JP2803495B2 - Semiconductor integrated circuit wiring length prediction method - Google Patents

Semiconductor integrated circuit wiring length prediction method

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JP2803495B2
JP2803495B2 JP4273900A JP27390092A JP2803495B2 JP 2803495 B2 JP2803495 B2 JP 2803495B2 JP 4273900 A JP4273900 A JP 4273900A JP 27390092 A JP27390092 A JP 27390092A JP 2803495 B2 JP2803495 B2 JP 2803495B2
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wiring length
macro
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wiring
processing
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知子 三島
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NEC Corp
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、LSIのタイミング設
計のため、フロアプランニングによって配線長を見積も
る配線長予測方式に関し、特にビルディングブロック方
式のスタンダードセルレイアウトの配線長予測方法に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wiring length estimating method for estimating a wiring length by floor planning for LSI timing design, and more particularly to a wiring length estimating method of a standard cell layout of a building block system.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の論理設計時のタイミングは、フロ
アプランニングによって配線長予測にマクロセルの配置
を反映させる場合でも、図2のようにチップ17の未設
計マクロセル12については、他の既設計マクロ13,
14,15,16に配線する前に予測配線11の配線長
を見積って遅延シミュレーションをしたときと、図3の
ように実配線20を行った後とでマクロの外部端子位置
が変わってしまうために配線長が大幅に変更される場合
がある(電子情報通信学会技術研究報告ICD90−7
5)。
2. Description of the Related Art In conventional logic design, even when the layout of macrocells is reflected in the wiring length prediction by floor planning, as shown in FIG. 13,
Since the delay simulation is performed by estimating the wiring length of the predicted wiring 11 before wiring to the wirings 14, 15, and 16, and the position of the external terminal of the macro changes after performing the real wiring 20 as shown in FIG. In some cases, the wiring length may be significantly changed (IEICE Technical Report ICD90-7)
5).

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】このように、従来のフ
ロアプランニングによる配線長見積りでは、マクロ内セ
ルの配置,配線をした後に大幅にマクロの端子位置が変
更されてしまうと、実レイアウト結果に対する配線長予
測による遅延シミュレーションの精度が悪くなってしま
う。この傾向は、マクロ規模が大きくなる程顕著になる
が、チップはますます大規模化し、サブミクロン製造プ
ロセスに進むにつれて、詳細な遅延シミュレーションが
必須になるため、このように精度の悪い配線長予測では
タイミング設計ができなくなるという問題がある。
As described above, according to the conventional wiring length estimation based on floor planning, if the macro terminal positions are significantly changed after arranging and wiring the cells in the macro, the result of the actual layout results may be reduced. The accuracy of the delay simulation based on the wiring length prediction deteriorates. This tendency becomes more pronounced as the macro scale becomes larger. However, as the size of chips becomes larger and more detailed delay simulation becomes necessary as the submicron manufacturing process progresses, such inaccurate wiring length prediction is performed. Then, there is a problem that timing design becomes impossible.

【0004】本発明の目的は、配線長予測の精度を上げ
る半導体集積回路の配線長予測方法を提供することにあ
る。
An object of the present invention is to provide a method for estimating the wiring length of a semiconductor integrated circuit which improves the accuracy of the wiring length prediction.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係る半導体集積回路の配線長予測方法は、
寸法処理と配線長処理とを行いスタンダードセルレイア
ウトの配線長を予測する半導体集積回路の配線長予測方
法であって、寸法処理は、チップサイズ,チップ内のマ
クロサイズ,マクロ間のマンハッタン距離を計算するも
のであり、配線長処理は、見積ったマクロサイズが入力
された誤差許容範囲より大きく、予測配線長に必要な精
度が出せないとき、必要な精度が確保可能なレベルまで
そのマクロの階層を下げてグループ配置することによ
り、マクロ内セル及び外部端子の配置範囲を限定し、予
測配線長を求めるものである。
In order to achieve the above object, a method for estimating a wiring length of a semiconductor integrated circuit according to the present invention comprises:
A wiring length prediction method for a semiconductor integrated circuit for predicting a wiring length of a standard cell layout by performing a dimensional processing and a wiring length processing, wherein the dimensional processing calculates a chip size, a macro size in a chip, and a Manhattan distance between macros. When the estimated macro size is larger than the input error tolerance and the required accuracy cannot be obtained for the estimated wiring length, the wiring layer processing proceeds to the level of the macro until the required accuracy can be ensured. By lowering the group arrangement, the arrangement range of the cells in the macro and the external terminals is limited, and the predicted wiring length is obtained.

【0006】[0006]

【作用】マクロのサイズが大きくて予測配線長と実配線
長の誤差が許容範囲を超える場合、マクロの階層を下げ
てグループ配置を行った後に配線長予測を行う。
When the macro size is large and the error between the predicted wiring length and the actual wiring length exceeds an allowable range, the wiring length is predicted after the macro is lowered and the groups are arranged.

【0007】[0007]

【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。図1は本発明の一実施例に係る配線長予測方法を示
すフローチャートである。図2はチップレベルのマクロ
配置図であり、未設計マクロ12と既設計マクロ16の
配置と接続情報から予測した一配線長を示した図であ
る。図3は図2の配置で実際にレイアウトをした結果、
未設計マクロ12の端子位置が移動してしまった場合の
実配線長を示した図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a flowchart showing a wiring length prediction method according to one embodiment of the present invention. FIG. 2 is a chip-level macro layout diagram showing the layout of undesigned macros 12 and designed macros 16 and one wiring length predicted from connection information. FIG. 3 shows the result of actual layout with the arrangement of FIG.
FIG. 9 is a diagram illustrating an actual wiring length when a terminal position of an undesigned macro 12 has moved.

【0008】図2の予測配線長と図3の実配線長の差が
問題になる場合、図4のように本発明は以下のような処
理を行うことによって実配線長と予測配線長の差を許容
範囲内に収める。すなわち、チップのフロアプランニン
グ1において、チップサイズ予測処理2で図4のチップ
17のサイズを予測し、ハードマクロ配置処理3でチッ
プ17内の既設計マクロ13,14,15,16の配置
を行い、図2のようなフロアプランを得る。
When the difference between the predicted wiring length in FIG. 2 and the actual wiring length in FIG. 3 becomes a problem, the present invention performs the following processing as shown in FIG. Within the allowable range. That is, in the floor planning 1 of the chip, the size of the chip 17 of FIG. 4 is predicted in the chip size prediction processing 2 and the designed macros 13, 14, 15, and 16 in the chip 17 are arranged in the hard macro placement processing 3. , A floor plan as shown in FIG. 2 is obtained.

【0009】許容誤差入力処理4でチップ17における
配線長の許容誤差範囲を入力し、マクロ配置処理及びサ
イズ予測処理5で未設計マクロ12の配置とサイズ予測
を行う。この予測サイズに対して、チェック処理6にお
いて処理4で入力した条件を満足するか否かを判断し、
マクロサイズが誤差範囲内であればそのまま配線長予測
処理9でマクロ12と16の間のマンハッタン距離から
予測配線11の配線長を計算する。その場合、範囲外で
あれば処理7により一階層下に下げて未設計マクロ内を
グループ分割,サイズ予測,配置を実行し、各グループ
18のサイズ予測を行う。
The allowable error input processing 4 inputs the allowable error range of the wiring length in the chip 17, and the macro arrangement processing and size prediction processing 5 performs the arrangement and size prediction of the undesigned macro 12. For this predicted size, it is determined whether or not the condition input in process 4 is satisfied in check process 6,
If the macro size is within the error range, the wiring length of the predicted wiring 11 is calculated from the Manhattan distance between the macros 12 and 16 in the wiring length prediction processing 9 as it is. In this case, if it is out of the range, it is lowered by one layer by processing 7 and the inside of the undesigned macro is subjected to group division, size prediction and arrangement, and the size prediction of each group 18 is performed.

【0010】次にチェック処理8において、各グループ
18がチェック処理6と同様に配線長の許容誤差範囲の
条件を満足するか否かを判断する。満足していれば、配
線長予測処理9に移って未設計マクロ31内のグループ
18とマクロ16の間のマンハッタン距離から予測配線
30の配線長を予測する。
Next, in the check processing 8, it is determined whether or not each group 18 satisfies the condition of the allowable error range of the wiring length similarly to the check processing 6. If satisfied, the process proceeds to the wiring length prediction processing 9 to predict the wiring length of the predicted wiring 30 from the Manhattan distance between the group 18 and the macro 16 in the undesigned macro 31.

【0011】チェック処理8において、範囲外のグルー
プであることが判明すれば、処理7へ戻ってそのグルー
プだけ更に下位階層でグルーブ分割,配置,各グループ
のサイズ予測を行う。これを繰り返して、すべてが許容
範囲内に収まった状態で配線長予測を行い、この予測配
線長によって遅延シミュレーション10を行う。
In the checking process 8, if it is determined that the group is out of the range, the process returns to the process 7, and the group is divided, arranged, and the size of each group is predicted in the lower hierarchy for that group. By repeating this, the wiring length is predicted in a state where everything is within the allowable range, and the delay simulation 10 is performed based on the predicted wiring length.

【0012】[0012]

【発明の効果】以上説明したように本発明は、チップの
フロアプランニングにおいて、マクロのサイズが大きく
て予測配線長と実配線長の誤差が許容範囲を超える場
合、マクロの階層を下げてグループ配置を行った後に配
線長予測を行うため、実レイアウトにおけるマクロ内セ
ル、マクロの外部端子の配置範囲が限定され配線長予測
の精度を上げることができるという効果を有する。
As described above, according to the present invention, in the floor planning of a chip, when the size of a macro is large and the error between the predicted wiring length and the actual wiring length exceeds an allowable range, the macro hierarchy is lowered and the group is arranged. Since the wiring length prediction is performed after the above, the arrangement range of the cells in the macro and the external terminals of the macro in the actual layout is limited, and the accuracy of the wiring length prediction can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例を示すフローチャートであ
る。
FIG. 1 is a flowchart showing one embodiment of the present invention.

【図2】チップ内マクロ配置とマクロ間接続情報によっ
て未設計マクロの端子位置を予測して配線長を予測した
ときのチップ図である。
FIG. 2 is a chip diagram when a terminal position of an undesigned macro is predicted based on an intra-chip macro arrangement and macro connection information to predict a wiring length.

【図3】従来方法によって配置・配線した後の実配線長
を表示したチップ図である。
FIG. 3 is a chip diagram showing actual wiring lengths after placement and wiring by a conventional method.

【図4】未設計マクロの下位階層でグループ配置を行っ
て端子位置を予測して配線長を予測した時のチップ図で
ある。
FIG. 4 is a chip diagram showing a case where a group is arranged in a lower hierarchy of an undesigned macro, a terminal position is predicted, and a wiring length is predicted.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 フロアプランニング 2 チップサイズ予測処理 3 ハードマクロ配置処理 4 配線長の許容誤差入力処理 5 未設計マクロの配置とサイズ予測処理 6 見積ったマクロサイズが誤差許容範囲かのチェック
処理 7 マクロサイズが誤差範囲を超えていた場合、階層を
下げて未設計マクロ内をグループ分割,サイズ予測,配
置を実行する処理 8 分割したグループのサイズを予測し、そのサイズが
誤差許容範囲かのチェックを行う処理 9 配線長予測処理 10 遅延シミュレーション 12 未設計のソフトマクロ 13,14,15,16 すでに設計されているハード
マクロ 17 チップ 18 マクロを分割したグループ 20 従来方法でレイアウトを実行した後の実配線長 30 本発明の方法で未設計マクロ内をグループ配置し
た後の予測配線 31 本発明の方法で下位階層でグループ分割,配置さ
れた未設計マクロ
1 Floor Planning 2 Chip Size Prediction Processing 3 Hard Macro Placement Processing 4 Wiring Length Tolerance Input Processing 5 Undesigned Macro Placement and Size Prediction Processing 6 Checking if Estimated Macro Size is Error Permissible Range 7 Macro Size is Error Range If the number exceeds the limit, a process of lowering the hierarchy and performing group division, size prediction, and placement in the undesigned macro 8 A process of predicting the size of the divided group and checking whether the size is within an allowable error range 9 Wiring Length prediction processing 10 Delay simulation 12 Undesigned soft macros 13, 14, 15, 16 Hard macros already designed 17 Chips 18 Macro-divided groups 20 Actual wiring length after layout is executed by conventional method 30 Wiring after group placement in the undesigned macro by the method of 31 Group division in the lower hierarchy Ming manner, arranged non-designed macros

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 寸法処理と配線長処理とを行いスタンダ
ードセルレイアウトの配線長を予測する半導体集積回路
の配線長予測方法であって、 寸法処理は、チップサイズ,チップ内のマクロサイズ,
マクロ間のマンハッタン距離を計算するものであり、 配線長処理は、見積ったマクロサイズが入力された誤差
許容範囲より大きく、予測配線長に必要な精度が出せな
いとき、必要な精度が確保可能なレベルまでそのマクロ
の階層を下げてグループ配置することにより、マクロ内
セル及び外部端子の配置範囲を限定し、予測配線長を求
めるものであることを特徴とする半導体集積回路の配線
長予測方法。
1. A wiring length prediction method for a semiconductor integrated circuit for predicting a wiring length of a standard cell layout by performing dimensional processing and wiring length processing, wherein the dimensional processing includes a chip size, a macro size in a chip,
Calculates the Manhattan distance between macros. Wiring length processing can secure the required accuracy when the estimated macro size is larger than the input error tolerance and the required accuracy cannot be obtained for the predicted wiring length. A method for estimating a wiring length of a semiconductor integrated circuit, wherein a macro wiring is reduced to a level and group arrangement is performed, thereby limiting the arrangement range of cells in a macro and external terminals and obtaining a predicted wiring length.
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