JP2785999B2 - Wax coating equipment - Google Patents

Wax coating equipment

Info

Publication number
JP2785999B2
JP2785999B2 JP17172190A JP17172190A JP2785999B2 JP 2785999 B2 JP2785999 B2 JP 2785999B2 JP 17172190 A JP17172190 A JP 17172190A JP 17172190 A JP17172190 A JP 17172190A JP 2785999 B2 JP2785999 B2 JP 2785999B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wax
rod
shaped solid
solid wax
baffle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP17172190A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0463679A (en
Inventor
雄次 小出
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
Priority to JP17172190A priority Critical patent/JP2785999B2/en
Publication of JPH0463679A publication Critical patent/JPH0463679A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2785999B2 publication Critical patent/JP2785999B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は板材を研摩仕上げ若しくは研削加工する場合
に使用するワックス塗布装置に関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a wax coating apparatus used for polishing or grinding a sheet material.

(従来の技術) 金属板、プラスチック板、木製板等においては、艶出
しによる最終仕上げ、又はメッキ、塗装等の前処理のた
めに、バフ加工を行うことがある。
(Prior Art) A buffing process is sometimes performed on a metal plate, a plastic plate, a wooden plate, or the like for final finishing by polishing, or for pretreatment such as plating and painting.

バフ加工を行うには、被処理面に研摩剤を塗布し、次
いでこの塗布面上を柔軟なバフで研摩する必要があり、
従来、研摩剤の塗布には、液状ワックスをスプレー、ロ
ールコータ、フローコータ等によって塗布する方法を用
いている。
In order to perform buffing, it is necessary to apply an abrasive to the surface to be treated and then to polish the surface with a soft buff,
Conventionally, a method of applying a liquid wax using a spray, a roll coater, a flow coater, or the like has been used for applying the abrasive.

ところで、本出願人においては、帯電防止プラスチッ
ク板の製造方法として、導電性透明合成樹脂塗料(アン
チモン含有酸化錫からなり粒径が0.2μm以下の導電性
微粉末を塗料中の固形分中50〜70重量%の割合で含有し
てなる透明合成樹脂塗料)を透明プラスチック板に塗布
した後、表面をバフ仕上げする方法を既に提案した(特
許第1486042号)。
By the way, in the present applicant, as a method for producing an antistatic plastic plate, a conductive transparent synthetic resin paint (a conductive fine powder made of antimony-containing tin oxide and having a particle size of 0.2 μm or less in a solid content of 50 to 50 μm or less) is used. A method has already been proposed in which a transparent synthetic resin coating containing 70% by weight) is applied to a transparent plastic plate and then the surface is buff-finished (Japanese Patent No. 1486042).

この製造方法によって得られる帯電防止プラスチック
板は、バフ仕上げなしの帯電防止プラスチック板に較べ
て、優れた全光線透過率、曇価を有する。
The antistatic plastic plate obtained by this manufacturing method has excellent total light transmittance and haze as compared with the antistatic plastic plate without buffing.

(解決しようとする課題) この製造方法において、バフ加工が製品の透明性を大
きく左右し、その透明度のアップには、通常の艶出し仕
上げ、メッキ、塗装等の前処理のためのバフ加工以上の
均一性が要求される。
(Problem to be solved) In this manufacturing method, the buffing greatly affects the transparency of the product, and the improvement of the transparency is more than the buffing for the pre-treatment such as the usual gloss finish, plating, and painting. Is required.

而るに、被処理面への研摩剤の塗布に、液状ワックス
を使用すると、液状ワックスの油分が製品に固着し、こ
の固着のためにバフ加工の均一性が阻害され易い。従っ
て、上記帯電防止透明プラスチック板の製造方法におけ
るバフ仕上げにおいて、研摩剤に液状ワックスを使用す
ることは適切でなく、固形ワックスの使用が有利であ
る。
However, if a liquid wax is used for applying the abrasive to the surface to be processed, the oil component of the liquid wax adheres to the product, and the uniformity of the buffing is likely to be impaired due to the adherence. Therefore, it is not appropriate to use a liquid wax as an abrasive in the buffing in the above-mentioned method for producing an antistatic transparent plastic plate, and it is advantageous to use a solid wax.

本発明の目的は、固形ワックスを被バフ仕上げ面に効
率良く、しかも充分均一に塗布できるワックス塗布装置
を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a wax coating apparatus which can efficiently and sufficiently uniformly apply a solid wax to a surface to be buffed.

(課題を解決するための手段) 本発明に係わるワックス塗布装置は、多列で、且つ、
互い違いに複数箇の穴を設けたプレートの下部に上下に
可動の受皿を設け、該受皿に上記穴個数に対応した個数
のロッド状固形ワックスを載置し、各ロッド状固形ワッ
クスの上端部を上記の各穴から頭出してなるワックス供
給装置と、上記プレートを越えて往復移動するバフロー
ラとから構成されていることを特徴とするものである。
(Means for Solving the Problems) The wax coating apparatus according to the present invention is multi-row,
A vertically movable pan is provided at the bottom of a plate having a plurality of holes alternately provided, and rod-shaped solid waxes corresponding to the number of holes are placed on the pan, and the upper end of each rod-shaped solid wax is placed. It is characterized in that it comprises a wax supply device protruding from each of the holes and a bafflor reciprocating beyond the plate.

(実施例の説明) 以下、図面により本発明の実施例について説明する。(Description of Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は本発明において使用するワックス供給装置を
示す斜視図、第2図は第1図におけるII−II線断面図で
ある。
FIG. 1 is a perspective view showing a wax supply device used in the present invention, and FIG. 2 is a sectional view taken along the line II-II in FIG.

第1図並びに第2図において、10は横長のボックスで
あり、上壁のプレート1には複数箇の穴2,…を二列で、
且つ交互に互い違いに設けてある。3はボックス1内に
設けた長尺の受皿であって、上記各列の穴2の直下の位
置に、各列穴の縦巾に相当する巾のスペースの両側に突
出部31,31を設けてある。4,…は受皿3に載置したロッ
ド状の固形ワックスであり、下端を受皿3の突出部31,3
1間に嵌合し、上端部を上記プレート1の各穴2から頭
出させてある。
In FIGS. 1 and 2, reference numeral 10 denotes a horizontally long box, and a plurality of holes 2,...
In addition, they are provided alternately and alternately. Numeral 3 designates a long saucer provided in the box 1 and provided with protrusions 31, 31 on both sides of a space having a width corresponding to the vertical width of each row of holes immediately below the holes 2 of each row. It is. Reference numerals 4,... Denote rod-shaped solid wax placed on the tray 3, and the lower ends thereof are protruding portions 31, 3 of the tray 3.
The upper end is protruded from each hole 2 of the plate 1.

上記受皿3は上下に可動に支持してある。図示の実施
例においては、第3図に示すように、傘歯車51,…を取
り付けた回転横軸52を上記ボックス10の下方に軸支し、
回転縦軸53の下端の傘歯車54を上記回転横軸52の傘歯車
51に噛合し、ネジ付きブラケット55に螺挿した上下可動
軸56の上端に回転スライダー57(ベアリング)を介して
受皿3を支承し、該上下可動軸56の下端部と回転縦軸53
の上端部とを、角穴551と角ロッド531とによって上下ス
ライド自在に結合してある。従って、回転横軸52を回転
させると、その回転が傘歯車51,54によって回転縦軸53
に伝達され、この回転縦軸53の回転に伴い、上下可動軸
56が回転されると共にネジ付きブラケット55との螺合の
ために上方又は下方に送られ、この上・下送りに伴って
受皿3が昇降される。
The receiving tray 3 is vertically movably supported. In the illustrated embodiment, as shown in FIG. 3, a rotating horizontal shaft 52 with bevel gears 51,.
The bevel gear 54 at the lower end of the rotating longitudinal axis 53 is connected to the bevel gear of the rotating transverse axis 52.
The pan 3 is supported on the upper end of a vertically movable shaft 56 meshed with a threaded bracket 55 and screwed into a threaded bracket 55 via a rotating slider 57 (bearing).
And an upper end thereof are vertically slidably connected by a square hole 551 and a square rod 531. Therefore, when the rotation horizontal shaft 52 is rotated, the rotation is rotated by the bevel gears 51 and 54 and the rotation vertical shaft 53 is rotated.
The vertical movable shaft 53
56 is rotated and sent upward or downward for screwing with the threaded bracket 55, and the pan 3 is moved up and down with this up / down feed.

第4図は本発明の一実施例を示す説明図である。 FIG. 4 is an explanatory view showing one embodiment of the present invention.

第4図において、Aは前記したワックス供給装置であ
り、レール6,6状に軌乗させて、横方向に移動可能とし
てある。71は前方架台、72は後方架台であり、これらの
架台71,72の間にワックス供給装置Aを配設してある。
Bはバフ機であり、電動機(図示せず)によって駆動さ
れる二連の研摩ロール8,8を備えている。このロール8
には、ウレタン発泡体、その他比較的軟らかい材質のも
のを使用する。このバフ機Bは、上方に架設したレール
に吊支し、電動機によって走行させるが、その機構の図
示は省略してある。
In FIG. 4, reference symbol A denotes the above-mentioned wax supply device, which can be moved in the lateral direction by railing on rails 6,6. Reference numeral 71 denotes a front mount, and 72 denotes a rear mount. A wax supply device A is disposed between these mounts 71 and 72.
B is a buffing machine, which is provided with two polishing rolls 8, 8 driven by an electric motor (not shown). This roll 8
For this, a urethane foam or other relatively soft material is used. The buffing machine B is suspended and supported by a rail erected above and run by an electric motor, but its mechanism is not shown.

上記装置によって板材の表面をバフ仕上げするには、
第4図に示すように、前方架台71上に板材Cを搬入し、
次いで、バフ機Bの電動機の起動によってバフローラ8,
8を回転させつつ、バフ機Bをワックス供給装置Aの上
面プレート1を乗り越えて板材C上に移行させ、その
後、ワックス供給装置Aを乗り越えて後方架台72上に復
帰させる。而るに、バフロール8の回転周速度に較べ、
バフ機Bの走行速度を低速としてあり、バフローラ8が
ロッド状固形ワックス4の上面を通過する際、その接触
面が擦れあい、固形ワックスがバフローラ8の外面に付
着し、このワックス付着ローラで板材Cの表面が擦られ
るから、板材Cの表面がバフ仕上げされる。
To buff the surface of the plate with the above device,
As shown in FIG. 4, the plate material C is loaded on the front base 71,
Next, by starting the motor of the buffing machine B, the buffa flour 8,
While rotating 8, the buffing machine B moves over the top plate 1 of the wax supply device A and moves onto the plate material C, and then moves over the wax supply device A and returns to the rear gantry 72. In comparison with the rotational peripheral speed of the baffle 8,
When the traveling speed of the buffing machine B is low, the contact surfaces thereof rub against each other when the buff flour 8 passes over the upper surface of the rod-shaped solid wax 4, the solid wax adheres to the outer surface of the buff flour 8, and the plate material is Since the surface of C is rubbed, the surface of plate material C is buffed.

上記において、バフ機Bがロッド状固形ワックス4の
上面を通過するときのバフロール8の回転速度に較べ、
バフ機Bが板材C上に位置してバフ加工が行われつつあ
るときのバフロール8の回転速度を高速とすることが望
ましい。例えば、ワックス供給装置Aと前方架台71との
間にリミットスイッチを設け、バフ機Bの当該リミット
スイッチへの接触によってバフロール8の回転速度の切
り替えを行うことが望ましい。
In the above, compared to the rotation speed of the baffle 8 when the buffing machine B passes over the upper surface of the rod-shaped solid wax 4,
It is desirable to increase the rotation speed of the baffle 8 when the buffing machine B is positioned on the plate material C and buffing is being performed. For example, it is desirable to provide a limit switch between the wax supply device A and the front gantry 71, and to switch the rotation speed of the baffle 8 by contact of the buffing machine B with the limit switch.

上記バフ機Bの走行方向の切り替えは、通常リミット
スイッチによって行う。
Switching of the traveling direction of the buffing machine B is usually performed by a limit switch.

上記したように、バフ機Bがロッド状固形ワックス4
の上面を通過する毎にロッド状固形ワックス4の上面が
バフロール8で擦り取られ、該ワックス4の頭出量が次
第に減少していくので、所定期間ごとにワックス4の頭
出を行う必要がある。この操作は手動で行うこともでき
るが、自動化することが好ましい。この自動化のため
に、例えば、バフ機の走行方向逆転用のリミットスイッ
チの所定作動回数ごとに回転横軸52を所定量回転させて
ロッド状固形ワックス4を上昇させることができる。
As described above, the buffing machine B uses the rod-shaped solid wax 4
The upper surface of the rod-shaped solid wax 4 is scraped off by the baffle 8 each time it passes through the upper surface of the rod 4, and the amount of head of the wax 4 gradually decreases. is there. This operation can be performed manually, but is preferably automated. For this automation, for example, the rod-shaped solid wax 4 can be raised by rotating the rotating horizontal shaft 52 by a predetermined amount every predetermined number of times of operation of the limit switch for reversing the running direction of the buffing machine.

上記において、ワックス供給装置Aは車輪6,6によ
り、所定期間ごとに左右横方向にロッド状固形ワックス
4の横幅よりも短い距離で移動させることが好ましく、
この移動も、上記リミットスイッチの所定作動回数ごと
に自動的に行わせることができる。
In the above description, it is preferable that the wax supply device A be moved by the wheels 6 and 6 in the horizontal direction at predetermined intervals for a shorter distance than the horizontal width of the rod-shaped solid wax 4,
This movement can also be automatically performed every predetermined number of times of operation of the limit switch.

本発明に係わるワックス供給装置においては、上記し
た通り、ロッド状固形ワックス4の上端がバフロール8
によって擦り取られていくが、その擦り取状態はロッド
状固形ワックスの縦幅によって異なってくる。第5図に
おいて、1はワックス供給装置のボックス上面のプレー
ト、4はロッド状固形ワックス、8はバフロールであ
り、(I)は擦り取初期の状態を、(III)は最終状態
であってワックスの次の頭出しが行われる直前を、(I
I)は(I)と(III)との中間の状態をそれぞれ示して
いる。(II)の状態において、ロッド状固形ワックス4
の上端面の前方部は、それまでの擦り取によってテーパ
面aになってる。第5図の(II)において、回転中のバ
フロール8がロッド状固形ワックス4の上面を通過する
際、当該上面のテーパ面aと平坦面bとの間の凸部cが
バフロール8の表面に食い込み、バフロール8のヤング
率乃至は硬度とバフロール8の回転トルクに応じて、そ
の凸部cに剪断力が作用し、該凸部cの表層部分が擦り
取られてバフロール8に移着する。この凸部c以外のテ
ーパ面部a並びに平坦面部bの表層部分のバフロール8
への移着量は、上記凸部cの表層部分のバフロール8へ
の移着量に較べて極く僅かであり、従って、テーパ面部
a、平坦面部bが長いほど、バフロール8へのワックス
の移着効率が悪くなる。而して、ロッド状固形ワックス
4の縦幅が広いほど、上記した凸部cに対するテーパ面
部a又は平坦面部bの割合が大きくなるから、バフロー
ル8へのワックスの移着効率が悪くなる。而るに、本発
明においては、ロッド状固形ワックスを複数列の配列で
使用しているから、一列で使用する場合に較べ(バフロ
ール8が一回転する間にワックスに接触する周方向長さ
を同一として比較)、一のロッド状固形ワックスの縦幅
を小さくでき、従って、バフロールへのワックスの付着
効率をアップできる。
In the wax supply device according to the present invention, as described above, the upper end of the rod-shaped solid wax 4 is
The scraping state depends on the longitudinal width of the rod-shaped solid wax. In FIG. 5, 1 is a plate on the upper surface of the box of the wax supply device, 4 is a rod-shaped solid wax, 8 is a baffle, (I) is an initial state of scraping, and (III) is a final state of wax. Just before the next cue of (I
(I) shows an intermediate state between (I) and (III), respectively. In the state of (II), the rod-shaped solid wax 4
Has a tapered surface a due to the previous scraping. In FIG. 5 (II), when the rotating baffle 8 passes over the upper surface of the rod-shaped solid wax 4, a convex portion c between the tapered surface a and the flat surface b of the upper surface is formed on the surface of the baffle 8. In accordance with the bite, the Young's modulus or hardness of the baffle 8 and the rotational torque of the baffle 8, a shear force acts on the protrusion c, and the surface layer of the protrusion c is scraped off and transferred to the baffle 8. The baffle 8 on the surface layer of the tapered surface portion a and the flat surface portion b other than the convex portion c
The amount of transfer to the baffle 8 is very small compared to the amount of transfer of the surface layer portion of the convex portion c to the baffle 8. Transfer efficiency becomes poor. Thus, as the vertical width of the rod-shaped solid wax 4 increases, the ratio of the tapered surface portion a or the flat surface portion b to the convex portion c increases, so that the transfer efficiency of the wax to the baffle 8 deteriorates. According to the present invention, since the rod-shaped solid wax is used in a plurality of rows, the solid-state wax is used in a single row. The length of one rod-shaped solid wax can be reduced, so that the efficiency of attaching the wax to the baffle can be increased.

又、第5図において、ロッド状固形ワックス4の上面
にバフロール8との摩擦によって作用する力をF、プレ
ート1の穴2位置からロッド状固形ワックス4の上面ま
での高さをI、受皿3からプレート1の穴2位置までの
高さをLとすれば、ロッド状固形ワックス4の下端と受
皿3との間に作用する水平方向力fは、f=FI/Lであ
り、L≫Iであるから、fを極めて小さく抑え得る。従
って、ロッド状固形ワックス下端41の受皿3上での滑り
をよく防止でき、突出部31の係止作用と相俟って、ロッ
ド状固形ワックスを受皿3上に載置するだけでも、ロッ
ド状固形ワックスを安定に支持できる。
In FIG. 5, the force acting on the upper surface of the rod-shaped solid wax 4 by friction with the baffle 8 is F, the height from the position of the hole 2 of the plate 1 to the upper surface of the rod-shaped solid wax 4 is I, , The horizontal force f acting between the lower end of the rod-shaped solid wax 4 and the tray 3 is f = FI / L, and L≫I Therefore, f can be kept extremely small. Accordingly, it is possible to prevent the lower end 41 of the rod-shaped solid wax from slipping on the tray 3, and in combination with the locking action of the projection 31, the rod-shaped solid wax can be simply placed on the tray 3. Solid wax can be stably supported.

このように、本発明のワックス塗布装置によれば、ロ
ッド状固形ワックスを簡易な構成で安定に支持でき、か
かる安定支持状態のロッド状固形ワックスを優れた効率
でバフロールに付着させ得る。しかも、ロッド状固形ワ
ックスを複数列の互い違いに配列しているから、ワック
スをバフロールの前横幅に残すことなく付着させ得る。
As described above, according to the wax coating apparatus of the present invention, the rod-shaped solid wax can be stably supported with a simple configuration, and the rod-shaped solid wax in the stable supported state can be adhered to the baffle with excellent efficiency. In addition, since the rod-shaped solid waxes are alternately arranged in a plurality of rows, the wax can be attached without leaving the front width of the baffle.

(発明の効果) 本発明に係わるワックス塗布装置は、上述した通りの
構成であり、被処理面に固形ワックスを塗漏れなく充分
一様に塗布できる。従って、被バフ仕上げ面に固形ワッ
クスを優れた効率で、充分一様に塗布でき、前述した帯
電防止透明プラスチック板の製造方法におけるバフ仕上
げを、液状ワックス使用時での油分の固着等の不都合を
排除して、優れた作業能率で、且つ充分に均一に行うこ
とができる。又、プレートの穴にロッド状固形ワックス
を挿通し、その下端を上下可動の受皿で支承する簡易な
手段で固形ワックスを支持しているので、ワックス供給
装置の簡易化を図り得る。
(Effect of the Invention) The wax coating apparatus according to the present invention has the configuration as described above, and can apply the solid wax uniformly to the surface to be processed without coating leakage. Therefore, the solid wax can be sufficiently and uniformly applied to the surface to be buffed with excellent efficiency, and the buffing in the above-described method for producing an antistatic transparent plastic plate can be performed by using the liquid wax to prevent inconvenience such as sticking of oil. By excluding it, the work can be performed with excellent work efficiency and sufficiently uniformly. Further, since the solid wax is inserted into the hole of the plate and the solid wax is supported by a simple means of supporting the lower end of the solid wax with a vertically movable receiving tray, the wax supply device can be simplified.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明において使用するワックス供給装置の一
例を示す斜視図、第2図は第1図におけるII−II線断面
図、第3図は第1図における受皿の上下動機構を示す説
明図、第4図は本発明の一実施例を示す説明図、第5図
は本発明装置における固形ワックスのロールへの移着状
態を示す説明図である。 1……プレート、2……穴、3……受皿、4……ロッド
状固形ワックス、A……ワックス供給装置、8……バフ
ローラ。
FIG. 1 is a perspective view showing an example of a wax supply device used in the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II in FIG. 1, and FIG. FIG. 4 is an explanatory view showing an embodiment of the present invention, and FIG. 5 is an explanatory view showing a state in which solid wax is transferred to a roll in the apparatus of the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Plate, 2 ... Hole, 3 ... Receiving tray, 4 ... Rod-shaped solid wax, A ... Wax supply device, 8 ... Bafflora.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】多列で、且つ、互い違いに複数箇の穴を設
けたプレートの下部に、上下に可動の受皿を設け、該受
皿に、上記穴個数に対応した個数のロッド状固形ワック
スを載置し、各ロッド状固形ワックスの上端部を上記の
各穴から頭出してなるワックス供給装置と、上記プレー
トを越えて往復移動するバフローラとから構成されてい
ることを特徴とするワックス塗布装置。
A vertically movable pan is provided below a multi-row, alternately provided plate having a plurality of holes, and a plurality of rod-shaped solid waxes corresponding to the number of holes are provided in the pan. A wax coating device, comprising: a wax supply device which is mounted and crests the upper end of each rod-shaped solid wax from each of the holes, and a bafflor which reciprocates over the plate. .
JP17172190A 1990-06-28 1990-06-28 Wax coating equipment Expired - Lifetime JP2785999B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17172190A JP2785999B2 (en) 1990-06-28 1990-06-28 Wax coating equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17172190A JP2785999B2 (en) 1990-06-28 1990-06-28 Wax coating equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0463679A JPH0463679A (en) 1992-02-28
JP2785999B2 true JP2785999B2 (en) 1998-08-13

Family

ID=15928440

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17172190A Expired - Lifetime JP2785999B2 (en) 1990-06-28 1990-06-28 Wax coating equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2785999B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103692326B (en) * 2013-12-20 2016-04-13 华南理工大学 A kind of constant force polishing and Wax polishing device
CN110103149A (en) * 2019-06-06 2019-08-09 广东凌丰五金装备科技股份有限公司 A kind of automatic Wax applyor of transverse direction solid wax

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0463679A (en) 1992-02-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0696495B1 (en) Linear polisher and method for semiconductor wafer planarization
CN203400819U (en) Coating machine capable of quickly exchanging scrapper
CN109396970A (en) A kind of metal product superfinishing polishing process
CN103357537A (en) Coating machine capable of rapidly switching scrapers
DE69729779T2 (en) Method and device for polishing
CN218742885U (en) Antifouling dustproof synthetic leather coating device of environment-friendly
JP2785999B2 (en) Wax coating equipment
CN112476683B (en) Square wooden stock waxing machine ware
CN210650025U (en) Paper tube polishing device
US2218129A (en) Filming machine
CN211385923U (en) Bilateral edging machine of glass
CN212916828U (en) Oiling roller cleaning device
CN107790322A (en) A kind of film glue application device
JPH0487658A (en) Wax applicator
CN210054438U (en) Automatic egg brushing machine
CN110064561A (en) Automatic gum coater and its sizer for sand sponge production line
US2352040A (en) Straightening machine for sheet metal plates
CN219444472U (en) Core rod surface coating polishing device
JPH0636901B2 (en) Roll coating method
CN113976386B (en) Device and method for coating photosensitive rubber roller of etched magnesium plate
CN216765297U (en) Fabric glazing equipment
CN217890584U (en) Burnishing roll equipment is used in wooden furniture production
CN115448608B (en) Surface frosting treatment process for toughened glass
US2938810A (en) Apparatus and method of painting
CN215397721U (en) Cleaning grinding disc and cleaning device for printing machine platform