JP2834676B2 - Semiconductor assembly - Google Patents
Semiconductor assemblyInfo
- Publication number
- JP2834676B2 JP2834676B2 JP6283634A JP28363494A JP2834676B2 JP 2834676 B2 JP2834676 B2 JP 2834676B2 JP 6283634 A JP6283634 A JP 6283634A JP 28363494 A JP28363494 A JP 28363494A JP 2834676 B2 JP2834676 B2 JP 2834676B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- assembly
- semiconductor
- semiconductor assembly
- package
- stacked
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/50—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor for integrated circuit devices, e.g. power bus, number of leads
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/10—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers
- H01L2225/1005—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/1011—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement
- H01L2225/1017—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement the lowermost container comprising a device support
- H01L2225/1029—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement the lowermost container comprising a device support the support being a lead frame
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
- H01L2924/1815—Shape
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、積層され得る半導体
アセンブリに関し、さらに詳しくは積層形モジュール構
造に適用され得、またヒートシンクないしキャパシタ板
の搭載が可能な半導体アセンブリに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor assembly which can be stacked, and more particularly, to a semiconductor assembly which can be applied to a stacked module structure and on which a heat sink or a capacitor plate can be mounted.
【0002】[0002]
【従来の技術】現在まで絶え間なく開発されている3−
Dパッケージ(Three-Dimensional Package )は、電子
機器が大容量化,高速化及び小型化される趨勢のなかで
進行されており、今後、有効適切に常用されることが予
想されるパッケージタイプ中の一つである。2. Description of the Related Art
The D-package (Three-Dimensional Package) has been developed with the trend of increasing the capacity, speed, and miniaturization of electronic devices. One.
【0003】前記3−Dパッケージは、大まかに、半導
体チップ積層形,半導体パッケージ積層形,マルチチッ
プモジュール積層形,ウェーハ状態KGDダイ積層形の
4種の形態に分類することができる。The above-mentioned 3-D packages can be roughly classified into four types: a semiconductor chip stacked type, a semiconductor package stacked type, a multi-chip module stacked type, and a wafer state KGD die stacked type.
【0004】このように分類される3−Dパッケージを
製造する大部分の会社は、前記半導体チップ積層形ある
いは半導体パッケージ積層形を提供している。これの中
で半導体チップ積層形は、小型化,大容量化及び高速化
を実現することができるが、低い収率,高いコスト,開
発期間の長期化などの問題点がある。Most companies that manufacture 3-D packages classified as above provide the semiconductor chip stacked type or the semiconductor package stacked type. Among them, the semiconductor chip stacked type can realize miniaturization, large capacity and high speed, but have problems such as low yield, high cost, and long development period.
【0005】また、半導体パッケージ積層形は、半導体
チップ積層形と比べて優れた効果があるが、一般的な2
−Dパッケージと比べ次のような短所がある。Although the semiconductor package stacked type has an excellent effect as compared with the semiconductor chip stacked type, the general two-layer type is generally used.
There are the following disadvantages compared to the -D package.
【0006】まず、第1に、垂直連結による問題点であ
るが、積層を行うために、既存の半導体パッケージ工程
後、その他の多くの工程を追加しなければならない。First, there is a problem due to the vertical connection. In order to perform the lamination, many other processes must be added after the existing semiconductor package process.
【0007】第2に、素子動作のときの熱放出による問
題点であるが、熱放出を容易にするために一つのパッケ
ージに別の工程を通じてヒートシンクを装着するとか、
熱放出のための別の冷却装置を搭載することができる方
案を採用しなければならない。このため、パッケージの
容積が増加して高密度の実装が不可能であり、また、熱
放出手段を搭載することにより追加費用を負担しなけれ
ばならないという問題点がある。Second, there is a problem due to heat release during device operation. For example, a heat sink is mounted on one package through another process to facilitate heat release.
A strategy must be adopted that can be equipped with another cooling device for heat release. For this reason, there is a problem in that the package capacity is increased and high-density mounting is impossible, and additional cost must be borne by mounting the heat releasing means.
【0008】図17乃至図19は、前述された従来技術
に対する実施例を詳細に示すものである。図17は、従
来の積層形半導体パッケージの一実施例を示すもので、
Staktek社製の「専有の工程を用いた3−Dメモ
リ装置」断面図である。FIGS. 17 to 19 show an embodiment of the above-described prior art in detail. FIG. 17 shows an example of a conventional stacked semiconductor package.
FIG. 3 is a cross-sectional view of “3-D memory device using exclusive process” manufactured by Staktek.
【0009】図17を参照すれば、前記積層形半導体パ
ッケージは、先ずパッケージ体11を4層の構造に積層
した後、前記パッケージ体11の外部へ突出されたリー
ド12をコネクタ13により電気的に接続する。次の素
子の動作のとき、熱放出が容易になるよう前記パッケー
ジ体11の上下面に金属フォイルが薄板で積層される
か、あるいは図17に示したように積層されたパッケー
ジ体11を完全に包みかくすグラウンドヒートシンク1
4が形成される。Referring to FIG. 17, in the stacked semiconductor package, first, a package body 11 is laminated in a four-layer structure, and leads 12 protruding outside the package body 11 are electrically connected by a connector 13. Connecting. At the time of operation of the next element, a metal foil is laminated on the upper and lower surfaces of the package body 11 by a thin plate so that heat is easily released, or the package body 11 laminated as shown in FIG. Package ground heat sink 1
4 are formed.
【0010】しかし、このような、積層形半導体パッケ
ージにおいては、熱放出のためにパッケージ体11の上
下面に金属フォイルを薄板で積層するとかダイパッド領
域を拡張させて上面へ突出させなければならないので、
従来の半導体パッケージ工程と比べて非常に複雑となる
短所がある。However, in such a stacked type semiconductor package, metal foils must be stacked on the upper and lower surfaces of the package body 11 for heat dissipation, or the die pad region must be extended and projected to the upper surface for heat release. ,
There is a disadvantage that it is very complicated as compared with the conventional semiconductor package process.
【0011】また、前記半導体パッケージ体11を垂直
に連結するためにキャリヤの役割をはたすコアを接続す
る必要があるなど、新しい構造物を製作しなければなら
ず、既存のパッケージ製造装備をそのまま適用できず、
量産性にも問題点がある。In addition, a new structure must be manufactured, for example, it is necessary to connect a core serving as a carrier to vertically connect the semiconductor package bodies 11, and the existing package manufacturing equipment is applied as it is. I ca n’t,
There are also problems with mass productivity.
【0012】図18(a)及び図18(b)は、従来の
積層形半導体パッケージの他の実施例を示す断面図であ
り、米国特許公報第5,105,261 号公報に開示された技術
内容である。この積層形半導体パッケージは、先ずパッ
ケージ体21から外部へ突出された両方向性リード22
をカモメ翼(Gull-Wing) 形状に折曲形成する。FIGS. 18 (a) and 18 (b) are cross-sectional views showing another embodiment of the conventional stacked semiconductor package, which is the technical content disclosed in US Pat. No. 5,105,261. The stacked semiconductor package includes a bidirectional lead 22 projecting from a package body 21 to the outside.
Is formed into a Gull-Wing shape.
【0013】次に、図18(a)に示すように、上記の
ように準備された半導体パッケージを、ピンホール26
を有する二枚のPCB23の両面に挿入して実装する。
このとき、図18(b)に示すように、パッケージ体2
1の外部へ突出されたカモメ翼形状の両方向性外部リー
ド22は、ろう24によりPCB23上に半田付けされ
る。この半田付けの後、PCB23の端部に“h”字形
状の連結用ソケット25を挿入することにより、積層形
半導体パッケージの組立てが完了する。Next, as shown in FIG. 18A, the semiconductor package prepared as described above is
And mounted on both sides of two PCBs 23 having
At this time, as shown in FIG.
The gull wing-shaped bidirectional external lead 22 protruding outside 1 is soldered onto a PCB 23 by a braze 24. After this soldering, the assembly of the stacked semiconductor package is completed by inserting the “h” -shaped connecting socket 25 into the end of the PCB 23.
【0014】しかし、このような構造の積層形半導体パ
ッケージは、実装高さが高まり、実装密度を向上するこ
とが難しく、また熱放出が容易でない。また、リードピ
ッチの制限によって積層される得るパッケージの個数に
限界があり、パッケージとPCBが垂直に接触される領
域で接着力が落ちて構造が脆弱な問題点がある。However, the stacked semiconductor package having such a structure has a high mounting height, it is difficult to improve the mounting density, and it is not easy to release heat. In addition, there is a limit to the number of packages that can be stacked due to the limitation of the lead pitch, and there is a problem that the adhesive strength is reduced in a region where the package and the PCB are vertically contacted and the structure is fragile.
【0015】図19は、従来の積層形半導体パッケージ
の別の実施例を示す斜視図であり、RTB’S社製品の
SSIM(シングルインラインメモリモジュール)に関
するものである。この図19に示すように、前記積層形
半導体パッケージは、先ずパッケージ体31から水平に
外部へ突出された多数個のリード32にピンホールが形
成された半導体パッケージを準備する。FIG. 19 is a perspective view showing another embodiment of the conventional stacked semiconductor package, which relates to an SSIM (single in-line memory module) manufactured by RTB'S. As shown in FIG. 19, for the stacked semiconductor package, first, a semiconductor package is prepared in which a plurality of leads 32 projecting horizontally from a package body 31 are formed with pinholes.
【0016】次に、このように準備された半導体パッケ
ージを順次に積層し、上板33と下板34をかぶせた
後、下部から上部へリード32のピンホールにピン35
をそれぞれ挿入して前記リード32を固定することによ
り、パッケージの積層が完了される。このとき、前記下
板34には、リード32のピンホールと同一線上で垂直
貫通するようにピンホールが形成されており、上板33
はピン35の所定の深さだけを占有できるように溝が形
成されている。従って、前記下板34の下部へ突出され
たピン35の端36はPCB(図示せず)上に実装され
る。Next, the semiconductor packages prepared as described above are sequentially stacked, and after covering the upper plate 33 and the lower plate 34, the pins 35 are inserted into the pin holes of the leads 32 from the lower part to the upper part.
Are inserted to fix the leads 32, thereby completing the stacking of the package. At this time, a pinhole is formed in the lower plate 34 so as to vertically penetrate on the same line as the pinhole of the lead 32.
The groove is formed so that it can occupy only a predetermined depth of the pin 35. Therefore, the end 36 of the pin 35 protruding downward from the lower plate 34 is mounted on a PCB (not shown).
【0017】このように、積層された半導体パッケージ
は、外部リード32の垂直コネクタとして棒形状のピン
35を挿入採用したが、前記外部リード32が微細ピッ
チ化されるほど外部リード32に挿入されるピン35の
厚さが薄くなってPCB上にピンタイプの実装を行うこ
とが難しい。As described above, in the stacked semiconductor packages, the bar-shaped pins 35 are inserted and employed as vertical connectors of the external leads 32. The finer pitches of the external leads 32 are inserted into the external leads 32. Since the thickness of the pin 35 is thin, it is difficult to mount the pin 35 on the PCB.
【0018】従って、前記又他の外部リード36をPC
B上に実装するためには、ソケットを使用しなければな
らない短所があり、又、外部リード32にピン35を挿
入する構造であるので、前記外部リード32の幅が狭く
なって積層に限界がある。Therefore, the other external lead 36 is connected to the PC.
There is a disadvantage that a socket must be used for mounting on the B. Also, since the pins 35 are inserted into the external leads 32, the width of the external leads 32 becomes narrow, and the lamination limit is limited. is there.
【0019】[0019]
【発明が解決しようとする課題】従って、この発明の目
的は、製造原価を押えながら、全体の容量を可及的に押
えることのできる三次元集積回路パッケージのための半
導体アセンブリを提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a semiconductor assembly for a three-dimensional integrated circuit package capable of minimizing the manufacturing cost and the overall capacity as much as possible. is there.
【0020】この発明の他の目的は、高密度の三次元集
積回路パッケージに適合する半導体アセンブリを提供す
ることにある。It is another object of the present invention to provide a semiconductor assembly which is compatible with a high-density three-dimensional integrated circuit package.
【0021】この発明のまた別の目的は、別の追加工程
を使わずとも高密度の三次元集積回路パッケージが具現
できる半導体アセンブリを提供することにある。It is another object of the present invention to provide a semiconductor assembly capable of realizing a high-density three-dimensional integrated circuit package without using any additional process.
【0022】この発明の他の目的は、信頼性のある三次
元集積回路パッケージに適合する半導体アセンブリを提
供することにある。It is another object of the present invention to provide a semiconductor assembly which is compatible with a reliable three-dimensional integrated circuit package.
【0023】この発明の他の目的は、種々の形態で信頼
性のある三次元集積回路パッケージが具現できる半導体
アセンブリを提供することにある。It is another object of the present invention to provide a semiconductor assembly which can implement a reliable three-dimensional integrated circuit package in various forms.
【0024】この発明の他の目的は、高い収率の半導体
アセンブリを用いて信頼性のある三次元集積回路パッケ
ージを提供することにある。Another object of the present invention is to provide a reliable three-dimensional integrated circuit package using a high-yield semiconductor assembly.
【0025】この発明の他の目的は、製造原価が節減で
きる高密度の三次元集積回路パッケージを提供すること
にある。Another object of the present invention is to provide a high-density three-dimensional integrated circuit package that can reduce manufacturing costs.
【0026】この発明のまた他の目的は、製造原価を節
減でき信頼性のある三次元集積回路パッケージを製造す
る方法を提供することにある。It is still another object of the present invention to provide a method of manufacturing a reliable three-dimensional integrated circuit package which can reduce manufacturing costs.
【0027】[0027]
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
にこの発明においては、複数個のリードを持つ半導体ア
センブリにおいて、半導体アセンブリの少なくとも一側
に形成され前記複数個のリードが露出される複数個のポ
ケットを備えることを特徴とする。これらのポケット
は、前記半導体アセンブリの複数個が集積回路パッケー
ジを構成するとき、電気的接続のために上方に位置した
半導体アセンブリの複数個のリードを各々受容すること
ができる。According to the present invention, there is provided a semiconductor assembly having a plurality of leads, the plurality of leads being formed on at least one side of the semiconductor assembly and exposing the plurality of leads. It is characterized by having pockets. These pockets can respectively receive a plurality of leads of an overlying semiconductor assembly for electrical connection when a plurality of the semiconductor assemblies constitute an integrated circuit package.
【0028】また、別の複数個のリードを持つ半導体ア
センブリにおいては、半導体アセンブリの側辺に沿って
延設され前記複数個のリードが露出される少なくとも一
つのエッジリセス部を備えることを特徴とする。このエ
ッジリセス部は、前記半導体アセンブリの複数個が三次
元集積回路パッケージを構成するとき、電気的接続のた
めに上方に位置した半導体アセンブリの複数個のリード
を受容することができる。In another aspect of the present invention, a semiconductor assembly having a plurality of leads includes at least one edge recess extending along a side of the semiconductor assembly and exposing the plurality of leads. . The edge recess portion may receive a plurality of leads of an upper semiconductor assembly for electrical connection when a plurality of the semiconductor assemblies constitute a three-dimensional integrated circuit package.
【0029】また、別の複数個のリードを持つ半導体ア
センブリにおいては、半導体アセンブリの少なくとも一
側に沿って延設され前記複数個のリードの上部表面が露
出されているエッジリセス部と、前記半導体アセンブリ
の上面に設けられる上部リセス部と、前記半導体アセン
ブリの下面に設けられる下部リセス部とを備えることを
特徴とする。ここで、前記半導体アセンブリの複数個が
三次元集積回路パッケージを構成するとき、ある半導体
アセンブリのエッジリセス部は、該半導体アセンブリの
上方に位置した半導体アセンブリの複数個のリードを電
気的接続のために受容できる。また、前記半導体アセン
ブリの複数個が三次元集積回路パッケージを構成すると
き、前記半導体アセンブリの1個の上部リセス部と該半
導体アセンブリの上方に位置する半導体アセンブリの下
部リセス部とで、ヒートシンクあるいはキャパシタプレ
ートを受容するための空間を形成することができる。こ
のキャパシタプレートは、接続リードと、該接続リード
を通じて電源電圧と接地電圧とに各々接続される2つの
導電性のフォイルホイルシートと、該2つのフォイルシ
ート間に介在される絶縁プレートと、を備え、前記半導
体アセンブリは、前記キャパシタプレートの接続リード
を受容するとともに前記上部及び下部リセス部と各々連
通するトレイスを備えることが望ましい。Further, in a semiconductor assembly having another plurality of leads, an edge recess portion extending along at least one side of the semiconductor assembly and exposing an upper surface of the plurality of leads is provided; An upper recess provided on the upper surface of the semiconductor assembly and a lower recess provided on the lower surface of the semiconductor assembly. Here, when a plurality of the semiconductor assemblies constitute a three-dimensional integrated circuit package, an edge recess portion of a certain semiconductor assembly may connect a plurality of leads of the semiconductor assembly located above the semiconductor assembly for electrical connection. Acceptable. Further, when a plurality of the semiconductor assemblies constitute a three-dimensional integrated circuit package, a heat sink or a capacitor may be formed by one upper recess of the semiconductor assembly and a lower recess of the semiconductor assembly located above the semiconductor assembly. A space for receiving the plate can be formed. The capacitor plate includes a connection lead, two conductive foil foil sheets respectively connected to a power supply voltage and a ground voltage through the connection lead, and an insulating plate interposed between the two foil sheets. Preferably, the semiconductor assembly includes a trace for receiving the connection lead of the capacitor plate and communicating with the upper and lower recesses.
【0030】また、この発明に係る三次元集積回路パッ
ケージにおいては、少なくとも一側に沿って延設されて
複数個のリードが露出されているエッジリセス部を有す
る複数個の集積回路内臓アセンブリと、少なくとも一側
に沿って延設されて複数個のリードを受容するエッジリ
セス部を有するとともに少なとも一つのキャパシタを内
臓するキャパシタ内臓アセンブリと、を備えることを特
徴とする。ここで、前記キャパシタ内臓アセンブリは、
接地電圧レベルを持つ第1ダイパッドと、少なくとも一
つのボンディングワイヤとリードを介して電源電圧に電
気的に接続された第2ダイパッドと、これら第1,第2
ダイパッド間に並列に接続された複数個のキャパシタ要
素とを備えることができる。Further, in the three-dimensional integrated circuit package according to the present invention, a plurality of integrated circuit built-in assemblies having an edge recess portion extending along at least one side and exposing a plurality of leads; And a capacitor built-in assembly extending along one side to receive a plurality of leads and having at least one capacitor built therein. Here, the capacitor built-in assembly includes:
A first die pad having a ground voltage level; a second die pad electrically connected to a power supply voltage via at least one bonding wire and a lead;
A plurality of capacitor elements connected in parallel between the die pads.
【0031】[0031]
【作用】前記ポケットないし前記エッジリセス部は、リ
ードが露出されるように構成されており、アセンブリが
三次元集積回路パッケージを構成するとき上方に位置す
るアセンブリに属するリードを各々受容して電気的な内
部接続を遂行できるため、追加工程を行わずとも全体の
容量を可及的に押さえながら信頼性良好に積層できる。The pocket or the edge recess portion is configured so that a lead is exposed, and when the assembly forms a three-dimensional integrated circuit package, receives a lead belonging to an assembly located above and electrically receives the lead. Since the internal connection can be performed, the layers can be stacked with good reliability while minimizing the overall capacity without performing an additional step.
【0032】[0032]
【実施例】以下、添付した図面を参照してこの発明によ
る積層半導体パッケージに対する望ましい実施例を詳細
に説明する。なお、「モジュール」という語は、「三次
元構造集積回路パッケージ」を意味する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Note that the term “module” means “three-dimensional structure integrated circuit package”.
【0033】図1は、この発明による半導体アセンブリ
の第1実施例を示す斜視図で、デュアルタイプパッケー
ジに関するものである。FIG. 1 is a perspective view showing a first embodiment of a semiconductor assembly according to the present invention, and relates to a dual type package.
【0034】図1に示すように、前記半導体アセンブリ
のアセンブリ体41の複数のリード43はSOJタイプ
としてJ形状に折曲されており、その上面が露出されリ
ード領域42を形成している。そして、ポケット44
は、このリード領域42の一端を垂直上方に囲む3つの
面により長方体形状に形成されている。リード領域42
及びポケット44は、アセンブリ体41の互いに対向す
る2側に同じ方向に沿って水平方向に並んで形成されて
いる。As shown in FIG. 1, a plurality of leads 43 of the assembly 41 of the semiconductor assembly are bent into a J shape as an SOJ type, and the upper surface thereof is exposed to form a lead region 42. And pocket 44
Are three vertically surrounding one end of the lead region 42.
The surface is formed in a rectangular shape. Read area 42
The pockets 44 are formed horizontally on the two opposite sides of the assembly body 41 along the same direction.
【0035】なお、図1ではデュアルタイプのパッケー
ジを示しているが、J形状のリード43は、QFP構造
に適用されるときには、クワッド(quad)タイプのよう
な他の形状に変えられることもできる。また、クワッド
タイプパッケージに適用される際には、前記ポケット4
4は、アセンブリ体41の4辺に配設することもでき
る。結果的に、前記リード領域42を露出させるポケッ
ト44は、同一な形態のアセンブリ体(パッケージ)4
1を3−D形態に積層するための凹溝の役割をする。Although FIG. 1 shows a dual type package, the J-shaped lead 43 can be changed to another shape such as a quad type when applied to a QFP structure. . When applied to a quad type package, the pocket 4
4 can be disposed on four sides of the assembly body 41.
You. As a result, the pockets 44 exposing the lead regions 42 are provided in the same form of the assembly (package) 4.
1 serves as a groove for laminating 1 in a 3-D form.
【0036】図2は、図1に示したアセンブリ体4個が
PCB57上に積層されてモジュールを形成する状態を
示す。FIG. 2 shows a state where the four assemblies shown in FIG. 1 are stacked on a PCB 57 to form a module.
【0037】アセンブリ体41内にはリード43がボン
ディングワイヤ54を介して集積回路チップ52の対応
するパッドに接続されている。集積回路チップ52はダ
イパッド51上に設置されている。あるアセンブリ体4
1のJ形状のリード43は、そのアセンブリ体41の下
方に位置するアセンブリ体41のポケット44に受容さ
れた後、公知のろうリフロー工程により接着固定され
る。この接着の際、ポケット44に対して、各上下に位
置するアセンブリ体41間の確実な電気的接続を保障す
るために、整合ジグが用いられ、支持のための構造的安
定性を提供する。リード43の折曲された部分の垂直方
向の高さは、積層されるアセンブリ体41の構造状態と
関連してベンディング機具等により調整できる。例え
ば、SOJ形態のパッケージ構造を積層する場合、スタ
ンドオフを除いたアセンブリ体41の高さが3mmであ
る時、ポケット44のJ形状のリード43の剰余長さは
0.7mmになる。そして、半導体アセンブリ(パッケ
ージ)を上下に積層の時、J形状のリード43の下面と
リード領域42の上面とが互いに向き合う間隔は、1m
m程取れるようになるが、J形状のリード43の長さを
1mm程度長くして成形される位置を下へ適切に調整す
ればよい。In the assembly 41, leads 43 are connected to corresponding pads of the integrated circuit chip 52 via bonding wires 54. The integrated circuit chip 52 is provided on the die pad 51. A certain assembly 4
After the J-shaped lead 43 is received in the pocket 44 of the assembly 41 located below the assembly 41, the lead 43 is adhesively fixed by a known brazing reflow process. During this bonding, alignment jigs are used to ensure a secure electrical connection between the upper and lower assembly bodies 41 to the pockets 44, providing structural stability for support. The vertical height of the bent portion of the lead 43 can be adjusted by a bending tool or the like in relation to the structural state of the assembly body 41 to be stacked. For example, when stacking the package structure of the SOJ type, when the height of the assembly body 41 excluding the standoff is 3 mm, the surplus length of the J-shaped lead 43 of the pocket 44 becomes 0.7 mm. When the semiconductor assemblies (packages) are vertically stacked, the interval between the lower surface of the J-shaped lead 43 and the upper surface of the lead region 42 is 1 m.
m, but the length of the J-shaped lead 43 may be increased by about 1 mm and the molded position may be appropriately adjusted downward.
【0038】また、TSOJ(Thin and Small Out-line
J-bent)パッケージの場合には、成形されるJ形状のリ
ードのスタンドオフがアセンブリ体(パッケージ)の厚
さより厚いため、リードの長さを減らして成形される位
置を上の方へ調整すればよい。Further, TSOJ (Thin and Small Out-line)
In the case of the (J-bent) package, since the stand-off of the J-shaped lead to be molded is thicker than the thickness of the assembly (package), the position to be molded can be adjusted upward by reducing the length of the lead. I just need.
【0039】図3は、この発明による半導体アセンブリ
の第2実施例を示す斜視図である。図3に示したアセン
ブリ体61は、TSOJパッケージに有用なものとし
て、アセンブリ体(パッケージ体)61のリード63の
上方に位置するリード領域62の上面に隣接したリード
が完全に露出されるように、エッジリセス部64がリー
ド領域62の両側に形成されている。FIG. 3 is a perspective view showing a second embodiment of the semiconductor assembly according to the present invention. The assembly 61 shown in FIG. 3 is useful for a TSOJ package so that the leads adjacent to the upper surface of a lead region 62 located above the leads 63 of the assembly (package) 61 are completely exposed. , Edge recess portions 64 are formed on both sides of the lead region 62.
【0040】図3に示した構造は、デュアルインライン
パッケージ形となっているが、クワッドタイプパッケー
ジに適用する際には、エッジリセス部64はアセンブリ
体61の4側(4辺)に位置させることができる。この
ような構造は図1に示したアセンブリ体41よりさらに
小さいリード間のピッチを有するアセンブリに有利であ
る。Although the structure shown in FIG. 3 is of a dual in-line package type, when applied to a quad type package, the edge recess portion 64 may be located on the four sides (four sides) of the assembly body 61. it can. Such an arrangement is advantageous for assemblies having a smaller lead-to-lead pitch than the assembly 41 shown in FIG.
【0041】図4には、図3に示したアセンブリ体4つ
が、PCB(図示せず)上に積層されてモジュールを形
成する状態を示している。あるアセンブリ体61のリー
ド63のJ形状部分がそのアセンブリ体61の下方に位
置するアセンブリ体61の対応するエッジリセス部64
内に受容され、J形状部分の下部が公知のろうリフロー
工程によりエッジリセス部64に置かれているリード6
3の露出された表面、すなわちリード領域62に接着さ
れることにより、上下アセンブリ体61間の電気的接続
が完了される。FIG. 4 shows a state where the four assembly bodies shown in FIG. 3 are stacked on a PCB (not shown) to form a module. A J-shaped portion of a lead 63 of a certain assembly 61 has a corresponding edge recess 64 of the assembly 61 located below the assembly 61.
And the lower portion of the J-shaped portion is placed in the edge recess 64 by a known brazing reflow process.
The electrical connection between the upper and lower assembly bodies 61 is completed by being adhered to the exposed surface of 3, that is, the lead region 62.
【0042】図5は、この発明の第3実施例に係る積層
用の形態をとった半導体アセンブリ94を示す断面図で
ある。この図5に示すように、この実施例においては、
ダイパッド91に実装される集積回路チップ92のサイ
ズが大きい場合に適用されるものとして、リード95が
ダウンボンディング方法により集積回路チップ92と接
続される。すなわち、前記半導体アセンブリ94におい
ては、ダイパッド91の下面に集積回路チップ92が接
着され、前記半導体チップ92のボンディングパッドと
内部リード93がダウンボンディングされ、電気的接続
が完了した状態で、エポキシモールディング体でモール
ディングしてアセンブリ体(パッケージ体)96を形成
している。前記リード95の上面は、完全に露出されて
エッジリセス部97を形成している。FIG. 5 is a sectional view showing a semiconductor assembly 94 in a lamination form according to a third embodiment of the present invention. As shown in FIG. 5, in this embodiment,
The lead 95 is connected to the integrated circuit chip 92 by a down bonding method, which is applied when the size of the integrated circuit chip 92 mounted on the die pad 91 is large. That is, in the semiconductor assembly 94, the integrated circuit chip 92 is adhered to the lower surface of the die pad 91, and the bonding pads of the semiconductor chip 92 and the internal leads 93 are down-bonded. To form an assembly body (package body) 96. The upper surface of the lead 95 is completely exposed to form an edge recess 97.
【0043】図6は、図5に示した半導体アセンブリ9
4を適用して3層構造に積層したモジュール(半導体装
置)の断面図であり、図4を用いて説明した積層方法と
同様な構造で半導体アセンブリ94がエッジリセス部9
7に垂直実装されて積層された状態を示すものである。FIG. 6 shows the semiconductor assembly 9 shown in FIG.
FIG. 5 is a cross-sectional view of a module (semiconductor device) laminated in a three-layer structure by applying the semiconductor device 94 to the edge recess portion 9 having the same structure as the lamination method described with reference to FIG.
7 shows a state of being vertically mounted and stacked.
【0044】図7は、半導体アセンブリのアセンブリ体
110上下面にヒートシンクを搭載する構造を示す。こ
の図7に示すように、この実施例におけるアセンブリ体
110は、図1または図3に示した半導体アセンブリの
基本構造を基本的に適用しているが、アセンブリ体11
0の上面及び下面にそれぞれ上部及び下部リセス部11
2及び113を備えるとともに、上記第2,第3実施例
のエッジリセス部64,97に対応する部位に、エッジ
リセス部114を有する。このエッジリセス部114に
おけるリード111は、破線で示したように、それ自体
の厚みと同等の深さでモールディングコンパウンドのな
かに埋まっていて、各々の上部表面は露出されている。FIG. 7 shows a structure in which heat sinks are mounted on upper and lower surfaces of an assembly body 110 of a semiconductor assembly. As shown in FIG. 7, the assembly 110 of this embodiment basically applies the basic structure of the semiconductor assembly shown in FIG. 1 or FIG.
Upper and lower recesses 11 on the upper and lower surfaces of
2 and 113, and an edge recess 114 at a position corresponding to the edge recesses 64 and 97 of the second and third embodiments. The lead 111 in the edge recess portion 114 is buried in the molding compound at a depth equivalent to its own thickness, as indicated by a broken line, and each upper surface is exposed.
【0045】上部,下部リセス部112,113は図7
で示す横方向で同一の幅を有し、図8(a)または図8
(b)に示すヒートシンク121または122が、図9
または図10に示されるように上部,下部リセス部11
2,113により形成される空間124のなかに受容さ
れる。ヒートシンク121,122の形状は積層時に形
成される空間124の幾何構造と、ヒートシンク12
1,122自体の熱放出機能の効率性により変形され
る。また、ヒートシンク121,122の厚さはアセン
ブリ体の厚さによる。前記SOJタイプのアセンブリの
厚さが厚い時は、それに伴ってヒートシンク121,1
22の厚さが厚くなり、TSOJタイプパッケージの場
合にも積層時のアセンブリ体を形成するモールドの厚さ
がさらに薄いこともあるからヒートシンクの厚さをさら
に厚くすることができる。例えば、TSOJタイプのア
センブリ体を積層するとき、アセンブリ体の上面と下面
を0.1mmの深さでリセスを与える、すなわち、上
部,下部リセス部112,113の深さを0.1mmに
してモールディングするならば、ヒートシンクの厚さは
約0.2mm程度になる。The upper and lower recess portions 112 and 113 are shown in FIG.
8 has the same width in the horizontal direction as shown in FIG.
The heat sink 121 or 122 shown in FIG.
Alternatively, as shown in FIG.
2 and 113 are received in a space 124 formed by the two. The shape of the heat sinks 121 and 122 depends on the geometric structure of the space 124 formed during the lamination and the heat sink 12.
It is deformed due to the efficiency of the heat release function of 1,122 itself. The thickness of the heat sinks 121 and 122 depends on the thickness of the assembly. When the thickness of the SOJ type assembly is large, the heat sink 121, 1
In the case of the TSOJ type package, the thickness of the mold for forming the assembly at the time of stacking may be smaller, so that the thickness of the heat sink can be further increased. For example, when stacking a TSOJ type assembly, the upper and lower surfaces of the assembly are provided with a recess with a depth of 0.1 mm, that is, the upper and lower recesses 112 and 113 are formed with a depth of 0.1 mm to form a molding. If so, the thickness of the heat sink is about 0.2 mm.
【0046】前記上面,下面リセス部112,113に
対してヒートシンクを取り付ける工程は、アセンブリ体
の積層と同時に行われ、熱伝導性が優秀なエポキシ樹脂
である銀Agエポキシや金属充填材が含有されたエポキ
シを使って容易に取り付けることができる。The step of attaching the heat sink to the upper and lower recessed portions 112 and 113 is performed simultaneously with the lamination of the assembly, and contains silver Ag epoxy, which is an epoxy resin having excellent thermal conductivity, and a metal filler. Can be easily attached using epoxy.
【0047】図11は、上述したこの発明に係る実施例
のなかの一つを利用して9個の16Mb DRAM集積回
路150〜158を積層した場合の電気的接続状態を示
す。FIG. 11 shows an electrical connection state when nine 16Mb DRAM integrated circuits 150 to 158 are stacked using one of the above-described embodiments of the present invention.
【0048】図11を参照すれば、各DRAM150〜
158においては、データピンDQ0〜DQ35を除外
した全てのピン、すなわち信号印加ピン(例えば、出力
エネーブル信号ピンOE,アドレスピンA0〜A11,
書込み制御信号ピンW,コラムアドレスストローブ信号
ピンCAS,及び列アドレスストローブ信号ピンRA
S)は、共通に用いられる。データピンは、モジュール
内に積層される半導体アセンブリの個数に比例する。Referring to FIG. 11, each DRAM 150-
In 158, all pins except the data pins DQ0 to DQ35, that is, signal application pins (for example, output enable signal pins OE, address pins A0 to A11,
Write control signal pin W, column address strobe signal pin CAS, and column address strobe signal pin RA
S) is commonly used. Data pins are proportional to the number of semiconductor assemblies stacked in the module.
【0049】図12及び図13は、入出力データの電気
的安定性を保障するためのキャパシタを有する半導体ア
センブリの実施例を示す。FIGS. 12 and 13 show an embodiment of a semiconductor assembly having a capacitor for ensuring electrical stability of input / output data.
【0050】キャパシタ161はダイパッド160,1
70間で並列に接着されている。ダイパッド160は接
地電圧板として利用され、ダイパッド170は二つの内
部リード162を通じて電源電圧端Vccに接続され
る。すなわち、Vcc電位のダイパッド170と内部リ
ード162間の電気的接続のためにボンディングワイヤ
163がそれらの間に設けられ、ダイパッド170とV
cc端子が接続されている。一つのキャパシタの容量が
0.1μFならば、図12または図13に示された4つ
のキャパシタによる総容量は0.4μFになり、これは
図11に示された9つのアセンブリ体からなるモジュー
ルに適用できる。The capacitor 161 is connected to the die pads 160, 1
70 are adhered in parallel. The die pad 160 is used as a ground voltage plate, and the die pad 170 is connected to the power supply voltage terminal Vcc through two internal leads 162. That is, a bonding wire 163 is provided between the die pad 170 having the Vcc potential and the internal lead 162 for electrical connection between the die pad 170 and the internal lead 162.
The cc terminal is connected. If the capacitance of one capacitor is 0.1 μF, the total capacitance of the four capacitors shown in FIG. 12 or FIG. 13 is 0.4 μF, which is equivalent to the nine-assembly module shown in FIG. Applicable.
【0051】図14に示すように、図13に示したキャ
パシタを含むアセンブリ体167がモジュールの最下段
に置かれ、このアセンブリ体167より上方へ集積回路
を含むアセンブリ体61が積層されている。組立て及び
接着方法は前述のようになされる。As shown in FIG. 14, the assembly 167 including the capacitor shown in FIG. 13 is placed at the bottom of the module, and the assembly 61 including the integrated circuit is stacked above the assembly 167. Assembly and bonding methods are as described above.
【0052】図12または図13に示されたキャパシタ
を含むアセンブリ体の外部構造は図3及び図4に示され
たアセンブリ体61の外部構造と同一であるが、共に積
層される集積回路を含むアセンブリ体の形状に合わせて
異なるように形成することもできる。The external structure of the assembly including the capacitor shown in FIG. 12 or 13 is the same as the external structure of the assembly 61 shown in FIGS. 3 and 4, but includes an integrated circuit stacked together. It can be formed differently according to the shape of the assembly body.
【0053】この発明においては、図12及び図13に
示したキャパシタ161を含むアセンブリ体167の代
わりに、図15(a)及び図15(b)に示すようなキ
ャパシタプレート195を採用することもできる。In the present invention, a capacitor plate 195 as shown in FIGS. 15A and 15B may be employed instead of the assembly 167 including the capacitor 161 shown in FIGS. it can.
【0054】図15(a)及び図15(b)を参照する
と、二つの金属フォイルシート191,192が絶縁プ
レート190の上面と下面にそれぞれ接着されている。
絶縁プレート190の上面の金属フォイルシート191
はリード193を通じて電源電圧Vccに接続され、絶
縁プレート190の下面の金属フォイルシート192は
リード194を通じて接地電圧GNDに接続される。図
15(a)及び図15(b)に示したキャパシタプレー
ト195はモジュールの全体的な高さを増加させないと
ともに集積回路を含むアセンブリ体上あるいはアセンブ
リ体間に搭載されるに適当なものである。Referring to FIGS. 15A and 15B, two metal foil sheets 191 and 192 are bonded to the upper and lower surfaces of the insulating plate 190, respectively.
Metal foil sheet 191 on top of insulating plate 190
Is connected to a power supply voltage Vcc through a lead 193, and the metal foil sheet 192 on the lower surface of the insulating plate 190 is connected to a ground voltage GND through a lead 194. The capacitor plate 195 shown in FIGS. 15 (a) and 15 (b) does not increase the overall height of the module and is suitable for mounting on or between assemblies containing integrated circuits. .
【0055】図16は図15(a)及び図15(b)に
示したキャパシタプレート195が搭載できる集積回路
を含むアセンブリ体200の構造を示している。この図
16に示すように、アセンブリ体200の上面及び下面
にキャパシタプレート195のリード193,194を
受容するための金属のフォイルトレイス(trace) 203
を形成したことを除いては、図7に示したアセンブリ体
110の構造と同一である。フォイルトレイス203の
高さは上部,下部リセス部204,205の高さと同一
である。キャパシタプレート195が搭載されたアセン
ブリ体200が積層されたとき、キャパシタプレート1
95はあるアセンブリ体200の下部リセス部205と
そのアセンブリ体200の下方に位置するアセンブリ体
200の上部リセス部204により形成される空間内に
位置するので、キャパシタプレート195によるモジュ
ール全体の体積増加はない。FIG. 16 shows the structure of an assembly 200 including an integrated circuit on which the capacitor plate 195 shown in FIGS. 15A and 15B can be mounted. As shown in FIG. 16, a metal foil trace 203 for receiving the leads 193 and 194 of the capacitor plate 195 on the upper and lower surfaces of the assembly 200.
The structure is the same as that of the assembly 110 shown in FIG. The height of the foil trace 203 is the same as the height of the upper and lower recesses 204 and 205. When the assembly 200 on which the capacitor plate 195 is mounted is stacked, the capacitor plate 1
Since 95 is located in the space formed by the lower recess 205 of the certain assembly 200 and the upper recess 204 of the assembly 200 located below the assembly 200, the volume increase of the entire module due to the capacitor plate 195 is limited. Absent.
【0056】以上説明した実施例は本発明のいくつかの
例に過ぎず、当業者にとっては、この発明の技術的思想
より逸脱しない限りで本実施例に局限されず、多様な変
態、変更が可能であることはいうまでもない。The embodiments described above are only some examples of the present invention, and those skilled in the art are not limited to the present embodiments without departing from the technical idea of the present invention, and various modifications and changes may be made. It goes without saying that it is possible.
【0057】[0057]
【発明の効果】従って、この発明による積層用の半導体
アセンブリ(パッケージ)により積層モジュールを製造
するには、特別な追加工程なく既存のパッケージ製造工
程をそのまま採用できるとともに、積層が容易であり、
また積層の構造が安定しており、相當の原価節減の効果
もある。Therefore, in order to manufacture a stacked module using the semiconductor assembly (package) for stacking according to the present invention, the existing package manufacturing process can be directly employed without any special additional process, and the stacking is easy.
In addition, the structure of the laminate is stable, which has the effect of reducing costs.
【0058】また、この発明は、SOJまたはTSOJ
タイプの半導体パッケージ及び積層が可能な他の全ての
タイプのパッケージに適用するとができ、特に、ヒート
シンクを取り付けることにより、熱放出能力が優秀で多
様な半導体装置に適用することができる。The present invention also relates to SOJ or TSOJ
The present invention can be applied to a semiconductor package of a type and all other types of packages that can be stacked. In particular, by attaching a heat sink, the present invention can be applied to various semiconductor devices having excellent heat releasing ability.
【0059】また、この発明においては、外部でテスト
及び検査が容易に行え、積層された半導体アセンブリ
(パッケージ)を実装するための別のソケットや補完装
置が必要でない。Further, in the present invention, external tests and inspections can be easily performed, and another socket and a supplementary device for mounting the stacked semiconductor assemblies (packages) are not required.
【0060】また、この発明の半導体アセンブリ(パッ
ケージ)の積層のとき、少なくとも一つ以上のキャパシ
タを複数個のダイパッド上に搭載した上でエポキシ樹脂
でモールディングしたアセンブリ(パッケージ)を3−
Dに積層された他のパッケージと積層させるにより、こ
の種の積層で問題になる電気的特性を改善し、種々の素
子の特性を報償することができる。When stacking the semiconductor assembly (package) of the present invention, an assembly (package) obtained by mounting at least one capacitor on a plurality of die pads and molding with epoxy resin is used.
By stacking with another package stacked on D, electrical characteristics which are problematic in this kind of stacking can be improved, and the characteristics of various elements can be compensated.
【0061】また、この発明においては、アセンブリ体
(パッケージ体)の上面及び下面に形成されたリセス部
に対して、平面状に形成された金属フォイルを上下面に
有して構成される平面状のキャパシタを配設することに
より、多様な形態の半導体パッケージを具現することが
できる。Further, according to the present invention, a flat metal foil is formed on the upper and lower surfaces of the recesses formed on the upper and lower surfaces of the assembly body (package body). By disposing the capacitors described above, various types of semiconductor packages can be realized.
【0062】また、この発明においては、既存のパッケ
ージ製造工程をそのまま適用することにより装置の収率
の低下なく高密度実装を実現することができ、構造が簡
単で、不良率を減少させることかできる利点がある。According to the present invention, it is possible to realize high-density mounting without reducing the yield of the device by applying the existing package manufacturing process as it is, to simplify the structure and reduce the defect rate. There are advantages that can be done.
【0063】このように、この発明により積層形半導体
装置を製造する際には、特別装備の追加なく既存の工程
をそのまま適用して多様な形態の半導体パッケージを垂
直に積層することができ、また、積層にあたって問題視
される半導体装置の電気的な特性を種々の形態で報償す
ることもできる。As described above, when manufacturing a stacked semiconductor device according to the present invention, various types of semiconductor packages can be vertically stacked by applying the existing process without adding any special equipment. In addition, the electrical characteristics of the semiconductor device which is regarded as a problem in stacking can be compensated in various forms.
【図1】この発明に係る第1実施例による半導体アセン
ブリを示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a semiconductor assembly according to a first embodiment of the present invention.
【図2】図1に示した半導体アセンブリを適用して4層
の構造に積層したモジュールをPCB上に実装した状態
を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state in which a module stacked in a four-layer structure by applying the semiconductor assembly shown in FIG. 1 is mounted on a PCB.
【図3】この発明に係る第2実施例による半導体アセン
ブリを示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view illustrating a semiconductor assembly according to a second embodiment of the present invention;
【図4】図3に示した半導体アセンブリを適用して4層
の構造に積層したモジュールの断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of a module stacked in a four-layer structure by applying the semiconductor assembly shown in FIG. 3;
【図5】この発明に係る第3実施例による半導体アセン
ブリを示す断面図である。FIG. 5 is a sectional view showing a semiconductor assembly according to a third embodiment of the present invention.
【図6】図5に示した半導体アセンブリを適用して3層
の構造に積層したモジュールの断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of a module stacked in a three-layer structure by applying the semiconductor assembly shown in FIG. 5;
【図7】この発明によるヒートシンクが搭載される半導
体アセンブリの外形を示す側面図である。FIG. 7 is a side view showing an outer shape of a semiconductor assembly on which a heat sink according to the present invention is mounted.
【図8】(a)及び(b)は、図7に示した半導体アセ
ンブリに搭載され得るヒートシンクを示す斜視図であ
る。8A and 8B are perspective views showing a heat sink that can be mounted on the semiconductor assembly shown in FIG. 7;
【図9】図8(a)に示したヒートシンクが搭載された
半導体アセンブリを適用して3層の構造に積層したモジ
ュールの断面図である。9 is a cross-sectional view of a module stacked in a three-layer structure by applying the semiconductor assembly on which the heat sink shown in FIG. 8A is mounted.
【図10】図8(b)に示したヒートシンクが搭載され
た半導体アセンブリを適用して3層の構造に積層したモ
ジュールの断面図である。10 is a cross-sectional view of a module stacked in a three-layer structure by applying the semiconductor assembly on which the heat sink shown in FIG. 8B is mounted.
【図11】この発明による積層形モジュールの電気的接
続状態を示す機能ブロックダイヤグラムである。FIG. 11 is a functional block diagram showing an electrical connection state of the stacked module according to the present invention.
【図12】この発明によりダイパッド上にキャパシタを
搭載した半導体アセンブリを示す平面図である。FIG. 12 is a plan view showing a semiconductor assembly having a capacitor mounted on a die pad according to the present invention.
【図13】図12に示した半導体アセンブリを具体的に
示す垂直断面図である。FIG. 13 is a vertical sectional view specifically showing the semiconductor assembly shown in FIG. 12;
【図14】図13に示した半導体アセンブリと図3に示
した半導体アセンブリとを4層の構造に積層したモジュ
ールを示す断面図である。14 is a cross-sectional view showing a module in which the semiconductor assembly shown in FIG. 13 and the semiconductor assembly shown in FIG. 3 are stacked in a four-layer structure.
【図15】(a)及び(b)は図16に示した半導体ア
センブリの上下面に配設することができるキャパシタを
示す断面図及び平面図である。FIGS. 15A and 15B are a cross-sectional view and a plan view showing a capacitor that can be disposed on the upper and lower surfaces of the semiconductor assembly shown in FIG.
【図16】図15に示したキャパシタを配設することが
できる半導体アセンブリの外形を示す側面図である。FIG. 16 is a side view showing an outer shape of a semiconductor assembly in which the capacitor shown in FIG. 15 can be provided.
【図17】従来の積層形半導体モジュールを示す断面図
である。FIG. 17 is a cross-sectional view showing a conventional stacked semiconductor module.
【図18】(a)及び(b)は図17で示したものと別
の従来の積層形モジュールの全体断面図及び部分詳細断
面図である。18 (a) and (b) are an overall cross-sectional view and a partial detailed cross-sectional view of another conventional laminated module different from that shown in FIG.
【図19】図17及び図18で示したものと別の従来の
積層形モジュールを示す斜視図である。FIG. 19 is a perspective view showing another conventional stacked module different from those shown in FIGS. 17 and 18;
41,61,96,110,167,200 アセンブ
リ体 43,63,95,111,193,194 リード 44 ポケット 64,97,114 エッジリセス部 92 集積回路チップ 94 半導体アセンブリ 112,204 上部リセス部 113,205 下部リセス部 121,122 ヒートシンク 124 空間 160,170 ダイパッド 161 キャパシタ 191,192 金属フォイルシート 195 キャパシタプレート 203 フォイルトレイス41, 61, 96, 110, 167, 200 Assembly 43, 63, 95, 111, 193, 194 Lead 44 Pocket 64, 97, 114 Edge recess 92 Integrated circuit chip 94 Semiconductor assembly 112, 204 Upper recess 113, 205 Lower recess 121, 122 Heat sink 124 Space 160, 170 Die pad 161 Capacitor 191, 192 Metal foil sheet 195 Capacitor plate 203 Foil trace
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平7−235636(JP,A) 特開 平2−239651(JP,A) 特開 平6−97355(JP,A) 特開 平7−66364(JP,A) 実開 平3−103561(JP,U) 実公 平5−33016(JP,Y2) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 25/00 - 25/18──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-7-235636 (JP, A) JP-A-2-239651 (JP, A) JP-A-6-97355 (JP, A) JP-A-7-235 66364 (JP, A) Hikaru Hei 3-103561 (JP, U) Hiko 5-33016 (JP, Y2) (58) Field surveyed (Int. Cl. 6 , DB name) H01L 25/00-25 / 18
Claims (3)
において、前記半導体アセンブリの少なくとも一側に沿
って延設され、前記複数個のリードの上部表面が露出さ
れているエッジリセス部と、前記半導体アセンブリの上
面に設けられる上部リセス部と、前記半導体アセンブリ
の下面に設けられる下部リセス部とを備える半導体アセ
ンブリの複数個が三次元集積回路パッケージを構成する
とき、前記半導体アセンブリの1個の上部リセス部と該
半導体アセンブリの上方に位置する半導体アセンブリの
下部リセス部とが、ヒートシンクを受容するための空間
を形成することを特徴とする半導体アセンブリ。1. A semiconductor assembly having a plurality of leads, an edge recess portion extending along at least one side of the semiconductor assembly and exposing an upper surface of the plurality of leads; When a plurality of semiconductor assemblies including an upper recess provided on an upper surface and a lower recess provided on a lower surface of the semiconductor assembly constitute a three-dimensional integrated circuit package, one upper recess of the semiconductor assembly is provided. A semiconductor assembly, wherein a lower recess of the semiconductor assembly located above the semiconductor assembly forms a space for receiving a heat sink.
において、前記半導体アセンブリの少なくとも一側に沿
って延設され、前記複数個のリードの上部表面が露出さ
れているエッジリセス部と、前記半導体アセンブリの上
面に設けられる上部リセス部と、前記半導体アセンブリ
の下面に設けられる下部リセス部とを備える半導体アセ
ンブリの複数個が三次元集積回路パッケージを構成する
とき、前記半導体アセンブリの1個の上部リセス部と該
半導体アセンブリの上方に位置する半導体アセンブリの
下部リセス部とが、キャパシタプレートを受容するため
の空間を形成することを特徴とする半導体アセンブリ。2. A semiconductor assembly having a plurality of leads, an edge recess portion extending along at least one side of the semiconductor assembly and exposing upper surfaces of the plurality of leads; When a plurality of semiconductor assemblies including an upper recess provided on an upper surface and a lower recess provided on a lower surface of the semiconductor assembly constitute a three-dimensional integrated circuit package, one upper recess of the semiconductor assembly is provided. A semiconductor assembly, wherein a lower recess portion of the semiconductor assembly located above the semiconductor assembly forms a space for receiving a capacitor plate.
と、該接続リードを通じて電源電圧と接地電圧とに各々
接続される2つの導電性のフォイルシートと、該2つの
フォイルシート間に介在される絶縁プレートとを備え、 前記半導体アセンブリは、前記キャパシタプレートの接
続リードを受容するとともに前記上部及び下部リセス部
と各々連通するトレイスを備えることを特徴とする請求
項2記載の半導体アセンブリ。3. The capacitor plate includes a connection lead, two conductive foil sheets respectively connected to a power supply voltage and a ground voltage through the connection lead, and an insulating plate interposed between the two foil sheets. 3. The semiconductor assembly according to claim 2, further comprising: a trace receiving the connection lead of the capacitor plate and communicating with the upper and lower recesses, respectively. 4.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019940004284A KR970007848B1 (en) | 1994-03-03 | 1994-03-03 | Stack package and the manufacture method |
KR1994-4284 | 1994-03-03 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07249736A JPH07249736A (en) | 1995-09-26 |
JP2834676B2 true JP2834676B2 (en) | 1998-12-09 |
Family
ID=19378408
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6283634A Expired - Fee Related JP2834676B2 (en) | 1994-03-03 | 1994-11-17 | Semiconductor assembly |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2834676B2 (en) |
KR (1) | KR970007848B1 (en) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100914552B1 (en) | 2005-07-25 | 2009-09-02 | 삼성전자주식회사 | semiconductor memory device and memory module including it |
KR101037229B1 (en) | 2006-04-27 | 2011-05-25 | 스미토모 베이클리트 컴퍼니 리미티드 | Semiconductor device and semiconductor device manufacturing method |
KR100834831B1 (en) * | 2007-02-28 | 2008-06-03 | 삼성전자주식회사 | Semiconductor chip package, chip set and method for fabricating semiconductor chip |
JP5974797B2 (en) * | 2012-10-05 | 2016-08-23 | トヨタ自動車株式会社 | Semiconductor device |
DE102018103979B4 (en) * | 2018-02-22 | 2021-10-14 | Infineon Technologies Ag | Assembly comprising a carrier device with a chip and a component mounted through an opening, and method of manufacture and use |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2539879Y2 (en) * | 1991-10-04 | 1997-07-02 | 横河電機株式会社 | Waveform shaping circuit |
JPH07235636A (en) * | 1994-02-21 | 1995-09-05 | Fujitsu Ltd | Semiconductor device and laminated structure thereof |
JP3103561U (en) * | 2004-02-23 | 2004-08-19 | 三高化成株式会社 | Storage case for recording media |
-
1994
- 1994-03-03 KR KR1019940004284A patent/KR970007848B1/en not_active IP Right Cessation
- 1994-11-17 JP JP6283634A patent/JP2834676B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07249736A (en) | 1995-09-26 |
KR950028068A (en) | 1995-10-18 |
KR970007848B1 (en) | 1997-05-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5625221A (en) | Semiconductor assembly for a three-dimensional integrated circuit package | |
KR0147259B1 (en) | Stack type semiconductor package and method for manufacturing the same | |
JP2765823B2 (en) | 3D stacked package device | |
US5566051A (en) | Ultra high density integrated circuit packages method and apparatus | |
US5446313A (en) | Thin type semiconductor device and module structure using the device | |
USRE36916E (en) | Apparatus for stacking semiconductor chips | |
US6337521B1 (en) | Semiconductor device and a method of manufacturing the same | |
US5804874A (en) | Stacked chip package device employing a plurality of lead on chip type semiconductor chips | |
US6522018B1 (en) | Ball grid array chip packages having improved testing and stacking characteristics | |
US7511371B2 (en) | Multiple die integrated circuit package | |
US6313998B1 (en) | Circuit board assembly having a three dimensional array of integrated circuit packages | |
EP0408779B1 (en) | High density semiconductor memory module | |
JPH07288309A (en) | Semiconductor device, manufacture thereof and semiconductor module | |
JP2007532004A (en) | Integrated circuit stacking system and method | |
JPH06275677A (en) | Package for semiconductor device and semiconductor device | |
US5220491A (en) | High packing density module board and electronic device having such module board | |
US5295045A (en) | Plastic-molded-type semiconductor device and producing method therefor | |
JP2009252893A (en) | Semiconductor device | |
US6242285B1 (en) | Stacked package of semiconductor package units via direct connection between leads and stacking method therefor | |
JP2834676B2 (en) | Semiconductor assembly | |
US20030015803A1 (en) | High-density multichip module and method for manufacturing the same | |
JP3799120B2 (en) | High capacity memory module | |
JP2865102B2 (en) | Multi-chip module | |
JPH05343602A (en) | High density mounted semiconductor device and semiconductor module using the same | |
JP3170519B2 (en) | Memory card |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081002 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091002 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101002 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111002 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121002 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131002 Year of fee payment: 15 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |