JP2803463B2 - Transfer gate transistor gate booster circuit - Google Patents
Transfer gate transistor gate booster circuitInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はトランスファゲート・ト
ランジスタのゲート電位昇圧回路に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gate potential boosting circuit for a transfer gate transistor.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来のトランスファゲート・トランジス
タのゲート昇圧回路部16bは図5に示すように、アナ
ログ入力電圧viを入力してアナログ出力電圧voを出
力しかつゲートがトランスファゲート節点N2に接続さ
れているNチャネルMOSトランジスタ2を有する太線
で示されたトランスファゲート・トランジスタ12と、
トランスファゲート選択電圧SELを入力して、節点N
3に反転信号S3Rを供給するゲート選択・電圧保護回
路14bと、選択信号SEL,反転信号S3Rを入力し
てトアンスファゲート節点N2にチャージアップされた
節点電圧S2を供給するチャージアップ回路15とを有
する。2. Description of the Related Art As shown in FIG. 5, a gate booster circuit section 16b of a conventional transfer gate transistor receives an analog input voltage vi to output an analog output voltage vo, and has a gate connected to a transfer gate node N2. A transfer gate transistor 12 shown by a bold line having an N-channel MOS transistor 2
When the transfer gate selection voltage SEL is input, the node N
3, a gate selection / voltage protection circuit 14b for supplying an inversion signal S3R to the transistor gate 3, and a charge-up circuit 15 for receiving the selection signal SEL and the inversion signal S3R and supplying the node voltage S2 charged up to the transistor gate N2. Having.
【0003】ゲート選択・電圧保護回路14bは、トラ
ンスファゲート選択電圧SELをゲート入力電圧としト
ランスファゲート節点N2と接地点GND間に接続され
たNチャネルMOS電界効果トランジスタ(以降、Nチ
ャネルトランジスタと略す)4と、チャージアップ入力
電圧S3を入力する節点N3に選択電圧SELの反転電
圧S3Rを供給するインバータINと、ドレインに電源
電圧VDが供給されソースおよびゲートが共にトランス
ファゲート節点N2に接続されているMOSトランジス
タのクランプダイオードDとを有する。The gate selection / voltage protection circuit 14b uses an N-channel MOS field effect transistor (hereinafter abbreviated as N-channel transistor) connected between the transfer gate node N2 and the ground GND using the transfer gate selection voltage SEL as a gate input voltage. 4, an inverter IN that supplies an inverted voltage S3R of the selection voltage SEL to a node N3 to which the charge-up input voltage S3 is input, a power supply voltage VD to a drain, and a source and a gate both connected to a transfer gate node N2. And a clamp diode D of a MOS transistor.
【0004】チャージアップ回路15は、ゲート節点N
2と節点N3との間にドレイン・ソースが挿入され、ゲ
ートが節点5に接続されたNチャネルトランジスタ5
と、選択電圧SELを入力して遅延時間T2を有して節
点N8に遅延電圧S8を供給するディレイ回路8と、節
点N8と節点N5との間にドレイン・ソースが挿入され
ゲートに電源電圧VDが供給され、かつしきい値VTZ
がほぼ0Vに設定されNチャネルトランジスタZと、遅
延電圧S8を入力して節点N9に遅延時間T3の遅延電
圧S9を供給する第2のディレイ回路9と、選択電圧S
ELと遅延電圧S9とを入力して節点N10にNOR電
圧を出力するNORゲート10と、節点N10とゲート
節点N2との間に挿入された容量素子Cとを有してい
る。The charge-up circuit 15 has a gate node N
N-channel transistor 5 having a drain / source inserted between node 2 and node N3 and a gate connected to node 5
And a delay circuit 8 which receives the selection voltage SEL and supplies the delay voltage S8 to the node N8 with a delay time T2, and a drain / source inserted between the node N8 and the node N5 to supply the power supply voltage VD to the gate. And the threshold VTZ
Is set to approximately 0V, an N-channel transistor Z, a second delay circuit 9 which receives a delay voltage S8 and supplies a delay voltage S9 of a delay time T3 to a node N9, and a selection voltage S
It has a NOR gate 10 that inputs the EL and the delay voltage S9 and outputs a NOR voltage to a node N10, and a capacitive element C inserted between the node N10 and the gate node N2.
【0005】図6に図5の回路の動作を説明するため
に、各信号のタイミングを示す。時点t1が含まれる期
間T1は、トランスファゲート・トランジスタ12の非
選択期間であり、Nチャネルトランジスタ4がオン状態
である為、ゲート節点電圧S2はGNDレベルである。FIG. 6 shows the timing of each signal to explain the operation of the circuit of FIG. A period T1 including the time point t1 is a non-selection period of the transfer gate transistor 12, and the gate node voltage S2 is at the GND level because the N-channel transistor 4 is on.
【0006】また、この期間の節点電圧S5は電源電圧
VDよりもNチャネルトランジスタZのしきい値VTZ
だけ低いレベル(VD−VTZ)となっているので、ト
ランジスタZはカットオフ状態となっている。In this period, the node voltage S5 is higher than the power supply voltage VD by the threshold voltage VTZ of the N-channel transistor Z.
The transistor Z is in a cut-off state because the level is only lower (VD-VTZ).
【0007】次に期間T2の始まる時点t2で、選択電
圧SELが“H”(VD)から“L”(GND)に変化
すると、インバータ回路INの反転電圧S3が“L”か
ら“H”へと変化し、同時に点線に示すNチャネルトラ
ンジスタ5のゲート・ドレイン間容量CDおよびゲート
・ソース間容量CSによって、ゲート節点N5の電圧S
5が〔(VD−VTZ)+VD〕=(2・VD−VT
Z)まで昇圧され、ゲート節点電圧S2はVDまで充電
される。Next, when the selection voltage SEL changes from "H" (VD) to "L" (GND) at a time point t2 when the period T2 starts, the inverted voltage S3 of the inverter circuit IN changes from "L" to "H". At the same time, the voltage S at the gate node N5 is changed by the gate-drain capacitance CD and the gate-source capacitance CS of the N-channel transistor 5 indicated by the dotted lines.
5 is [(VD−VTZ) + VD] = (2 · VD−VT)
Z), and the gate node voltage S2 is charged to VD.
【0008】次に選択時間T2の後は、期間T3の始ま
る時点t3にディレイ回路8の出力する遅延素子S8が
“H”から“L”へ変化すると、節点電圧S5はGND
レベルになるので、Nチャネルトランジスタ5がカット
オフ状態となる。Next, after the selection time T2, when the delay element S8 output from the delay circuit 8 changes from "H" to "L" at a time point t3 at which the period T3 starts, the node voltage S5 becomes GND.
Level, so that the N-channel transistor 5 is cut off.
【0009】続いてNOR電圧S10が“L”から
“H”へと変化し、容量素子Cを介してゲート節点電圧
S2が2・VDのレベルまでチャージアップされる。Subsequently, the NOR voltage S10 changes from "L" to "H", and the gate node voltage S2 is charged up to the level of 2.multidot.VD via the capacitive element C.
【0010】ただし、ゲート節点電圧S2は、電源電圧
VDとMOSトランジスタがダイオード接続されたクラ
ンプダイオードDのしきい値VTDの和である(VD+
VTD)に値にクランプされトランジスタ2のゲート絶
縁膜の電圧破壊を防いでいる。However, the gate node voltage S2 is the sum of the power supply voltage VD and the threshold value VTD of the clamp diode D in which a MOS transistor is diode-connected (VD +
VTD) to prevent the voltage breakdown of the gate insulating film of the transistor 2.
【0011】この場合、電源電圧VDは6V,クランプ
ダイオードDのしきい値VTDは1V,アナログ入力お
よび出力電圧vi,voが零すなわちドレインおよびソ
ースの電圧が零の場合は、ゲート節点電圧S2は7Vに
クランプされる。In this case, when the power supply voltage VD is 6 V, the threshold voltage VTD of the clamp diode D is 1 V, and the analog input and output voltages vi and vo are zero, that is, the drain and source voltages are zero, the gate node voltage S2 becomes Clamped to 7V.
【0012】[0012]
【発明が解決しようとする課題】この従来のトランスフ
ァゲート・トランジスタのゲート昇圧回路部では、トラ
ンスファゲート・トランジスタのトランスファゲート節
点電圧が電源電圧よりも高いので、ドレインおよびソー
ス電圧が低い場合にトランスファゲート・トランジスタ
のゲート酸化膜のドレインおよびソース近傍に大きな電
圧ストレスが加えられ、ゲート最大定格電圧VGMを越
える場合に、ゲート酸化膜の破壊を招くという問題があ
った。In this conventional gate booster circuit of a transfer gate transistor, the transfer gate node voltage of the transfer gate transistor is higher than the power supply voltage. -When a large voltage stress is applied to the vicinity of the drain and the source of the gate oxide film of the transistor and exceeds the gate maximum rated voltage VGM, there is a problem that the gate oxide film is broken.
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】本発明のトランスファゲ
ート・トランジスタのゲート昇圧回路は、電源電圧と接
地電位を高・低レベルとするトランスファゲート選択電
圧を入力してチャージアップ入力電圧を出力するゲート
選択・電圧保護回路と、トランスファゲート・トランジ
スタを構成するNチャネルMOS電界効果トランジスタ
のゲートに接続されているトランスファゲート節点にト
ランジスタスイッチと容量素子が接続されかつチャージ
アップ入力節点に前記チャージアップ入力電圧を入力し
て前記トランスファゲート選択電圧の高レベル分を加え
た昇圧電圧が前記トランスファゲート節点に出力される
トランスファゲート・トランジスタのゲート昇圧回路に
おいて、前記ゲート選択・電圧保護回路は、ゲートが前
記トランスファゲート選択電圧を入力しドレインが前記
トランスファゲート節点に接続されソースが接地される
NチャネルMOS電界効果トランジスタと、前記トラン
スファゲート・トランジスタのアナログ入力電圧入力端
子と接地電位点との間に挿入された第2のトランスファ
ゲート・トランジスタと前記チャージアップ入力節点と
プルダウン用のNチャネルMOS電界効果トランジスタ
との直列回路とを有して構成されている。According to the present invention, a gate booster circuit for a transfer gate transistor receives a transfer gate selection voltage for setting a power supply voltage and a ground potential to a high or low level, and outputs a charge-up input voltage. A selection / voltage protection circuit, a transistor switch and a capacitor connected to a transfer gate node connected to the gate of an N-channel MOS field effect transistor constituting the transfer gate transistor, and a charge-up input voltage connected to a charge-up input node. , And a boosted voltage obtained by adding a high level of the transfer gate selection voltage to the transfer gate node, the gate boosting circuit of the transfer gate transistor, Get An N-channel MOS field-effect transistor having a drain connected to the transfer gate node and having a source grounded, and inserted between an analog input voltage input terminal of the transfer gate transistor and a ground potential point. It comprises a second transfer gate transistor, a series circuit of the charge-up input node and an N-channel MOS field-effect transistor for pull-down.
【0014】さらに本発明のトランスファゲート・トラ
ンジスタのゲート昇圧回路は、電源電圧と接地電位を高
・低レベルとするトランスファゲート選択電圧を入力し
てチャージアップ入力電圧を出力するゲート選択・電圧
保護回路と、トランスファゲート・トランジスタを構成
するNチャネルMOS電界効果トランジスタのゲートに
接続されているトランスファゲート節点にトランジスタ
スイッチと容量素子が接続されかつチャージアップ入力
節点に前記チャージアップ入力電圧を入力して前記トラ
ンスファゲート選択電圧の高レベル分を加えた昇圧電圧
が前記トランスファゲート節点に出力されるトランスフ
ァゲート・トランジスタのゲート昇圧回路において、前
記ゲート選択・電圧保護回路は、ゲートが前記トランス
ファゲート選択電圧を入力しドレインが前記トランスフ
ァゲート節点に接続されソースが接地されるNチャネル
MOS電界効果トランジスタと、前記電源電圧の端子の
接地電位点との間に挿入されたゲートが前記トランスフ
ァゲート・トランジスタのアナログ入力電圧入力端子に
接続され低しきい値を有するNチャネルMOS電界効果
トランジスタと第2のトランスファゲート・トランジス
タと前記チャージアップ入力節点とプルダウン用のNチ
ャネルMOS電界効果トランジスタとの直列回路とを有
して構成されている。Further, the gate boosting circuit of the transfer gate transistor according to the present invention is a gate selection / voltage protection circuit for inputting a transfer gate selection voltage for setting a power supply voltage and a ground potential to high and low levels and outputting a charge-up input voltage. A transistor switch and a capacitive element are connected to a transfer gate node connected to a gate of an N-channel MOS field effect transistor forming a transfer gate transistor, and the charge-up input voltage is input to a charge-up input node. In a gate boosting circuit of a transfer gate transistor in which a boosted voltage obtained by adding a high level of the transfer gate selection voltage is output to the transfer gate node, the gate selection and voltage protection circuit may be configured such that a gate is connected to the transfer gate selection voltage. And an N-channel MOS field-effect transistor whose drain is connected to the transfer gate node and whose source is grounded, and a gate inserted between a ground potential point of the power supply terminal and an analog of the transfer gate transistor An N-channel MOS field-effect transistor having a low threshold connected to an input voltage input terminal, a second transfer gate transistor, a series circuit of the charge-up input node and an N-channel MOS field-effect transistor for pull-down are provided. It is configured.
【0015】[0015]
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。図1は本発明の第1の実施例の回路図である。本実
施例のゲート昇圧回路部16は、図5のゲート選択・電
圧保護回路16bを一部変更したゲート選択回路・電圧
保護回路14を有し、トランスファゲート・トランジス
タ12とチャージアップ回路15は全く同一構成であ
る。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a circuit diagram of a first embodiment of the present invention. The gate booster circuit section 16 of the present embodiment has a gate selection circuit / voltage protection circuit 14 in which the gate selection / voltage protection circuit 16b of FIG. 5 is partially modified, and the transfer gate transistor 12 and the charge-up circuit 15 are completely different. They have the same configuration.
【0016】ゲート選択・電圧保護回路14は、ゲート
がトランスファゲート選択電圧SELを入力するNチャ
ネルトランジスタ4と、アナログ電圧入力端子INと接
地電位点間に第2のトランスファゲート・トランジスタ
13とチャージアップ入力節点N3を介してプルダウン
用のNチャネルトランジスタ6を直列に挿入している。
そしてトランジスタ6のゲートは選択電圧SELを入力
している。The gate selection / voltage protection circuit 14 has an N-channel transistor 4 whose gate inputs a transfer gate selection voltage SEL, a second transfer gate transistor 13 between the analog voltage input terminal IN and the ground potential, and charge-up. An N-channel transistor 6 for pull-down is inserted in series via an input node N3.
The gate of the transistor 6 receives the selection voltage SEL.
【0017】図2に図1の回路の動作を説明するための
各電圧のタイミング図を示す。前述の図6と同様に期間
T1はトランスファゲートトランジスタ12の非選択期
間であり、この期間の動作は前述の従来の図5の回路の
動作と同様である。FIG. 2 is a timing chart of each voltage for explaining the operation of the circuit of FIG. As in FIG. 6 described above, the period T1 is a non-selection period of the transfer gate transistor 12, and the operation in this period is the same as the operation of the conventional circuit of FIG.
【0018】次に期間T2において、トランスファゲー
ト選択電圧SELが“H”から“L”へと変化すると、
Nチャネルトランジスタ4,6が共にオフし、Pチャネ
ルトランジスタ3およびNチャネルトランジスタ5がオ
ンする。Next, in the period T2, when the transfer gate selection voltage SEL changes from "H" to "L",
N-channel transistors 4 and 6 are both turned off, and P-channel transistor 3 and N-channel transistor 5 are turned on.
【0019】従って、節点N3のチャージアップ入力電
圧S3がアナログ電圧viとほぼ同電位となり、同時に
点線に示すNチャネルトランジスタ5のゲート・ドレイ
ン間容量CDおよびゲート・ソース間容量CSにより、
節点電圧S5が(VD−VTZ+vi)まで昇圧され、
ゲート節点電圧S2はアナログ入力電圧viまで充電さ
れる。Accordingly, the charge-up input voltage S3 at the node N3 becomes substantially the same potential as the analog voltage vi, and at the same time, the gate-drain capacitance CD and the gate-source capacitance CS of the N-channel transistor 5 indicated by the dotted lines indicate
The node voltage S5 is boosted to (VD-VTZ + vi),
The gate node voltage S2 is charged to the analog input voltage vi.
【0020】次に期間T3の開始時点t3に、ディレイ
回路8の出力する遅延電圧S8が“H”から“L”への
変化すると、節点電圧S5がGNDレベルになる為、N
チャネルトランジスタ5がカットオフ状態となる。Next, when the delay voltage S8 output from the delay circuit 8 changes from "H" to "L" at the start time t3 of the period T3, the node voltage S5 becomes GND level.
Channel transistor 5 is cut off.
【0021】続いてNORゲート10の出力するNOR
電圧S10が“L”から“H”へと変化し、容量素子C
を介してゲート節点電圧S2がほぼ(vi+VD)まで
昇圧される。Subsequently, the NOR output from the NOR gate 10
The voltage S10 changes from “L” to “H” and the capacitance element C
, The gate node voltage S2 is boosted to approximately (vi + VD).
【0022】以上説明してきたように、本実施例により
トランスファゲート節点電圧S2のチャージアップ時
に、トランスファゲート・トランジスタ12を構成して
いるNチャネルMOSトランジスタ2のゲート・ドレイ
ン間電圧およびゲート・ソース間電圧は、アナログ入力
電圧viの値にかかわらず常に電源電圧の約VDに保た
れる。従ってゲート酸化膜には定格値VGM以上のスト
レスが加わることがない為、ゲート酸化膜の破壊等を防
ぐことができる。As described above, according to the present embodiment, when the transfer gate node voltage S2 is charged up, the gate-drain voltage and the gate-source voltage of the N-channel MOS transistor 2 constituting the transfer gate transistor 12 are increased. The voltage is always kept at about VD of the power supply voltage regardless of the value of the analog input voltage vi. Therefore, since a stress higher than the rated value VGM is not applied to the gate oxide film, destruction of the gate oxide film and the like can be prevented.
【0023】図3は本発明の第2の実施例の回路図であ
る。図1に示した第1の実施例のものとの相異点は、ト
ランスファゲート節点電圧S2をアナログ入力電圧vi
にチャージアップする為の手段として、ドレインが電源
電圧VDが供給されソースが第2のトランスファゲート
・トランジスタ13の電圧入力端に接続され、ゲートが
アナログ入力電圧端子INに接続されかつしきい値電圧
VTzが零に近い値に設定されたNチャネルMOSトラ
ンジスタzを有する点である。FIG. 3 is a circuit diagram of a second embodiment of the present invention. The difference from the first embodiment shown in FIG. 1 is that the transfer gate node voltage S2 is changed to the analog input voltage vi.
As a means for charging up, the drain is supplied with the power supply voltage VD, the source is connected to the voltage input terminal of the second transfer gate transistor 13, the gate is connected to the analog input voltage terminal IN, and the threshold voltage is applied. VTz has an N-channel MOS transistor z set to a value close to zero.
【0024】図4に図3の回路の動作を説明するための
各信号のタイミング図を示す。第1の実施例の回路の動
作と異なる点は、期間T2にゲート節点電圧S2(vi
−VTz)にチャージアップされる点である。FIG. 4 is a timing chart of each signal for explaining the operation of the circuit of FIG. The difference from the operation of the circuit of the first embodiment is that the gate node voltage S2 (vi
−VTz).
【0025】本実施例は第1の実施例と同様に、トラン
スファゲート・トランジスタのゲート酸化膜の破壊等を
防ぐことができる。In the present embodiment, as in the first embodiment, the gate oxide film of the transfer gate transistor can be prevented from being destroyed.
【0026】[0026]
【発明の効果】以上説明したように本発明は、トランス
ファゲート・トランジスタに供給されるトランスファゲ
ート節点電圧をチャージアップ時に、常にトランスファ
ゲート・トランジスタのゲート・ドレイン間電圧および
ゲート・ソース間電圧を電源電圧以下に抑えることがで
きるので、トランスファゲート・トランジスタのゲート
酸化膜のドレイン近傍およびソース近傍に必要以上のス
トレスを加えない為、ゲート酸化膜の破壊を防げるとい
う効果を有する。As described above, according to the present invention, when the transfer gate node voltage supplied to the transfer gate transistor is charged up, the gate-drain voltage and the gate-source voltage of the transfer gate transistor are always supplied to the power supply. Since the voltage can be suppressed to the voltage or less, unnecessary stress is not applied to the vicinity of the drain and the source of the gate oxide film of the transfer gate transistor, so that the gate oxide film can be prevented from being broken.
【図1】本発明の第1の実施例の回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram of a first embodiment of the present invention.
【図2】図1の回路の動作を説明するための各信号のタ
イミング図である。FIG. 2 is a timing chart of each signal for explaining the operation of the circuit of FIG. 1;
【図3】本発明の第2の実施例の回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram of a second embodiment of the present invention.
【図4】図3の回路の動作を説明するための各信号のタ
イミング図である。FIG. 4 is a timing chart of each signal for explaining the operation of the circuit of FIG. 3;
【図5】従来のトランスファゲートトランジスタのゲー
ト昇圧回路の一例の回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram of an example of a conventional gate booster circuit of a transfer gate transistor.
【図6】図5の回路の動作を説明するための各信号のタ
イミング図である。FIG. 6 is a timing chart of each signal for explaining the operation of the circuit of FIG. 5;
1,3 PチャネルMOSトランジスタ 2,4〜7 NチャネルMOSトランジスタ 8,9 ディレイ回路 10 NORゲート Z,Z1 低しきい値NチャネルMOSトランジスタ 12 トランスファゲート・トランジスタ 13 第2のトランスファゲート・トランジスタ 14,14a ゲート選択・電圧保護回路 15 チャージアップ回路 16 ゲート昇圧回路 IN アナログ電圧入力端子 C 容量素子 CD,CS 寄生容量 NOR NORゲート N2 トランスファゲート節点 N3 チャージアップ入力節点 N5,N8,N10 節点 S2 トランスファゲート節点電圧 S3 チャージアップ入力電圧 S5 節点電圧 S8,S10 遅延電圧 S10 NOR電圧 SEL トランスファゲート選択電圧 GND 接地点電位 OUT アナログ電圧出力端子 VD 電源電圧 vi アナログ入力電圧 vo アナログ出力電圧 1,3 P-channel MOS transistor 2,4-7 N-channel MOS transistor 8,9 delay circuit 10 NOR gate Z, Z1 low threshold N-channel MOS transistor 12 transfer gate transistor 13 second transfer gate transistor 14, 14a Gate selection / voltage protection circuit 15 Charge-up circuit 16 Gate booster circuit IN Analog voltage input terminal C Capacitance element CD, CS Parasitic capacitance NOR NOR gate N2 Transfer gate node N3 Charge-up input node N5, N8, N10 Node S2 Transfer gate node Voltage S3 Charge-up input voltage S5 Node voltage S8, S10 Delay voltage S10 NOR voltage SEL Transfer gate selection voltage GND Ground potential OUT Analog voltage output terminal VD Source voltage vi analog input voltage vo analog output voltage
Claims (2)
るトランスファゲート選択電圧を入力してチャージアッ
プ入力電圧を出力するゲート選択・電圧保護回路と、ト
ランスファゲート・トランジスタを構成するNチャネル
MOS電界効果トランジスタのゲートに接続されている
トランスファゲート節点にトランジスタスイッチと容量
素子が接続されかつチャージアップ入力節点に前記チャ
ージアップ入力電圧を入力して前記トランスファゲート
選択電圧の高レベル分を加えた昇圧電圧が前記トランス
ファゲート節点に出力されるトランスファゲート・トラ
ンジスタのゲート昇圧回路において、前記ゲート選択・
電圧保護回路は、ゲートが前記トランスファゲート選択
電圧を入力しドレインが前記トランスファゲート節点に
接続されソースが接地されるNチャネルMOS電界効果
トランジスタと、前記トランスファゲート・トランジス
タのアナログ入力電圧入力端子と接地電位点との間に挿
入された第2のトランスファゲート・トランジスタと前
記チャージアップ入力節点とプルダウン用のNチャネル
MOS電界効果トランジスタとの直列回路とを有するこ
とを特徴とするトランスファゲート・トランジスタのゲ
ート昇圧回路。1. A gate selection / voltage protection circuit for inputting a transfer gate selection voltage for setting a power supply voltage and a ground potential to a high / low level and outputting a charge-up input voltage, and an N-channel MOS constituting a transfer gate / transistor A transistor switch and a capacitance element are connected to a transfer gate node connected to the gate of the field effect transistor, and the charge-up input voltage is input to a charge-up input node, and the booster is added by a high level of the transfer gate selection voltage. In a gate booster circuit of a transfer gate transistor in which a voltage is output to the transfer gate node,
The voltage protection circuit includes an N-channel MOS field-effect transistor having a gate inputting the transfer gate selection voltage, a drain connected to the transfer gate node and a source grounded, an analog input voltage input terminal of the transfer gate transistor and a ground. A gate of a transfer gate transistor, comprising: a second transfer gate transistor inserted between the potential point and a series circuit of the charge-up input node and an N-channel MOS field-effect transistor for pull-down. Boost circuit.
るトランスファゲート選択電圧を入力してチャージアッ
プ入力電圧を出力するゲート選択・電圧保護回路と、ト
ランスファゲート・トランジスタを構成するNチャネル
MOS電界効果トランジスタのゲートに接続されている
トランスファゲート節点にトランジスタスイッチと容量
素子が接続されかつチャージアップ入力節点に前記チャ
ージアップ入力電圧を入力して前記トランスファゲート
選択電圧の高レベル分を加えた昇圧電圧が前記トランス
ファゲート節点に出力されるトランスファゲート・トラ
ンジスタのゲート昇圧回路において、前記ゲート選択・
電圧保護回路は、ゲートが前記トランスファゲート選択
電圧を入力しドレインが前記トランスファゲート節点に
接続されソースが接地されるNチャネルMOS電界効果
トランジスタと、前記電源電圧の端子の接地電位点との
間に挿入されたゲートが前記トランスファゲート・トラ
ンジスタのアナログ入力電圧入力端子に接続され低しき
い値を有するNチャネルMOS電界効果トランジスタと
第2のトランスファゲート・トランジスタと前記チャー
ジアップ入力節点とプルダウン用のNチャネルMOS電
界効果トランジスタとの直列回路とを有することを特徴
とするトランスファゲート・トランジスタのゲート昇圧
回路。2. A gate selection / voltage protection circuit for inputting a transfer gate selection voltage for setting a power supply voltage and a ground potential to a high / low level and outputting a charge-up input voltage, and an N-channel MOS constituting a transfer gate transistor A transistor switch and a capacitance element are connected to a transfer gate node connected to the gate of the field effect transistor, and the charge-up input voltage is input to a charge-up input node, and the booster is added by a high level of the transfer gate selection voltage. In a gate booster circuit of a transfer gate transistor in which a voltage is output to the transfer gate node,
The voltage protection circuit is provided between an N-channel MOS field-effect transistor whose gate receives the transfer gate selection voltage, whose drain is connected to the transfer gate node and whose source is grounded, and the ground potential point of the power supply voltage terminal. An inserted gate is connected to an analog input voltage input terminal of the transfer gate transistor, an N-channel MOS field effect transistor having a low threshold value, a second transfer gate transistor, the charge-up input node, and an N for pull-down. A gate boosting circuit for a transfer gate transistor, comprising a series circuit with a channel MOS field effect transistor.
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