JP2795005B2 - シンクロトロン放射光の光軸と露光装置の軸の傾斜角度検出器 - Google Patents
シンクロトロン放射光の光軸と露光装置の軸の傾斜角度検出器Info
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はシンクロトロン放射光
（以下ＳＲ光と記す）の光軸と露光装置の軸の傾斜角度
検出器（以下ＳＲ光角度検出器とする）に関し、特にＳ
Ｒ光中のＸ線を用いるＸ線露光装置において、シンクロ
トロン放射光の光軸と、Ｘ線露光装置のウェハ取付面の
垂線との傾斜の角度を検出する、シンクロトロン放射光
の光軸と露光装置の軸の傾斜角度検出器に関する。
（以下ＳＲ光と記す）の光軸と露光装置の軸の傾斜角度
検出器（以下ＳＲ光角度検出器とする）に関し、特にＳ
Ｒ光中のＸ線を用いるＸ線露光装置において、シンクロ
トロン放射光の光軸と、Ｘ線露光装置のウェハ取付面の
垂線との傾斜の角度を検出する、シンクロトロン放射光
の光軸と露光装置の軸の傾斜角度検出器に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、ＳＲ光に含まれるＸ線によって
ウェハに露光するＸ線露光装置は、ウェハに形成された
パターンとＸ線マスクのパターンを合わせ、アライメン
ト検出器によって位置ずれを検出してウェハ取付面に位
置を補正し、Ｘ線を照射して露光する。ウェハとＸ線マ
スクは数十μｍの間隔をもって保持され、平行となるよ
うにそれぞれ調整されている。従って、ＳＲ光の光軸に
対して露光装置のウェハ取付面の垂線が傾斜している
と、ウェハに転写されたパターンは位置ずれを生じるこ
とになる。０．２５μｍ以下の微細なパターンを転写す
るには、０．１μｍ以下の精度で位置ずれを補正しなけ
ればならず、傾斜角度にすると２．５ｍｒａｄ以下の角
度で検出して補正しなければならない。
ウェハに露光するＸ線露光装置は、ウェハに形成された
パターンとＸ線マスクのパターンを合わせ、アライメン
ト検出器によって位置ずれを検出してウェハ取付面に位
置を補正し、Ｘ線を照射して露光する。ウェハとＸ線マ
スクは数十μｍの間隔をもって保持され、平行となるよ
うにそれぞれ調整されている。従って、ＳＲ光の光軸に
対して露光装置のウェハ取付面の垂線が傾斜している
と、ウェハに転写されたパターンは位置ずれを生じるこ
とになる。０．２５μｍ以下の微細なパターンを転写す
るには、０．１μｍ以下の精度で位置ずれを補正しなけ
ればならず、傾斜角度にすると２．５ｍｒａｄ以下の角
度で検出して補正しなければならない。
【０００３】ＳＲ光をＸ線露光装置に使用する場合、真
空状態で使用するのが普通であるが、効率性からマスク
の直前でベリリュウムの窓を通して大気中に取り出して
いる。しかし、ベリリュウムの窓は可視光を殆ん透過し
ないため、大気中でＸ線の光軸を検出するとことが困難
である。
空状態で使用するのが普通であるが、効率性からマスク
の直前でベリリュウムの窓を通して大気中に取り出して
いる。しかし、ベリリュウムの窓は可視光を殆ん透過し
ないため、大気中でＸ線の光軸を検出するとことが困難
である。
【０００４】そのため、従来のＳＲ光の光軸と露光装置
の軸傾斜角度検出は、装置を使わずに、ビームラインの
端面に対してウェハ取付面が平行になるように露光装置
を位置合わせした後、レジストを塗布したウェハにＸ線
マスクを位置合わせし、転写したパターンの形状や位置
によって、ＳＲ光の光軸に対するウェハ取付面の垂線の
ずれを検出していた。しかし、ＳＲ光とビームラインは
正確に軸合わせされていない上、露光装置固有のアライ
メント誤差も含んで検出されてしまうので、検出した結
果によって露光装置の姿勢を補正しても、正確な補正は
できず、上述の試し露光による傾斜の検出と補正を何回
か繰り返して、徐々に精度を上げていかなければならな
かった。
の軸傾斜角度検出は、装置を使わずに、ビームラインの
端面に対してウェハ取付面が平行になるように露光装置
を位置合わせした後、レジストを塗布したウェハにＸ線
マスクを位置合わせし、転写したパターンの形状や位置
によって、ＳＲ光の光軸に対するウェハ取付面の垂線の
ずれを検出していた。しかし、ＳＲ光とビームラインは
正確に軸合わせされていない上、露光装置固有のアライ
メント誤差も含んで検出されてしまうので、検出した結
果によって露光装置の姿勢を補正しても、正確な補正は
できず、上述の試し露光による傾斜の検出と補正を何回
か繰り返して、徐々に精度を上げていかなければならな
かった。
【０００５】また、従来は図９に示すＳＲ光と露光装置
の軸ずれを検出する装置が使用されていた。図９に示す
装置はＳＲ光１を照射するビームライン２の先端に設置
した露光装置３のステージ４のウェハ取付面５上に設け
られ、ウェハ取付面５の垂線上にそれぞれ配置されたの
第１のピンホール１３と第２のピンホール１４と、第１
のピンホール１３と第２のピンホール１４を通る垂線上
でウェハ取付面５上に設置された光検出器１２とから構
成される。（特願平０１−１２２４４０） 図９に示す装置での軸ずれ検出方法は、ウェハ取付面５
の垂線に対してある角度で照射されるＳＲ光１は、第１
のピンホール６は通過しても第２のピンホール７を通過
し難いので、光検出器１２に入射される光量は少なくな
り光検出器１２の出力が小さくなる。ウェハ取付面５の
垂線とＳＲ光１の光軸が平行な場合には、光検出器１２
に入射される光量が最大となり光検出器１２の出力が最
大となるので、ウェハ取付面５の垂線とＳＲ光１の光軸
が平行となったことが解る。
の軸ずれを検出する装置が使用されていた。図９に示す
装置はＳＲ光１を照射するビームライン２の先端に設置
した露光装置３のステージ４のウェハ取付面５上に設け
られ、ウェハ取付面５の垂線上にそれぞれ配置されたの
第１のピンホール１３と第２のピンホール１４と、第１
のピンホール１３と第２のピンホール１４を通る垂線上
でウェハ取付面５上に設置された光検出器１２とから構
成される。（特願平０１−１２２４４０） 図９に示す装置での軸ずれ検出方法は、ウェハ取付面５
の垂線に対してある角度で照射されるＳＲ光１は、第１
のピンホール６は通過しても第２のピンホール７を通過
し難いので、光検出器１２に入射される光量は少なくな
り光検出器１２の出力が小さくなる。ウェハ取付面５の
垂線とＳＲ光１の光軸が平行な場合には、光検出器１２
に入射される光量が最大となり光検出器１２の出力が最
大となるので、ウェハ取付面５の垂線とＳＲ光１の光軸
が平行となったことが解る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上述したように従来行
われていたレジストを塗布したウェハとＸ線マスクを位
置合わせし、試し露光を行って、転写したパターンから
ＳＲ光の光軸と露光装置の軸の傾斜角度を間接的に検出
する方法は、精度が良くなく、時間と手間がかかるとい
う欠点があった。
われていたレジストを塗布したウェハとＸ線マスクを位
置合わせし、試し露光を行って、転写したパターンから
ＳＲ光の光軸と露光装置の軸の傾斜角度を間接的に検出
する方法は、精度が良くなく、時間と手間がかかるとい
う欠点があった。
【０００７】また、上述した従来のピンホールを設けた
ＳＲ光の光軸と露光装置の軸ずれ検出装置は、１個の光
検出器の出力の大小だけで判断しているので、上下（左
右）のどの向きのどれだけの角度で軸がずれているのか
解らないため、露光装置の位置の補正が困難であるとい
う欠点があった。
ＳＲ光の光軸と露光装置の軸ずれ検出装置は、１個の光
検出器の出力の大小だけで判断しているので、上下（左
右）のどの向きのどれだけの角度で軸がずれているのか
解らないため、露光装置の位置の補正が困難であるとい
う欠点があった。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明のＳＲ光の光軸と
露光装置の軸の傾斜角度検出器は、シンクロトロン放射
光により露光されるウェハの取付面に取付けられた第１
および第２の光検出器と、前記第１の光検出器を通り前
記ウェハ取付面の垂線に対して傾いた第１の直線上に設
けられた第１および第２のピンホールと、前記第２の光
検出器を通り前記ウェハ取付面の垂線に関して前記第１
の直線と対称な第２の直接上に配置された第３および第
４のピンホールとを含み、前記シンクロトロン放射光の
光軸が前記ウェハ取付面に垂直な時に前記第１および第
２の光検出器の入射する光量が等しいことを特徴とす
る。本発明のＳＲ光の光軸と露光装置の軸の傾斜角度検
出器は、シンクロトロン放射光により露光されるウェハ
の取付面に取付けられた一直線上に並んでいない第１〜
第４の光検出器と、前記第１の光検出器を通り前記ウェ
ハ取付面の垂線に対して傾いた第１の直線上に設けられ
た第１および第２のピンホールと、前記第２の光検出器
を通り前記ウェハ取付面の垂線に関して前記第１の直線
と対称な第２の直線上に配置された第３および第４のピ
ンホールと、前記第３の光検出器を通り前記ウェハ取付
面の垂線に対して傾いた第１の直線上に設けられた第５
および第６のピンホールと、前記第４の光検出器を通り
前記ウェハ取付面の垂線に関して前記第３の直線と対称
な第４の直線上に配置された第７および第８のピンホー
ルとを含み、前記シンクロトロン放射光の光軸が前記ウ
ェハ取付面に垂直な時に前記第１および第２の光検出器
に入射する光量が等しく前記第３および第４の光検出器
に入射する光量が等しいことを特徴とする。
露光装置の軸の傾斜角度検出器は、シンクロトロン放射
光により露光されるウェハの取付面に取付けられた第１
および第２の光検出器と、前記第１の光検出器を通り前
記ウェハ取付面の垂線に対して傾いた第１の直線上に設
けられた第１および第２のピンホールと、前記第２の光
検出器を通り前記ウェハ取付面の垂線に関して前記第１
の直線と対称な第２の直接上に配置された第３および第
４のピンホールとを含み、前記シンクロトロン放射光の
光軸が前記ウェハ取付面に垂直な時に前記第１および第
２の光検出器の入射する光量が等しいことを特徴とす
る。本発明のＳＲ光の光軸と露光装置の軸の傾斜角度検
出器は、シンクロトロン放射光により露光されるウェハ
の取付面に取付けられた一直線上に並んでいない第１〜
第４の光検出器と、前記第１の光検出器を通り前記ウェ
ハ取付面の垂線に対して傾いた第１の直線上に設けられ
た第１および第２のピンホールと、前記第２の光検出器
を通り前記ウェハ取付面の垂線に関して前記第１の直線
と対称な第２の直線上に配置された第３および第４のピ
ンホールと、前記第３の光検出器を通り前記ウェハ取付
面の垂線に対して傾いた第１の直線上に設けられた第５
および第６のピンホールと、前記第４の光検出器を通り
前記ウェハ取付面の垂線に関して前記第３の直線と対称
な第４の直線上に配置された第７および第８のピンホー
ルとを含み、前記シンクロトロン放射光の光軸が前記ウ
ェハ取付面に垂直な時に前記第１および第２の光検出器
に入射する光量が等しく前記第３および第４の光検出器
に入射する光量が等しいことを特徴とする。
【０００９】本発明のＳＲ光の光軸と露光装置の軸の傾
斜角度検出器は、シンクロトロン放射光により露光され
るウェハの取付面に取付けられた同一形状の第１および
第２の光検出器と、前記ウェハ取付面上に離隔して設け
られこの第１および第２の光検出器間の中心をなす平面
に関し対称な形状で前記シンクロトロン放射光を遮る遮
光板とを含み、前記シンクロトロン放射光の光軸が前記
ウェハ取付面に垂直な時に前記第１および第２の光検出
器に入射する光量が等しいことを特徴とする。
斜角度検出器は、シンクロトロン放射光により露光され
るウェハの取付面に取付けられた同一形状の第１および
第２の光検出器と、前記ウェハ取付面上に離隔して設け
られこの第１および第２の光検出器間の中心をなす平面
に関し対称な形状で前記シンクロトロン放射光を遮る遮
光板とを含み、前記シンクロトロン放射光の光軸が前記
ウェハ取付面に垂直な時に前記第１および第２の光検出
器に入射する光量が等しいことを特徴とする。
【００１０】本発明のＳＲ光の光軸と露光装置の軸の傾
斜角度検出器は、シンクロトロン放射光により露光され
るウェハの取付面に取付けられこのウェハ取付面に設け
られた中心点から互いに等距離で同一形状の第１および
第２の光検出器ならびにこの第１および第２の光検出器
と異る方向に前記中心点から互いに等距離で同一形状の
第３および第４の光検出器と、前記ウェハ取付面上に離
隔して設けられ前記２第１および第２の光検出器間の中
心をなす平面ならびに前記第３および第４の光検出器の
中心をなす平面に関し対称な形状で前記シンクロトロン
放射光を遮る遮光板とを含み、前記シンクロトロン放射
光の光軸が前記ウェハ取付面に垂直な時に前記第１およ
び第２の光検出器に入射する光量が互いに等しく前記第
３および第４の光検出器に入射する光量が互いに等しい
ことを特徴とする。
斜角度検出器は、シンクロトロン放射光により露光され
るウェハの取付面に取付けられこのウェハ取付面に設け
られた中心点から互いに等距離で同一形状の第１および
第２の光検出器ならびにこの第１および第２の光検出器
と異る方向に前記中心点から互いに等距離で同一形状の
第３および第４の光検出器と、前記ウェハ取付面上に離
隔して設けられ前記２第１および第２の光検出器間の中
心をなす平面ならびに前記第３および第４の光検出器の
中心をなす平面に関し対称な形状で前記シンクロトロン
放射光を遮る遮光板とを含み、前記シンクロトロン放射
光の光軸が前記ウェハ取付面に垂直な時に前記第１およ
び第２の光検出器に入射する光量が互いに等しく前記第
３および第４の光検出器に入射する光量が互いに等しい
ことを特徴とする。
【００１１】
【実施例】次に、本発明の実施例について、図面を参照
して詳細に説明する。
して詳細に説明する。
【００１２】図１および図２は本発明のＳＲ光の光軸と
露光装置の軸の傾斜角度検出器の一実施例の断面図であ
る。
露光装置の軸の傾斜角度検出器の一実施例の断面図であ
る。
【００１３】図１に示す装置は、ＳＲ光１を照射するビ
ームライン２の先端に設置した露光装置３のステージ４
のウェハ取付面５上に設けられ、ウェハ取付面５上の垂
線に対して角度を持った第１の直線上に配置した第１の
ピンホール６及び第２のピンホール７と、この第１の直
線上のウェハ取付面５に設置した第１の光検出器１０
と、ウェハ取付面５の垂線に対して第１の直線と対称な
第２の直線上に配置した第３のピンホール８及び第４の
ピンホール９と、この第２の直線上のウェハ取付面５に
設置した第２の光検出器１１とから構成される。
ームライン２の先端に設置した露光装置３のステージ４
のウェハ取付面５上に設けられ、ウェハ取付面５上の垂
線に対して角度を持った第１の直線上に配置した第１の
ピンホール６及び第２のピンホール７と、この第１の直
線上のウェハ取付面５に設置した第１の光検出器１０
と、ウェハ取付面５の垂線に対して第１の直線と対称な
第２の直線上に配置した第３のピンホール８及び第４の
ピンホール９と、この第２の直線上のウェハ取付面５に
設置した第２の光検出器１１とから構成される。
【００１４】次に、本実施例によるＳＲ光と露光装置の
軸ずれ検出方法について説明する。
軸ずれ検出方法について説明する。
【００１５】この装置をウェハ取付面５上に取り付けＳ
Ｒ光１の光軸を上下に振ると、図３のように第１の光検
出器１０の出力２１及び第２の光検出器１１の出力２２
が得られる。そして２つの出力２１及び２２の差を取る
と、図４のようになる。
Ｒ光１の光軸を上下に振ると、図３のように第１の光検
出器１０の出力２１及び第２の光検出器１１の出力２２
が得られる。そして２つの出力２１及び２２の差を取る
と、図４のようになる。
【００１６】ここで、図１のようにＳＲ光１がウェハ取
付面５の垂線に対してある角度（前述の第１の直線に近
い角度）で照射された場合、第１の光検出器１０にはＳ
Ｒ光１が殆ど入射しないため第１の出力２１は小さくな
る。これを図３のａ点とする。しかし、第２の光検出器
１１にはＳＲ光１の入射される光量が多くなるために第
２の出力２２は大きくなる。これを図３のｂ点とする。
この場合に第１の出力２１から第２の出力２２を引く
と、マイナスの値が算出される。これを図４上で表すと
ｃ点となる。このＣ点の符号からＳＲ光１の光軸の傾斜
の方向が解り、値から角度が解る。
付面５の垂線に対してある角度（前述の第１の直線に近
い角度）で照射された場合、第１の光検出器１０にはＳ
Ｒ光１が殆ど入射しないため第１の出力２１は小さくな
る。これを図３のａ点とする。しかし、第２の光検出器
１１にはＳＲ光１の入射される光量が多くなるために第
２の出力２２は大きくなる。これを図３のｂ点とする。
この場合に第１の出力２１から第２の出力２２を引く
と、マイナスの値が算出される。これを図４上で表すと
ｃ点となる。このＣ点の符号からＳＲ光１の光軸の傾斜
の方向が解り、値から角度が解る。
【００１７】また、図２のようにＳＲ光１の光軸とウェ
ハ取付面５の垂線が平行であった場合、第１の光検出器
１０と第２の光検出器１１に入射するＳＲ光１の光量が
同量となり、第１の光検出器１０と第２の光検出器１１
の出力２１，２２が一致する。これを図３のｄ点とす
る。この場合に第１の出力２１の値から第２の出力２２
の値を引くと０となる。これを図４上で表すとｅ点とな
る。つまり、第１の出力２１と第２の出力２２の差が０
になったときに、ＳＲ光１の光軸とウェハ取付面５の垂
線が平行になったということが解る。
ハ取付面５の垂線が平行であった場合、第１の光検出器
１０と第２の光検出器１１に入射するＳＲ光１の光量が
同量となり、第１の光検出器１０と第２の光検出器１１
の出力２１，２２が一致する。これを図３のｄ点とす
る。この場合に第１の出力２１の値から第２の出力２２
の値を引くと０となる。これを図４上で表すとｅ点とな
る。つまり、第１の出力２１と第２の出力２２の差が０
になったときに、ＳＲ光１の光軸とウェハ取付面５の垂
線が平行になったということが解る。
【００１８】但し、実際の装置ではＳＲ光１は常に一定
の方向に照射されており、補正を行うのはウェハ取付面
５の方である。
の方向に照射されており、補正を行うのはウェハ取付面
５の方である。
【００１９】図５は本発明のＳＲ光の光軸と露光装置の
軸の傾斜角度検出器の一実施例の一部を破断して示す斜
視図である。
軸の傾斜角度検出器の一実施例の一部を破断して示す斜
視図である。
【００２０】図５に示すＳＲ光の傾斜角度検出器は、台
座５８と、台座５８上に台座５８の中心から上下左右の
等距離の位置に配置された第１の光検出器５１、第２の
光検出器５２、第３の光検出器５３及び第４の光検出器
５４と、台座５８に垂直で、第１の光検出器５１、第２
の光検出器５２、第３の光検出器５３及び第４の光の検
出器５４を囲む外枠５７と、外枠５７の先端に台座５８
と平行にはめ込まれたベリリュウムの薄膜５６と、薄膜
５６上に配置された台座５８の中心を通る垂線を中心と
したベリリュウムの遮光板５と、台座５８、外枠５７及
びベリリュウムの薄膜５６で囲まれた空間内に充填され
たへリュウムガス５９とから構成される。遮光板５は各
辺を水平または垂直にした正方形で台座５８の正面から
見た時に、第１〜第４の光検出器５１〜５４それぞれの
一部分と重なって見えるような大きさである。
座５８と、台座５８上に台座５８の中心から上下左右の
等距離の位置に配置された第１の光検出器５１、第２の
光検出器５２、第３の光検出器５３及び第４の光検出器
５４と、台座５８に垂直で、第１の光検出器５１、第２
の光検出器５２、第３の光検出器５３及び第４の光の検
出器５４を囲む外枠５７と、外枠５７の先端に台座５８
と平行にはめ込まれたベリリュウムの薄膜５６と、薄膜
５６上に配置された台座５８の中心を通る垂線を中心と
したベリリュウムの遮光板５と、台座５８、外枠５７及
びベリリュウムの薄膜５６で囲まれた空間内に充填され
たへリュウムガス５９とから構成される。遮光板５は各
辺を水平または垂直にした正方形で台座５８の正面から
見た時に、第１〜第４の光検出器５１〜５４それぞれの
一部分と重なって見えるような大きさである。
【００２１】図６は図５に示す実施例の露光装置に取付
けた状態の断面図である。このＳＲ光角度検出器を露光
装置３のステージ４のウェハ取付面５上に取り付け、ビ
ームライン２の先端に設置する。そして、ＳＲ光１の光
軸を下から上に振ると、角度にともなって、図７に示す
ように第１の光検出器５１からの第１の出力３１と第２
の光検出器２からの第２の出力３２の２つの出力が得ら
れる。そして、第１の出力３１から第２の出力３２を引
いた値の符号から傾斜の方向が検出でき、値から角度が
検出できる。この差の値をグラフに表したのが図８であ
る。
けた状態の断面図である。このＳＲ光角度検出器を露光
装置３のステージ４のウェハ取付面５上に取り付け、ビ
ームライン２の先端に設置する。そして、ＳＲ光１の光
軸を下から上に振ると、角度にともなって、図７に示す
ように第１の光検出器５１からの第１の出力３１と第２
の光検出器２からの第２の出力３２の２つの出力が得ら
れる。そして、第１の出力３１から第２の出力３２を引
いた値の符号から傾斜の方向が検出でき、値から角度が
検出できる。この差の値をグラフに表したのが図８であ
る。
【００２２】例えば図７のようにＳＩ光１がある角度を
もって上から照射された場合、第１の光検出器５１に入
射されるＳＲ光２１の光量は多くなるため、第１の出力
３１は大きくなる。これを図７上で表すと、ｆ点とな
る。反対に第２の光検出器５２にはＳＲ光１は殆ど入射
しなくなるため、第２の出力３２は小さくなる。これを
図７上で表すとｇ点となる。そして、第１の出力３１と
第２の出力３２の差を取るとプラスの値が算出される。
これを図８上で表すとｈ点となる。このときの符号から
傾斜の方向が検出でき、値から角度が検出できる。左右
についても同様に検出できる。
もって上から照射された場合、第１の光検出器５１に入
射されるＳＲ光２１の光量は多くなるため、第１の出力
３１は大きくなる。これを図７上で表すと、ｆ点とな
る。反対に第２の光検出器５２にはＳＲ光１は殆ど入射
しなくなるため、第２の出力３２は小さくなる。これを
図７上で表すとｇ点となる。そして、第１の出力３１と
第２の出力３２の差を取るとプラスの値が算出される。
これを図８上で表すとｈ点となる。このときの符号から
傾斜の方向が検出でき、値から角度が検出できる。左右
についても同様に検出できる。
【００２３】また、ＳＲ光１とウェハ取付面５が垂直と
なった場合には、全ての光検出器５１〜５４に入射され
るＳＲ光１の光量が同じになる。これを図７上で表すと
ｊ点となる。そして、第１の出力３１と第２の出力３２
の差を取ると０となる。これを図８上で表すとｋ点とな
る。つまり、第１の出力３１と第２の出力３２の差が０
となることによって、ＳＲ光２１とウェハ取付面１１が
垂直になったということが検出できる。
なった場合には、全ての光検出器５１〜５４に入射され
るＳＲ光１の光量が同じになる。これを図７上で表すと
ｊ点となる。そして、第１の出力３１と第２の出力３２
の差を取ると０となる。これを図８上で表すとｋ点とな
る。つまり、第１の出力３１と第２の出力３２の差が０
となることによって、ＳＲ光２１とウェハ取付面１１が
垂直になったということが検出できる。
【００２４】なお、図１に示す実施例において垂直な平
面上の第１〜第４のピンホール６〜９のほかに水平な水
面上に同様に複数のピンホールおよびウェハ取付面上に
対応する光検出器を設ければＳＲ光の上下の傾斜角のほ
か左右の傾斜角も検出できる。また、図５に示す実施例
において第１および第２の光検出器５１および５２のみ
または第３および第４の光検出器５３および５４のみを
設けた場合でも、ＳＲ光の上下の傾斜角または左右の傾
斜角のみを検出することができる。
面上の第１〜第４のピンホール６〜９のほかに水平な水
面上に同様に複数のピンホールおよびウェハ取付面上に
対応する光検出器を設ければＳＲ光の上下の傾斜角のほ
か左右の傾斜角も検出できる。また、図５に示す実施例
において第１および第２の光検出器５１および５２のみ
または第３および第４の光検出器５３および５４のみを
設けた場合でも、ＳＲ光の上下の傾斜角または左右の傾
斜角のみを検出することができる。
【００２５】
【発明の効果】本発明のＳＲ光角度検出器は、それぞれ
対称位置にある光検出器の出力値の差を計算することに
よって、直接的にＳＲ光がウェハ取付面の垂線に対して
どの向きにどれだけの角度で傾斜しているのが検出でき
るので、露光装置の位置の補正の精度が良くなると共
に、補正が容易になるという効果がある。
対称位置にある光検出器の出力値の差を計算することに
よって、直接的にＳＲ光がウェハ取付面の垂線に対して
どの向きにどれだけの角度で傾斜しているのが検出でき
るので、露光装置の位置の補正の精度が良くなると共
に、補正が容易になるという効果がある。
【図１】本発明の一実施例の側断面図である。
【図２】図１に示す実施例のＳＲ光１がウェハ取付面５
１に対し垂直な場合の側断面図である。
１に対し垂直な場合の側断面図である。
【図３】図１中の第１および第２の光検出器１０，１１
の出力を示す図である。
の出力を示す図である。
【図４】図３中の出力２１，２２の差を示す図である。
【図５】本発明の他の実施例の斜視図である。
【図６】図５に示す実施例の露光装置３に取り付けた状
態の側断面図である。
態の側断面図である。
【図７】図５中の第１および第２の光検出器５１，５２
の出力を示す図である。
の出力を示す図である。
【図８】図７の出力３１，３２の差を示す図である。
【図９】従来のＳＲ光の光軸と露光装置の軸の傾斜角度
検出器の側面図である。
検出器の側面図である。
１ ＳＲ光、 ２ ビームライン ３ 露光装置 ４ ステージ ５ ウェハ取付面 ６ 第１のピンホール ７ 第２のピンホール ８ 第３のピンホール ９ 第４のピンホール １０ 第１の光検出器 １１ 第２の光検出器 １２ 光検出器 １３ 第１のピンホール １４ 第２のピンホール ５１ 第１の光検出器 ５２ 第２の光検出器 ５３ 第３の光検出器 ５４ 第４の光検出器 ５５ 遮光板 ５６ ベリリュウムの薄膜 ５７ 外枠 ５８ 台座 ５９ ヘリュウムガス
Claims (2)
- 【請求項１】 シンクロトロン放射光により露光される
ウェハの取付面に取付けられた同一形状の第１および第
２の光検出器と、前記ウェハ取付面上に離隔して設けら
れこの第１および第２の光検出器間の中心をなす平面に
関し対称な形状で前記シンクロトロン放射光を遮る遮光
板とを含み、前記シンクロトロン放射光の光軸が前記ウ
ェハ取付面に垂直な時に前記第１および第２の光検出器
に入射する光量が等しいことを特徴とするシンクロトロ
ン放射光の光軸と露光装置の軸の傾斜角度検出器。 - 【請求項２】 シンクロトロン放射光により露光される
ウェハの取付面に取付けられこのウェハ取付面に設けら
れた中心点から互いに等距離で同一形状の第１および第
２の光検出器ならびにこの第１および第２の光検出器と
異る方向に前記中心点から互いに等距離で同一形状の第
３および第４の光検出器と、前記ウェハ取付面上に離隔
して設けられ前記２第１および第２の光検出器間の中心
をなす平面ならびに前記第３および第４の光検出器の中
心をなす平面に関し対称な形状で前記シンクロトロン放
射光を遮る遮光板とを含み、前記シンクロトロン放射光
の光軸が前記ウェハ取付面に垂直な時に前記第１および
第２の光検出器に入射する光量が互いに等しく前記第３
および第４の光検出器に入射する光量が互いに等しいこ
とを特徴とするシンクロトロン放射光の光軸と露光装置
の軸の傾斜角度検出器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3265769A JP2795005B2 (ja) | 1991-10-15 | 1991-10-15 | シンクロトロン放射光の光軸と露光装置の軸の傾斜角度検出器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3265769A JP2795005B2 (ja) | 1991-10-15 | 1991-10-15 | シンクロトロン放射光の光軸と露光装置の軸の傾斜角度検出器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05109604A JPH05109604A (ja) | 1993-04-30 |
| JP2795005B2 true JP2795005B2 (ja) | 1998-09-10 |
Family
ID=17421777
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3265769A Expired - Lifetime JP2795005B2 (ja) | 1991-10-15 | 1991-10-15 | シンクロトロン放射光の光軸と露光装置の軸の傾斜角度検出器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2795005B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111474600A (zh) * | 2020-05-28 | 2020-07-31 | Oppo（重庆）智能科技有限公司 | 升降检测装置及升降检测方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2722958A1 (de) * | 1977-05-20 | 1978-11-23 | Siemens Ag | Verfahren zur justierung einer halbleiterscheibe relativ zu einer bestrahlungsmaske bei der roentgenstrahl-fotolithografie |
| JP2631526B2 (ja) * | 1988-09-08 | 1997-07-16 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
-
1991
- 1991-10-15 JP JP3265769A patent/JP2795005B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05109604A (ja) | 1993-04-30 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19980526 |