JP2782929B2 - Inner lead bonding mechanism and method of manufacturing TAB semiconductor device - Google Patents

Inner lead bonding mechanism and method of manufacturing TAB semiconductor device

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    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、キャリアフィルムを用いたいわゆるTAB式
半導体装置の製造方法及びそれに使用するインナリード
のボンディング機構に関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for manufacturing a so-called TAB semiconductor device using a carrier film and a bonding mechanism for inner leads used therein.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

半導体装置は、一般にリードフレームに設けたダイパ
ッドに半導体素子を取付け、半導体素子の外部電極とリ
ードフレームの端子とをそれぞれワイヤーで接続し、こ
れをエポキシ樹脂の如き熱硬化性樹脂でパッケージした
のち各端子を切断し、製造している。
In general, a semiconductor device attaches a semiconductor element to a die pad provided on a lead frame, connects an external electrode of the semiconductor element to a terminal of the lead frame with a wire, and packages each with a thermosetting resin such as an epoxy resin. The terminal is cut and manufactured.

ところで、最近では電子機器の小形化,薄形化に伴な
い、これに使用する半導体装置も高密度実装するため、
薄くかつ小形の半導体装置の出現が望まれている。この
ような要請に答えるべく、ポリイミドフィルムの如きキ
ャリアフィルムのデバイスホールに半導体素子を配設
し、この半導体素子の電極とキャリアフィルムのインナ
ーリードとを直接接続し、これに液状の樹脂(例えばエ
ポキシ樹脂)からなる封止材を印刷あるいはポッティン
グしてパッケージした方式の半導体装置が使用されるよ
うになった。キャリアフィルムを用いた従来のインナー
リードのボンディング装置の作用を説明する。供給台15
から移送されて予備加熱ステージ18上に載置された半導
体素子6は、位置決めガイド19により位置決めされ、移
送機構21によりボンディングステージ14上の所定の位置
に位置決めされる。一方、スプロケット12により搬送さ
れたフィルム1は、インナーリード3が半導体素子6上
に達した位置で停止し、半導体素子6に設けた多数の電
極4と、各インナーリード3とをそれぞれ整合させる。
このとき、半導体素子6はボンディングステージ14に内
蔵したヒーターにより本加熱される。この状態でボンデ
ィングヘッド8を下降させ、各インナーリード3に当接
させる。ついで、内蔵したヒータにより加熱されている
ボンディングツール9を圧下し、各インナーリード3と
半導体素子6の多数の電極4を加熱かつ加圧し融着させ
接合する。ボンディングが終ったときは、ボンディング
ツール9の加圧を解除すると共に、ボンディングヘッド
8を上昇させる。ついでキャリアフィルム1を1駒搬送
させると共に、次の半導体素子6を載置し、上記と同様
にしてボンディングを行なう。
By the way, recently, with the miniaturization and thinning of electronic devices, semiconductor devices used for them have to be mounted at high density.
There is a demand for a thin and small semiconductor device. In order to respond to such a demand, a semiconductor element is provided in a device hole of a carrier film such as a polyimide film, and an electrode of the semiconductor element is directly connected to an inner lead of the carrier film. A semiconductor device of a type in which a sealing material made of resin is printed or potted and packaged has been used. The operation of the conventional inner lead bonding apparatus using a carrier film will be described. Supply stand 15
The semiconductor element 6 transferred from the semiconductor device 6 and placed on the preheating stage 18 is positioned by the positioning guide 19, and is positioned at a predetermined position on the bonding stage 14 by the transfer mechanism 21. On the other hand, the film 1 conveyed by the sprocket 12 stops at the position where the inner leads 3 have reached the semiconductor elements 6, and aligns the plurality of electrodes 4 provided on the semiconductor elements 6 with the respective inner leads 3.
At this time, the semiconductor element 6 is fully heated by a heater built in the bonding stage 14. In this state, the bonding head 8 is lowered and brought into contact with each inner lead 3. Then, the bonding tool 9 heated by the built-in heater is lowered, and the inner leads 3 and a large number of electrodes 4 of the semiconductor element 6 are heated and pressed to be fused and joined. When the bonding is completed, the pressure of the bonding tool 9 is released and the bonding head 8 is raised. Next, the carrier film 1 is transported by one frame, the next semiconductor element 6 is placed, and bonding is performed in the same manner as described above.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

上記のようなインナーリードのボンディング装置にお
いては、通常、予備加熱ステージ18上で半導体素子6を
加熱し、移送機構21により、ボンディングステージ14上
で半導体素子6を加熱し、ボンディングツール9により
加熱加圧してボンディングすることが望ましい。しかし
ながら、現在の製造工程においては、半導体素子6をボ
ンディングステージ14上にサーチしてからボンディング
を行なう迄の時間はごく短時間であるため、必要な温度
まで上昇しないうちにボンディングせざるを得ない。ボ
ンディングツール9は加熱しているが、それでも半導体
素子6の表面温度は低下するため、ときとして接続不良
を生じたり、ボンディング強度が不充分であるなどして
充分な信頼性が得られないことがあった。
In the inner lead bonding apparatus as described above, usually, the semiconductor element 6 is heated on the preheating stage 18, the semiconductor element 6 is heated on the bonding stage 14 by the transfer mechanism 21, and the heating is performed by the bonding tool 9. It is desirable to bond by pressing. However, in the current manufacturing process, since the time from the search for the semiconductor element 6 on the bonding stage 14 to the bonding is very short, the bonding must be performed before the temperature is raised to the required temperature. . Although the bonding tool 9 is heated, since the surface temperature of the semiconductor element 6 is still lowered, it is sometimes difficult to obtain sufficient reliability due to poor connection or insufficient bonding strength. there were.

ボンディング時の半導体素子6の温度を高めるために
は、加熱時間を長くすればよいが、これでは当然のこと
ながら生産性が低下する。
In order to raise the temperature of the semiconductor element 6 at the time of bonding, the heating time may be increased, but this naturally lowers the productivity.

また、半導体素子6をボンディングステージ14と高温
のボンディングツール9で急激に加熱するため、パッシ
ベーション膜にクラックが発生することもあった。
Further, since the semiconductor element 6 is rapidly heated by the bonding stage 14 and the high-temperature bonding tool 9, cracks may occur in the passivation film.

本発明は、上記の課題を解決するもので、半導体素子
を短時間で必要温度まで加熱し、しかも、クラック等を
発生することなくボンディングを行なうことのできるイ
ンナーリードのボンディング装置を得ることを目的とし
たものである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and to provide an inner lead bonding apparatus capable of heating a semiconductor element to a required temperature in a short time and performing bonding without generating a crack or the like. It is what it was.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明にかかるインナリードのボンディング機構は、
半導体素子が載置されるステージとなる供給ステージ
と、前記供給ステージから所定距離離れて位置し前記半
導体素子を加熱するステージとなる予備加熱ステージ
と、前記供給ステージ及び前記予備加熱ステージから所
定距離離れて位置し前記加熱された半導体素子の電極と
キャリアフィルムのインナリードとを加圧及び更に加熱
して接続するステージとなるボンディングステージと、
前記供給ステージから前記予備加熱ステージに及び前記
予備加熱ステージから前記ボンディングステージに前記
半導体素子を搬送する移送機構と、を含み、前記移送機
構には、前記半導体素子を吸着して搬送するピックアッ
プヘッドを有し、前記ピックアップヘッドには加熱機構
が設けられてなることを特徴とする。
The bonding mechanism of the inner lead according to the present invention includes:
A supply stage serving as a stage on which a semiconductor element is mounted, a pre-heating stage positioned at a predetermined distance from the supply stage and serving as a stage for heating the semiconductor element, and a predetermined distance from the supply stage and the pre-heating stage A bonding stage that is a stage that is connected to the electrode of the heated semiconductor element and the inner lead of the carrier film by pressing and further heating.
A transfer mechanism for transporting the semiconductor element from the supply stage to the preheating stage and from the preheating stage to the bonding stage, wherein the transport mechanism includes a pickup head that sucks and transports the semiconductor element. Wherein the pickup head is provided with a heating mechanism.

また、前記ピックアップヘッドは、前記加熱機構を有
する第1のピックアップヘッドと、第2のピックアップ
ヘッドとを有し、第1及び第2ピックアップヘッドは一
体的に形成されてなることを特徴とする。
Further, the pickup head has a first pickup head having the heating mechanism and a second pickup head, and the first and second pickup heads are formed integrally.

また更に前記第1のピックアップヘッドは前記予備加
熱ステージから前記ボンディングステージまでの間の搬
送に用いられ、前記第2のピックアップヘッドは前記供
給ステージから前記予備加熱ステージまでの間の搬送に
用いられてなることを特徴とする。
Still further, the first pickup head is used for conveyance between the preheating stage and the bonding stage, and the second pickup head is used for conveyance between the supply stage and the preheating stage. It is characterized by becoming.

一方、本発明にかかるTAB式半導体装置の製造方法と
しては、半導体素子の電極とフィルムキャリアのインナ
リードとを加熱及び加圧により接続するTAB式半導体装
置の製造方法であって、供給ステージに載置された半導
体素子を前記供給ステージから所定距離離れた予備加熱
ステージに搬送する工程と、搬送された前記半導体素子
を前記予備加熱ステージにて加熱する工程と、加熱され
た前記半導体素子を更に加熱しながら前記予備加熱ステ
ージから所定距離離れたボンディングステージに搬送す
る工程と、搬送された前記半導体素子の電極とキャリア
フィルムのインナリードとを前記ボンディングステージ
にて加圧及び加熱して接続する工程と、を含んでなるこ
とを特徴とする。
On the other hand, the method for manufacturing a TAB type semiconductor device according to the present invention is a method for manufacturing a TAB type semiconductor device in which electrodes of a semiconductor element and inner leads of a film carrier are connected by heating and pressing, and is mounted on a supply stage. Transporting the placed semiconductor element to a preheating stage at a predetermined distance from the supply stage, heating the transported semiconductor element in the preheating stage, and further heating the heated semiconductor element. Transporting the semiconductor element to the bonding stage at a predetermined distance from the pre-heating stage, and connecting the transported electrode of the semiconductor element and the inner lead of the carrier film by pressing and heating at the bonding stage. , Is characterized by the following.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は本発明実施例の要部を示す斜視図である。図
において、8は機械本体7に上下動可能に支持され圧下
しうるように構成されたボンディングヘッドで、ヒータ
ーを内蔵したボンディングツール9を備えている。10は
穴11を有し、装置本体7に固定されたガイド板、12は装
置本体7に回転可能に取付けられ、キャリアフィルム1
をガイド板10に沿ってガイドするガイドローラである。
13はX−Yテーブル上に設けられ上部にヒータを内蔵し
たボンディングステージ14を備えたボンディング台、15
はX−Yテーブル上に設けられ、多数の半導体素子6が
形成されたウエハー16を載置する供給ステージ、17はX
−Yテーブル上に設けられた予備加熱台で、上部にはヒ
ーターを内蔵した予備加熱ステージ18及び位置決めガイ
ド19が設けられている。21,22は上下動可能な回転軸20
に取付けられ、共同して回動する第1,第2のピックアッ
プヘッドで、予備加熱ステージ18と供給ステージ15の半
導体素子6を吸着し移送する。
FIG. 1 is a perspective view showing a main part of an embodiment of the present invention. In the figure, reference numeral 8 denotes a bonding head which is supported by a machine main body 7 so as to be vertically movable and can be depressed, and includes a bonding tool 9 having a built-in heater. A guide plate 10 has a hole 11 and is fixed to the apparatus main body 7. A guide plate 12 is rotatably mounted on the apparatus main body 7.
Is a guide roller that guides along the guide plate 10.
Reference numeral 13 denotes a bonding table provided on an XY table and provided with a bonding stage 14 having a built-in heater at an upper portion;
Is a supply stage on a XY table, on which a wafer 16 on which a large number of semiconductor elements 6 are formed is placed.
A pre-heating stage provided on a -Y table, on which a pre-heating stage 18 having a built-in heater and a positioning guide 19 are provided. 21 and 22 are rotary shafts 20 that can move up and down
The pre-heating stage 18 and the semiconductor element 6 of the supply stage 15 are sucked and transferred by the first and second pickup heads which are attached to and rotate together.

21は第1のピックアップヘッドで下部にはヒーターを
内蔵したヘッドが設けられている。
Reference numeral 21 denotes a first pickup head provided with a head having a built-in heater at a lower portion.

先ず、最初に第2のピックアップヘッド22を供給ステ
ージ15の上まで回動し、1個の半導体素子6を吸着させ
る。次いで第1のピックアップヘッド21を予備加熱ステ
ージ18上まで回動させて半導体素子6を位置決めガイド
19に沿って予備加熱ステージ18上に載置する。このと
き、第2のピックアップヘッド22は供給ステージ15上に
位置している。第1のピックアップヘッド21は予備加熱
ステージ18上の半導体素子6を、又、第2のピックアッ
プヘッド22は供給ステージ15の次の半導体素子6をそれ
ぞれ吸着して矢印a方向に回動する。そして第1のピッ
クアップヘッド21は半導体素子6を加熱してボンディン
グステージ14上に、又、第2のピックアップヘッド22は
半導体素子6を予備加熱ステージ18上にそれぞれ載置し
たのち再び矢印b方向に回動し位置する。ボンディング
ステージ14上の半導体素子6に設けた多数の電極4と、
各インナーリード3とを整合させ、ボンディングツール
9が下降してボンディングを行ない、ボンディングが終
るとボンディングツール9を上昇させキャリアフィルム
1を1駒前進させる。このような動作を繰返して半導体
素子6をピックアップヘッド21で加熱したのちボンディ
ングステージ14で必要温度まで加熱して順次ボンディン
グを行なう。半導体素子6は予備加熱ステージ18上とピ
ックアップヘッド21とボンディングステージ14上で本加
熱されるので、短時間でボンディングを行なうことがで
き、しかもボンディングツール9を高温に加熱する必要
もない。
First, the second pickup head 22 is first rotated to a position above the supply stage 15 to adsorb one semiconductor element 6. Next, the first pickup head 21 is rotated over the preheating stage 18 to position the semiconductor element 6 in the positioning guide.
It is placed on the preheating stage 18 along the line 19. At this time, the second pickup head 22 is located on the supply stage 15. The first pickup head 21 adsorbs the semiconductor element 6 on the preheating stage 18 and the second pickup head 22 adsorbs the next semiconductor element 6 on the supply stage 15 and rotates in the direction of arrow a. Then, the first pickup head 21 heats the semiconductor element 6 and places it on the bonding stage 14, and the second pickup head 22 puts the semiconductor element 6 on the preliminary heating stage 18 and then moves in the direction of arrow b again. Rotate and position. A large number of electrodes 4 provided on the semiconductor element 6 on the bonding stage 14,
The bonding tool 9 is lowered and bonding is performed by aligning the inner leads 3 with each other. When bonding is completed, the bonding tool 9 is raised and the carrier film 1 is advanced by one frame. By repeating such operations, the semiconductor element 6 is heated by the pickup head 21 and then heated to a required temperature by the bonding stage 14 to perform bonding in sequence. Since the semiconductor element 6 is fully heated on the preliminary heating stage 18, the pickup head 21, and the bonding stage 14, bonding can be performed in a short time, and it is not necessary to heat the bonding tool 9 to a high temperature.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上の説明から明らかなように、本発明はインナーリ
ードのボンディング装置において、ボンディングステー
ジと予備加熱ステージとの間のピックアップヘッドに加
熱ヘッドを設け、加熱された半導体素子をボンディング
ステージに供給して、ボンディングをするようにしたの
で、接続不良や強度不足を生じることがない。また半導
体素子を急激に加熱することもないので、パッシベーシ
ョン膜等にクラック・ワレ等が発生するおそれもなく、
信頼性の高いボンディング装置をうることができる。さ
らに半導体素子を予備加熱と加熱をし短時間で本加熱で
きるので生産性も向上させることができる。
As is apparent from the above description, the present invention provides an inner lead bonding apparatus, in which a heating head is provided in a pickup head between a bonding stage and a preliminary heating stage, and a heated semiconductor element is supplied to the bonding stage. Since bonding is performed, connection failure and insufficient strength do not occur. Also, since the semiconductor element is not rapidly heated, there is no fear that cracks and cracks are generated in the passivation film and the like,
A highly reliable bonding apparatus can be obtained. Further, since the semiconductor element can be pre-heated and heated and can be fully heated in a short time, productivity can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明実施例の斜視図、第2図はボンディング
の拡大断面図である。 1……キャリアフィルム 2……デバイスホール 3……インナーリード 4……半導体素子の電極 6……半導体素子 7……ボンディング装置 8……ボンディングヘッド 9……ボンディングツール 10……ガイド板 11……穴 12……スプロケット 13……X−Yテーブルボンディング台 14……ボンディングステージ 15……供給ステージ 16……ウエハー 17……X−Yテーブル予備加熱台 18……予備加熱ステージ 19……位置決めガイド 20……上下動可能な回転軸 21……ヒーター内蔵のピックアップヘッド 22……ピックアップヘッド
FIG. 1 is a perspective view of an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged sectional view of bonding. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Carrier film 2 ... Device hole 3 ... Inner lead 4 ... Semiconductor element electrode 6 ... Semiconductor element 7 ... Bonding device 8 ... Bonding head 9 ... Bonding tool 10 ... Guide plate 11 ... Hole 12 Sprocket 13 XY table bonding table 14 Bonding stage 15 Supply stage 16 Wafer 17 XY table preheating table 18 Preheating stage 19 Positioning guide 20 … Rotating shaft that can move up and down 21… Pick-up head with built-in heater 22… Pick-up head

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】半導体素子が載置されるステージとなる供
給ステージと、前記供給ステージから所定距離離れて位
置し前記半導体素子を加熱するステージとなる予備加熱
ステージと、前記供給ステージ及び前記予備加熱ステー
ジから所定距離離れて位置し前記加熱された半導体素子
の電極とキャリアフィルムのインナリードとを加圧及び
更に加熱して接続するステージとなるボンディングステ
ージと、前記供給ステージから前記予備加熱ステージに
及び前記予備加熱ステージから前記ボンディングステー
ジに前記半導体素子を搬送する移送機構と、を含み、 前記移送機構には、前記半導体素子を吸着して搬送する
ピックアップヘッドを有し、前記ピックアップヘッドに
は加熱機構が設けられてなることを特徴とするインナー
リードのボンディング機構。
1. A supply stage on which a semiconductor element is mounted, a preheating stage located at a predetermined distance from the supply stage and heating the semiconductor element, a supply stage and the preheating. A bonding stage that is a stage that is connected to the heated semiconductor element electrode and the inner lead of the carrier film by pressing and further heating and is located at a predetermined distance from the stage, and from the supply stage to the preheating stage. And a transfer mechanism for transferring the semiconductor element from the preheating stage to the bonding stage. The transfer mechanism has a pickup head for sucking and transferring the semiconductor element, and the pickup head has a heating mechanism Characterized by being provided with an inner lead bondin Mechanism.
【請求項2】前記ピックアップヘッドは、前記加熱機構
を有する第1のピックアップヘッドと、第2のピックア
ップヘッドとを有し、第1及び第2ピックアップヘッド
は一体的に形成されてなることを特徴とする請求項1記
載のインナーリードのボンディング機構。
2. The pickup head includes a first pickup head having the heating mechanism and a second pickup head, wherein the first and second pickup heads are integrally formed. The bonding mechanism for an inner lead according to claim 1, wherein
【請求項3】前記第1のピックアップヘッドは前記予備
加熱ステージから前記ボンディングステージまでの間の
搬送に用いられ、前記第2のピックアップヘッドは前記
供給ステージから前記予備加熱ステージまでの間の搬送
に用いられてなることを特徴とする請求項2記載のイン
ナーリードのボンディング機構。
3. The first pickup head is used for conveyance between the preheating stage and the bonding stage, and the second pickup head is used for conveyance between the supply stage and the preheating stage. 3. The inner lead bonding mechanism according to claim 2, wherein the bonding mechanism is used.
【請求項4】半導体素子の電極とフィルムキャリアのイ
ンナリードとを加熱及び加圧により接続するTAB式半導
体装置の製造方法であって、 供給ステージに載置された半導体素子を前記供給ステー
ジから所定距離離れた予備加熱ステージに搬送する工程
と、 搬送された前記半導体素子を前記予備加熱ステージにて
加熱する工程と、 加熱された前記半導体素子を更に加熱しながら前記予備
加熱ステージから所定距離離れたボンディングステージ
に搬送する工程と、 搬送された前記半導体素子の電極とキャリアフィルムの
インナリードとを前記ボンディングステージにて加圧及
び加熱して接続する工程と、 を含んでなることを特徴とするTAB式半導体装置の製造
方法。
4. A method of manufacturing a TAB type semiconductor device, comprising connecting an electrode of a semiconductor element and an inner lead of a film carrier by heating and pressurizing, wherein a semiconductor element mounted on a supply stage is moved from the supply stage to a predetermined position. Conveying the semiconductor element to the preheating stage at a distance, heating the conveyed semiconductor element by the preheating stage, and moving the semiconductor element by a predetermined distance from the preheating stage while further heating the heated semiconductor element. Transporting to the bonding stage; and pressing and heating the transported electrode of the semiconductor element and the inner lead of the carrier film at the bonding stage by pressurizing and heating, the TAB comprising: A method for manufacturing a semiconductor device.
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