JP2832989B2 - 膜厚測定方法 - Google Patents
膜厚測定方法Info
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- JP2832989B2 JP2832989B2 JP8429189A JP8429189A JP2832989B2 JP 2832989 B2 JP2832989 B2 JP 2832989B2 JP 8429189 A JP8429189 A JP 8429189A JP 8429189 A JP8429189 A JP 8429189A JP 2832989 B2 JP2832989 B2 JP 2832989B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔概要〕 半導体基体上の自然酸化膜の膜厚測定方法に関し， 簡易に且つ安価に自然酸化膜厚を測定することを目的
とし， 基体上に生成した自然酸化膜の溶解液を水平に置かれ
た該基体上に滴下し，該基体上における該溶解液の液滴
の移動速度を測定することにより該自然酸化膜の膜厚を
求めるように構成する。
とし， 基体上に生成した自然酸化膜の溶解液を水平に置かれ
た該基体上に滴下し，該基体上における該溶解液の液滴
の移動速度を測定することにより該自然酸化膜の膜厚を
求めるように構成する。
〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体基体上の自然酸化膜の膜厚測定方法に
関する。
関する。
近年，デバイスの解析技術の進歩により，デバイスの
高信頼化のためには半導体基体の表面状態や界面状態を
厳しく管理する必要があることがわかってきた。
高信頼化のためには半導体基体の表面状態や界面状態を
厳しく管理する必要があることがわかってきた。
特に，ポリシリコン（ポリSi）成長前にSi基板上に自
然酸化膜があると，基板との間にオーミックコンタクト
が得られないため，工程間検査のために，迅速，簡便な
自然酸化膜のモニタ方法が求められている。
然酸化膜があると，基板との間にオーミックコンタクト
が得られないため，工程間検査のために，迅速，簡便な
自然酸化膜のモニタ方法が求められている。
従来のSi基板上の自然酸化膜の測定方法としては，楕
円偏光を利用したエリプソメトリ法が広く用いられてい
るが，この場合は特別の偏光測定器を必要とし，又測定
に時間がかかるため，プロセス中の工程間検査方法とし
てこれに代わる迅速，簡便な方法が要望される。
円偏光を利用したエリプソメトリ法が広く用いられてい
るが，この場合は特別の偏光測定器を必要とし，又測定
に時間がかかるため，プロセス中の工程間検査方法とし
てこれに代わる迅速，簡便な方法が要望される。
上記の要望により，本発明は簡易に且つ安価に自然酸
化膜を測定することを目的とする。
化膜を測定することを目的とする。
上記課題の解決は，基体上に生成した自然酸化膜の溶
解液を水平に置かれた該基体上に滴下し，該基体上にお
ける該溶解液の液滴の移動速度を測定することにより該
自然酸化膜の膜厚を求める膜厚測定方法により達成され
る。
解液を水平に置かれた該基体上に滴下し，該基体上にお
ける該溶解液の液滴の移動速度を測定することにより該
自然酸化膜の膜厚を求める膜厚測定方法により達成され
る。
本発明は水平に置かれた半導体基体上に生成した自然
酸化膜上に，それを溶解する液を滴下した場合に，基体
上に走る液滴の移動速度と膜厚との間に相関関係がある
ことを本発明者が確認した結果を利用したものである。
酸化膜上に，それを溶解する液を滴下した場合に，基体
上に走る液滴の移動速度と膜厚との間に相関関係がある
ことを本発明者が確認した結果を利用したものである。
即ち，膜厚Ｔと液の移動速度ｖとの相関関係を前もっ
て求めておき，液の移動速度ｖを測定することにより膜
厚Ｔを求めるようにしたものである。
て求めておき，液の移動速度ｖを測定することにより膜
厚Ｔを求めるようにしたものである。
基体上に滴下した液滴が移動する機構は次のように考
えられる。
えられる。
例えば,Si基板上にHFを滴下したとき， SiO2＋HF＝SiH2F6＋ΔＨ なる反応で生成した溶解エネルギΔＨにより，液滴が移
動する。
動する。
第１図は本発明の一実施例を説明する装置の断面図で
ある。
ある。
図において，水平に置かれたホルダ１上に，基体２と
してSi基板を載せ，基体上に生成した自然酸化膜の溶解
液（エッチング液）３として希弗化水素酸HF（５％
F-）を用い，これを容器４内に入れノズル５より滴下す
る。
してSi基板を載せ，基体上に生成した自然酸化膜の溶解
液（エッチング液）３として希弗化水素酸HF（５％
F-）を用い，これを容器４内に入れノズル５より滴下す
る。
基体上を移動する液の速度を速度センサ６により測定
し，予め決められた膜厚Ｔと液の移動速度ｖの関係よ
り，膜厚が求められる。
し，予め決められた膜厚Ｔと液の移動速度ｖの関係よ
り，膜厚が求められる。
液滴は液量0.25mlを使用し，大きさは自然酸化膜の膜
厚によっても変わるが，水洗後のSi基板（自然酸化膜の
膜厚〜20Å）では15mmφほどの大きさとなる。
厚によっても変わるが，水洗後のSi基板（自然酸化膜の
膜厚〜20Å）では15mmφほどの大きさとなる。
又，液滴の移動速度は液滴の大きさに殆ど依存しない
ことを確認した。
ことを確認した。
実施例においては，移動速度は基板の周縁部に液滴を
滴下し，液滴が基板の周縁を周回する時間を目視により
測定して算出した。
滴下し，液滴が基板の周縁を周回する時間を目視により
測定して算出した。
更に，速度センサは光学的なものを用いて局部的な膜
厚を測定することもできる。
厚を測定することもできる。
第２図は実施例の場合の膜厚Ｔと液の移動速度ｖの関
係図である。
係図である。
実施例で，自然酸化膜厚をモニタした後，基板上に被
着した厚さ2000Åの高不純物濃度ポリシリコン層のコン
タクト抵抗を測定したところ，次のような結果が得られ
た。
着した厚さ2000Åの高不純物濃度ポリシリコン層のコン
タクト抵抗を測定したところ，次のような結果が得られ
た。
膜厚（Å） コンタクト抵抗（Ω） 17 80 45 絶縁状態 実施例においては,Si基板とHF溶液を用いたが，その
他，親水性の自然酸化膜と撥水性の基板の組み合わせな
らば，本発明は材料を問わず適用可能である。
他，親水性の自然酸化膜と撥水性の基板の組み合わせな
らば，本発明は材料を問わず適用可能である。
例えば,GaAs基板に対して自然酸化膜の溶解液として
（HF＋boil HCl）を用いる。
（HF＋boil HCl）を用いる。
以上説明したように本発明によれば，簡易に且つ安価
に基板上の自然酸化膜厚を測定することができ，デバイ
ス製造の品質管理に寄与することができる。
に基板上の自然酸化膜厚を測定することができ，デバイ
ス製造の品質管理に寄与することができる。
第１図は本発明の一実施例を説明する装置の断面図， 第２図は実施例の場合の膜厚Ｔと液の移動速度ｖの関係
図である。 図において， １はホルダ， ２は被測定物でSi基板， ３は被膜の溶解液， ４は溶解液を入れる容器， ５はノズル である。
図である。 図において， １はホルダ， ２は被測定物でSi基板， ３は被膜の溶解液， ４は溶解液を入れる容器， ５はノズル である。
Claims (1)
- 【請求項１】基体上に生成した自然酸化膜の溶解液を水
平に置かれた該基体上に滴下し，該基体上における該溶
解液の液滴の移動速度を測定することにより該自然酸化
膜の膜厚を求めることを特徴とする膜厚測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8429189A JP2832989B2 (ja) | 1989-04-03 | 1989-04-03 | 膜厚測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8429189A JP2832989B2 (ja) | 1989-04-03 | 1989-04-03 | 膜厚測定方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02262003A JPH02262003A (ja) | 1990-10-24 |
| JP2832989B2 true JP2832989B2 (ja) | 1998-12-09 |
Family
ID=13826366
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8429189A Expired - Lifetime JP2832989B2 (ja) | 1989-04-03 | 1989-04-03 | 膜厚測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2832989B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2469303C1 (ru) * | 2011-07-29 | 2012-12-10 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Физико-технический институт им. А.Ф.Иоффе Российской академии наук | Способ количественного определения содержания диоксида кремния на поверхности кремния |
| EP2570190A1 (en) | 2011-09-15 | 2013-03-20 | Braun GmbH | Spray nozzle for dispensing a fluid and sprayer comprising such a spray nozzle |
-
1989
- 1989-04-03 JP JP8429189A patent/JP2832989B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02262003A (ja) | 1990-10-24 |
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