JP2803053B2 - エポキシ樹脂組成物及び半導体封止装置 - Google Patents

エポキシ樹脂組成物及び半導体封止装置

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Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、明るい明度を有するとともに色ムラのない
外観特性に優れたエポキシ樹脂組成物、及び該樹脂組成
物により封止された半導体封止装置に関する。
(従来の技術) 近年、半導体装置の封止方法は、金属もしくはセラミ
ックによるハーメチック方式に代って、エポキシ樹脂組
成物で樹脂封止をする方法が主流となっている。樹脂封
止の方法が主流となった理由は、エポキシ樹脂組成物が
特性、量産性、信頼性、価格面などで優れているためで
あるが、多くは黒色あるいは明度の比較的暗いものが使
用されていた。かかる黒色の樹脂封止用エポキシ樹脂組
成物では、エポキシ樹脂、ノボラック型フェノール樹脂
等を主成分とし、それぞれを粉砕して常温で結合し、さ
らに90〜95℃程度で混練して冷却した後、粉砕して得た
成形材料が好適である。ところが、光半導体素子では、
透明なものや、白色、緑色等の外観特性のよい黒以外の
色相のものが必要であるとともに、最近はハイレベルの
特性が要求されている。
(発明が解決しようとする課題) 外観が白色のフォトカプラ等では、エポキシ樹脂とノ
ボラック型フェノール樹脂とを前記常法で混合・混練し
た従来の半導体封止用樹脂組成物では、半導体装置表面
における色ムラの発生という問題がある。すなわち、従
来の組成物中には未反応のノボラック型フェノール樹脂
がかなり残存しており、加熱すると空気中の酸素によっ
て酸化され黒褐色に変化するから、封止工程において成
形後加熱すると、半導体装置表面の未反応ノボラック型
フェノール樹脂が酸化され黒褐色となり色ムラとなるの
である。エポキシ樹脂とノボラック型フェノール樹脂と
の組成物では、それらの混合が十分でないと特に色ムラ
が顕著となる傾向がある。このように外観が黒色である
半導体装置では問題とならなかった色ムラが、黒色以外
の白色、緑色、透明等の外観の半導体装置では問題とな
ってきた。
本発明は、上記の欠点・問題点を解消・解決するため
になされたもので、色ムラがなく外観特性に優れ、黒色
以外の白色、緑色、透明等外観を有する装置に好適なエ
ポキシ樹脂組成物、および同様な長所を有する半導体封
止装置を提供しようとするものである。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明者は、上記の目的を達成しようと鋭意研究を重
ねた結果、後述の組成物が上記目的を満足させることが
できることを見いだし本発明を完成したものである。
すなわち、本発明は、 (A)エポキシ樹脂中に、ノボラック型フェノール樹脂
を、実質的に空気遮断状態で均一に溶解したフェノール
変性エポキシ樹脂、及び (B)無機質充填剤 を必須成分とし、前記(B)無機質充填剤を樹脂組成物
に対して25〜90重量%の割合に含有することを特徴とす
るエポキシ樹脂組成物、およびその樹脂組成物で封止し
た半導体封止装置である。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の(A)フェノール変性エポキシ樹脂は、エポ
キシ樹脂中にノボラック型フェノール樹脂を実質的に空
気遮断状態で均一に溶解しものである。ここで用いるエ
ポキシ樹脂としては、その分子中にエポキシ基を少なく
とも2個有する化合物である限り、分子構造、分子量な
どに特に限定はなく、一般に使用されているエポキシ樹
脂を広く包含することができる。例えばビスフェノール
型の芳香族系、シクロヘキサン誘導体等の脂環族系、さ
らに次の一般式で示されるエポキシノボラック系等の樹
脂が挙げられる。
(但し、式中R1は水素原子、ハロゲン原子又はアルキル
基を、R2は水素原子又はアルキル基を、nは1以上の整
数をそれぞれ表す) これらのエポキシ樹脂は単独又は2種以上混合して使
用することができる。
またノボラック型フェノール樹脂としては、フェノー
ル、アルキルフェノール等のフェノール類とホルムアル
デヒドあるいはパラホルムアルデヒドを反応させて得ら
れるノボラック型フェノール樹脂およびこれらの変性樹
脂、例えばエポキシ化もしくはブチル化ノボラック型フ
ェノール樹脂等が挙げられ、これらは単独又は2種以上
混合して使用することができる。溶解をするノボラック
型フェノール樹脂の割合は、エポキシ樹脂のエポキシ基
(X)とノボラック型フェノール樹脂のフェノール性水
酸基(Y)とのモル比[(X)/(Y)]が0.1〜10の
範囲内にあることが望ましい。このモル比が0.1未満も
しくは10を超えると、耐湿性、成形作業性および硬化物
の電気特性が悪くなりいずれの場合も好ましくない。
エポキシ樹脂中にノボラック型フェノール樹脂を実質
的に空気遮断状態で均一に溶解するには、(i)窒素、
アルゴン等の不活性ガス雰囲気中で50℃以上に加熱溶解
し均一に溶解するか、(ii)100Torr以下の減圧下で50
℃以上に加熱溶融し均一に溶解する。また、(iii)常
温においてメチルイソブチルケトン等の溶剤にエポキシ
樹脂を溶解し、次にノボラック型フェノール樹脂を加え
て均一に溶解し、その後100Torr以下に減圧し50℃以上
に加熱し溶剤を除去して得ることができる。エポキシ樹
脂にノボラック型フェノール樹脂を均一に溶解する方法
は、(i)ないし(iii)の組合せあるいはそれらに準
ずるいかなる方法でもよい。
本発明に使用する(B)無機質充填剤としては、シリ
カ粉末、アルミナ、タルク、三酸化アンチモン、炭酸カ
ルシウム、チタンホワイト、クレー、マイカ、ベンガラ
等が挙げられ、これらは単独もしくは2種以上混合して
用いる。無機質充填剤の配合割合は、樹脂組成物に対し
て25〜90重量%含有することが望ましい。その割合が25
重量%未満では、耐湿性、耐熱性および機械的特性更に
成形性に劣り好ましくない。また、90重量%を超えると
カサバリが大きくなり成形性が悪く実用に適さない。
本発明のエポキシ樹脂組成物は、フェノール変性エポ
キシ樹脂及び無機質充填剤を必須成分とするが、必要に
応じて例えば天然ワックス類、合成ワックス類、直鎖脂
肪族酸の金属塩、酸アミド、エステル類、パラフィン類
等の離型剤、塩素化パラフィン、ブロムトルエン、ヘキ
サブロムベンゼン、三酸化アンチモン等の難燃剤、チタ
ンホワイト等の着色剤、シランカップリング剤、硬化促
進剤などを適宜添加配合することもできる。
本発明のエポキシ樹脂組成物および半導体封止装置
は、次のようにして製造することができる。フェノール
変性エポキシ樹脂、無機質充填剤、その他の成分を配合
し、ミキサー等によって十分均一に混合した後、さらに
熱ロールによる溶融混合処理又はニーダ等による混合処
理を行い、次いで冷却固化させ、適当な大きさに粉砕し
てエポキシ樹脂組成物とした。この組成物を用いて、低
圧トランスファー成形や、インジェクション成形、圧縮
成形、注型等によって容易に封止して半導体封止装置を
製造することができる。ここでいう半導体封止装置と
は、例えばフォトカプラ、フォトトランジスタ等であっ
て、外観が黒色以外の半導体装置であり、特に限定され
るものではない。
(実施例) 次に本発明を実施例によって具体的に説明するが、本
発明は以下の実施例に限定されるものではない。以下、
実施例および比較例において「%」とは「重量%」を意
味する。
実施例 1 クレゾールノボラックエポキシ樹脂(エポキシ当量21
5)64%と、ノボラック型フェノール樹脂36%を、130
℃,10Torrの窒素雰囲気中で撹拌混合し、完全にノボラ
ック型フェノール樹脂を溶解した後、10Torrのまま冷却
し、常圧に戻して粉砕しフェノール変性エポキシ樹脂を
得た。次のこのフェノール変性エポキシ樹脂28%、シリ
カ粉末66%、チタンホワイト5%および高級脂肪酸エス
テル1%を常温で混合し、さらに90〜95℃で混練して冷
却後、粉砕してエポキシ樹脂組成物を製造した。この組
成物をタブレット化し、予熱してトランスファー成形で
170℃に加熱した金型内に注入し硬化させた。その後175
℃で10時間加熱処理をして半導体封止装置を製造した。
実施例 2 クレゾールノボラックエポキシ樹脂(エポキシ当量21
5)64%をメチルイソブチルケトン36%に溶解した。こ
の溶液に36%のノボラック型フェノール樹脂を加えて撹
拌混合して完全に溶解させる。その後、100℃,10Torrの
条件でメチルイソブチルケトンを除去し、10Torrの状態
で冷却し、常圧に戻して粉砕してフェノール変性エポキ
シ樹脂を得た。以下、実施例1と同一にしてエポキシ樹
脂組成物を得て、次いで半導体封止装置を製造した。
比較例 クレゾールノボラックエポキシ樹脂(エポキシ当量21
5)18%、ノボラック型フェノール樹脂10%、シリカ粉
末66%、チタンホワイト5%および高級脂肪酸エステル
1%を混合し、以下実施例1と同一にしてエポキシ樹脂
組成物を得、また半導体封止装置を製造した。
実施例1〜2および比較例で製造した半導体封止装置
を、目視で外観テストを行った。その結果を第1表に示
したが本発明は色ムラがなく、本発明の顕著な効果が確
認された。
[発明の効果] 以上の説明および第1表から明らかなように、本発明
のエポキシ樹脂組成物は、色ムラがなく外観特性に優れ
たもので、白色や緑色又透明等黒色以外の半導体装置の
封止に好適である。また、このエポキシ樹脂組成物で封
止する半導体封止装置の発明によれば、外装の明度が明
るくて外観に優れ、信頼性の高い半導体封止装置を製造
することができる。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C08L 63/00 - 63/10 C08G 59/62 H01L 23/29

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(A)エポキシ樹脂中に、ノボラック型フ
    ェノール樹脂を、実質的に空気遮断状態で均一に溶解し
    たフェノール変性エポキシ樹脂、及び (B)無機質充填剤 を必須成分とし、前記(B)無機質充填剤を樹脂組成物
    に対して25〜90重量%の割合に含有することを特徴とす
    るエポキシ樹脂組成物。
  2. 【請求項2】(A)エポキシ樹脂中に、ノボラック型フ
    ェノール樹脂を、実質的に空気遮断状態で均一に溶解し
    たフェノール変性エポキシ樹脂、及び (B)無機質充填剤 を必須成分とし、前記(B)の無機質充填剤を樹脂組成
    物に対して25〜90重量%の割合に含有するエポキシ樹脂
    組成物で封止したことを特徴とする半導体封止装置。
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