JP2745381B2 - Method for producing sulfonic acid group-containing polyamide - Google Patents

Method for producing sulfonic acid group-containing polyamide

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JP2745381B2
JP2745381B2 JP6075524A JP7552494A JP2745381B2 JP 2745381 B2 JP2745381 B2 JP 2745381B2 JP 6075524 A JP6075524 A JP 6075524A JP 7552494 A JP7552494 A JP 7552494A JP 2745381 B2 JP2745381 B2 JP 2745381B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、水溶性ポリアミドの製
造方法、更に詳しくはスルホン酸基含有ポリアミドの新
規な製造方法に関する。
The present invention relates to a method for producing a water-soluble polyamide, and more particularly to a novel method for producing a sulfonic acid group-containing polyamide.

【0002】[0002]

【従来の技術】水に不溶なポリマーにスルホン酸基を導
入して水溶性化し、活用する試みが公害上の問題から最
近注目されている。特にポリアミドは優れた耐熱性、強
靭性、成膜性の特性を有するが、毒性の高いアミド系溶
媒にしか可溶化しない問題があり、その活用分野が著し
く制限されている。一方、ポリアミドを合成する方法と
して、亜リン酸エステル類とピリジン、またはその誘導
体の存在下でジカルボン酸とジアミンを反応させてポリ
アミドを合成する方法は公知である。しかしながら、こ
の方法で、スルホン酸基を含有するモノマーをジアミン
成分またはジカルボン酸成分として使用することは知ら
れていない。
2. Description of the Related Art Attempts to introduce sulfonic acid groups into water-insoluble polymers to make them water-soluble and to utilize them have recently attracted attention due to pollution problems. In particular, polyamide has excellent heat resistance, toughness, and film-forming properties, but has a problem that it is soluble only in highly toxic amide solvents, and its application field is significantly restricted. On the other hand, as a method for synthesizing a polyamide, a method for synthesizing a polyamide by reacting a dicarboxylic acid and a diamine in the presence of a phosphite and pyridine or a derivative thereof is known. However, it is not known to use a monomer containing a sulfonic acid group as a diamine component or a dicarboxylic acid component in this method.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】従来、上記の様なポリ
アミドにスルホン酸基を導入して水溶性化する試みとし
て、ジアミン成分と酸クロライド成分とを重縮合する酸
クロライド法が行われており(E.J. VANDENBERG, W.R. D
IVELEY, L.J. FILAR, S.R. PATEL, and H.G. BARTH J.
Polym. Sci. Polym. Chem. Vol. 127, 3745-3757(198
9)) 、この方法は、高重合度のものが容易に得られる
が、使用するモノマー類の精製が困難であり、また製造
時の反応制御が難しく、また、反応副成物である塩酸ガ
スが発生する等、種々の問題を有している。本発明は、
この従来の技術における上記の問題点に鑑みてなされた
ものである。 すなわち、本発明の目的は、スルホン酸
基含有ポリアミドを簡便かつ温和な条件で合成する新規
な製造方法を提供することにある。
Conventionally, as an attempt to introduce a sulfonic acid group into a polyamide as described above to make it soluble in water, an acid chloride method of polycondensing a diamine component and an acid chloride component has been carried out. (EJ VANDENBERG, WR D
IVELEY, LJ FILAR, SR PATEL, and HG BARTH J.
Polym. Sci. Polym. Chem. Vol. 127, 3745-3757 (198
9)) In this method, a product having a high degree of polymerization can be easily obtained, but it is difficult to purify the monomers used, it is difficult to control the reaction at the time of production, and hydrochloric acid gas as a reaction by-product is used. And various other problems. The present invention
The present invention has been made in view of the above problems in the conventional technology. That is, an object of the present invention is to provide a novel production method for synthesizing a sulfonic acid group-containing polyamide under a simple and mild condition.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、従来の技
術における上述問題点を解決するために研究を進めた結
果、亜リン酸エステルとピリジンまたはその誘導体の存
在下において、スルホン酸基を含有する化合物をジアミ
ン成分またはジカルボン酸成分として用いると、温和な
条件で、スルホン酸基を保護することなく重縮合が進行
することを見出し、本発明を完結するに至った。すなわ
ち、本発明は、ジアミン成分とジカルボン酸成分とを重
縮合してスルホン酸基含有ポリアミドを製造するに際し
て、ジアミン成分およびジカルボン酸成分の少なくとも
いずれか一方に、スルホン酸基を有する化合物を使用
し、縮重合を亜リン酸エステルとピリジンまたはその誘
導体の存在下で行うことを特徴とする。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted research to solve the above-mentioned problems in the prior art, and as a result, have found that a sulfonic acid group can be obtained in the presence of a phosphite and pyridine or a derivative thereof. It has been found that when a compound containing is used as a diamine component or a dicarboxylic acid component, polycondensation proceeds under mild conditions without protecting the sulfonic acid group, and the present invention has been completed. That is, the present invention uses, when producing a sulfonic acid group-containing polyamide by polycondensing a diamine component and a dicarboxylic acid component, a compound having a sulfonic acid group in at least one of the diamine component and the dicarboxylic acid component. The polycondensation is carried out in the presence of a phosphite and pyridine or a derivative thereof.

【0005】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
おいて、原料物質のジアミン成分およびジカルボン酸成
分としては、その少なくとも一方に、スルホン酸基を含
有する化合物が用いられる。ジアミン成分として用いら
れるスルホン酸基を含有する化合物としては、1個また
はそれ以上のスルホン酸基を有する脂肪族、肪環式およ
び芳香族ジアミン化合物等、スルホン酸基を含有するも
のであれば何如なるものでも使用することができるが、
芳香族ジアミン化合物が好ましい。その好ましい具体例
として、例えば、3,5−ジアミノベンゼンスルホン
酸、3,4−ジアミノベンゼンスルホン酸、2,4−ジ
アミノベンゼンスルホン酸、4,4′−ジアミノスチル
ベン−2,2′−ジスルホン酸、4,4′−ジアミノビ
フェニル−2,2′−ジスルホン酸等があげられる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. In the present invention, a compound having a sulfonic acid group in at least one of the diamine component and the dicarboxylic acid component of the raw material is used. As the compound containing a sulfonic acid group used as the diamine component, any compound containing a sulfonic acid group such as an aliphatic, alicyclic or aromatic diamine compound having one or more sulfonic acid groups can be used. Can be used,
Aromatic diamine compounds are preferred. Preferred specific examples thereof include, for example, 3,5-diaminobenzenesulfonic acid, 3,4-diaminobenzenesulfonic acid, 2,4-diaminobenzenesulfonic acid, and 4,4′-diaminostilbene-2,2′-disulfonic acid. And 4,4'-diaminobiphenyl-2,2'-disulfonic acid.

【0006】また、原料物質のジカルボン酸成分として
用いられるスルホン酸基を含有する化合物としては、1
個またはそれ以上のスルホン酸基を有する脂肪族、肪環
式および芳香族ジアミン化合物等、スルホン酸基を含有
するものであれば何如なるものでも使用することができ
るが、芳香族ジカルボン酸が好ましい。その好ましい具
体例として、例えば、3,5−ジカルボキシベンゼンス
ルホン酸、3,4−ジカルボキシベンゼンスルホン酸等
があげられる。
[0006] The compound containing a sulfonic acid group used as a dicarboxylic acid component of the raw material includes 1
Aliphatic, aliphatic and aromatic diamine compounds having one or more sulfonic acid groups, such as those having a sulfonic acid group, can be used, but aromatic dicarboxylic acids are preferred. . Preferred specific examples thereof include 3,5-dicarboxybenzenesulfonic acid and 3,4-dicarboxybenzenesulfonic acid.

【0007】本発明のおいては、ジアミン成分およびジ
カルボン酸成分には、スルホン酸基を含有しないジアミ
ンまたはジカルボン酸が併用されてもよい。本発明にお
いて、原料物質として使用することができるスルホン酸
基を含有しないジアミンおよびジカルボン酸としては、
特に限定されるものではなく、ポリアミドの原料物質と
して公知のものであれば、何如なるものでも使用するこ
とができる。具体的には、ジアミン類として、例えば、
4,4′−エチレンジアミン、4,4−イソプロピリデ
ンジアミン、メタフェニレンジアミン、パラフェニレン
ジアミン、3,4′−オキジアニリン、4,4′−オキ
シジアニリン、3,3′−スルホニルジアニリン、4,
4′−スルホニルジアニリン、1,4−ナフタレンジア
ミン、1,5−ナフタレンジアミン、2,6−ナフタレ
ンジアミン、1,3−ビス(m−アミノフェニル)−
1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、4,4′
−ビス(4−アミノフェノキシ)ジフェニルスルホン、
4,4′−ビス(3−アミノフェノキシ)ジフェニルス
ホン、4,4′−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゾ
フェノン、4,4′−ビス(3−アミノフェノキシ)ベ
ンゾフェノン、4,4′−ビス(4−アミノフェニルメ
ルカプト)ベンゾフェノン、4,4′−ビス(4−アミ
ノフェニルメルカプト)ベンゾフェノン、2,2′−ビ
ス〔4−(2−トリフルオロメチル−4−アミノフェノ
キシ)フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、2,2′−
ビス〔4−(3−トリフルオロメチル−5−アミノフェ
ノキシ)フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、2,2′
−ビス〔4−(3−トリフルオロメチル−4−アミノフ
ェノキシ)フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、2,
2′−ビス〔4(2−トリフルオロメチル−5−アミノ
フェノキシ)フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、2,
2′−ビス〔4−(4−トリフルオロメチル−5−アミ
ノフェノキシ)フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、
2,2′−ビス〔4−(2−ノナフルオロブチル−5−
アミノフェノキシ)フェニル〕ヘキサフルオロプロパ
ン、2,2′−ビス〔4−(4−ノナフルオロブチル−
5−アミノフェノキシ)フェニル〕ヘキサフルオロプロ
パン、4,4′−ジアミノジフェニルメタン、o−トリ
ジン、o−ジアニシジン、2,5−ジアミノピリジン、
3,3′−ジヒドロキシ−4,4′−ジアミノビフェニ
ル、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−アミノフェニ
ル)ヘキサフルオロプロパン等を挙げることができ、こ
れらは単独で使用しても、また複数を併用してもよい。
In the present invention, a diamine or a dicarboxylic acid containing no sulfonic acid group may be used in combination with the diamine component and the dicarboxylic acid component. In the present invention, the sulfonic acid group-free diamine and dicarboxylic acid that can be used as a raw material include:
There is no particular limitation, and any known material as a raw material for polyamide can be used. Specifically, as diamines, for example,
4,4'-ethylenediamine, 4,4-isopropylidenediamine, metaphenylenediamine, paraphenylenediamine, 3,4'-oxydianiline, 4,4'-oxydianiline, 3,3'-sulfonyldianiline, 4,
4'-sulfonyldianiline, 1,4-naphthalenediamine, 1,5-naphthalenediamine, 2,6-naphthalenediamine, 1,3-bis (m-aminophenyl)-
1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 4,4 '
-Bis (4-aminophenoxy) diphenyl sulfone,
4,4'-bis (3-aminophenoxy) diphenylphone, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) benzophenone, 4,4'-bis (3-aminophenoxy) benzophenone, 4,4'-bis ( 4-aminophenylmercapto) benzophenone, 4,4'-bis (4-aminophenylmercapto) benzophenone, 2,2'-bis [4- (2-trifluoromethyl-4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2'-
Bis [4- (3-trifluoromethyl-5-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2 '
-Bis [4- (3-trifluoromethyl-4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,
2'-bis [4 (2-trifluoromethyl-5-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,
2'-bis [4- (4-trifluoromethyl-5-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane,
2,2'-bis [4- (2-nonafluorobutyl-5-
Aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2'-bis [4- (4-nonafluorobutyl-
5-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, o-tolidine, o-dianisidine, 2,5-diaminopyridine,
3,3'-dihydroxy-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2-bis (4-hydroxy-3-aminophenyl) hexafluoropropane and the like can be mentioned. A plurality of them may be used in combination.

【0008】また、スルホン酸基を含有しないジカルボ
ン酸類としては、脂肪族、肪環式、芳香族等のジカルボ
ン酸が使用でき、例えば、イソフタル酸、テレフタル
酸、4,4′−ビフェニルジカルボン酸、3,3′−メ
チレン二安息香酸、4,4′−メチレン二安息香酸、
4,4′−オキシ二安息香酸、4,4′−チオ二安息香
酸、3,3′−カルボニル二安息香酸、4,4′−カル
ボニル二安息香酸、4,4′−スルホニル二安息香酸、
1,4−ナフタレンジカルボン酸、1,5−ナフタレン
ジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、コハ
ク酸、グルタル酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシ
ン酸、ウンデカン二酸、1,3−シクロヘキサジカルボ
ン酸、1,4−シクロヘキサジカルボン酸、マロン酸、
メチルマロン酸、ジメチルマロン酸、アジピン酸、1,
10−デカン二酸、フェニルマロン酸、ベンジルマロン
酸、フェニルスクシン酸、3−フェニルグルタル酸、ホ
モフタル酸、1,3−フェニレン二酢酸、1,4−フェ
ニレン二酢酸、4−カルボキシフェニル酢酸、5−ブロ
モ−N−(カルボキシメチル)アントラニル酸、m−カ
ルボキシシナモン酸、5−ヒドロキシイソフタル酸、4
−ヒドロキシ−2,5−ジカルボキシピリジン等のジカ
ルボン酸及びこれらの誘導体を挙げることができる。こ
れらは単独で使用しても、また複数を併用してもよい。
As the dicarboxylic acids containing no sulfonic acid group, aliphatic, alicyclic and aromatic dicarboxylic acids can be used. For example, isophthalic acid, terephthalic acid, 4,4'-biphenyldicarboxylic acid, 3,3'-methylene dibenzoic acid, 4,4'-methylene dibenzoic acid,
4,4'-oxydibenzoic acid, 4,4'-thiodibenzoic acid, 3,3'-carbonyldibenzoic acid, 4,4'-carbonyldibenzoic acid, 4,4'-sulfonyldibenzoic acid,
1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, succinic acid, glutaric acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, undecandioic acid, 1,3-cyclohexadicarboxylic acid Acid, 1,4-cyclohexadicarboxylic acid, malonic acid,
Methylmalonic acid, dimethylmalonic acid, adipic acid, 1,
10-decandioic acid, phenylmalonic acid, benzylmalonic acid, phenylsuccinic acid, 3-phenylglutaric acid, homophthalic acid, 1,3-phenylene diacetic acid, 1,4-phenylene diacetic acid, 4-carboxyphenyl acetic acid, 5-bromo-N- (carboxymethyl) anthranilic acid, m-carboxycinnamonic acid, 5-hydroxyisophthalic acid,
Dicarboxylic acids such as -hydroxy-2,5-dicarboxypyridine and derivatives thereof. These may be used alone or in combination of two or more.

【0009】本発明においては、上記のジアミン成分と
ジカルボン酸成分とを、亜リン酸エステル類とピリジン
またはその誘導体の存在下に、N−メチル−2−ピロリ
ドンによって代表されるアミド系有機溶媒中で、窒素等
の不活性雰囲気下で加熱して重縮合する。この際、使用
される亜リン酸エステル類としては、亜リン酸ジフェニ
ル、亜リン酸トリフェニル、亜リン酸トリ−o−トリ
ル、亜リン酸ジ−o−トリル、亜リン酸トリ−m−トリ
ル、亜リン酸ジ−m−トリル、亜リン酸トリ−p−トリ
ル、亜リン酸ジ−p−トリル、亜リン酸ジ−o−クロロ
フェニル、亜リン酸トリ−p−クロロフェニル、亜リン
酸ジ−p−クロロフェニル等が挙げることができるが、
これらに限定されるものではない。また、亜リン酸エス
テルと共に使用するピリジンまたはその誘導体として
は、ピリジン、2−ピコリン、3−ピコリン、4−ピコ
リン、2,4−ルチジン、2,6−ルチジン、3,5−
ルチジン等を挙げることができる。重縮合で使用する亜
リン酸エステル類の量は、カルボキシル基に対して等モ
ル量以上の量が好ましいが、30倍モル量以上の使用は
経済的にみて得策ではない。また、ピリジンまたはその
誘導体の使用量は、カルボキシル基に対して等モル量以
上であることが必要である。
In the present invention, the diamine component and the dicarboxylic acid component are combined with an amide organic solvent represented by N-methyl-2-pyrrolidone in the presence of a phosphite and pyridine or a derivative thereof. To carry out polycondensation by heating under an inert atmosphere such as nitrogen. In this case, phosphites used include diphenyl phosphite, triphenyl phosphite, tri-o-tolyl phosphite, di-o-tolyl phosphite, and tri-m-phosphite. Tolyl, di-m-tolyl phosphite, tri-p-tolyl phosphite, di-p-tolyl phosphite, di-o-chlorophenyl phosphite, tri-p-chlorophenyl phosphite, phosphorous acid Di-p-chlorophenyl and the like can be mentioned,
It is not limited to these. Pyridine or a derivative thereof used together with a phosphite is pyridine, 2-picoline, 3-picoline, 4-picoline, 2,4-lutidine, 2,6-lutidine, 3,5-
Lutidine and the like can be mentioned. The amount of the phosphite used in the polycondensation is preferably an equimolar amount or more with respect to the carboxyl group, but the use of a 30-fold molar amount or more is not economically advantageous. Further, the amount of pyridine or a derivative thereof to be used must be at least equimolar to the carboxyl group.

【0010】重縮合反応は、通常、上記ピリジンまたは
その誘導体をアミド系有機溶剤と混合して混合溶媒の形
で使用し、溶液重合法によって行うのが好ましい。使用
するアミド系有機溶剤は、両反応成分や亜リン酸エステ
ルと実質的に反応しない溶媒であることが必要である
が、両反応成分に対する良溶媒であって、しかも反応生
成物のポリアミドに対して良溶媒であるものが好まし
い。しかしながら、重縮合が進行するに従って不均一系
になるような溶剤であってもよい。本発明において好ま
しく使用されるアミド系有機溶剤の具体例としては、N
−メチル−2−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド等があげられる。また、上記混合溶
媒の使用量は、両反応成分が5〜30重量%の濃度で含
まれるような量であればよい。本発明において、重合度
の高いポリアミドを得るために、反応混合物には、塩化
リチウム、塩化カルシウムによって代表されるアルカリ
金属塩またはアルカリ土類金属塩類を添加することもで
きる。
The polycondensation reaction is usually preferably carried out by a solution polymerization method using the above pyridine or a derivative thereof mixed with an amide organic solvent in the form of a mixed solvent. The amide-based organic solvent used must be a solvent that does not substantially react with both the reaction components and the phosphite, but is a good solvent for both the reaction components, and also for the polyamide of the reaction product. A good solvent is preferred. However, a solvent that becomes heterogeneous as the polycondensation proceeds may be used. Specific examples of the amide-based organic solvent preferably used in the present invention include N 2
-Methyl-2-pyrrolidone, dimethylformamide, dimethylacetamide and the like. The mixed solvent may be used in such an amount that both reaction components are contained at a concentration of 5 to 30% by weight. In the present invention, in order to obtain a polyamide having a high degree of polymerization, an alkali metal salt or an alkaline earth metal salt represented by lithium chloride and calcium chloride can be added to the reaction mixture.

【0011】重縮合反応は、窒素等の不活性雰囲気中で
行うのが好ましい。反応温度は、60〜140℃の範囲
が好ましく、より好ましくはピリジンまたはその誘導体
の沸点以下の温度で行われる。反応時間は、反応条件に
より大きく影響されるが、多くの場合、数分から48時
間の範囲で実施される。
The polycondensation reaction is preferably performed in an inert atmosphere such as nitrogen. The reaction temperature is preferably in the range of 60 to 140 ° C, more preferably at a temperature lower than the boiling point of pyridine or a derivative thereof. The reaction time is greatly affected by the reaction conditions, but is often performed in the range of several minutes to 48 hours.

【0012】本発明において、上記反応条件の下に、ジ
アミン成分とジカルボン酸成分を等モル使用する場合に
は、高重合度のスルホン酸基含有ポリアミドが得られ
る。また、いずれか一方を過剰に使用して平均重合度の
小さいものを得ることもできる。反応終了後は、反応混
合物をメタノールに投じて生成重合体を分離し、更に再
沈殿法により精製を行って、副生成物や無機塩類等を除
去することにより、目的のスルホン酸基含有ポリアミド
を得ることができる。
In the present invention, when the diamine component and the dicarboxylic acid component are used in equimolar amounts under the above reaction conditions, a sulfonic acid group-containing polyamide having a high degree of polymerization can be obtained. Also, one of them can be used in excess to obtain one having a small average degree of polymerization. After the completion of the reaction, the reaction mixture is poured into methanol to separate the produced polymer, and further purified by a reprecipitation method to remove by-products, inorganic salts, and the like, thereby obtaining the target sulfonic acid group-containing polyamide. Obtainable.

【0013】本発明の製造方法で合成されるスルホン酸
基含有ポリアミド中のスルホン酸基の含有量は、水溶性
の性質を持たせるためには、繰り返し構造単位の全てに
スルホン酸基を有するものを使用してもよいが、全繰返
構造単位中のスルホン酸基を含む繰り返し構造単位の占
める割合が20モル%以上であるのが好ましい。
The content of the sulfonic acid group in the sulfonic acid group-containing polyamide synthesized by the production method of the present invention is determined in such a manner that all of the repeating structural units have a sulfonic acid group in order to have water-soluble properties. May be used, but the proportion of the repeating structural unit containing a sulfonic acid group in all the repeating structural units is preferably at least 20 mol%.

【0014】[0014]

【作用】ポリアミド合成のための重縮合反応において、
両末端にアミノ基、カルボキシル基を有するジアミン成
分とジカルボン酸成分とを単に混合加熱してポリアミド
を製造することができるが、その場合、重縮合反応を高
温下で行う必要があり、その結果、アミド交換反応等の
副反応を伴うことが避けられない。特に、スルホン酸基
を含む化合物を原料成分として使用する場合には、スル
ホン酸基を保護せずに重縮合反応を行うと、スルホン酸
基との副反応を避けることができない。ところが本発明
においては、重縮合反応を、縮合剤として亜リン酸エス
テル類とピリジンまたはその誘導体を用いて行うので、
重縮合反応が比較的低温で進行し、アミド交換反応等の
副反応を避けることができると共に、亜リン酸エステル
類とピリジンまたはその誘導体の示す高い選択性のため
に、スルホン酸基との副反応を起こすこともなく、構造
の規制されたスルホン酸基含有ポリアミドを高収率で容
易に製造することができる。本発明により製造されるス
ルホン酸基含有ポリアミドは、澱粉、ポリビニルアルコ
ール、ポリエチレンオキサイド、ポリアクリルアミド、
ポリビニルピロリドン等に代表される水溶性樹脂との混
合物として、或いは水溶性樹脂の改質等のために使用す
ることができ、水性塗料、水性接着剤等として有用性が
発揮される。
In the polycondensation reaction for synthesizing polyamide,
Polyamide can be produced by simply mixing and heating a diamine component having an amino group and a carboxyl group at both ends and a dicarboxylic acid component, in which case the polycondensation reaction needs to be performed at a high temperature, and as a result, Involvement of side reactions such as amide exchange reaction is inevitable. In particular, when a compound containing a sulfonic acid group is used as a raw material component, if a polycondensation reaction is performed without protecting the sulfonic acid group, a side reaction with the sulfonic acid group cannot be avoided. However, in the present invention, since the polycondensation reaction is performed using phosphites and pyridine or a derivative thereof as a condensing agent,
The polycondensation reaction proceeds at a relatively low temperature, thereby avoiding side reactions such as the transamidation reaction and the like. A sulfonic acid group-containing polyamide having a regulated structure can be easily produced at a high yield without causing a reaction. Sulfonic acid group-containing polyamide produced according to the present invention, starch, polyvinyl alcohol, polyethylene oxide, polyacrylamide,
It can be used as a mixture with a water-soluble resin typified by polyvinylpyrrolidone or the like, or for modification of a water-soluble resin, and is useful as a water-based paint, a water-based adhesive, and the like.

【0015】[0015]

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に述べる
が、本発明はこれらによって限定されるものではない。 実施例1 ジアミン成分に2,4−ジアミノベンゼンスルホン酸を
使用したスルホン酸基含有ポリアミドの合成 100ml三口丸底フラスコ中に、イソフタル酸1.6
61g(10ミリモル)、2,4−ジアミノベンゼンス
ルホン酸1.882g(10ミリモル)、塩化リチウム
0.12g、塩化カリシウム0.36g、N−メチル−
2−ピロリドン20ml、ピリジン3ml、亜リン酸ト
リフェニル6.2gを加え、乾燥窒素雰囲気下100℃
で4時間反応させた。反応終了後、1リットルのメタノ
ール中にポリマー溶液を注ぎ入れ、ポリマーを析出させ
た。濾過後、熱メタノール中で未反応モノマー類および
無機金属塩類を除去した。濾過後、真空乾燥し、収率9
7%で本発明のスルホン酸基含有ポリアミドを得た。こ
のポリアミドの固有粘度はN,N−ジメチルアセトアミ
ド中、ポリマー溶液濃度0.5g/dl、30℃におい
て、0.75dl/gであった。また、IRスペクトル
(KBr錠剤法)を測定し構造を確認したところ、16
50cm-1付近にアミドカルボニル基に基づく吸収が、
1200cm-1付近にスルホン酸基に基づく吸収が認め
られた。このポリアミドは水に可溶であった。
EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Example 1 Synthesis of a sulfonic acid group-containing polyamide using 2,4-diaminobenzenesulfonic acid as a diamine component In a 100 ml three-necked round bottom flask, isophthalic acid 1.6 was added.
61 g (10 mmol), 1.882 g (10 mmol) of 2,4-diaminobenzenesulfonic acid, 0.12 g of lithium chloride, 0.36 g of potassium chloride, N-methyl-
20 ml of 2-pyrrolidone, 3 ml of pyridine and 6.2 g of triphenyl phosphite were added, and the mixture was heated at 100 ° C. under a dry nitrogen atmosphere.
For 4 hours. After completion of the reaction, the polymer solution was poured into 1 liter of methanol to precipitate the polymer. After filtration, unreacted monomers and inorganic metal salts were removed in hot methanol. After filtration, vacuum drying, yield 9
The sulfonic acid group-containing polyamide of the present invention was obtained at 7%. The intrinsic viscosity of this polyamide was 0.75 dl / g at 30 ° C. at a polymer solution concentration of 0.5 g / dl in N, N-dimethylacetamide. The structure was confirmed by measuring the IR spectrum (KBr tablet method).
The absorption based on the amide carbonyl group near 50 cm -1
An absorption based on a sulfonic acid group was observed at around 1200 cm -1 . This polyamide was soluble in water.

【0016】実施例2 ジアミン成分に2,4−ジアミノベンゼンスルホン酸と
3,4′−オキシジアニリンを使用したスルホン酸基含
有ポリアミドの合成 100ml三口丸底フラスコ中に、イソフタル酸1.6
61g(10ミリモル)、2,4−ジアミノベンゼンス
ルホン酸0.941g(5ミリモル)、3,4′−オキ
シジアニリン5ミリモル1.001g、塩化リチウム
0.12g、塩化カリシウム0.36g、N−メチル−
2−ピロリドン20ml、ピリジン3ml、亜リン酸ト
リフェニル6.2gを加え、乾燥窒素雰囲気下100℃
で4時間反応させた。反応終了後、1リットルのメタノ
ール中にポリマー溶液を注ぎ入れ、ポリマーを析出させ
た。濾過後、熱メタノール中で未反応モノマー類および
無機金属塩類を除去した。濾過後、真空乾燥し、収率9
8%で本発明のスルホン酸基含有ポリアミドを得た。こ
のポリアミドの固有粘度はN,N−ジメチルアセトアミ
ド中、ポリマー溶液濃度0.5g/dl、30℃におい
て、0.64dl/gであった。また、IRスペクトル
(KBr錠剤法)を測定し構造を確認したところ、16
50cm-1付近にアミドカルボニル基に基づく吸収が、
1250cm-1付近にスルホン酸基に基づく吸収が認め
られた。このポリアミドは水に可溶であった。
Example 2 Synthesis of a sulfonic acid group-containing polyamide using 2,4-diaminobenzenesulfonic acid and 3,4'-oxydianiline as diamine components In a 100 ml three-necked round bottom flask, isophthalic acid 1.6 was added.
61 g (10 mmol), 0.941 g (5 mmol) of 2,4-diaminobenzenesulfonic acid, 5 mmol of 3,4'-oxydianiline 1.001 g, lithium chloride 0.12 g, potassium chloride 0.36 g, N- Methyl-
20 ml of 2-pyrrolidone, 3 ml of pyridine and 6.2 g of triphenyl phosphite were added, and the mixture was heated at 100 ° C. under a dry nitrogen atmosphere.
For 4 hours. After completion of the reaction, the polymer solution was poured into 1 liter of methanol to precipitate the polymer. After filtration, unreacted monomers and inorganic metal salts were removed in hot methanol. After filtration, vacuum drying, yield 9
At 8%, a sulfonic acid group-containing polyamide of the present invention was obtained. The intrinsic viscosity of this polyamide was 0.64 dl / g at 30 ° C. at a polymer solution concentration of 0.5 g / dl in N, N-dimethylacetamide. The structure was confirmed by measuring the IR spectrum (KBr tablet method).
The absorption based on the amide carbonyl group near 50 cm -1
An absorption based on a sulfonic acid group was observed at around 1250 cm -1 . This polyamide was soluble in water.

【0017】実施例3 ジカルボン酸成分に3,5−ジカルボキシベンゼンスル
ホン酸を使用したスルホン酸基含有ポリアミドの合成 100ml三口丸底フラスコ中に3,5−ジカルボキシ
ベンゼンスルホン酸2.462g(10ミリモル)、
3,4′−オキシジアニリン2.002g(10ミリモ
ル)、塩化リチウム0.12g、塩化カリシウム0.3
6g、N−メチル−2−ピロリドン20ml、ピリジン
3ml、亜リン酸トリフェニル6.2gを加え、乾燥窒
素雰囲気下100℃で4時間反応させた。反応終了後、
1リットルのメタノール中にポリマー溶液を注ぎ入れ、
ポリマーを析出させた。濾過後、熱メタノール中で未反
応モノマー類および無機金属塩類を除去した。濾過後、
真空乾燥し、収率98%で本発明のスルホン酸基含有ポ
リアミドを得た。このポリアミドの固有粘度はN,N−
ジメチルアセトアミド中、ポリマー溶液濃度0.5g/
dl、30℃において、0.60dl/gであった。ま
た、IRスペクトル(KBr錠剤法)を測定し構造を確
認したところ、1650cm-1付近にアミドカルボニル
基に基づく吸収が、1250cm-1付近にスルホン酸基
に基づく吸収が認められた。このポリアミドは水に可溶
であった。
Example 3 Synthesis of a sulfonic acid group-containing polyamide using 3,5-dicarboxybenzenesulfonic acid as a dicarboxylic acid component In a 100 ml three-necked round bottom flask, 2.462 g (10 Mmol),
2.02 g (10 mmol) of 3,4'-oxydianiline, 0.12 g of lithium chloride, 0.3% of potassium chloride
6 g, 20 ml of N-methyl-2-pyrrolidone, 3 ml of pyridine and 6.2 g of triphenyl phosphite were added and reacted at 100 ° C. for 4 hours in a dry nitrogen atmosphere. After the reaction,
Pour the polymer solution into one liter of methanol,
The polymer was precipitated. After filtration, unreacted monomers and inorganic metal salts were removed in hot methanol. After filtration,
After vacuum drying, a sulfonic acid group-containing polyamide of the present invention was obtained at a yield of 98%. The intrinsic viscosity of this polyamide is N, N-
In dimethylacetamide, polymer solution concentration 0.5g /
dl, at 30 ° C., 0.60 dl / g. As a result of observation of the structure and IR spectrum (KBr tablet method), absorption based on the amide carbonyl group near 1650 cm -1 is absorption based on sulfonic acid groups was observed around 1250 cm -1. This polyamide was soluble in water.

【0018】[0018]

【発明の効果】本発明は、上記の構成を有するから、従
来のスルホン酸基含有ポリアミドの製造におけるよう
な、合成上使用するモノマー類の精製および製造時の反
応制御の難しさ、また、副反応生成物である塩酸ガスの
発生等、製造上の問題を考慮する必要がなく、比較的低
温で副反応を伴うことなく構造の規制されたスルホン酸
基含有ポリアミドを高収率で簡便に製造することができ
る。したがって、本発明は、水溶性ポリアミドとしての
応用分野を広げるのに寄与する。
According to the present invention having the above-mentioned constitution, it is difficult to purify monomers used for synthesis and to control the reaction at the time of production, as in the production of conventional sulfonic acid group-containing polyamides. It is not necessary to consider production problems such as the generation of hydrochloric acid gas as a reaction product, and it is possible to easily produce a sulfonic acid group-containing polyamide with a regulated structure at a relatively low temperature without side reactions at a high yield. can do. Therefore, the present invention contributes to expanding the field of application as a water-soluble polyamide.

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ジアミン成分とジカルボン酸成分とを重
縮合してスルホン酸基含有ポリアミドを製造するに際し
て、ジアミン成分およびジカルボン酸成分の少なくとも
いずれか一方に、スルホン酸基を有する化合物を使用
し、縮重合を亜リン酸エステルとピリジンまたはその誘
導体の存在下で行うことを特徴とするスルホン酸基含有
ポリアミドの製造方法。
When producing a sulfonic acid group-containing polyamide by polycondensing a diamine component and a dicarboxylic acid component, a compound having a sulfonic acid group is used for at least one of the diamine component and the dicarboxylic acid component. A method for producing a sulfonic acid group-containing polyamide, wherein the polycondensation is carried out in the presence of a phosphite and pyridine or a derivative thereof.
【請求項2】 スルホン酸基を有する化合物が3,5−
ジアミノベンゼンスルホン酸、3,4−ジアミノベンゼ
ンスルホン酸および2,4−ジアミノベンゼンスルホン
酸から選択されたジアミノ芳香族スルホン酸である請求
項1記載のスルホン酸基含有ポリアミドの製造方法。
2. The method according to claim 2, wherein the compound having a sulfonic acid group is 3,5-
The method for producing a sulfonic acid group-containing polyamide according to claim 1, which is a diamino aromatic sulfonic acid selected from diaminobenzenesulfonic acid, 3,4-diaminobenzenesulfonic acid, and 2,4-diaminobenzenesulfonic acid.
【請求項3】 スルホン酸基を有する化合物が3,5−
ジカルボキシベンゼンスルホン酸および3,4−ジカル
ボキシベンゼンスルホン酸から選択されたジカルボキシ
芳香族スルホン酸である請求項1記載のスルホン酸基含
有ポリアミドの製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the compound having a sulfonic acid group is 3,5-
The method for producing a sulfonic acid group-containing polyamide according to claim 1, which is a dicarboxy aromatic sulfonic acid selected from dicarboxybenzenesulfonic acid and 3,4-dicarboxybenzenesulfonic acid.
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