH indicator etc. as a printing agent may be added for the purpose of coloring the photosensitive layer. You can also do it.

更にジアゾ樹脂の安定化剤として、りん酸、亜りん酸、
酒石酸、クエン酸、りんご酸、ジピコリン酸、多核芳香
族スルホン酸およびその塩、スルホサリチル酸等を必要
に応じて添加することができる。更に高級脂肪酸のごと
きワックスを添加することも有用である。
Furthermore, phosphoric acid, phosphorous acid,
Tartaric acid, citric acid, malic acid, dipicolinic acid, polynuclear aromatic sulfonic acid and its salts, sulfosalicylic acid, etc. can be added as necessary. It is also useful to add waxes such as higher fatty acids.

本発明の感光性組成物は、例えば、2−メトキシエタノ
ール、2−メトキシエチルアセテート、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル、3−メトキシプロパノフル
、3−メトキシプロピルアセテート、メチルエチルケト
ン、エチレンジクロライドなどの適当な溶剤の単独また
はこれらを適当に組合せた混合溶媒に溶解して支持体上
に設けることができる。その被覆量は乾煙後の重量で約
0、1 g /!I+”〜約10 g /m2の範囲が
適当であり、より好ましくは0.5〜5 g /m2で
ある。
The photosensitive composition of the present invention can be prepared using a suitable solvent such as 2-methoxyethanol, 2-methoxyethyl acetate, propylene glycol monomethyl ether, 3-methoxypropanofur, 3-methoxypropyl acetate, methyl ethyl ketone, or ethylene dichloride. They can be provided on a support alone or in an appropriate combination of solvents dissolved in a mixed solvent. The amount of coverage after drying is about 0.1 g/! A range of from I+'' to about 10 g/m2 is suitable, more preferably from 0.5 to 5 g/m2.

上記支持体としては、寸度的に安定な板状物が用いられ
る。このような寸度的に安定な板状物としては、従来印
刷版の支持体として使用されたものが含まれ、それらを
好適に使用することができる。かかる支持体としては、
紙、プラスチックス(例えばポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレンなど)がラミネートされた紙、例え
ばアルミニウム(アルミニウム合金も含む。)、亜鉛、
洞などのような金属の板、例えば二酢酸セルロース、三
酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、醋酸セルロ
ース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポ
リプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセター
ルなどのようなプラスチックのフィルム、上記の如き金
属がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラスチ
ックフィルムなどが含まれる。これらの支持体のうち、
アルミニウム板は寸度的に著しく安定であり、しかも安
価であるので特に好ましい。更に、特公昭48−183
27号公報に記されているようなポリエチレンテレフタ
レートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複
合体シートも好ましい。
As the support, a dimensionally stable plate-like material is used. Such dimensionally stable plate-like materials include those conventionally used as supports for printing plates, and these can be suitably used. Such supports include:
Paper, paper laminated with plastics (e.g. polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), e.g. aluminum (including aluminum alloys), zinc,
metal plates such as cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc. films, paper or plastic films laminated or vapor-deposited with metals such as those mentioned above. Of these supports,
Aluminum plates are particularly preferred because they are extremely dimensionally stable and inexpensive. In addition, the special public official
Also preferred are composite sheets in which an aluminum sheet is bonded onto a polyethylene terephthalate film, such as that described in Publication No. 27.

また金属、特にアルミニウムの表面を有する指持体の場
合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム
酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは
陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好ま
しい。また、米国特許第2.7’14.066号明細書
に記載されている如く、砂目立てしたのちに珪酸ナトリ
ウム水溶液に浸漬処理されたアルミニウム板、特公昭4
7−5125号公報に記載されているようにアルミニウ
ム板を陽極酸化処理したのちに、アルカリ金属珪酸塩の
水溶液に浸漬処理したものも好適に使用される。上記陽
極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫酸、硼酸等
の無機酸、若しくは、蓚酸、スルファミン酸等の有機酸
またはこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二種
以上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を陽極と
して電流を流すことにより実施される。
In addition, in the case of a finger holder having a surface made of metal, especially aluminum, surface treatments such as graining, immersion in an aqueous solution of sodium silicate, potassium fluorozirconate, phosphate, etc., or anodizing are carried out. It is preferable that In addition, as described in U.S. Pat.
As described in Japanese Patent No. 7-5125, an aluminum plate which is anodized and then immersed in an aqueous solution of an alkali metal silicate is also preferably used. The above-mentioned anodizing treatment may be carried out by electrolysis using an aqueous or non-aqueous solution of an inorganic acid such as phosphoric acid, chromic acid, sulfuric acid, or boric acid, or an organic acid such as oxalic acid or sulfamic acid, or a salt thereof alone or in combination of two or more. This is carried out by passing an electric current through a liquid using an aluminum plate as an anode.

また〈米国特許第3.658.662号明細書に記載さ
れているようなシリケート電着も有効である。
Also effective is silicate electrodeposition as described in U.S. Pat. No. 3,658,662.

更には特公昭46−27481号公報、特開昭52−5
8602号公報、特開昭52−30503号公報に開示
されているような電解ダレインを施した支持体と、上記
陽極酸化処理及び珪酸ソーダ処理を組合せた表面処理も
有用である。   ・更には、特開昭56−28893
号公報に開示されているような、ブラシグレイン、電解
ダレイン、陽極酸化処理さらに珪酸ソーダ処理を順に行
ったものも好適である。
Furthermore, Japanese Patent Publication No. 46-27481, Japanese Patent Publication No. 52-5
Also useful is a surface treatment that combines a support subjected to electrolytic duplexing and the above-mentioned anodic oxidation treatment and sodium silicate treatment as disclosed in JP-A-8602 and JP-A-52-30503.・Furthermore, JP-A-56-28893
Also suitable are those which are sequentially subjected to brush grain, electrolytic duplex treatment, anodization treatment, and sodium silicate treatment as disclosed in the above publication.

更にこれらの処理を行った後に、水溶性の樹脂、たとえ
ばポリビニル7オスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有す
る重合体および共重合体、ポリアクリル酸等を下塗りし
たものも好適である。
Furthermore, after these treatments, it is also suitable to undercoat with a water-soluble resin such as polyvinyl 7-osphonic acid, polymers and copolymers having sulfonic acid groups in their side chains, polyacrylic acid, and the like.

これらの親水化処理は、支持体の表面を°親水性とする
ために施される以外に、その上に設けられる感光性組成
物の有害な反応を防ぐため、更には感光層の密着性の向
上等のために施されるものである。
These hydrophilic treatments are performed not only to make the surface of the support hydrophilic, but also to prevent harmful reactions of the photosensitive composition provided thereon, and to improve the adhesion of the photosensitive layer. This is done for the purpose of improvement etc.

支持体上に設けられた感光性組成物の層の上には、空気
中の酸素による重合禁止作用を完全に防止するため、例
えばポリビニルアルコール、酸性セルロース類などのよ
うな酸素遮断性に優れたポリマーよりなる保護層を設け
てもよい。この様な保護層の塗布方法については、例え
ば米国特許第3、458.311号、特公昭55−49
729号明細書に詳しく記載されている。
On the layer of the photosensitive composition provided on the support, a material with excellent oxygen barrier properties such as polyvinyl alcohol, acidic cellulose, etc. is used to completely prevent the polymerization inhibition effect caused by oxygen in the air. A protective layer made of a polymer may also be provided. A method of applying such a protective layer is described in, for example, U.S. Pat.
It is described in detail in the specification of No. 729.

本発明の感光性組成物を支持体上に設けた感光性プレー
トをメタルハライドランプ、高圧水銀灯などのような紫
外線に富んだ光源を用いて画像露光し、現像液で処理し
て感光層の未露光部を除去し、最後にガム液を塗布する
ことにより平版印刷版とする。上記現像液として好まし
いものは、ベンジルアルコール、2−フェノキシエタノ
ール、2−ブトキシェタノールのような有機溶媒を少量
含むアルカリ水溶液であり、例えば米国特許第3、47
5.171号および同3,615,480号に記載され
ているものを挙げることができる。更に、特開昭50−
26601号、特公昭56−3946’4号、同56−
42860号の各公報に記載されている現像液も本発明
の感光性印刷版の現像液として優れている。
A photosensitive plate having the photosensitive composition of the present invention provided on a support is imagewise exposed using a light source rich in ultraviolet rays such as a metal halide lamp or a high pressure mercury lamp, and then treated with a developer to leave the photosensitive layer unexposed. A lithographic printing plate is prepared by removing the portion and finally applying a gum liquid. Preferably, the developer is an aqueous alkaline solution containing a small amount of an organic solvent such as benzyl alcohol, 2-phenoxyethanol, or 2-butoxyethanol, such as U.S. Pat.
Examples include those described in No. 5.171 and No. 3,615,480. Furthermore, Japanese Patent Application Publication No. 1973-
No. 26601, Special Publication No. 56-3946'4, No. 56-
The developers described in each publication of No. 42860 are also excellent as developers for the photosensitive printing plate of the present invention.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明の感光性組成物を用いると酸素の影響をほとんど
受けない感光性プレートを得ることができるので、酸素
遮断層なしで十分実用的に使用できる。従って、本発明
の感光性組成物は、各種印刷版及び画像形成用に広く用
いることができ、これらのうちでも特に感光性平版印刷
版用に好適に用いることができる。
By using the photosensitive composition of the present invention, a photosensitive plate that is hardly affected by oxygen can be obtained, so that it can be used practically without an oxygen barrier layer. Therefore, the photosensitive composition of the present invention can be widely used for various printing plates and image formation, and among these, it can be particularly suitably used for photosensitive lithographic printing plates.

以下、実施例に基づいて更に詳細に説明する。Hereinafter, it will be explained in more detail based on examples.

実施例1 特開昭56−28893号公報に開示された方法により
基板を得た。即ち、厚さ0.30のアルミニウム板をナ
イロンブラシと400メツシユのパミストンの水懸濁液
を用いその表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。
Example 1 A substrate was obtained by the method disclosed in JP-A-56-28893. That is, the surface of an aluminum plate having a thickness of 0.30 mm was grained using a nylon brush and a 400 mesh water suspension of pumice stone, and then thoroughly washed with water.

10%水酸化ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエ
ツチングした後、流水で水洗後20%HNO3で中和洗
浄、水洗した。これをVA =12.7Vの条件で正弦
波の交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で160ク
ロ一ン/dm2 の陽極特電気量で電解粗面化処理を行
った。その表面粗さを測定したところ、0.6μ(Ra
表示)であった。ひきつづいて30%のH2S O,水
溶液中に浸漬し55℃で2分間デスマットした後、20
%H2S O,水溶液中、電流密度2Δ/dm2 にお
いて厚さが2.7 g /m2になるように2分間陽極
酸化処理した。その後70℃のケイ酸ソーダ2.5%水
溶液に1分間浸漬水洗乾燥させた。
After etching by immersing it in 10% sodium hydroxide at 70° C. for 60 seconds, it was washed with running water, neutralized with 20% HNO3, and washed with water. This was subjected to electrolytic surface roughening treatment in a 1% nitric acid aqueous solution using a sinusoidal alternating waveform current under the condition of VA = 12.7 V and an anode specific electricity amount of 160 chrome/dm2. When the surface roughness was measured, it was found to be 0.6μ (Ra
display). Subsequently, after immersing in 30% H2SO, aqueous solution and desmutting at 55°C for 2 minutes,
%H2SO, aqueous solution at a current density of 2Δ/dm2 for 2 minutes to a thickness of 2.7 g/m2. Thereafter, it was immersed in a 2.5% sodium silicate aqueous solution at 70° C. for 1 minute, washed with water, and dried.

次に下記の感光液■を調製した。Next, the following photosensitive solution (2) was prepared.

感光液■ oトリメチロールプロパンドリアクリレート20g0下
記構造の光重合開始剤        2g0Cβ3 0メチルアルコール         150g0メチ
ルエチルケトン       300g感光液Iをろ過
後先の基板の上に回転塗布機を用いて乾燥後の重量にし
て2.0g/m2となるように塗布した。乾燥は100
℃で2分間乾燥しサンプル八を得た。
Photosensitive liquid ■ o Trimethylolpropane doryacrylate 20g0 Photopolymerization initiator having the following structure 2g0Cβ30 Methyl alcohol 150g0 Methyl ethyl ketone 300g After filtering the photosensitive liquid I, apply it onto the substrate using a rotary coating machine to give the weight after drying. It was coated at a concentration of 0 g/m2. Drying is 100
Sample 8 was obtained by drying at ℃ for 2 minutes.

比較例として、感光液■から成分(2)に相当するポリ
 (アリルメタクリレート/2−ヒドロキシエチルメタ
クリレート/メタクリル酸)共重合体を除いて全量ポリ
(アリルメタクリレート/メタクリル酸)共重合体に置
換した組成の感光液■を調製し、同様に塗布乾燥し、こ
れをサンプルBとした。
As a comparative example, the poly (allyl methacrylate/2-hydroxyethyl methacrylate/methacrylic acid) copolymer corresponding to component (2) was removed from the photosensitive solution (2) and the entire amount was replaced with the poly(allyl methacrylate/methacrylic acid) copolymer. A photosensitive solution (1) having the composition was prepared, coated and dried in the same manner, and designated as sample B.

これらのサンプルの酸素影響度を比較するために、サン
プルの上に富士写真フィルム■製の富士PSステップガ
イド(ΔD=O115で不連続に透過濃度が変化するグ
レースケール)を載せて、米国ヌアーク社製プリンター
FT26V2UPNS(光源:2Kwメタルハライドラ
ンプ)で露光した。このとき、プリンターの焼枠の真空
度を調節しで露光し、すぐに次に示す現像液に50秒間
浸漬後、脱脂綿で表面を軽くこすり未露光部を除去した
In order to compare the degree of oxygen influence of these samples, a Fuji PS step guide (gray scale in which the transmission density changes discontinuously at ΔD=O115) manufactured by Fuji Photo Film ■ was placed on top of the sample. Exposure was performed using a printer manufactured by FT26V2UPNS (light source: 2Kw metal halide lamp). At this time, the printing frame of the printer was exposed to light by adjusting the degree of vacuum, and immediately after being immersed in the following developer for 50 seconds, the surface was lightly rubbed with absorbent cotton to remove the unexposed areas.

現像液 亜硫酸ナトリウム            5gベンジ
ルアルコール          30gジェタノール
アミン           5g純   水    
                  1000 g現
像後の版上のステップガイドの段数を調べたところ、真
空度OTc+rrと真空度600Torrのグレースケ
ールの段数は第1表に示すようにサンプルBでは酸素の
影響を大きくうけるが、本発明のサンプルAでは酸素の
影響度は少なかった。
Developer Sodium sulfite 5g Benzyl alcohol 30g Jetanolamine 5g Pure water
When we investigated the number of step guides on the plate after 1000 g development, we found that the number of gray scale steps at vacuum degree OTc+rr and vacuum degree 600 Torr was greatly affected by oxygen in Sample B, as shown in Table 1, but in the present invention In sample A, the influence of oxygen was small.

なおプリンターの真空度OTorrと真空度600To
rrで露光したサンプルAはプリンターの真空度600
Torrで露光したサンプルBと並べてハイデル印刷機
で印刷したところ、いずれも10万枚以上印刷すること
ができた。
The printer's vacuum level OTorr and vacuum level 600To
Sample A exposed at rr is the printer's vacuum level 600.
When printed on a Heidel printing machine alongside sample B exposed with Torr, more than 100,000 sheets could be printed on both.

実施例2 実施例1の感光液■の代わりに下記の感光液■を用いた
ほかは実施例1と同様にして感光プレート(サンプルC
)を得た。
Example 2 A photosensitive plate (sample C
) was obtained.

感光液■ 0下記構造の光重合開始剤        2g0オイ
ルブルー# 603        1. OgoF−
1771,0g oメチルアルコール         150goメチ
ルエチルケトン        300gこのサンプル
Cを実施例1と同様に、真空度を変えて露光した後、同
様の現像処理を行った。サンプルCのグレースケールベ
タ段数は、真空度Oでは、2.5役、真空度600To
rrでは、3.0段であり、その差は小さかった。
Photosensitive liquid ■ 0 Photopolymerization initiator with the following structure 2g0 Oil Blue #603 1. OgoF-
1771.0 g o Methyl alcohol 150 g Methyl ethyl ketone 300 g This sample C was exposed to light in the same manner as in Example 1 while changing the degree of vacuum, and then developed in the same manner. The number of grayscale solid stages of sample C is 2.5 at vacuum level O, and 600 To vacuum level.
In rr, it was 3.0 steps, and the difference was small.

実施例3 実施例1の感光液Iの代わりに下記感光液■を用いたほ
かは、実施例1と同様にして感光プレ゛−ト(サンプル
D)を得た。
Example 3 A photosensitive plate (sample D) was obtained in the same manner as in Example 1, except that the following photosensitive liquid (I) was used in place of photosensitive liquid I in Example 1.

感光液■ ツク1クリル−r’、5−/メタクリル酸)共重合モル
比60 /25 /15の共重合体  50goオイル
ブルー# 603        1. OgoF−1
77、1,Og Oエチレングリコールモノメチル エーテル 500g 0メチルアルコール         150g○メチ
ルエチルケトン        300gサンプルDの
感度は、真空度0、及び600Torrのいずれもグレ
ースケール感度で2.5段とその差は認められなかった
。又、このサンプルをハイデル印刷機にて印刷したとこ
ろ10万枚以上の印刷物が得られ、高耐刷力を示した。
Photosensitive liquid (1) 1-acrylic-r', 5-/methacrylic acid) copolymer with a molar ratio of 60/25/15 50go Oil Blue #603 1. OgoF-1
77,1,Og O Ethylene glycol monomethyl ether 500 g O Methyl alcohol 150 g O Methyl ethyl ketone 300 g The sensitivity of sample D was 2.5 steps in gray scale sensitivity at both vacuum degrees of 0 and 600 Torr, and no difference was observed. Furthermore, when this sample was printed using a Heidel printing machine, more than 100,000 prints were obtained, demonstrating high printing durability.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1(1)エチレン性不飽和重合性化合物、(2)アルカ
リ水可溶性又は膨潤性でかつフィルム形成可能な重合体
、(3)光重合開始剤及び(4)ジアゾ樹脂を含有する
感光性組成物において、アルカリ水可溶性又は膨潤性で
かつフィルム形成可能な重合体が(A)アリル基を側鎖
に有する構造単位(B)ニトリル基及び/又は水酸基を
側鎖に有する構造単位とを含有する酸性ビニル共重合体
であることを特徴とする感光性組成物。 2 成分(2)が構造単位(A)を20〜80モル%及
び構造単位(B)を70〜10モル%含有する酸性ビニ
ル共重合体である特許請求の範囲第1項記載の感光性組
成物。
[Scope of Claims] 1 (1) an ethylenically unsaturated polymerizable compound, (2) an alkaline water-soluble or swellable polymer capable of forming a film, (3) a photopolymerization initiator, and (4) a diazo resin. In the photosensitive composition containing the alkaline water-soluble or swellable and film-formable polymer, (A) a structural unit having an allyl group in its side chain; and (B) a structure having a nitrile group and/or a hydroxyl group in its side chain. A photosensitive composition characterized by being an acidic vinyl copolymer containing units. 2. The photosensitive composition according to claim 1, wherein component (2) is an acidic vinyl copolymer containing 20 to 80 mol% of the structural unit (A) and 70 to 10 mol% of the structural unit (B). thing.
JP14494585A 1985-07-02 1985-07-02 Photosensitive composition Granted JPS626253A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6514668B1 (en) 1996-12-26 2003-02-04 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive lithographic printing plate

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