JP2796573B2 - Liquid crystal display - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は高分子フィルム基板を用いた液晶表示装置に
関するものである。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a liquid crystal display device using a polymer film substrate.
一般に液晶セルへの液晶の注入には気圧差を利用した
真空封入方式が使用されている。この真空封入方式は、
真空ベルジャー内にセルと液晶をセットし、ベルジャー
内を真空度が0.1torr以下になるまで減圧し、セルの注
入口部を液晶中に浸した後、ベルジャー内を大気圧に戻
して液晶注入を行なう方法である。Generally, a vacuum encapsulation method utilizing a pressure difference is used for injecting liquid crystal into a liquid crystal cell. This vacuum sealing method
Set the cell and liquid crystal in the vacuum bell jar, depressurize the inside of the bell jar until the degree of vacuum becomes 0.1 torr or less, immerse the cell inlet into the liquid crystal, return the inside of the bell jar to atmospheric pressure, and inject the liquid crystal. The way to do it.
一方、最近では液晶表示素子の薄型化、軽量化、加工
の容易性、低コスト化等の点から、液晶セルの構成基板
としてポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエーテルサルフォン等の高分子フィルム基板が盛んに
使用されてきている。On the other hand, in recent years, polymer film substrates such as polyester, polyethylene terephthalate, and polyether sulfone have become popular as liquid crystal cell constituent substrates in view of thinning, weight reduction, ease of processing, and cost reduction of liquid crystal display elements. Has been used for
ところが、高分子フィルム基板はガラス基板に比べて
ガス透過性が高いため、上記のように真空封入方式を用
いて液晶を注入する場合、ベルジャー内を大気圧に戻す
時、セル内に液晶が封入される前に基板面から気体がリ
ークし気泡が発生するという問題が生じる。液晶セルが
時計表示用等の小さいセルの場合には基板面から気体が
リークする前に液晶が封入され気泡が発生することはな
く、また発生したとしても一日後には気泡が拡散し、消
失してしまう。しかし、セルが大きくなると気泡も大き
くなり、セルを放置しても気泡は消失しなくなる。However, since the polymer film substrate has higher gas permeability than the glass substrate, when injecting liquid crystal using the vacuum encapsulation method as described above, the liquid crystal is enclosed in the cell when returning the bell jar to atmospheric pressure. This causes a problem that gas leaks from the substrate surface before the formation and bubbles are generated. If the liquid crystal cell is a small cell such as a clock display, the liquid crystal is sealed before the gas leaks from the substrate surface and no bubbles are generated, and even if it occurs, the bubbles diffuse and disappear after one day Resulting in. However, the larger the cell, the larger the bubble, and the bubble does not disappear even when the cell is left.
このような気泡の発生は液晶表示装置の表示品質低下
の原因となるため、これまで気泡の発生を防止するため
にいくつかの提案がなされている。Since generation of such bubbles causes deterioration of display quality of the liquid crystal display device, some proposals have been made so far to prevent generation of bubbles.
例えば、特開昭61−69027号公報、同61−69028号公報
には、高分子フィルム基板のガス透過性を改良するため
に、高分子フィルムの表面に低透過性の有機膜をコーテ
ィングしたり、別の有機フィルムを貼り合わせたりする
ことにより、ガスバリヤー性を向上させる技術が提案さ
れている。しかしながら、有機膜コーティング、有機フ
ィルム貼り合せの方法では、セルの熱衝撃時の気泡発
生、高温・高湿保存テスト時の気泡混入、電流値増加等
の問題は改善されるが、大面積セルの注入気泡(液晶注
入時における基板面からの透過による気泡発生)は改善
されない。For example, JP-A-61-69027 and JP-A-61-69028 disclose that a polymer film surface is coated with a low-permeability organic film in order to improve the gas permeability of the polymer film substrate. A technique for improving gas barrier properties by laminating another organic film or the like has been proposed. However, the methods of organic film coating and organic film bonding can solve the problems such as generation of air bubbles at the time of thermal shock of cells, mixing of air bubbles at the time of high-temperature and high-humidity storage test, and increase of current value. The injected bubble (the generation of bubbles due to transmission from the substrate surface during liquid crystal injection) is not improved.
また、特公昭62−61124号公報には、高分子フィルム
基板と透明導電膜の間に絶縁性酸化物被膜を形成するこ
とにより、透明導電膜の密着補強あるいは水分や各種ガ
スの透過性を改良する技術が提案されている。しかしな
がら、この方法では、高分子フィルム基板の片面にのみ
複数の膜が形成されることになり、製造プロセス上の熱
によってカールが発生し、生産性が低下するという問題
がある。Japanese Patent Publication No. 62-124124 discloses that an insulating oxide film is formed between a polymer film substrate and a transparent conductive film to improve the adhesion of the transparent conductive film or improve the permeability of moisture and various gases. A technology to do this has been proposed. However, in this method, a plurality of films are formed only on one side of the polymer film substrate, and there is a problem that curl is generated due to heat in a manufacturing process and productivity is reduced.
本発明は、以上のような従来技術の問題点を解決すべ
くなされたものであって、液晶セルを大きくしても液晶
注入時に発生する基板面からのリークによる気泡発生が
極めて少なく表示品質の優れた、高分子フィルム基板を
用いた液晶表示装置を提供することを目的とする。The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems of the prior art. Even if the liquid crystal cell is enlarged, the generation of bubbles due to leakage from the substrate surface generated at the time of liquid crystal injection is extremely small and the display quality is reduced. An object is to provide an excellent liquid crystal display device using a polymer film substrate.
上記目的を達成するため、本発明によれば、内面に透
明導電膜を有する構成基板のうち少なくとも1枚以上が
高分子フィルム基板からなり、基板間に液晶が封入され
た液晶セルを具備して構成される液晶表示装置におい
て、前記高分子フィルム基板の外面に200Å以上の膜厚
を有する金属酸化物被膜が形成され、該高分子フィルム
基板の酸素透過量が1cc/m2/24hour/latom/20℃以下であ
ることを特徴とする液晶表示装置が提供される。In order to achieve the above object, according to the present invention, at least one or more of the constituent substrates having a transparent conductive film on the inner surface thereof is composed of a polymer film substrate, and a liquid crystal cell having liquid crystal sealed between the substrates is provided. in configured liquid crystal display device, the polymer film metal oxide coating having a film thickness of at least 200Å on the outer surface of the substrate is formed, oxygen permeability of the polymer film substrate 1cc / m 2 / 24hour / latom / A liquid crystal display device having a temperature of 20 ° C. or lower is provided.
以下本発明を図面を参照して詳述する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
第1図は本発明による液晶表示装置の一構成例を模式
的に示す断面図である。図中1,1′は高分子フィルム基
板であり、例えば、一軸延伸もしくは二軸延伸のポリエ
チレンテレフタレートフィルム、ポリサルフォンフィル
ム、ポリエーテルサルフォンフィルム、ポリカーボネー
トフィルム、セルローストリアセテートフィルム等が使
用される。高分子フィルム基板1,1′は上記のようなフ
ィルムを単独で用いたものでもよいし、密着性を改善す
るためにアンダーコート層、保護膜等を設けた複合基板
としてもよい。高分子フィルム基板1,1′の内面には表
示電極用の透明導電膜(ITO膜)2,2′が形成され、さら
にその上には配向膜4,4′が形成され配向処理が施して
ある。高分子フィルム基板1,1′の外面には金属酸化物
からなり200Å以上の膜厚を有するガスバリヤー層3,3′
が形成され、酸素透過量が1cc/m2/24hour/latom/20℃以
下となるようにしてある。このガスバリヤー層3,3′の
構成材料としては、SiO2、SnO2、In2O3、ITO、TiO2、Al
2O3、ZnO、Ta2O5等の金属酸化物が用いられる。ガスバ
リヤー層3,3′の膜厚は使用する材料の透過率との兼合
いで200Å以上の適宜の値に設定される。厚膜が200Åよ
り小さくなると十分なガスバリヤー性が得られなくなっ
てしまう。一方の面に透明導電膜2,2′及び配向膜4,4′
が形成され他方の面にガスバリヤー層3,3′が形成され
た一対の高分子フィルム基板1,1′は、両基板間にギャ
ップ剤5を分散させた後、周囲にシール材5を印刷して
貼り合わされる。そしてこれらにより形成される空間に
前述の真空封入方式により液晶7が封入され、液晶表示
装置が構成される。FIG. 1 is a sectional view schematically showing one configuration example of a liquid crystal display device according to the present invention. In the figure, reference numerals 1 and 1 'denote polymer film substrates, for example, uniaxially or biaxially stretched polyethylene terephthalate film, polysulfone film, polyethersulfone film, polycarbonate film, cellulose triacetate film and the like. The polymer film substrates 1 and 1 'may use the above-described film alone or may be a composite substrate provided with an undercoat layer, a protective film and the like in order to improve adhesion. Transparent conductive films (ITO films) 2 and 2 'for display electrodes are formed on the inner surfaces of the polymer film substrates 1 and 1', and alignment films 4 and 4 'are further formed thereon. is there. Gas barrier layers 3, 3 'made of metal oxide and having a thickness of 200 mm or more on the outer surfaces of the polymer film substrates 1, 1'.
There is formed, the oxygen permeation amount are set to be 1cc / m 2 / 24hour / latom / 20 ℃ or less. The constituent material of the gas barrier layer 3,3 ', SiO 2, SnO 2 , In 2 O 3, ITO, TiO 2, Al
Metal oxides such as 2 O 3 , ZnO, and Ta 2 O 5 are used. The thickness of the gas barrier layers 3, 3 'is set to an appropriate value of 200 ° or more in consideration of the transmittance of the material used. If the thickness is smaller than 200 °, sufficient gas barrier properties cannot be obtained. On one surface, the transparent conductive films 2, 2 'and the alignment films 4, 4'
A pair of polymer film substrates 1, 1 ', on which the gas barrier layers 3, 3' are formed on the other surface, are formed by dispersing a gap agent 5 between the two substrates and then printing a sealing material 5 around the substrates. And then pasted together. Then, the liquid crystal 7 is sealed in the space formed by the above-described vacuum sealing method, and a liquid crystal display device is configured.
本発明では、高分子フィルム基板の外面に金属酸化物
被膜が形成され、酸素透過量を1cc/m2/24hour/latom/20
℃以下としてあることから、セルを大型化しても液晶注
入時における注入気泡の発生が効果的に防止され、さら
に高分子フィルム基板の片面に膜が集中してないことか
ら、製造プロセス上の熱によるカールの発生が防止され
る。したがって、前記課題が解決され、表示品質に優れ
大型化可能な液晶表示装置が提供できるようになる。In the present invention, the metal oxide film is formed on the outer surface of the polymer film substrate, the oxygen permeability of 1cc / m 2 / 24hour / latom / 20
Since the temperature is below ℃, the generation of injection bubbles during liquid crystal injection is effectively prevented even if the cell is enlarged, and the film is not concentrated on one side of the polymer film substrate. This prevents the occurrence of curl due to the above. Therefore, the above-mentioned problem is solved, and a liquid crystal display device which is excellent in display quality and can be enlarged can be provided.
次に、本発明を実施例により更に詳しく説明する。 Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples.
実施例1 基板1,1′として酸素透過量が12cc/m2/24hour/latom/
20℃の一軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを
用い、該基板1,1′の一方の面上にDCスパッタリング法
で厚さ500ÅのITO膜(表示電極膜)2,2′をそれぞれ形
成し、他方の面上に同法で厚さ300ÅのITO膜(ガスバリ
ヤー層)3,3′をそれぞれ形成した。これにより、酸素
透過量は0.7cc/m2/24hour/latom/20℃となった。次に2,
2′のITO膜のみをフォトリソグラフィー法で加工し、10
0×160ドット用の表示電極とした。さらに配向剤(商品
名:HL−1110;日立化成社製)を用い配向膜4,4′を形成
した後、ラビング処理を施し、上下電極間のツイスト角
を220°とした。次に一方の基板にギャップ剤5として
平均粒径6.2μmのプラスチックビーズを150〜200個/m
m2の分散密度で分散した。そして他方の基板に可撓性エ
ポキシ系接着剤からなるシール材6を印刷し、両基板を
貼り合せし、80℃、90分間で該シール材6を硬化させ、
有効表示領域が55mm×60mmの液晶セルを得た。この液晶
セル内にカイラルネマチック含有スメクチック液晶7を
真空封入方式で注入した。この時の真空到達度は0.05to
rrであった。注入直後に直径0.5mmφ大の気泡が1個シ
ール材6周辺に発生したが、一日後には消失していた。Example 1 As a substrate 1, 1 ', the oxygen permeation amount was 12 cc / m 2 / 24hour / latom /
Using a uniaxially stretched polyethylene terephthalate film at 20 ° C, ITO films (display electrode films) 2, 2 'each having a thickness of 500 mm are formed on one surface of the substrate 1, 1' by DC sputtering, and the other surface is formed. An ITO film (gas barrier layer) 3, 3 'having a thickness of 300 mm was formed thereon by the same method. Thereby, the oxygen permeation amount was 0.7 cc / m 2 / 24hour / latom / 20 ° C. Then 2,
Only the 2 ′ ITO film was processed by photolithography,
A display electrode for 0 × 160 dots was used. Further, after forming alignment films 4, 4 'using an alignment agent (trade name: HL-1110; manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.), rubbing treatment was performed to set the twist angle between the upper and lower electrodes to 220 °. Next, 150 to 200 plastic beads having an average particle size of 6.2 μm / m as a gap agent 5 were formed on one substrate.
Dispersed with a dispersion density of m 2 . Then, a sealing material 6 made of a flexible epoxy adhesive is printed on the other substrate, the two substrates are bonded together, and the sealing material 6 is cured at 80 ° C. for 90 minutes.
A liquid crystal cell having an effective display area of 55 mm × 60 mm was obtained. A chiral nematic-containing smectic liquid crystal 7 was injected into the liquid crystal cell by a vacuum sealing method. At this time, the vacuum reach is 0.05 to
rr. Immediately after the injection, one bubble having a diameter of 0.5 mmφ was generated around the sealing material 6, but disappeared one day later.
実施例2 基板1,1′として酸素透過量が11cc/m2/24hour/1atom/
20℃の一軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを
用い、該基板1,1′の一方の面上にDCスパッタリング法
で厚さ500ÅのITO膜(表示電極膜)2,2′をそれぞれ形
成し、他方の面上に同じくDCスパッタリング法で厚さ50
0ÅのSiO2膜(ガスバリヤー層)3,3′をそれぞれ形成し
た。これにより、酸素透過量は0.9cc/m2/24hour/1atom/
20℃となった。次にITO膜2,2′をフォトリソグラフィー
法で加工し、640×400ドット用の表示電極とした。さら
に配向剤(商品名:HL−1110;日立化成社製)を用い配向
膜4,4′を形成した後、ラビング処理を施し、上下電極
間のツイスト角を220°とした。次に一方の基板にギャ
ップ剤5として平均粒径6.2μmのプラスチックビーズ
を150〜200個/mm2の分散密度で分散した。そして他方
の基板に可撓性エポキシ系接着剤からなるシール材6を
印刷し、両基板を貼り合せて、80℃、90分間で該シール
材6を硬化させ、有効表示領域が250mm×150mmの液晶セ
ルを得た。この液晶セル内にカイラルネマチック含有ス
メクチック液晶7を真空封入方式で注入した。この時の
真空到達度は0.03torrであった。注入直後に直径1mmφ
大の気泡が2個シール材6周辺に発生したが、一日後に
は消失していた。Example 2 As a substrate 1, 1 ', the oxygen transmission rate was 11 cc / m 2 / 24hour / 1atom /
Using a uniaxially stretched polyethylene terephthalate film at 20 ° C, ITO films (display electrode films) 2, 2 'each having a thickness of 500 mm are formed on one surface of the substrate 1, 1' by DC sputtering, and the other surface is formed. The thickness is 50 by the same DC sputtering method.
0 ° SiO 2 films (gas barrier layers) 3, 3 ′ were formed, respectively. As a result, the oxygen transmission rate is 0.9 cc / m 2 / 24hour / 1atom /
The temperature reached 20 ° C. Next, the ITO films 2, 2 'were processed by a photolithography method to form display electrodes for 640 × 400 dots. Further, after forming alignment films 4, 4 'using an alignment agent (trade name: HL-1110; manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.), rubbing treatment was performed to set the twist angle between the upper and lower electrodes to 220 °. Next, plastic beads having an average particle diameter of 6.2 μm as a gap agent 5 were dispersed on one substrate at a dispersion density of 150 to 200 beads / mm 2 . Then, a sealing material 6 made of a flexible epoxy adhesive is printed on the other substrate, the two substrates are bonded together, and the sealing material 6 is cured at 80 ° C. for 90 minutes, and the effective display area is 250 mm × 150 mm. A liquid crystal cell was obtained. A chiral nematic-containing smectic liquid crystal 7 was injected into the liquid crystal cell by a vacuum sealing method. At this time, the degree of vacuum reached was 0.03 torr. Immediately after injection 1mmφ in diameter
Two large bubbles were generated around the sealing material 6, but disappeared one day later.
比較例 基板1,1′として酸素透過量が12cc/m2/24hour/latom/
20℃の一軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを
用い、該基板1,1′の一方の面上にDCスパッタリング法
で厚さ500ÅのITO膜(表示電極膜)2,2′をそれぞれ形
成したが、他方の面上にはガスバリヤー層は形成しなか
った。以下実施例2と同様に液晶セルを作成し、真空封
入方式で液晶注入を行った。注入直後に直径5mm大の気
泡が4個発生し、1日放置したところ気泡の大きさは小
さくなったが、消失することはなかった。Comparative Example Oxygen permeation rate of 12 cc / m 2 / 24hour / latom /
Using a uniaxially stretched polyethylene terephthalate film at 20 ° C., an ITO film (display electrode film) 2, 2 ′ having a thickness of 500 ° was formed on one surface of the substrate 1, 1 ′ by a DC sputtering method. No gas barrier layer was formed on the surface. Thereafter, a liquid crystal cell was prepared in the same manner as in Example 2, and liquid crystal was injected by a vacuum sealing method. Immediately after the injection, four bubbles having a diameter of 5 mm were generated, and when left for one day, the size of the bubbles became small, but they did not disappear.
本発明によれば、セルが大型化しても液晶封入時にお
ける気泡発生が極めて少ない高品質の液晶表示装置の提
供が可能となる。According to the present invention, it is possible to provide a high-quality liquid crystal display device in which generation of bubbles during liquid crystal encapsulation is extremely small even when the cell is enlarged.
第1図は本発明による液晶表示装置の一構成例を示す断
面図である。 1,1′……高分子フィルム基板 2,2′……透明電極膜 3,3′……ガスバリヤー層 4,4′……配向膜 5……ギャップ剤 6……シール材 7……液晶FIG. 1 is a sectional view showing an example of the configuration of a liquid crystal display device according to the present invention. 1,1 'polymer film substrate 2,2' transparent electrode film 3,3 'gas barrier layer 4,4' alignment film 5 gap agent 6 sealing material 7 liquid crystal
Claims (1)
少なくとも1枚以上が高分子フィルム基板からなり、基
板間に液晶が封入された液晶セルを具備して構成される
液晶表示装置において、前記高分子フィルム基板の外面
に200Å以上の膜厚を有する金属酸化物被膜が形成さ
れ、該高分子フィルム基板の酸素透過量が1cc/m2/24hou
r/latom/20℃以下であることを特徴とする液晶表示装
置。1. A liquid crystal display device comprising a liquid crystal cell in which at least one or more of the constituent substrates having a transparent conductive film on the inner surface is made of a polymer film substrate and a liquid crystal is sealed between the substrates. A metal oxide film having a thickness of 200 ° or more is formed on the outer surface of the polymer film substrate, and the oxygen permeation amount of the polymer film substrate is 1 cc / m 2 / 24hou.
A liquid crystal display device having a temperature of r / latom / 20 ° C or lower.
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JP1125897A JP2796573B2 (en) | 1989-05-18 | 1989-05-18 | Liquid crystal display |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP1125897A JP2796573B2 (en) | 1989-05-18 | 1989-05-18 | Liquid crystal display |
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JPH02304417A JPH02304417A (en) | 1990-12-18 |
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ID=14921615
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JP1125897A Expired - Lifetime JP2796573B2 (en) | 1989-05-18 | 1989-05-18 | Liquid crystal display |
Country Status (1)
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JP3158667B2 (en) * | 1991-08-01 | 2001-04-23 | セイコーエプソン株式会社 | Method of manufacturing liquid crystal display element and method of reproducing liquid crystal display element |
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-
1989
- 1989-05-18 JP JP1125897A patent/JP2796573B2/en not_active Expired - Lifetime
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