JP2828665B2 - Manufacturing method of stamper for optical disk duplication - Google Patents

Manufacturing method of stamper for optical disk duplication

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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、光ディスク複製用スタンパ製造方法に関す
る。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for manufacturing a stamper for duplicating an optical disk.

従来の技術 従来、光ディスク複製用スタンパを製造する方法とし
ては、ガラス基板上に形成したプリグルーブパターン上
に導体化膜を形成した後、この導体化膜を陰極としてNi
めっきしガラス基板を剥離することによりマスタを得、
このマスタを剥離被膜処理した後Niめっきし前記マスタ
から剥離することによりマザーを得、このマザーを剥離
被膜処理した後Niめっきし前記マザーから剥離すること
によりサン(スタンパ)を得るようにしたものが、例え
ば特開昭60−197959号公報、特開昭61−221392号公報等
により知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a method of manufacturing a stamper for duplicating an optical disc, a conductive film is formed on a pregroove pattern formed on a glass substrate, and then the conductive film is used as a cathode.
A master is obtained by plating and peeling the glass substrate,
A mother obtained by subjecting the master to a release coating treatment and then Ni plating and peeling from the master, obtaining a mother by subjecting the mother to a release coating treatment and then Ni plating and peeling from the mother to obtain a sun (stamper). Are known, for example, from JP-A-60-197959 and JP-A-61-221392.

ここに、このような従来法では、マスタからマザーを
剥離した後、及び、マザーからサンを剥離した後で、マ
ザー、サン各々の表面を水洗いするようにしている。こ
の場合、めっき浴中にピット防止剤(表面張力減少剤)
である界面活性剤は、元々複製される側のマスター及び
マザーの表面に対して疎水基が吸着し、めっき液に対し
ては親水基がはり出している。この面に対してマザー及
びサンがめっきにより複製されることになる。
Here, in such a conventional method, after the mother is separated from the master and after the sun is separated from the mother, the surfaces of the mother and the sun are washed with water. In this case, a pit inhibitor (surface tension reducing agent) in the plating bath
The surface active agent has a hydrophobic group adsorbed on the surfaces of the master and mother on the side to be originally copied, and a hydrophilic group protrudes from the plating solution. The mother and the sun are duplicated on this surface by plating.

発明が解決しようとする課題 ところが、例えばマスタからマザーを複製する場合を
例にとり考察すると、マスタに吸着している界面活性剤
の親水基に対してマザーがめっきされていくため、剥離
後のマザーには界面活性剤の親水基が吸着していること
から、表面には疎水基があるため、撥水性となる。
Problems to be Solved by the Invention However, considering, for example, a case where the mother is duplicated from the master, the mother is plated on the hydrophilic groups of the surfactant adsorbed on the master, so that the mother after the separation is removed. Has a hydrophobic group on the surface because the hydrophilic group of the surfactant is adsorbed, and thus becomes water-repellent.

このような現象を第2図を参照して説明する。まず、
めっき浴中の界面活性剤は、通常、第2図(a)に示す
ようにで示す親水基を水溶液側に向けるため、Niによ
るマスタ1表面にはで示す疎水基が吸着することにな
る。図示の例は、界面活性剤としてラウリル酸エステル
ナトリウム塩(C12H25−OSO3−Na)を用いた場合であ
り、疎水基はC12H25なるアルキル基であり、親水基
はOSO3であり、はNaを示す。図示のように、このよう
な界面活性剤はアニオン(陰イオン)界面活性剤であ
り、水に溶解する時、疎水基のついている部分がアニオ
ンになる。マスタ1からマザー2を複製する場合、マザ
ー2の最表面は界面活性剤の疎水基のついているアニオ
ン(アニオン部分は親水性)に吸着しているので、複製
後、剥離したマザー2の表面の水と接する側は、第2図
(b)に示すように、疎水基がはり出して撥水性となる
ものである。
Such a phenomenon will be described with reference to FIG. First,
As shown in FIG. 2 (a), the surfactant in the plating bath usually directs the hydrophilic group indicated by the symbol to the aqueous solution side, so that the hydrophobic group indicated by the symbol Ni is adsorbed on the surface of the master 1 made of Ni. The illustrated example is a case of using the lauric acid ester sodium salt (C 12 H 25 -OSO 3 -Na ) as a surfactant, the hydrophobic group is C 12 H 25 becomes an alkyl group, a hydrophilic group OSO 3 And represents Na. As shown, such a surfactant is an anionic (anionic) surfactant, and when dissolved in water, a portion having a hydrophobic group becomes an anion. When the mother 2 is duplicated from the master 1, the outermost surface of the mother 2 is adsorbed by the anions having a hydrophobic group of the surfactant (the anion portion is hydrophilic). As shown in FIG. 2 (b), the side that comes into contact with water has a hydrophobic group protruding to become water repellent.

よって、乾燥工程で洗浄水を完全に除去することがで
きず、しみとなって残存し、欠陥の多いものとなってい
る。
Therefore, the washing water cannot be completely removed in the drying step, remains as stains, and has many defects.

これは、マザーからサンを複製する工程でも同様であ
る。
This is the same in the step of duplicating the sun from the mother.

課題を解決するための手段 ガラス基板上に形成したプリグルーブパターン上に導
体化膜を形成した後、この導体化膜を陰極としてNiめっ
きしガラス基板を剥離することによりマスタを得、この
マスタを剥離被膜処理した後Niめっきし前記マスタから
剥離することによりマザーを得、このマザーを剥離被膜
処理した後Niめっきし前記マザーから剥離することによ
りサンを得るようにした光ディスク複製用スタンパ製造
方法において、前記マスタから前記マザーを剥離した後
にこのマザー表面を2分間以上にわたって親水性処理す
るとともに、前記マザーから前記サンを剥離した後にこ
のサン表面を2分間以上にわたって親水性処理するよう
にした。
Means for Solving the Problems After forming a conductive film on a pre-groove pattern formed on a glass substrate, a Ni is plated with the conductive film as a cathode, and the glass substrate is peeled off to obtain a master. In the method of manufacturing a stamper for optical disc duplication, a mother is obtained by subjecting a release coating to Ni plating and peeling from the master to obtain a mother by subjecting the mother to a release coating and then peeling off from the mother by Ni plating. After the mother was peeled off from the master, the mother surface was subjected to a hydrophilic treatment for 2 minutes or more, and after the sun was peeled from the mother, the sun surface was subjected to a hydrophilic treatment for 2 minutes or more.

作用 マスタからマザーを剥離した後にこのマザー表面を親
水性処理するとともに、マザーからサンを剥離した後に
このサン表面を親水性処理することにより、剥離後のマ
ザーやサンの表面が撥水性から親水性に置換される。よ
って、しみ等を生ぜず、欠陥の少ない高品質のスタンパ
が製造される。
Action After the mother is peeled off from the master, this mother surface is treated with hydrophilicity, and after peeling off the sun from the mother, the sun surface is treated with hydrophilicity. Is replaced by Therefore, a high-quality stamper having few defects without producing stains or the like is manufactured.

実施例 本発明の第一の実施例を第1図を参照して説明する。
まず、ガラス基板上に形成したプリグルーブパターン上
に導体化膜を形成した後、この導体化膜を陰極としてNi
めっきしガラス基板を剥離することによりマスタを得
る。次に、このマスタを剥離被膜処理した後、Niめっき
し、このマスタから剥離することによりマザーを得る。
この剥離後に、マザーをイソプロピルアルコールに2分
間浸潤させる親水性処理を行ってから、水洗いし、乾燥
させる。このような処理のなされたマザーの表面を剥離
被膜処理した後、Niめっきし、このマザーから剥離する
ことによりサンを得る。この剥離後に、サンをイソプロ
ピルアルコールに2分間浸潤させる親水性処理を行って
から、水洗いし、乾燥させる。
Embodiment A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
First, a conductive film is formed on a pre-groove pattern formed on a glass substrate.
A master is obtained by plating and peeling the glass substrate. Next, after the master is subjected to a release coating treatment, it is plated with Ni, and then separated from the master to obtain a mother.
After the peeling, the mother is subjected to a hydrophilic treatment for infiltrating into isopropyl alcohol for 2 minutes, then washed with water and dried. After the surface of the mother having been subjected to such a treatment is subjected to release coating treatment, it is plated with Ni and peeled from the mother to obtain a sun. After this peeling, a hydrophilic treatment for infiltrating the sun in isopropyl alcohol for 2 minutes is performed, and then the water is washed and dried.

このような処理により複製した10枚のサンについて、
データ部の欠陥率を測定したところ、第1図中に特性A
で示すように、10-7以下となり、そのバラツキも小さい
ものである。図中、欠陥率は10枚のサンについての平均
値を中心に、±2σn-1なるバラツキ幅をとって示す。
About 10 suns duplicated by such processing,
When the defect rate of the data portion was measured, the characteristic A was found in FIG.
As shown by, the variation is 10 -7 or less, and the variation is small. In the figure, the defect rate is shown with a variation width of ± 2σ n−1 centered on the average value of 10 suns.

ついで、本発明の第二の実施例を第1図を参照して説
明する。本実施例は、前記実施例と同一の方法により複
製するものであるが、マザー、サンについてのイソプロ
ピルアルコール浸潤による親水性処理を、2分間に代え
て、3分間行うようにしたものである。このような処理
により複製した10枚のサンについて、データ部の欠陥率
を測定したところ、この場合も、第1図中に特性Bで示
すように、10-7以下となり、そのバラツキも小さいもの
である。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In this embodiment, reproduction is performed by the same method as in the above embodiment, except that hydrophilic treatment of mother and sun by isopropyl alcohol infiltration is performed for 3 minutes instead of 2 minutes. The defect rate of the data portion was measured for the 10 suns replicated by such a process. In this case, too, as shown by the characteristic B in FIG. 1, the defect ratio was 10 -7 or less, and the variation was small. It is.

ちなみに、比較例として、前述の実施例と同一の方法
により複製する際、マザー、サンについてのイソフロピ
ルアルコール浸潤による親水性処理を、1分間だけ行っ
て複製した10枚のサンについて、データ部の欠陥率を測
定したところ、この場合には第1図中に特性Cで示すよ
うに、10-6程度となり、そのバラツキも広がったもので
ある。よって、マザー、サンについての親水性処理は2
分間以上とするのがよい。
By the way, as a comparative example, when duplicating by the same method as the above-mentioned example, the hydrophilic treatment by isopropyl alcohol infiltration of the mother and the sun was performed for only 1 minute, and the data of 10 suns duplicated. When the defect rate was measured, in this case, as shown by the characteristic C in FIG. 1, it was about 10 −6 , and the variation was widened. Therefore, hydrophilic treatment for mother and sun is 2
It is good to be more than minutes.

発明の効果 本発明は、上述したようにマスタからマザーを剥離し
た後にこのマザー表面を2分間以上にわたって親水性処
理するとともに、マザーからサンを剥離した後にこのサ
ン表面を2分間以上にわたって親水性処理するようにし
たので、剥離後のマザーやサンの表面を撥水性から親水
性に置換でき、よって、撥水性に起因するしみ等を生じ
ないため、欠陥の少ない高品質のスタンパを製造できる
ものである。
Effects of the Invention The present invention provides a hydrophilic treatment of the mother surface for 2 minutes or more after the mother is peeled from the master as described above, and a hydrophilic treatment of the sun surface for 2 minutes or more after the sun is removed from the mother. Since the surface of the mother and the sun after peeling can be replaced from water repellent to hydrophilic, and therefore, a stain due to water repellency does not occur, so that a high quality stamper with few defects can be manufactured. is there.

【図面の簡単な説明】 第1図は本発明の第一及び第二の実施例による欠陥率特
性を示す特性図、第2図は界面活性剤による撥水化現象
を示す説明図である。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a characteristic diagram showing defect rate characteristics according to the first and second embodiments of the present invention, and FIG. 2 is an explanatory diagram showing a water repellent phenomenon by a surfactant.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G11B 7/26 B29D 17/00 B29C 33/38 B29L 17:00──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) G11B 7/26 B29D 17/00 B29C 33/38 B29L 17:00

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】ガラス基板上に形成したプリグルーブパタ
ーン上に導体化膜を形成した後、この導体化膜を陰極と
してNiめっきしガラス基板を剥離することによりマスタ
を得、このマスタを剥離被膜処理した後Niめっきし前記
マスタから剥離することによりマザーを得、このマザー
を剥離被膜処理した後Niめっきし前記マザーから剥離す
ることによりサンを得るようにした光ディスク複製用ス
タンパ製造方法において、前記マスタから前記マザーを
剥離した後にこのマザー表面を2分間以上にわたって親
水性処理するとともに、前記マザーから前記サンを剥離
した後にこのサン表面を2分間以上にわたって親水性処
理するようにしたことを特徴とする光ディスク複製用ス
タンパ製造方法。
A master is obtained by forming a conductive film on a pregroove pattern formed on a glass substrate, Ni plating using the conductive film as a cathode, and peeling the glass substrate to obtain a master. In the method for manufacturing a stamper for optical disc duplication, the mother is obtained by treating the motherboard by Ni plating and peeling the master from the master, and by removing the mother from the mother by subjecting the mother to a release coating treatment and then peeling the mother from the mother. After separating the mother from the master, the mother surface is subjected to hydrophilic treatment for 2 minutes or more, and after the sun is separated from the mother, the sun surface is subjected to hydrophilic treatment for 2 minutes or more. To manufacture a stamper for duplicating an optical disk.
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