JP2788762B2 - Optical circuit - Google Patents

Optical circuit

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は結晶基板上に設けた光導波路を用いた光回路
に関し、さらに詳しくは光導波路同士が交差して構成さ
れる光回路に関する。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical circuit using an optical waveguide provided on a crystal substrate, and more particularly to an optical circuit formed by crossing optical waveguides.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

光通信システムの実用化が進むにつれ、さらに大容量
や多機能を持つ高度のシステムが求められており、光伝
送路の切り替え、交換や数多くの光信号の分配、合流な
どの新たな機能の付加が必要とされている。光伝送路の
切り替えやネットワークの交換機能を得る手段としては
光スイッチが使用される。現在実用されている光スイッ
チは、プリズム,ミラー,ファイバーなどを機械的に移
動させるものであり、低速であること、信頼性が不十分
であること、形状が大きくマトリクス化に不適等の欠点
がある。これを解決する手段として開発が進められてい
るものとしては光導波路を用いた導波形の光スイッチが
ある。これは高速,多素子の集積化が可能であり、しか
も高信頼等の特長がある。特に二オブ酸リチウム(LiNb
O3)結晶等の強誘電体材料を用いたものは、光吸収が小
さく低損失であること、大きな電気光学効果を有してい
るため高効率である等の特長があり、従来からも方向性
結合器型光スイッチ、全反射型光スイッチ又はマッハツ
エンダ型光スイッチ等の種々の方式の光スイッチが報告
されている。
As optical communication systems become more practical, advanced systems with higher capacity and more functions are required, and new functions such as switching of optical transmission lines, switching, distribution of many optical signals, and merging are added. Is needed. An optical switch is used as a means for obtaining an optical transmission line switching or network switching function. Optical switches currently in practical use are those that mechanically move prisms, mirrors, fibers, etc., and suffer from disadvantages such as low speed, inadequate reliability, and large shapes that are unsuitable for matrix formation. is there. As a means for solving this problem, there is a waveguide type optical switch using an optical waveguide. This has features such as high speed, integration of many elements, and high reliability. Especially lithium diobate (LiNb
A material using a ferroelectric material such as O 3 ) crystal has features such as low light absorption and low loss, and high efficiency due to a large electro-optic effect. Various types of optical switches such as a sex coupler type optical switch, a total reflection type optical switch or a Mach-Zehnder type optical switch have been reported.

特に導波形光スイッチ間を基板上に光導波路からなる
光回路で接続し、多数個集積したマトリクス光スイッチ
は光信号の切り替え、交換の目的にはキーデバイスであ
るため数多くの検討及び報告がされている。このような
導波形のマトリクス光スイッチを実際の光通信システム
に適用する場合、低損失であることが重要であり、この
ためにはマトリクス光スイッチを構成する光回路が低損
失であることが不可欠である。
In particular, a large number of integrated matrix optical switches are connected by an optical circuit consisting of an optical waveguide on the substrate between the waveguide-type optical switches, and many studies and reports have been made because they are key devices for the purpose of switching and exchanging optical signals. ing. When applying such a waveguide type matrix optical switch to an actual optical communication system, low loss is important, and for this purpose, it is essential that the optical circuit constituting the matrix optical switch has low loss. It is.

一方、光信号を分配したり、合流する場合に現在は光
ファイバを用いているが、今後分配及び合流させる光信
号数の増加に伴う大型化、信号数増大に対しては不適当
である。これを解決する手段として開発が進められてい
るものは、やはり光導波路を用いた導波形の光回路であ
る。光ファイバと同じ材料である石英系光導波路、ガラ
ス板及びニオブ酸リチウム(LiNbO3)結晶等の誘電体基
板に形成した光導波路を用いた光回路は、光吸収が小さ
く低損失であるため、数多くの報告がされているが、や
はり、実際の光通信システムに適用する際には光回路が
低損失であることが実用上不可欠である。
On the other hand, an optical fiber is currently used for distributing and merging optical signals, but is unsuitable for an increase in the number of optical signals to be distributed and merged in the future due to an increase in the number of optical signals. What is being developed as a means for solving this problem is a waveguide type optical circuit also using an optical waveguide. An optical circuit using an optical waveguide formed on a dielectric substrate such as a quartz optical waveguide, a glass plate, and a lithium niobate (LiNbO 3 ) crystal, which is the same material as the optical fiber, has low light absorption and low loss. Although many reports have been made, it is still practically essential that the optical circuit has low loss when applied to an actual optical communication system.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

しかしながら、従来の光回路では光回路の損失に関し
て十分な特性は得られていない。第2図(a),(b)
に従来の光導波路が交差して構成される光回路の一例と
して西本裕らの文献,電子情報通信学会技術報告OQE 88
−147による8×8マトリクス光スイッチの光回路の平
面図を示す。第2図(a)において、Z軸に垂直に切り
出したニオブ酸リチウム結晶基板11上にチタンを拡散
し、屈折率を基板11よりも大きくして形成した埋め込み
形のシングルモード光導波路12及び13が形成されてお
り、光導波路12及び13は基板11の中央部で互いに数μm
程度まで近接し、方向性結合器14を形成している。第2
図(a)では前記方向性結合器14が64素子同一基板上に
集積されて8×8マトリクス光スイッチを構成してい
る。第2図(b)は各方向性結合器14間を接続する光導
波路12及び13が交差する領域を拡大した平面図である。
15は制御電極、17は入射光、18,19は出射光、20は交差
部である。前述した文献によれば、8×8マトリクス光
スイッチの接続パスによる損失の違いは2本の光導波路
12及び13の交差部での損失(今後、交差損失と呼ぶ)に
起因すること、また、低損失化を達成するためには交差
損失の低減が必要であることが明らかにされている。前
述した接続パスの違いによる損失の差は、各接続パスに
おける2本の光導波路12及び13が交差する交差部の数の
違いに起因している。すなわち、前述した文献によれ
ば、交差損失はTM偏光に対して一つの交差部で0.35dB程
度あり、このとき各接続パスが有する交差部は0点から
15点と異なるためである。従って、交差点が0点と15点
の接続パスの間には交差損失だけで約5dBの損失の差が
発生することになる。デバイスの損失を低減するために
は、この交差損失を低損失化することが必要となる。シ
ングルモードで伝搬してきた導波光は、交差する2本の
導波路が近接する領域から交差部にかけてマルチモード
となり、交差部を通過後は交差する2本の導波路が離れ
た領域で再びシングルモードとなる。このように、交差
部20でのモード変換、モード結合及び交差して近接する
もう一方の導波路への導波光の移行などにより、交差損
失が発生する。
However, conventional optical circuits have not obtained sufficient characteristics with respect to optical circuit loss. FIG. 2 (a), (b)
An example of an optical circuit constructed by intersecting conventional optical waveguides is described in Yutaka Nishimoto's literature, IEICE Technical Report OQE 88
FIG. 4 shows a plan view of the optical circuit of an 8 × 8 matrix optical switch according to −147. In FIG. 2 (a), embedded single-mode optical waveguides 12 and 13 formed by diffusing titanium on a lithium niobate crystal substrate 11 cut out perpendicular to the Z-axis and having a refractive index larger than that of the substrate 11 are formed. Are formed, and the optical waveguides 12 and 13 are several μm apart from each other at the center of the substrate 11.
The directional couplers 14 are formed in close proximity to each other. Second
In FIG. 1A, 64 directional couplers 14 are integrated on the same substrate to form an 8 × 8 matrix optical switch. FIG. 2B is an enlarged plan view of a region where the optical waveguides 12 and 13 connecting the directional couplers 14 intersect.
15 is a control electrode, 17 is incident light, 18 and 19 are outgoing light, and 20 is an intersection. According to the above-mentioned document, the difference in loss due to the connection path of the 8 × 8 matrix optical switch is due to two optical waveguides.
It has been clarified that the loss is caused by the loss at the intersection of 12 and 13 (hereinafter referred to as "crossing loss"), and that it is necessary to reduce the crossing loss in order to achieve low loss. The difference in loss due to the difference between the connection paths is caused by the difference in the number of intersections where the two optical waveguides 12 and 13 intersect in each connection path. That is, according to the above-mentioned document, the crossing loss is about 0.35 dB at one crossing point with respect to the TM polarized light, and at this time, the crossing point of each connection path starts from point 0.
Because it is different from 15 points. Therefore, there is a difference of about 5 dB between the connection paths at the intersections 0 and 15 only by the intersection loss. In order to reduce the device loss, it is necessary to reduce the crossing loss. The guided light propagating in the single mode becomes multimode from the region where the two intersecting waveguides are close to each other to the intersection, and after passing through the intersection, the single mode is again transmitted in the region where the two intersecting waveguides are separated. Becomes As described above, cross loss occurs due to mode conversion and mode coupling at the crossing portion 20, and transfer of guided light to the other waveguide that crosses and is close to the other.

なお、第2図(a)に示した8×8マトリクス光スイ
ッチの64素子の各方向性結合器型光スイッチにおいて、
方向性結合器14を構成する光導波路上には制御電極15に
よる光吸収を防ぐためのバッファ層を介して制御電極15
が形成されている。第2図(b)において、光導波路12
に入射した入射光17は方向性結合器14の部分を伝搬する
にしたがって近接した光導波路13へ徐々に光エネルギー
が移り、方向性結合器14を通過後は光導波路13にほぼ10
0%エネルギーが移って出射光18となる。一方、制御電
極15に電圧を印加した場合、電気光学効果により制御電
極15下の光導波路の屈折率が変化し、光導波路12と13を
伝搬する導波モードの間に位相速度の不整合が生じ、両
者の間の結合状態は変化する。この動作を用いて導波光
の伝搬路の切り替えを行っている。
Incidentally, in the directional coupler type optical switch of 64 elements of the 8 × 8 matrix optical switch shown in FIG.
The control electrode 15 is provided on the optical waveguide constituting the directional coupler 14 via a buffer layer for preventing light absorption by the control electrode 15.
Are formed. In FIG. 2B, the optical waveguide 12
As the incident light 17 incident on the optical waveguide 13 propagates through the directional coupler 14, the light energy is gradually transferred to the optical waveguide 13 adjacent thereto, and after passing through the directional coupler 14, almost 10
The energy is shifted by 0% to become the emitted light 18. On the other hand, when a voltage is applied to the control electrode 15, the refractive index of the optical waveguide below the control electrode 15 changes due to the electro-optic effect, and a phase velocity mismatch between the waveguide modes propagating through the optical waveguides 12 and 13 occurs. As a result, the connection between them changes. Using this operation, the propagation path of the guided light is switched.

本発明の目的は上述の従来の光回路の課題を解決し、
低損失の光回路を提供することにある。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the conventional optical circuit,
An object of the present invention is to provide a low-loss optical circuit.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

前記目的を達成するため、本発明にかかる光回路は、
結晶基板に鋭角に交差して形成された組をなす2本の光
導波路と、 前記光導波路の交差部に隣接して前記結晶基板に形成
された凹部と、 前記結晶基板の表面に形成された前記結晶基板より低
屈折率のクラッド層からなり、 前記交差部における導波光を閉じ込めて、交差部に生
じる交差損失を低減する光回路であって、 凹部は前記鋭角に交差した2本の光導波路に挟まれた
領域にのみ形成したものであることを特徴とする。
To achieve the above object, an optical circuit according to the present invention comprises:
A pair of optical waveguides that are formed to intersect the crystal substrate at an acute angle, a concave portion that is formed in the crystal substrate adjacent to an intersection of the optical waveguides, and that is formed on a surface of the crystal substrate. An optical circuit comprising a cladding layer having a refractive index lower than that of the crystal substrate, confining the guided light at the intersection, and reducing an intersection loss occurring at the intersection, wherein the concave portion has two optical waveguides intersecting at the acute angle. Characterized by being formed only in a region sandwiched between the.

[作用] 本発明の光回路は、光導波路同士が交差している交差
部の光導波路を除いた結晶基板上に凹部を有し、凹部は
交差する2本の光導波路が近接する領域に形成されるた
め、近接する2本の光導波路間は交差部の周辺部で、導
波路の断面がリッジ形の形状を有する。本発明者の実験
によると、交差部をこのような構造にすることにより交
差損失は低減する。
[Operation] The optical circuit of the present invention has a concave portion on the crystal substrate excluding the optical waveguide at the intersection where the optical waveguides intersect, and the concave portion is formed in a region where two intersecting optical waveguides are close to each other. Therefore, the cross section of the adjacent optical waveguides has a ridge shape at the periphery of the intersection between the two optical waveguides. According to experiments performed by the present inventor, the crossing loss is reduced by forming the crossing portion in such a structure.

すなわち、交差部の周辺部の光導波路をリッジ形状と
することで、光導波路を導波光の進行方向に対して横方
向から取り囲むクラッド層は、従来の光回路における交
差部に比べ結晶基板よりも更に屈折率の低い物質にする
ことが可能となる。このため、従来の構造に比べ、交差
する2本の導波路が近接してくる領域から交差部直前ま
で、近接する2本の導波路間は低屈折率の物質に遮断さ
れ、導波路は導波光の閉じ込めが強くなり、マルチモー
ド成分が発生せず、前述した交差損失の要因であるモー
ド変換による損失、モード結合による損失及び近接する
他方の光導波路への導波光の移行による損失がそれぞれ
減少するため、交差損失は大幅に低減される。
In other words, by making the optical waveguide around the intersection a ridge shape, the cladding layer surrounding the optical waveguide from the transverse direction to the traveling direction of the guided light is smaller than the crystal substrate compared to the intersection in the conventional optical circuit. Further, a substance having a lower refractive index can be obtained. For this reason, compared with the conventional structure, from the region where two intersecting waveguides approach each other to immediately before the intersection, the two adjacent waveguides are blocked by a material having a low refractive index, and the waveguides are guided. Strong confinement of wave light, no multi-mode component is generated, and loss due to mode conversion, loss due to mode coupling, and loss due to transfer of guided light to the other optical waveguide, which are the causes of cross loss described above, are reduced. Therefore, the crossing loss is greatly reduced.

以上のように、本発明の光回路では交差損失を低減で
き、従来に比べて交差部を有する光回路が低損失で得ら
れる。
As described above, in the optical circuit of the present invention, the crossing loss can be reduced, and an optical circuit having a crossing portion can be obtained with a lower loss than in the related art.

[実施例] 以下、本発明の実施例について、図面を参照して詳細
に説明する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図(a),(b)は本発明による光回路の一実施
例である光導波路の交差部の平面図、断面図を示す。図
において、光導波路12と13との交差部20の周辺で、かつ
光導波路を除いたニオブ酸リチウム結晶基板11に凹部21
を形成するためには、イオンビーム法、リアクティブイ
オンビーム法、リアクティブイオン法などのドライエッ
チング法、又は、溶液を用いたケミカルエッチング法な
どのウェットエッチング法などを用いてエッチングする
方法がある。
FIGS. 1 (a) and 1 (b) are a plan view and a cross-sectional view of an intersection of an optical waveguide which is an embodiment of an optical circuit according to the present invention. In the figure, a recess 21 is formed in a lithium niobate crystal substrate 11 around an intersection 20 between optical waveguides 12 and 13 and excluding the optical waveguide.
Is formed by dry etching such as an ion beam method, a reactive ion beam method, or a reactive ion method, or wet etching such as a chemical etching method using a solution. .

本実施例の光回路では、リアクティブイオンビームエ
ッチング法を用いた。すなわち、従来例と同様にニオブ
酸リチウム結晶基板11にチタン拡散による光導波路を形
成した後に、凹部21を形成する部分以外の領域をマスク
し、リアクティブイオンビームエッチング法によってニ
オブ酸リチウム結晶基板11をエッチング除去した。
In the optical circuit of this embodiment, a reactive ion beam etching method was used. That is, after forming an optical waveguide by titanium diffusion in the lithium niobate crystal substrate 11 in the same manner as in the conventional example, the region other than the portion where the concave portion 21 is formed is masked, and the lithium niobate crystal substrate 11 is formed by a reactive ion beam etching method. Was removed by etching.

本発明の光回路における凹部21の深さDは、0.1μm
以上あれば交差損失低減の効果が認められた。光導波路
12及び13を導波光の進行方向に対して、横方向から取り
囲むクラッド層16は、ニオブ酸リチウム結晶基板11より
屈折率が小さく、かつ透明な材料であればよい。この材
料として、SiO2,Si3N4,Al2O3等を用いた。
The depth D of the concave portion 21 in the optical circuit of the present invention is 0.1 μm
With the above, the effect of reducing the crossing loss was recognized. Optical waveguide
The cladding layer 16 that surrounds 12 and 13 from the lateral direction with respect to the traveling direction of the guided light may be made of a material that has a smaller refractive index than the lithium niobate crystal substrate 11 and is transparent. As this material, SiO 2 , Si 3 N 4 , Al 2 O 3 or the like was used.

従来の光回路では交差損失がTM偏光に対して一つの交
差部で約0.35dBであったのに対し、本実施例による光回
路では交差損失は約0.1dBとなり、従来例に比べ著しく
小さくなった。このとき、第1図において、Dは1μ
m、Gは0μm以上、光導波路12及び13の幅Wは9μ
m、交差部での光導波路の交差角θは約7度(ただし7
度以上)、クラッド層16はSiO2であり、光導波路は厚さ
630オングストロームのチタンを1050℃で8時間熱拡散
することにより形成した。
In the conventional optical circuit, the cross loss was about 0.35 dB at one cross section with respect to the TM polarization, whereas in the optical circuit according to the present embodiment, the cross loss was about 0.1 dB, which was significantly smaller than the conventional example. Was. At this time, in FIG.
m and G are 0 μm or more, and the width W of the optical waveguides 12 and 13 is 9 μm.
m, the intersection angle θ of the optical waveguide at the intersection is about 7 degrees (7
Degree), the cladding layer 16 is SiO 2 and the optical waveguide is thick
It was formed by thermally diffusing 630 Å of titanium at 1050 ° C. for 8 hours.

なお、本発明による光回路を形成する光導波路はニオ
ブ酸リチウム結晶基板にチタンを拡散したものに限定さ
れず、ガラス基板やニオブ酸リチウムを用いたプロトン
交換光導波路、サファイア、Si基板上に形成する石英系
光導波路など全ての光回路に適用できるのは明らかであ
る。
The optical waveguide forming the optical circuit according to the present invention is not limited to a lithium niobate crystal substrate in which titanium is diffused, but is formed on a glass substrate or a proton exchange optical waveguide using lithium niobate, sapphire, or a Si substrate. It is clear that the present invention can be applied to all optical circuits such as a quartz optical waveguide.

[発明の効果] 以上述べたように、本発明による光回路では、従来の
光回路に比べて、損失を低減することができる。
[Effects of the Invention] As described above, the optical circuit according to the present invention can reduce the loss as compared with the conventional optical circuit.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図(a)は本発明による光回路の一例を示す平面
図、(b)は第1図(a)のA−A′線断面図、第2図
(a)は従来の光回路を示す平面図、(b)は第2図
(a)のII部拡大図である。 11…ニオブ酸リチウム結晶基板 12,13…光導波路、14…方向性結合器 15…制御電極、16…クラッド層 17…入射光、18,19…出射光 20…交差部、21…凹部
1 (a) is a plan view showing an example of an optical circuit according to the present invention, FIG. 1 (b) is a sectional view taken along line AA 'of FIG. 1 (a), and FIG. 2 (a) shows a conventional optical circuit. FIG. 2B is an enlarged view of a part II in FIG. 2A. 11: Lithium niobate crystal substrate 12, 13: Optical waveguide, 14: Directional coupler 15: Control electrode, 16: Cladding layer 17: Incident light, 18, 19: Outgoing light 20: Intersection, 21: Recess

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】結晶基板に鋭角に交差して形成された組を
なす2本の光導波路と、 前記光導波路の交差部に隣接して前記結晶基板に形成さ
れた凹部と、 前記結晶基板の表面に形成された前記結晶基板より低屈
折率のクラッド層からなり、 前記交差部における導波光を閉じ込めて、交差部に生じ
る交差損失を低減する光回路であって、 凹部は前記鋭角に交差した2本の光導波路に挟まれた領
域にのみ形成したものであることを特徴とする光回路。
A pair of optical waveguides formed at an acute angle to intersect with the crystal substrate; a recess formed in the crystal substrate adjacent to an intersection of the optical waveguides; An optical circuit comprising a cladding layer having a lower refractive index than the crystal substrate formed on the surface, confining the guided light at the intersection, and reducing the crossing loss generated at the intersection, wherein the recesses intersect at the acute angle An optical circuit formed only in a region sandwiched between two optical waveguides.
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