JP2795682B2 - Thin film repair processing equipment - Google Patents

Thin film repair processing equipment

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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は薄膜修正装置、更に詳しくはクロム等の薄膜
で生成されたフォトマスク等の残留欠陥を除去修正する
装置における加工用光束の照射形状の表示に関する。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a thin film repairing device, and more particularly, to an irradiation shape of a processing light beam in a device for removing and repairing a residual defect such as a photomask generated by a thin film of chrome or the like. Related to the display.

[従来技術] フォトマスク等の残留欠陥を修正する装置としてはヤ
グレーザ等のレーザ光を使用する装置が知られている。
その加工対象は直線の組合せで構成されているものが多
いので、レーザの照射形状は方形スリットを操作するこ
とにより制御している。そして、ヤグレーザ等の不可視
領域の加工光を用いるときは別途可視領域の照準光を用
いて方形スリットの形状を操作して欠陥を修正してい
た。
[Related Art] As a device for correcting a residual defect such as a photomask, a device using laser light such as a yag laser is known.
Since the object to be processed is often composed of a combination of straight lines, the irradiation shape of the laser is controlled by operating a rectangular slit. When processing light in an invisible region such as a yag laser is used, a defect is corrected by manipulating the shape of the rectangular slit using aiming light in the visible region separately.

しかしながら、加工用光束と照準光との波長が近い場
合はともかく、そうでない場合は両者の色収差により、
結像位置にずれが生ずる。即ち、照準光のスリット結像
位置で薄膜を加工した場合、焼付け加工の均質性が低下
し、エッジの直線性が悪くなる。均質かつ直線性の優れ
た修正加工をするにはレーザのスリット結像位置を薄膜
表面まで移動させなければならない。しかし、これは観
察系における焦点位置をずらすことになり、加工時に薄
膜表面が観察できなくなるという欠点がある。
However, aside from the case where the wavelength of the processing light beam and the wavelength of the aiming light are close, otherwise, the chromatic aberration of both causes
A shift occurs in the imaging position. That is, when a thin film is processed at a slit imaging position of aiming light, the uniformity of the printing process is reduced, and the linearity of the edge is deteriorated. In order to perform uniform and excellent linearity correction processing, the laser slit imaging position must be moved to the thin film surface. However, this has the disadvantage that the focal position in the observation system is shifted, and the thin film surface cannot be observed during processing.

この点を解決するために、特開昭52−120377号公報に
は方形スリットと対物レンズの間でレーザ光と照準光の
光路を分離し、レーザ光の方形スリット像と照準光の方
形スリット像を薄膜表面上で一致させるための整合光学
系を設けた技術が提案されている。
In order to solve this point, Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-120377 discloses that the optical path of laser light and aiming light is separated between a rectangular slit and an objective lens to form a square slit image of laser light and a square slit image of aiming light. A technique has been proposed in which a matching optical system is provided for matching the two on the thin film surface.

上記技術により薄膜表面を観察しながらスリット形状
を制御することは可能となったが、各レーザごとにその
出力分布には特性があり必ずしも均質ではないので、ス
リット形状と実際の除去具合は微妙に異なっている。
With the above technology, it was possible to control the slit shape while observing the thin film surface.However, since the output distribution of each laser has characteristics and is not necessarily homogeneous, the slit shape and the actual removal degree are delicate. Is different.

また、薄膜表面を観察しながらスリット形状を制御す
るとしても、操作者の判断には微妙な個人差がある。
Further, even if the slit shape is controlled while observing the thin film surface, there is a slight individual difference in the judgment of the operator.

従来においてはこれ等の点は専ら作業者の勘に依存し
て管理するしかなかった。
In the past, these points had to be managed exclusively depending on the worker's intuition.

[解決すべき課題] しかしながら、このような作業者の勘に依存すること
には大きな問題がある。作業者が勘を掴むには経験が必
要であり、その訓練に多くの時間を要する。
[Problem to be Solved] However, there is a big problem depending on such intuition of the worker. Workers need experience to grasp intuition, and training takes a lot of time.

のみならず作業者の勘に依存するため作業の標準化が
進まず、作業管理が容易ではないので、修正加工不良が
多くなる。
In addition, since work depends on the intuition of the worker, standardization of the work does not progress, and work management is not easy, so that the number of defective corrections increases.

本発明の目的は、上記従来技術的問題点に鑑み、スリ
ットの大きさを定量的にとらえることにより適切な照射
形状の再現性を高め、作業管理を容易にする薄膜修正装
置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a thin film repair apparatus that improves the reproducibility of an appropriate irradiation shape by quantitatively capturing the size of a slit in view of the above-mentioned conventional technical problems, and facilitates work management. is there.

[発明の構成] 本発明は上記目的を達成するために、加工用光源と、
該加工用光源から出射する加工用光束が透過するスリッ
トの形状を可変するスリット光形成手段と、該スリット
像を薄膜に結像する結像光学系と、修正部位を照準する
ために加工用光束の照射領域を示す照準手段とを有する
薄膜加工装置において、薄膜を撮像する撮像光学系と、
撮像された薄膜及び前記照準手段による照射領域とを重
ねて表示する表示手段と、前記スリットの形状を検知す
るスリット形状検知手段と、該スリット形状検知手段の
検知結果に基づいて前記スリットの数値データを前記撮
像された薄膜及び前記照準手段による照射領域の表示と
同一視野内に表示する数値データ表示手段と、を備えた
ことを特徴とする。
[Configuration of the Invention] The present invention provides a processing light source,
A slit light forming means for changing a shape of a slit through which a processing light beam emitted from the processing light source is transmitted; an image forming optical system for forming the slit image on a thin film; and a processing light beam for aiming at a corrected portion In a thin film processing apparatus having an aiming means indicating an irradiation area, an imaging optical system for imaging a thin film,
Display means for superimposing and displaying the imaged thin film and the irradiation area by the aiming means; slit shape detecting means for detecting the shape of the slit; and numerical data of the slit based on the detection result of the slit shape detecting means. And numerical data display means for displaying the imaged thin film in the same field of view as the display of the irradiation area by the aiming means.

[実施例] 本発明の一実施例である薄膜修正装置を図面に基づい
て説明する。
[Embodiment] A thin film repair apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例の薄膜修正装置の基本光学
系の配置図である。
FIG. 1 is an arrangement diagram of a basic optical system of a thin film repair apparatus according to one embodiment of the present invention.

1は加工用光源で、本実施例ではNd:YAGレーザを用い
ている。2は加工用光源から出射したレーザ光を必要な
大きさの光束に拡げる。
A processing light source 1 uses an Nd: YAG laser in this embodiment. Numeral 2 spreads the laser light emitted from the processing light source into a light beam of a required size.

3は色収差ずれ補正光学系で、色収差ずれを補正する
レンズ4とレーザ光が観察光学系中で集光しないように
するためのレンズ5とからなる。
Reference numeral 3 denotes a chromatic aberration shift correction optical system, which includes a lens 4 for correcting chromatic aberration shift and a lens 5 for preventing laser light from condensing in the observation optical system.

本実施例では可視領域の観察光と不可視領域の加工要
光束の色収差ずれをレンズ4を挿入することにより補正
している。方形スリットを一定ヵ所によ固定しつつ、色
収差ずれを補正すべく方形スリットを移動したのと同等
の効果を光学的に実現しているのである。
In this embodiment, the chromatic aberration shift between the observation light in the visible region and the light beam required for processing in the invisible region is corrected by inserting the lens 4. While the rectangular slit is fixed at a certain position, the same effect as moving the rectangular slit to correct the chromatic aberration shift is optically realized.

また、一般にレーザは平行光束であるため、レンズ4
の焦点距離の位置で集光する。レンズ4後の光路は観察
系の光路と共有している。よってレンズ4の焦点付近に
観察系の光学部品が存在した場合、集光したレーザ光が
高いパワー密度を持つため、その光学部品に施された光
学薄膜等の破壊を招く恐れがある。そこで、レンズ4の
後のレーザ光の集光を防ぐために、つまり観察系の光学
部品に入射するレーザ光のパワー密度を高くしないよう
にレンズ4とスリット6を挟むようにしてレンズ5を入
れており、レンズ4とレンズ5はアフォーカル系を構成
している。レンズ4とレンズ5はアフォーカル系である
ことは必ずしも必要ではないが、ワーク面で効率よく結
像させるためにはアフォーカル系が最適である。ここ
で、ワーク面上でのスリット像はレンズ5には影響され
ないことは明らかである。
In general, since a laser is a parallel light beam, the lens 4
Focus at the focal length of The optical path after the lens 4 is shared with the optical path of the observation system. Therefore, when an optical component of the observation system is present near the focal point of the lens 4, the condensed laser light has a high power density. Therefore, in order to prevent the laser light from condensing after the lens 4, that is, the lens 5 is inserted so as to sandwich the lens 4 and the slit 6 so as not to increase the power density of the laser light incident on the optical components of the observation system. The lens 4 and the lens 5 constitute an afocal system. It is not always necessary that the lenses 4 and 5 are afocal systems, but an afocal system is optimal for efficiently forming an image on a work surface. Here, it is clear that the slit image on the work surface is not affected by the lens 5.

なお、この種の装置では複数の対物レンズでの加工が
要求されており、色収差ずれ量は対物レンズにより異な
っているので、複数の種類のレンズ4,レンズ5が必要で
ある。
In this type of apparatus, processing with a plurality of objective lenses is required, and since the amount of chromatic aberration shift differs depending on the objective lens, a plurality of types of lenses 4 and 5 are required.

第2図は複数の対物レンズに対してその交換に伴い色
収差が補正されるようにレンズ4、5の組合せを交換で
きる機構を示している。
FIG. 2 shows a mechanism capable of exchanging the combination of the lenses 4 and 5 so that the chromatic aberration is corrected with the exchange of a plurality of objective lenses.

17はギヤー、18は回転用ノブ、19はレンズホルダーで
ある。18の回転用ノブを回すと、19のレンズホルダーが
セットで回転し、光路上の補正用のレンズ(レンズ4と
レンズ5)の組合せを交換する。レンズホルダーにセッ
トされる補正用のレンズの組合せは使用する対物レンズ
の数により設定する。
17 is a gear, 18 is a knob for rotation, and 19 is a lens holder. When the rotation knob 18 is turned, the lens holder 19 is rotated as a set, and the combination of correction lenses (lens 4 and lens 5) on the optical path is exchanged. The combination of correction lenses set in the lens holder is set according to the number of objective lenses used.

6は2個のスリットで構成される方形スリットで、欠
陥部の形状に応じて自由にその形を変えることができ
る。
Reference numeral 6 denotes a rectangular slit composed of two slits, whose shape can be freely changed according to the shape of the defect.

方形スリット6はスポット絞り(図示せず)と切換え
可能になっている。スポット絞りの代りに方形スリット
を通過した光束を薄膜表面で集光するように対物レンズ
に合った集光レンズ(図示せず)を挿入する方法でもよ
い。スポットサイズの変更は集光の度合や光の強度でコ
ントロールすることができる。
The rectangular slit 6 can be switched with a spot stop (not shown). Instead of the spot stop, a method of inserting a condenser lens (not shown) suitable for the objective lens so that the light beam passing through the rectangular slit is focused on the thin film surface may be used. The change in spot size can be controlled by the degree of light collection and light intensity.

7はスリットの原点位置を設定するオリジンセンサ
で、例えば、スリットが完全に締まった位置を原点とお
き、この位置をオリジンセンサ7で電気信号としてとら
える。8はスリットの移動方向・移動量を単位移動量に
分割し、パルス信号としてとらえるロータリエンコーダ
である。7,8に基づきスリット幅および長さを対物レン
ズの倍率,補正用のレンズ4の補正係数,モニタの電子
倍率を考慮して処理演算しモニタ上に照準用マークとし
て使用する。この点の詳細は本出願人による特願昭63−
233125号に説明している。
Reference numeral 7 denotes an origin sensor for setting the origin position of the slit. For example, a position where the slit is completely tightened is set as the origin, and the origin sensor 7 detects this position as an electric signal. Reference numeral 8 denotes a rotary encoder that divides the moving direction and the moving amount of the slit into unit moving amounts and captures the unit as pulse signals. Based on 7 and 8, the slit width and length are processed and calculated in consideration of the magnification of the objective lens, the correction coefficient of the correction lens 4, and the electronic magnification of the monitor, and are used as aiming marks on the monitor. The details of this point are described in Japanese Patent Application No.
This is described in 233125.

9は赤外光を反射し、可視光線を透過するダイクロイ
ックミラーで、テレビカメラ10の観察光学系と加工用の
レーザ光学系を同軸にする。
Reference numeral 9 denotes a dichroic mirror that reflects infrared light and transmits visible light, and makes the observation optical system of the television camera 10 and the laser optical system for processing coaxial.

同様に、これらの光学系とプリズム11により観察者の
肉眼による観察光学系とを同軸にする。
Similarly, these optical systems and the prism 11 make the observation optical system with the naked eye of the observer coaxial.

12は顕微鏡の照明用ランプである。 Reference numeral 12 denotes a microscope illumination lamp.

13は対物レンズ、14はフォトマスク加工された試料で
ある。15は処理演算部、16は表示部でモニタが配置され
ている。
Reference numeral 13 denotes an objective lens, and reference numeral 14 denotes a photomask processed sample. Reference numeral 15 denotes a processing operation unit, and reference numeral 16 denotes a display unit on which a monitor is arranged.

第3図は加工用光束の照射形状の大きさを数値表示す
るためのブロックダイヤグラムである。
FIG. 3 is a block diagram for numerically displaying the size of the irradiation shape of the processing light beam.

方形スリット6のサイズはオリジンセンサ7,ロータリ
エンコーダ8からの情報により得られるので、対物レン
ズ13の倍率,補正用のレンズ4の補正係数を考慮するこ
とによって、ワーク表面上での方形スリット像の大きさ
の実寸法が得られる。方形スリットを使用する加工対象
は直線の組分せで構成されており、特定の直線間の長さ
は既知であるので、作業管理上からはワーク表面上での
像の実寸法を表示することの方が有効である。ただ、再
現性の観点からいえば必ずしもこれに拘束される必要は
なく、適宜行うことができる。
Since the size of the rectangular slit 6 can be obtained from information from the origin sensor 7 and the rotary encoder 8, by taking into account the magnification of the objective lens 13 and the correction coefficient of the lens 4 for correction, the size of the rectangular slit image on the work surface is considered. The actual size of the size is obtained. The object to be processed using a rectangular slit is composed of a set of straight lines, and since the length between specific straight lines is known, the actual size of the image on the work surface should be displayed from work management. Is more effective. However, from the viewpoint of reproducibility, it is not always necessary to be restricted to this, and it can be performed as appropriate.

このようにして得られたデジタル寸法を映像信号に変
換し、薄膜表面像と画面合成することによってモニタ16
上に表示する。
The digital dimensions obtained in this way are converted to video signals and synthesized with the thin-film surface image to create a monitor.
Display above.

以上の実施例の照準はオリジンセンサ7,ロータリエン
コーダ8により方形スリット6の形状を得てモニタ上に
形成するものであったが、他の方法例えば光学的に検出
するものであってもよいし、また、本発明を実施するに
あたっては従来の特開昭52−120377号公報に記載された
装置のワーク表面像を画像処理することによってスリッ
ト像の大きさを求めてもよいこと勿論である。
In the above embodiment, the aim is obtained by obtaining the shape of the rectangular slit 6 by the origin sensor 7 and the rotary encoder 8 and forming the shape on the monitor. However, another method such as optical detection may be used. In carrying out the present invention, the size of the slit image may be determined by image processing the work surface image of a conventional apparatus described in JP-A-52-120377.

[発明の効果] 以上説明したように本発明によれば、加工用光束の照
射形状をデジタル表示することができるので、正確に再
現することができ、作業管理の標準化を図ることができ
る。また、そのことによって、修正ミスを大幅に減少さ
せることができる。
[Effect of the Invention] As described above, according to the present invention, the irradiation shape of the processing light beam can be digitally displayed, so that it can be accurately reproduced and standardization of work management can be achieved. In addition, it is possible to greatly reduce correction errors.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の一実施例の薄膜修正装置の基本光学系
の配置図、第2図は複数の対物レンズに対してその交換
に伴い色収差が補正されるようにレンズ4、5の組合せ
を交換できる機構を示す図、第3図は加工用光束の照射
形状の大きさを数値表示するためのブロックダイヤグラ
ムである。 1……加工用レーザ光源 4……色収差補正レンズ 6……方形スリット、13……対物レンズ 15……処理演算部、16……モニタ
FIG. 1 is a layout view of a basic optical system of a thin film correction apparatus according to one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a combination of lenses 4 and 5 for a plurality of objective lenses so that chromatic aberration is corrected by replacement thereof. FIG. 3 is a block diagram for numerically displaying the size of the irradiation shape of the processing light beam. 1 Laser light source for processing 4 Chromatic aberration correction lens 6 Square slit 13 Objective lens 15 Processing unit 16 Monitor

フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−14640(JP,A) 特開 平3−13946(JP,A) 特開 平2−79851(JP,A) 特開 昭55−113015(JP,A) 特開 昭55−98829(JP,A) 特開 昭58−6128(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G03F 1/08Continuation of front page (56) References JP-A-61-14640 (JP, A) JP-A-3-13946 (JP, A) JP-A-2-79851 (JP, A) JP-A-55-113015 (JP) JP-A-55-98829 (JP, A) JP-A-58-6128 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) G03F 1/08

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】加工用光源と、該加工用光源から出射する
加工用光束が透過するスリットの形状を可変するスリッ
ト光形成手段と、該スリット像を薄膜に結像する結像光
学系と、修正部位を照準するために加工用光束の照射領
域を示す照準手段とを有する薄膜修正加工装置におい
て、 薄膜を撮像する撮像光学系と、 撮像された薄膜及び前記照準手段による照射領域とを重
ねて表示する表示手段と、 前記スリットの形状を検知するスリット形状検知手段
と、 該スリット形状検知手段の検知結果に基づいて前記スリ
ットの数値データを前記撮像された薄膜及び前記照準手
段による照射領域の表示と同一視野内に表示する数値デ
ータ表示手段と、 を備えたことを特徴とする薄膜修正加工装置。
1. A processing light source, a slit light forming means for changing a shape of a slit through which a processing light beam emitted from the processing light source passes, and an image forming optical system for forming the slit image on a thin film; In a thin film correction processing apparatus having an aiming means for indicating an irradiation area of a processing light beam in order to aim at a correction portion, an imaging optical system for imaging a thin film, an imaged thin film and an irradiation area by the aiming means are overlapped. Display means for displaying; slit shape detecting means for detecting the shape of the slit; and numerical data of the slit based on the detection result of the slit shape detecting means. And a numerical data display means for displaying in the same field of view.
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