JP2748894B2 - Exposure equipment - Google Patents
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- JP2748894B2 JP2748894B2 JP7215956A JP21595695A JP2748894B2 JP 2748894 B2 JP2748894 B2 JP 2748894B2 JP 7215956 A JP7215956 A JP 7215956A JP 21595695 A JP21595695 A JP 21595695A JP 2748894 B2 JP2748894 B2 JP 2748894B2
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は露光装置に係り、特
に光記録媒体製造用原盤の露光装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exposure apparatus, and more particularly, to an exposure apparatus for a master for producing an optical recording medium.
【0002】[0002]
【従来の技術】光ビームの照射によって光学特性を変化
させて情報の記録・再生を行う光記録媒体の製造に際し
ては、予め記録する情報ピットや案内溝の凹凸パターン
を形成した光記録媒体製造用原盤に基づいて情報の記録
・再生を行うための光記録媒体を大量に製造するように
している。そして、その光記録媒体製造用原盤は、従来
は露光装置により作成される(例えば、特開平4−49
527号、特開平4−205722号各公報)。2. Description of the Related Art When manufacturing an optical recording medium for recording / reproducing information by changing optical characteristics by irradiating a light beam, a method for manufacturing an optical recording medium in which a concave / convex pattern of information pits and guide grooves to be recorded is formed in advance. Optical recording media for recording / reproducing information based on the master are manufactured in large quantities. The master for producing the optical recording medium is conventionally produced by an exposure apparatus (for example, see Japanese Patent Laid-Open No. 4-49).
No. 527, JP-A-4-205722).
【0003】図2は上記の従来の露光装置の一例の構成
図を示す。この露光装置は、レーザビーム1を発振する
レーザ発振器2と、レーザビーム1をパワー制御するパ
ワー制御部3と、露光パターンに対応した光変調を行う
光変調器4と、光変調器4からのレーザビーム1のビー
ム径を拡大するエキスパンダレンズ5と、レーザビーム
1を垂直方向に向きを変える折り返しミラー14と、レ
ーザビーム1とフォーカス用レーザビーム15を集光す
る対物レンズを含んだヘッド16と、集光されたレーザ
ビームが照射されるフォトレジスト盤17を固定した回
転機構部18と、フォトレジスト盤17で反射されたフ
ォーカス用レーザビーム15を検出し、常にフォトレジ
スト盤17とヘッド16を等距離に保つフォーカスサー
ボアクチュエータ19で構成される。FIG. 2 is a block diagram showing an example of the above-described conventional exposure apparatus. This exposure apparatus includes a laser oscillator 2 that oscillates a laser beam 1, a power control unit 3 that controls the power of the laser beam 1, an optical modulator 4 that performs optical modulation corresponding to an exposure pattern, A head 16 including an expander lens 5 for enlarging the beam diameter of the laser beam 1, a folding mirror 14 for changing the direction of the laser beam 1 in the vertical direction, and an objective lens for condensing the laser beam 1 and a focusing laser beam 15 And a rotating mechanism 18 to which a photoresist disk 17 to which the focused laser beam is irradiated is fixed, and a focusing laser beam 15 reflected by the photoresist disk 17 is detected. Are maintained at the same distance from each other by a focus servo actuator 19.
【0004】光変調器4を常時オンにすると案内溝がフ
ォトレジスト盤17に露光され、光変調器4をオン−オ
フの変調をすることでピットがフォトレジスト盤17に
露光される。例えば、フォトレジスト盤17を固定した
回転機構部18を一定回転数で回転させ、エキスパンダ
レンズ5、折り返しミラー14、ヘッド16を含んだ移
動光学系20を等速で移動させることで、スパイラルの
案内溝を内周から外周に露光することができる。When the light modulator 4 is always turned on, the guide groove is exposed on the photoresist board 17, and when the light modulator 4 is modulated on / off, the pits are exposed on the photoresist board 17. For example, the rotating mechanism 18 to which the photoresist board 17 is fixed is rotated at a constant rotation speed, and the moving optical system 20 including the expander lens 5, the folding mirror 14, and the head 16 is moved at a constant speed, thereby forming a spiral. The guide groove can be exposed from the inner periphery to the outer periphery.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来の露光装置では、レーザ発振器2が発振しているレ
ーザビーム1の光軸がレーザの状態により変動すること
がある。この光軸の変動はヘッド16の対物レンズに対
する入射点を変化させるため、露光中にレーザビーム1
の光軸の変動が生じると、レーザビーム1の強度が変化
する。However, in the above-described conventional exposure apparatus, the optical axis of the laser beam 1 oscillated by the laser oscillator 2 may fluctuate depending on the state of the laser. This fluctuation of the optical axis changes the point of incidence of the head 16 on the objective lens.
When the optical axis fluctuates, the intensity of the laser beam 1 changes.
【0006】また、露光する際に移動光学系20を移動
させるため、移動光学系20の移動軸とレーザビームの
光軸との微小な角度分だけ、ヘッド16の対物レンズに
対する入射点が変化してしまい、その結果、露光中に入
射点が漸次変化することで、レーザビームの強度変化が
起きる。Further, since the moving optical system 20 is moved during exposure, the incident point of the head 16 on the objective lens changes by a small angle between the moving axis of the moving optical system 20 and the optical axis of the laser beam. As a result, the incident point gradually changes during exposure, so that the intensity of the laser beam changes.
【0007】更に、ヘッド16とフォトレジスト盤17
がフォーカスサーボによって一定距離を保持する構成と
なっているため、集光されたレーザビームの焦点深度か
ら漸次はずれて露光することもあることから、露光され
る案内溝やピット形状が内周と外周で変化してしまうと
いう欠点がある。Further, the head 16 and the photoresist board 17
Is designed to keep a certain distance by the focus servo, so that the exposure may gradually deviate from the focal depth of the focused laser beam. There is a drawback that it changes with the.
【0008】本発明は以上の点に鑑みなされたもので、
露光中に対物レンズへのレーザビーム入射点を一定に保
つことができる露光装置を提供することを目的とする。[0008] The present invention has been made in view of the above points,
An object of the present invention is to provide an exposure apparatus capable of keeping a laser beam incident point on an objective lens constant during exposure.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明は上記の目的を達
成するため、レーザビームを出射する光源と、表面にフ
ォトレジストが塗布されたフォトレジスト盤と、フォト
レジスト盤を回転する回転機構部と、光源からフォトレ
ジスト盤に至るレーザビームの一部を分岐する分岐手段
と、分岐手段により分岐されたレーザビームの光軸位置
ずれを検出するセンサ部と、分岐手段を通過したレーザ
ビームをフォトレジスト盤上に集光する対物レンズを備
えたヘッドと、センサ部の出力位置ずれ検出信号に基づ
いて位置ずれ量を計算する演算部と、光源と分岐手段と
の間のレーザビームの光路中に設けられ、演算部の位置
ずれ量演算結果に基づいて、レーザビームの光軸位置ず
れを補正する補正手段とを有する構成としたものであ
る。In order to achieve the above object, the present invention provides a light source for emitting a laser beam, a photoresist disk having a surface coated with a photoresist, and a rotating mechanism for rotating the photoresist disk. A branching unit for branching a part of the laser beam from the light source to the photoresist board, a sensor unit for detecting an optical axis position shift of the laser beam branched by the branching unit, and a laser beam passing through the branching unit. A head having an objective lens for focusing on a resist board, an operation unit for calculating a displacement amount based on an output displacement detection signal of a sensor unit, and an optical path of a laser beam between the light source and the branching unit. And a correcting means for correcting the displacement of the optical axis of the laser beam based on the displacement result of the computing unit.
【0010】 ここで、本発明における上記の補正手段
は、光源から出射されたレーザビームの光路を変える第
1のミラーと、第1のミラーにより反射されたレーザビ
ームの光路を再度変える第2のミラーと、演算部の出力
位置ずれ量演算結果に基づいて、光軸補正量の水平方向
分と垂直方向分の一方を補正するように第1のミラーを
駆動する第1のミラー駆動部と、演算部の出力位置ずれ
量演算結果に基づいて、光軸補正量の水平方向分と垂直
方向分の他方を補正するように第2のミラーを駆動する
第2のミラー駆動部とよりなることを特徴とする。 Here, the correcting means in the present invention comprises a first mirror for changing the optical path of the laser beam emitted from the light source, and a second mirror for changing the optical path of the laser beam reflected by the first mirror again. A mirror, and a first mirror driving unit that drives the first mirror so as to correct one of a horizontal direction component and a vertical direction component of the optical axis correction amount based on an output position shift amount calculation result of the calculation unit; A second mirror driving unit that drives the second mirror so as to correct the other of the optical axis correction amount in the horizontal direction and the vertical direction based on the output position shift amount calculation result of the calculation unit. Features.
【0011】また、本発明は光源の出射レーザビームの
強度を露光すべき情報に応じて変調する変調器と、ヘッ
ドとフォトレジスト盤表面との距離を一定に保つように
制御するフォーカスサーボ手段とを有し、分岐手段、セ
ンサ部及びヘッドは移動光学系を構成し、露光中にフォ
トレジスト盤の半径方向へ移動することを特徴とする。The present invention also provides a modulator for modulating the intensity of a laser beam emitted from a light source in accordance with information to be exposed, and a focus servo means for controlling a distance between a head and a photoresist disk surface to be kept constant. And the branching means, the sensor section, and the head constitute a moving optical system, and move in the radial direction of the photoresist disc during exposure.
【0012】本発明では、予め光軸調整された光学系
で、光源からフォトレジスト盤に至るレーザビームの光
軸位置ずれをセンサ部により検出し、演算部により位置
ずれ検出信号に基づいて位置ずれ量を計算して、補正手
段によりレーザビームの光軸位置ずれを補正して光軸位
置ずれに元に戻すようにしたため、光源から出射された
レーザビームの光軸が光源の状態により変動しても当該
変動を補正でき、ヘッドの対物レンズへのレーザビーム
入射点を一定に保つことができる。In the present invention, the optical axis of the laser beam from the light source to the photoresist board is detected by the sensor unit in the optical system whose optical axis has been adjusted in advance, and the arithmetic unit detects the positional deviation based on the positional deviation detection signal. Since the amount is calculated and the optical axis position shift of the laser beam is corrected by the correction means and returned to the optical axis position shift, the optical axis of the laser beam emitted from the light source fluctuates depending on the state of the light source. Can also correct the fluctuation and keep the laser beam incident point on the objective lens of the head constant.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面と共に説明する。図1は本発明の一実施の形態の
構成図を示す。同図中、図2と同一構成部分には同一符
号を付してある。図1において、光変調器4とエキスパ
ンダレンズ5との間のレーザビーム1の光路中に、ミラ
ー10及び12が設けられ、またエキスパンダレンズ5
と折り返しミラー14との間のレーザビーム1の光路中
にビームスプリッタ7が設けられ、更に、ビームスプリ
ッタ7により分岐された一部の光をモニタするセンサ部
8と、センサ部8の出力信号から所定の演算を実行する
演算部9と、ミラー駆動部11及び13を新たに設けた
点に特徴を有する。Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows a configuration diagram of an embodiment of the present invention. 2, the same components as those in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals. In FIG. 1, mirrors 10 and 12 are provided in the optical path of the laser beam 1 between the light modulator 4 and the expander lens 5.
A beam splitter 7 is provided in an optical path of the laser beam 1 between the laser beam 1 and the return mirror 14. Further, a sensor unit 8 that monitors a part of the light split by the beam splitter 7 and an output signal of the sensor unit 8 are used. It is characterized in that an operation unit 9 for executing a predetermined operation and mirror driving units 11 and 13 are newly provided.
【0014】パワー制御部3はEO(Electro
Optic)変調器から構成されており、所望のパワー
が得られる電圧を設定し、制御する。また、光変調器4
はEO変調器あるいはAO(Acoust Opti
c)変調器から構成されている。センサ部8は4分割フ
ォトディテクタから構成されている。The power control unit 3 is provided with an EO (Electro
Optic), and sets and controls a voltage at which a desired power is obtained. Also, the optical modulator 4
Is an EO modulator or AO (Acoustic Opti)
c) It consists of a modulator. The sensor section 8 is composed of a four-division photodetector.
【0015】エキスパンダレンズ5、ビームスプリッタ
7、センサ部8、折り返しミラー14及びヘッド16は
フォトレジスト盤17の上方をフォトレジスト盤17の
半径方向に移動する移動光学系25を構成している。な
お、ヘッド16はフォーカスサーボアクチュエータ19
の出力信号により、フォトレジスト盤17の表面に対し
て垂直方向に移動制御されることは従来と同様である。The expander lens 5, the beam splitter 7, the sensor unit 8, the folding mirror 14, and the head 16 constitute a moving optical system 25 that moves above the photoresist board 17 in the radial direction of the photoresist board 17. The head 16 is provided with a focus servo actuator 19
Is controlled in the vertical direction with respect to the surface of the photoresist board 17 by the output signal of FIG.
【0016】次に、この実施の形態の動作について説明
する。事前に適正位置に調整されたレーザビーム1がレ
ーザ発振器2から出射され、このレーザビーム1がパワ
ー制御部3によりパワー制御された後、光変調器4に入
射されて露光パターンに対応した光変調を受ける。光変
調器4より変調を受けて出射されたレーザビーム1は、
ミラー10により光軸補正量の水平方向分を補正されて
光路が変えられ、更にミラー12に入射されて光軸補正
量の垂直方向分が補正されるように光路が変えられた
後、エキスパンダレンズ5によりビーム径が拡大されて
ビームスプリッタ7に入射され、一部が透過して残りが
反射される。Next, the operation of this embodiment will be described. A laser beam 1 adjusted to an appropriate position in advance is emitted from a laser oscillator 2, this laser beam 1 is power-controlled by a power control unit 3, and then enters a light modulator 4 to perform light modulation corresponding to an exposure pattern. Receive. The laser beam 1 emitted after being modulated by the optical modulator 4 is
The mirror 10 corrects the horizontal direction of the optical axis correction amount to change the optical path, and further enters the mirror 12 to change the optical path so that the vertical direction amount of the optical axis correction amount is corrected. The beam diameter is expanded by the lens 5 and is incident on the beam splitter 7, where a part is transmitted and the rest is reflected.
【0017】ビームスプリッタ7を透過した一部のレー
ザビームは、折り返しミラー14により垂直方向に向き
が変えられてヘッド16内の対物レンズにより、図示し
ない光源よりのフォーカス用レーザビーム15と共にフ
ォトレジスト盤17の表面に集光される。フォトレジス
ト盤17で反射されたフォーカス用レーザビーム15
は、フォーカスサーボアクチュエータ19により検出さ
れ、常にフォトレジスト盤17とヘッド16を等距離に
保つ。A part of the laser beam transmitted through the beam splitter 7 is turned in the vertical direction by a folding mirror 14 and is moved by an objective lens in a head 16 together with a focusing laser beam 15 from a light source (not shown) on a photoresist disk. The light is condensed on the surface 17. Focusing laser beam 15 reflected by photoresist disk 17
Is detected by the focus servo actuator 19 and always keeps the photoresist disc 17 and the head 16 at the same distance.
【0018】フォトレジスト盤17はその表面にフォト
レジストが塗布されており、回転機構部18により回転
されており、レーザビーム1の照射された部分が露光さ
れる。このフォトレジスト盤17はその後現像等された
後、スタンパ盤作成の基となる。The photoresist disk 17 has a surface coated with a photoresist, and is rotated by a rotation mechanism 18, so that the portion irradiated with the laser beam 1 is exposed. After the photoresist disk 17 is developed thereafter, it becomes a basis for forming a stamper disk.
【0019】一方、ビームスプリッタ7で反射した残り
のレーザビーム1(モニタ光6)は、図1に示すよう
に、4分割された受光部A、B、C及びDからなる4分
割フォトディテクタであるセンサ部8に入射されて光軸
位置のずれに応じたレベルの光軸位置ずれ検出信号aに
変換された後、演算部9に供給される。ここで、レーザ
ビーム1の最良の光軸位置のときに、センサ部8を構成
する4分割フォトディテクタの中心位置にモニタ光6が
照射されるように、予めミラー10及び12等の位置が
調整されている。On the other hand, the remaining laser beam 1 (monitor light 6) reflected by the beam splitter 7 is a four-divided photodetector composed of four divided light receiving units A, B, C and D as shown in FIG. After being incident on the sensor unit 8 and converted into an optical axis position shift detection signal a having a level corresponding to the shift of the optical axis position, the signal is supplied to the arithmetic unit 9. Here, the positions of the mirrors 10 and 12 are adjusted in advance so that the monitor light 6 is applied to the center position of the four-divided photodetector constituting the sensor unit 8 when the optical axis position of the laser beam 1 is the best. ing.
【0020】すなわち、センサ部8の中心からモニタ光
6が図中、上方向にずれた場合はヘッド16の俯瞰した
ときの右側にずれたときであり、同様にモニタ光6が下
方向にずれたときはヘッド16の俯瞰した時の左側にず
れたときで、モニタ光6が右(左)方向にずれたときに
はヘッド16の俯瞰した時の前(後)側にずれたときで
ある。That is, when the monitor light 6 is shifted upward from the center of the sensor section 8 in the figure, it means that the monitor light 6 is shifted to the right when the head 16 is overlooked. Similarly, the monitor light 6 is shifted downward. When the monitor light 6 is shifted to the right (left) direction when the head 16 is overlooked, it is shifted to the front (rear) side when the head 16 is overlooked.
【0021】そこで、センサ部8は受光部A、B、C及
びDでそれぞれ光電変換して得られた電気信号のレベル
もA、B、C及びDで示すものとすると、(A−B)と
(C−D)の電圧変化を電圧信号である光軸位置ずれ検
出信号aとしてモニタする。The level of electric signals obtained by the photoelectric conversion in the light receiving sections A, B, C and D is also indicated by A, B, C and D in the sensor section 8 as follows: (AB) And (C-D) are monitored as an optical axis position shift detection signal a which is a voltage signal.
【0022】演算部9は、モニタ光6の光軸位置ずれに
よる光量変位を電圧変位に変換した光軸位置ずれ検出信
号aに基づいて、光軸位置ずれ量と光軸補正量を計算
し、光軸補正量の水平方向分に対応した補正信号bと光
軸補正量の垂直方向分に対応した補正信号cとをそれぞ
れ生成出力する。The calculating unit 9 calculates the optical axis position shift amount and the optical axis correction amount based on the optical axis position shift detection signal a obtained by converting the light amount displacement due to the optical axis position shift of the monitor light 6 into a voltage displacement, A correction signal b corresponding to the horizontal portion of the optical axis correction amount and a correction signal c corresponding to the vertical portion of the optical axis correction amount are generated and output.
【0023】例えば、演算部9は、(A−B)=k×
y、(C−D)=m×zとし(ただし、k、mはそれぞ
れ定数、yはミラー12の駆動量、zはミラー10の駆
動量)なる計算式をそれぞれ演算し、(A−B)が正の
電圧値を示しているときにはミラー12を図中、右方向
へ駆動し、(A−B)が負の電圧値を示しているときに
はミラー12を図中、左方向へ駆動する補正信号cを生
成出力する。また、(C−D)が正の電圧値を示してい
るときにはミラー10を図中、前方向へ駆動し、(C−
D)が負の電圧値を示しているときにはミラー10を図
中、後方向へ駆動する補正信号bを生成出力する。For example, the arithmetic unit 9 calculates (A−B) = k ×
y, (CD) = m × z (where k and m are constants, y is the driving amount of the mirror 12, and z is the driving amount of the mirror 10). ) Indicates a positive voltage value, the mirror 12 is driven rightward in the figure, and when (AB) indicates a negative voltage value, the mirror 12 is driven leftward in the figure. The signal c is generated and output. When (C-D) indicates a positive voltage value, the mirror 10 is driven forward in the figure, and (C-D)
When D) indicates a negative voltage value, a correction signal b for driving the mirror 10 backward in the figure is generated and output.
【0024】このように、水平方向補正信号bはミラー
駆動部11に供給されて、ミラー10を光軸位置ずれ量
の水平方向分を無くすような移動量と移動方向に駆動さ
せる。これと同時に、垂直方向補正信号cはミラー駆動
部13に供給されて、ミラー12を光軸位置ずれ量の垂
直方向分を無くすような移動量と移動方向に駆動させ
る。As described above, the horizontal direction correction signal b is supplied to the mirror driving unit 11 to drive the mirror 10 in the moving amount and the moving direction so as to eliminate the horizontal position shift amount of the optical axis. At the same time, the vertical direction correction signal c is supplied to the mirror driving unit 13 to drive the mirror 12 in the moving amount and the moving direction so as to eliminate the vertical position shift amount of the optical axis.
【0025】これにより、モニタ光6の光軸位置ずれが
無くなるように制御され、その結果レーザビーム1の光
軸位置ずれも無くなるように制御され、よって、露光中
の移動光学系25を移動中でのヘッド16内の対物レン
ズへのレーザビーム入射点を一定に保つことができる。
これにより、フォトレジスト盤17に集光されたレーザ
ビームの強度が一定になり、かつ、集光されたレーザビ
ームの焦点深度内で安定に露光され、所望の案内溝やピ
ット形状を安定、かつ、正確に得られる。As a result, the optical axis of the monitor light 6 is controlled so as not to be displaced, and as a result, the optical axis of the laser beam 1 is controlled so as not to be displaced. The point of incidence of the laser beam on the objective lens in the head 16 can be kept constant.
As a result, the intensity of the laser beam focused on the photoresist board 17 becomes constant, and the laser beam is exposed stably within the depth of focus of the focused laser beam, and the desired guide groove or pit shape is stabilized, and , Accurately obtained.
【0026】[0026]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
光源から出射されたレーザビームの光軸が光源の状態に
より変動しても当該変動を補正でき、ヘッドの対物レン
ズへのレーザビーム入射点を一定に保つことができるよ
うにしたため、フォトレジスト盤面上に集光されたレー
ザビームの強度を一定にでき、集光されたレーザビーム
の焦点深度内で安定して露光され、露光により案内溝や
ピット形状として所望のものが安定して得られ、特に分
岐手段、センサ部及びヘッドは移動光学系を構成し、露
光中にフォトレジスト盤の半径方向へ移動する場合に
も、安定に露光ができる。As described above, according to the present invention,
Even if the optical axis of the laser beam emitted from the light source fluctuates depending on the state of the light source, the fluctuation can be corrected and the point of incidence of the laser beam on the objective lens of the head can be kept constant. The intensity of the focused laser beam can be made constant, the exposure can be performed stably within the depth of focus of the focused laser beam, and the desired guide groove or pit shape can be obtained stably by the exposure. The branching unit, the sensor unit, and the head constitute a moving optical system, so that exposure can be performed stably even when moving in the radial direction of the photoresist disk during exposure.
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図1】本発明の一実施の形態の構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram of an embodiment of the present invention.
【図2】従来装置の一例の構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram of an example of a conventional device.
1 レーザビーム 2 レーザ発振器 3 パワー制御部 4 光変調器 5 エキスパンダレンズ 7 ビームスプリッタ 8 センサ部 9 演算部 10 第1のミラー 11 第1のミラー駆動部 12 第2のミラー 13 第2のミラー駆動部 14 折り返しミラー 16 ヘッド 17 フォトレジスト盤 18 回転機構部 19 フォーカスサーボアクチュエータ 25 移動光学系 REFERENCE SIGNS LIST 1 laser beam 2 laser oscillator 3 power control unit 4 optical modulator 5 expander lens 7 beam splitter 8 sensor unit 9 calculation unit 10 first mirror 11 first mirror drive unit 12 second mirror 13 second mirror drive Unit 14 Folding mirror 16 Head 17 Photoresist board 18 Rotating mechanism unit 19 Focus servo actuator 25 Moving optical system
Claims (2)
と、 前記フォトレジスト盤を回転する回転機構部と、 前記光源から前記フォトレジスト盤に至る前記レーザビ
ームの一部を分岐する分岐手段と、 前記分岐手段により分岐された前記レーザビームの光軸
位置ずれを検出するセンサ部と、 前記分岐手段を通過した前記レーザビームを前記フォト
レジスト盤上に集光する対物レンズを備えたヘッドと、 前記センサ部の出力位置ずれ検出信号に基づいて位置ず
れ量を計算する演算部と、 前記光源と分岐手段との間の前記レーザビームの光路中
に設けられ、前記演算部の位置ずれ量演算結果に基づい
て、前記レーザビームの光軸位置ずれを補正する補正手
段とを有し、前記補正手段として、前記光源から出射さ
れた前記レーザビームの光路を変える第1のミラーと、
該第1のミラーにより反射されたレーザビームの光路を
再度変える第2のミラーと、前記演算部の出力位置ずれ
量演算結果に基づいて、光軸補正量の水平方向分と垂直
方向分の一方を補正するように前記第1のミラーを駆動
する第1のミラー駆動部と、前記演算部の出力位置ずれ
量演算結果に基づいて、前記光軸補正量の水平方向分と
垂直方向分の他方を補正するように前記第2のミラーを
駆動する第2のミラー駆動部とより構成したことを特徴
とする露光装置。A light source for emitting a laser beam; a photoresist disk having a surface coated with a photoresist; a rotation mechanism for rotating the photoresist disk; and a laser beam from the light source to the photoresist disk. Branching means for branching a part of the laser beam; a sensor unit for detecting an optical axis displacement of the laser beam branched by the branching means; and focusing the laser beam passing through the branching means on the photoresist board. A head provided with an objective lens that performs the calculation, a calculation unit that calculates a displacement amount based on an output displacement detection signal of the sensor unit, provided in an optical path of the laser beam between the light source and the branching unit; based on the positional deviation amount calculation result of the arithmetic unit, have a correction means for correcting the optical axis positional deviation of the laser beam, as the correction means, said It is emitted from the source
A first mirror for changing an optical path of the laser beam,
The optical path of the laser beam reflected by the first mirror
The second mirror that changes again and the output position shift of the arithmetic unit
The horizontal and vertical optical axis correction amounts are calculated based on the amount calculation results.
Driving the first mirror to correct one of the directions
The first mirror drive unit and the output position shift of the arithmetic unit
Based on the amount calculation result, the horizontal axis amount of the optical axis correction amount and
The second mirror so as to correct the other part in the vertical direction.
And a second mirror driving unit for driving.
And to the exposure device.
光すべき情報に応じて変調する変調器と、前記ヘッドと
前記フォトレジスト盤表面との距離を一定に保つように
制御するフォーカスサーボ手段とを有し、前記分岐手
段、センサ部及びヘッドは移動光学系を構成し、露光中
に前記フォトレジスト盤の半径方向へ移動することを特
徴とする請求項1記載の露光装置。2. A modulator for modulating the intensity of the laser beam emitted from the light source in accordance with information to be exposed, and a focus servo means for controlling a distance between the head and the photoresist disk surface to be kept constant. the a, the branch unit, the sensor unit and the head constitute a movable optical system, according to claim 1 Symbol placement of an exposure apparatus, wherein the moving in the radial direction of the photoresist plate during exposure.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7215956A JP2748894B2 (en) | 1995-08-24 | 1995-08-24 | Exposure equipment |
Applications Claiming Priority (1)
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JP7215956A JP2748894B2 (en) | 1995-08-24 | 1995-08-24 | Exposure equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH0963079A JPH0963079A (en) | 1997-03-07 |
JP2748894B2 true JP2748894B2 (en) | 1998-05-13 |
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ID=16681035
Family Applications (1)
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JP7215956A Expired - Fee Related JP2748894B2 (en) | 1995-08-24 | 1995-08-24 | Exposure equipment |
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JP (1) | JP2748894B2 (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS60126620A (en) * | 1983-12-14 | 1985-07-06 | Hitachi Ltd | Laser beam synthesizing device |
-
1995
- 1995-08-24 JP JP7215956A patent/JP2748894B2/en not_active Expired - Fee Related
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JPH0963079A (en) | 1997-03-07 |
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