JP2743558B2 - Copper conductor paste - Google Patents

Copper conductor paste

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JP2743558B2
JP2743558B2 JP2177128A JP17712890A JP2743558B2 JP 2743558 B2 JP2743558 B2 JP 2743558B2 JP 2177128 A JP2177128 A JP 2177128A JP 17712890 A JP17712890 A JP 17712890A JP 2743558 B2 JP2743558 B2 JP 2743558B2
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、セラミックス等の絶縁性基板上に電極や配
線パターンを形成するために用いられる銅導体ペースト
に関し、さらに詳しくは導電性および半田濡れ性に優
れ、かつ基板との密着性も良好な銅導体ペーストに関す
る。
Description: FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a copper conductor paste used for forming electrodes and wiring patterns on an insulating substrate such as ceramics, and more particularly to conductivity and solder wetting. The present invention relates to a copper conductor paste having excellent adhesion and good adhesion to a substrate.

(従来の技術) 従来、ガラス、セラミックス等の絶縁性基板に、スク
リーン印刷法、直接描画法等で所定パターンとなるよう
に塗布した後、焼成することにより導体厚膜を形成する
導体ペーストには、金、銀、銀/Pd、銅、ニッケルなど
の粉末が用いられているが、近年銅導体ペーストを用い
る傾向になりつつあることは周知の通りである。
(Prior art) Conventionally, a conductor paste that forms a conductor thick film by applying it to an insulating substrate such as glass or ceramics by a screen printing method, a direct drawing method, or the like so as to have a predetermined pattern, and then firing it is known. , Gold, silver, silver / Pd, copper, nickel and the like are used, but it is well known that a copper conductor paste has recently been used.

すなわち、金導体ペーストは大気中でも焼成できるが
高価であり、銀導体ペーストはエレクトロマイグレーシ
ョンが起こりやすく、銀/Pd導体ペーストも高価であ
り、ニッケル導体ペーストは配線抵抗が高いなどの欠点
を有するが、銅導体ペーストは低コストであるうえに、
配線抵抗も低く、さらに、マイグレーションも起こりに
くく理想的な導体材料といえる。
That is, the gold conductor paste can be fired in the air but is expensive, the silver conductor paste is apt to cause electromigration, the silver / Pd conductor paste is also expensive, and the nickel conductor paste has disadvantages such as high wiring resistance, Copper conductor paste is not only low cost but also
It can be said that the wiring resistance is low, migration is less likely to occur, and the conductor material is ideal.

従来の銅導体ペーストは、例えば平均粒径0.5〜10μ
mの銅粉を無機結合粉とともに有機ビヒクル中に分散さ
せてペースト化させたものである。
Conventional copper conductor paste, for example, average particle size 0.5 ~ 10μ
m is dispersed in an organic vehicle together with an inorganic binder powder to form a paste.

銅粉は導電粒子として焼成時に焼結して導電膜を形成
しうる。また、有機ビヒクルはペースト用液体バインダ
としてスクリーン印刷等に必要なチクソトロピックなレ
オロジーを与える。
Copper powder can be sintered as conductive particles during firing to form a conductive film. The organic vehicle also provides a thixotropic rheology required for screen printing and the like as a liquid binder for the paste.

また、無機結合粉は焼成膜を基板に固着させる作用が
あり、ガラスフリット、金属酸化物等が用いられる。
Further, the inorganic binding powder has a function of fixing the fired film to the substrate, and glass frit, metal oxide, or the like is used.

特に、ガラスフリットによる固着作用はガラスボンド
と呼ばれ、焼成時にガラスフリットが溶融し、濡れ現象
により銅粉間より基板へ流動することで銅焼成膜と基板
とを固着させる。すなわち、焼成後には、膜の上層部に
銅成分が多く、下層部になる程ガラス分が多くなってお
り、膜と基板はガラスを介して機械的な結合をしてい
る。
In particular, the fixing effect of the glass frit is called a glass bond, and the glass frit is melted at the time of firing and flows from the space between the copper powders to the substrate due to a wetting phenomenon, thereby fixing the fired copper film and the substrate. That is, after baking, the upper layer of the film has a large amount of copper component, and the lower layer has more glass, and the film and the substrate are mechanically bonded via the glass.

一方、金属酸化物による固着作用はケミカルボンドと
呼ばれ、金属酸化物が基板と反応して複合酸化物を形成
することで焼成膜と基板とを固着させる。このとき結合
された部分は半田の浸食に強いという特徴を有する。
On the other hand, the fixing effect of the metal oxide is called a chemical bond, and the metal oxide reacts with the substrate to form a composite oxide, thereby fixing the fired film and the substrate. At this time, the joined portion has a feature of being resistant to erosion of solder.

(発明が解決しようとする課題) ところで、このようにして得られた導体被膜に要求さ
れる特性としては、導電性、半田濡れ性、基板との密着
性がある。
(Problems to be Solved by the Invention) By the way, the properties required for the conductor film thus obtained include conductivity, solder wettability, and adhesion to a substrate.

しかしながら、前記のような従来のガラスボンド、ケ
ミカルボンドにあっては、それらを同時に満足させるこ
とはできない。
However, conventional glass bonds and chemical bonds as described above cannot be satisfied at the same time.

すなわち、ガラスボンドの場合、半田付後に高温放置
(エージングとも言う)すると、基板との接着強度が著
しく低下することである。この一つの原因は、ガラスと
銅の界面に半田が侵入して中間合金相(Cu6Sn5)が多量
に生成するためである。
That is, in the case of a glass bond, if left at high temperature (also referred to as aging) after soldering, the adhesive strength to the substrate is significantly reduced. One reason for this is that solder invades the interface between glass and copper, and a large amount of intermediate alloy phase (Cu 6 Sn 5 ) is generated.

一方、ケミカルボンドの場合は、金属酸化物の溶解と
分解に高温を要するため、未反応金属酸化物が残存しや
すく、所望の接着強度が得られないことがある。
On the other hand, in the case of a chemical bond, since a high temperature is required for dissolution and decomposition of the metal oxide, unreacted metal oxide tends to remain, and a desired adhesive strength may not be obtained.

特開昭60−35405号公報、特開平1−167907号公報で
は、表面酸化銅粉を用いて効果的にケミカルボンディン
グを起こさせているが、膜と基板との界面近傍にない表
面酸化層はケミカルボンディングに寄与せず、逆に、銅
粉の焼結を阻害したり、半田濡れ性を低下させている。
In JP-A-60-35405 and JP-A-1-167907, chemibonding is effectively caused by using surface copper oxide powder, but a surface oxide layer that is not near the interface between the film and the substrate is It does not contribute to chemical bonding and, on the contrary, hinders sintering of copper powder and reduces solder wettability.

本発明は上記欠点を解消すべく成されたもので、基板
との接着強度が高く、かつ、導電性、半田濡れ性を充分
に満足する銅導体ペーストを提供することを目的として
いる。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned drawbacks, and has as its object to provide a copper conductor paste having high adhesive strength to a substrate and sufficiently satisfying conductivity and solder wettability.

(課題を解決するための手段) 上記目的を達成するため、本発明者は種々検討を重ね
た結果、無機結合剤としてガラスフリットにあらかじめ
酸化銅粉または銅粉を複合化したものを使用することで
銅導体ペーストの導体特性が著しく改善されることを知
見し、本発明を完成するに至った。
(Means for Solving the Problems) In order to achieve the above object, the present inventor has conducted various studies, and as a result, using glass frit as a composite of copper oxide powder or copper powder in advance as an inorganic binder. It was found that the conductor characteristics of the copper conductor paste were remarkably improved, and the present invention was completed.

すなわち、本発明は、銅粉、無機結合粉およびビヒク
ルからなる銅導体ペーストにおいて、前記無機結合粉が
ガラスフリットの表面を銅または酸化銅で被覆した、好
ましくはそのガラスフリットの表面を平均粒径0.1μm
以下の酸化銅粉もしくは銅粉で被覆したものであること
を要旨とする。
That is, the present invention provides a copper conductor paste comprising a copper powder, an inorganic binding powder and a vehicle, wherein the inorganic binding powder coats the surface of the glass frit with copper or copper oxide, and preferably has an average particle size of the glass frit surface. 0.1μm
The gist of the invention is that it is coated with the following copper oxide powder or copper powder.

本発明の好適態様によれば、前記ガラスフリット100
重量部に対し5〜15重量部の酸化銅もしくは銅でガラス
フリットの表面が被覆されてもよく、および/または前
記主銅粉100重量部に対し前記無機結合粉が5重量部以
下となるように配合してもよい。
According to a preferred embodiment of the present invention, the glass frit 100
The surface of the glass frit may be coated with 5 to 15 parts by weight of copper oxide or copper based on parts by weight, and / or the inorganic binding powder may be 5 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the main copper powder. May be blended.

なお、ここで無機結合粉とともに配合する銅粉を「主
銅粉」、ガラスフリットを被覆する銅粉を「結合銅粉」
と便宜上区別して記述する。
The copper powder blended with the inorganic binding powder is referred to as “main copper powder”, and the copper powder covering the glass frit is referred to as “binding copper powder”
Are described separately for convenience.

(作用) 本発明の構成と作用を説明する。(Operation) The configuration and operation of the present invention will be described.

主銅粉としては従来と同様に平均粒径0.1〜10μm、
好ましくは0.5〜5μmであれば十分であって、これに
よって特に制限されることはない。その製造方法、粒子
形状には特に制限ないが、スクリーン印刷には球状粒子
が望ましい。
As the main copper powder, the average particle size is 0.1 to 10 μm as in the past,
Preferably, 0.5 to 5 μm is sufficient, and there is no particular limitation. The production method and particle shape are not particularly limited, but spherical particles are desirable for screen printing.

本発明に使用される無機結合粉を構成するガラスフリ
ットとしては公知のガラスフリットが使用可能である。
例えばPbO−B2O3−SiO2ガラスをベースとしてCd、Znな
ど各種の金属を添加したものが使用可能である。ガラス
フリットの平均粒径は、これも特に制限はないが、スク
リーン印刷に適する10μm以下、基板と被膜の接着に必
要な0.5μm以上であることが望ましい。
Known glass frit can be used as the glass frit constituting the inorganic binding powder used in the present invention.
For example Cd a PbO-B 2 O 3 -SiO 2 glass as the base, those obtained by adding various metals such as Zn can be used. The average particle size of the glass frit is not particularly limited, but is preferably 10 μm or less suitable for screen printing and 0.5 μm or more necessary for bonding the substrate and the coating.

かかるガラスフリットは、本発明によれば、その表面
が酸化銅および/または銅によって被覆されるが、その
被覆の好適態様は、ガラスフリットと酸化銅粉および/
または銅粉との複合化である。そのような態様にあって
は、ガラスフリットとともに本発明にかかる無機結合粉
を構成する酸化銅粉、および結合銅粉の製造方法、粒子
の形状には特に制限はないが、ガラスフリットの表面へ
の均一な付着被覆性を確保する必要があることから、平
均粒径は0.1μm未満であることが望ましい。
According to the present invention, such a glass frit is coated on its surface with copper oxide and / or copper. A preferred embodiment of the coating is made of glass frit and copper oxide powder and / or copper oxide.
Or compounding with copper powder. In such an embodiment, the copper oxide powder constituting the inorganic binding powder according to the present invention together with the glass frit, and the method for producing the binding copper powder, the shape of the particles is not particularly limited, but the surface of the glass frit The average particle size is preferably less than 0.1 μm because it is necessary to ensure uniform adhesion and coating properties.

なお、平均粒径が0.1μm未満の結合銅粉は、大気中
では表面酸化がかなり進行しており酸素含有量が10%前
後に達しており、その表面特性は酸化銅粉と同様であ
る。また、酸化銅粉は第1酸化銅粉、第2酸化銅粉およ
びそれらの混合物のいずれでもよい。
In addition, the surface oxidation of the bound copper powder having an average particle diameter of less than 0.1 μm considerably progresses in the atmosphere, and the oxygen content reaches about 10%, and the surface characteristics are the same as those of the copper oxide powder. Further, the copper oxide powder may be any of a first copper oxide powder, a second copper oxide powder and a mixture thereof.

本発明に使用される無機結合粉を製造すべく行うガラ
スフリットの表面への酸化銅粉もしくは銅粉の被覆方法
としては乳鉢、ライカイ機等を用いて被覆する方法が挙
げられる。酸化銅粉と結合銅粉とはそれぞれ単独でガラ
スフリットを被覆してもよいが、場合によってはそれら
を混入して予めガラスフリットを被覆してもよい。その
場合酸化銅粉と銅粉との配合比も特に制限ないが、好ま
しくは、酸化銅粉と結合銅粉との配合比は、1対2であ
る。
As a method of coating the surface of the glass frit with copper oxide powder or copper powder to produce the inorganic binding powder used in the present invention, a method of coating with a mortar, a raikai machine or the like can be mentioned. The copper oxide powder and the bound copper powder may each independently cover the glass frit, but in some cases they may be mixed to cover the glass frit in advance. In that case, the mixing ratio between the copper oxide powder and the copper powder is not particularly limited, but preferably, the mixing ratio between the copper oxide powder and the bound copper powder is 1: 2.

他には、ガラスフリットの表面にめっき法、蒸着法、
スパッタ法等で銅の薄膜を形成させることも有効であ
る。
In addition, plating method, vapor deposition method,
It is also effective to form a copper thin film by a sputtering method or the like.

本発明の好適態様によれば、ガラスフリットとその表
面に被覆する酸化銅粉もしくは銅粉の重量比はガラスフ
リット100重量部に対し、5〜15重量部が望ましい。酸
化銅粉および銅粉が5重量部未満だと、ガラスフリット
の表面を完全に被覆することができず、逆に15重量部超
だと、ガラスフリットの表面被覆に費やされない過剰の
酸化銅粉および銅粉が生じてしまうので好ましくない。
According to a preferred embodiment of the present invention, the weight ratio of the glass frit to the copper oxide powder or copper powder coated on the surface thereof is preferably 5 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the glass frit. If the amount of copper oxide powder and copper powder is less than 5 parts by weight, the surface of the glass frit cannot be completely covered, and if it exceeds 15 parts by weight, excess copper oxide not consumed for the surface coating of the glass frit It is not preferable because powder and copper powder are generated.

このようにして得た無機結合粉は前述の主銅粉に混合
されるが、その配合割合は主銅粉100重量部に対し5重
量部以下が好ましい。
The inorganic binding powder thus obtained is mixed with the above-mentioned main copper powder, and the mixing ratio is preferably 5 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the main copper powder.

ところで、前述のように乳鉢等を用いて、ガラスフリ
ットの表面に平均粒径の0.1μm以下の酸化銅粉もしく
は結合銅粉を被覆した粉末は、水中に入れて超音波振動
を加えても、二相分離、すなわちガラスフリットと酸化
銅粉および銅粉と分離しない複合粉末であることを確認
した。換言すれば、前述のようにガラスフリットの表面
を「被覆」するとの意味は、水中で超音波振動をかけて
も分離しない程度であれば十分ということである。以下
にあって、かかる被覆状態を複合化ということもある。
By the way, using a mortar or the like as described above, a powder obtained by coating a surface of a glass frit with a copper oxide powder or a binding copper powder having an average particle size of 0.1 μm or less, even if it is put in water and subjected to ultrasonic vibration, It was confirmed that the composite powder did not separate from the two-phase separation, that is, the glass frit, the copper oxide powder, and the copper powder. In other words, "covering" the surface of the glass frit as described above means that it is sufficient that the surface is not separated even when subjected to ultrasonic vibration in water. In the following, such a coating state may be called composite.

このようにして得られた複合化結合粉は、焼成時に
は、従来のガラスフリットと同様に基板上へ流動するの
であるが、さらに表面上の酸化銅粉もしくは結合銅粉を
介して銅焼成膜とも反応する。すなわち、基板上へ流動
したガラス分と銅焼成膜とは平均粒径0.1μm以下の微
細な酸化銅粉もしくは結合銅粉を介してケミカルなボン
ディングを起こしている。そして、そのような結合部は
半田の侵食に強ため、半田付後の高温エージングによる
基板との接着強度の低下が小さい。
The composite bonding powder obtained in this way flows onto the substrate during firing, similarly to a conventional glass frit, but also forms a copper fired film via copper oxide powder or bonding copper powder on the surface. react. That is, chemical bonding occurs between the glass component flowing onto the substrate and the copper fired film via fine copper oxide powder or bonded copper powder having an average particle diameter of 0.1 μm or less. And since such a joint part is strong against erosion of solder, a decrease in adhesive strength to a substrate due to high-temperature aging after soldering is small.

本発明の銅導体ペーストは、このようにして用意され
た上記各成分を次いで混合、混練してペースト化して得
る。
The copper conductor paste of the present invention is obtained by mixing and kneading the above-prepared components and then forming a paste.

本発明に使用されるビヒクルは公知のビヒクルが使用
可能である。例えば、セルロース誘導体(特にエチルセ
ルロース)または合成樹脂(ポリアクリレート、ポリメ
タクリレート、ポリエステル、ポリオレフィン、特に、
ポリイソブチルメタクリレート)等の樹脂を適当な溶
剤、例えばテルピネオール、ジブチルカルビトール、ジ
ブチルフタレート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタン
ジオールジイソブチレート等に溶解させたものが挙げら
れる。
Known vehicles can be used as the vehicle used in the present invention. For example, cellulose derivatives (especially ethyl cellulose) or synthetic resins (polyacrylate, polymethacrylate, polyester, polyolefin, especially
Resins such as polyisobutyl methacrylate) are dissolved in a suitable solvent, for example, terpineol, dibutyl carbitol, dibutyl phthalate, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol diisobutyrate.

上記ペースト化方法としては、公知の各種ペースト化
方法が使用可能である。例えば、混合は万能撹拌機(プ
ラネタリウムミル)、混練は3本ロールミル、ニーダー
等で行うことができる。
As the above-mentioned pasting method, various known pasting methods can be used. For example, mixing can be performed with a universal stirrer (planetarium mill), and kneading can be performed with a three-roll mill, kneader, or the like.

本発明の銅導体ペーストは、次いで基板上に印刷また
は描画により塗布し、溶剤を嵌装、揮散させ、焼成して
導電被膜を得るものである。その場合の印刷には公知の
印刷方法が使用可能である。このような印刷方法として
は、スクリーン印刷法、メタルマスクによる印刷法、直
接描画法等が挙げられる。
Next, the copper conductor paste of the present invention is applied on a substrate by printing or drawing, a solvent is fitted therein, evaporated, and fired to obtain a conductive film. In this case, a known printing method can be used for printing. Examples of such a printing method include a screen printing method, a printing method using a metal mask, and a direct drawing method.

本発明の導体ペーストの焼成法としては、公知の焼成
方法が可能であるが、生産性および安定性の点からベル
ト炉が望ましい。
As a firing method of the conductor paste of the present invention, a known firing method is possible, but a belt furnace is preferable in terms of productivity and stability.

しかも、ガラスフリットの表面上の酸化銅粉はすべて
ボンディングに費やされているため、従来の酸化銅粉単
体を添加した場合や表面酸化銅粉を添加した場合のよう
に、未反応酸化物が残存したり、銅粉の焼結を阻害した
りしないため、導電性および半田濡れ性を損なうことは
全くない。
In addition, since all the copper oxide powder on the surface of the glass frit is consumed for bonding, unreacted oxide is generated as in the case of adding a conventional copper oxide powder alone or adding a surface copper oxide powder. Since it does not remain or hinder the sintering of the copper powder, the conductivity and solder wettability are not impaired at all.

なお、ガラスフリットの表面上に酸化銅粉または結合
銅粉を被覆する例について説明してきたが、ガラスフリ
ットとしては従来よりケミカルボンドに使用される金属
酸化物、例えばCdO、ZnO、Bi2O3、PbO2等の微粉末を被
覆したガラスフリットの場合も同様な効果があらわれる
のは言うまでもない。
Although an example in which copper oxide powder or bonded copper powder is coated on the surface of a glass frit has been described, a metal oxide conventionally used for a chemical bond such as CdO, ZnO, Bi 2 O 3 is used as the glass frit. Needless to say, a glass frit coated with fine powder such as PbO 2 has the same effect.

以下、本発明を具体的実施例によりさらに詳細に説明
する。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples.

(実施例) 第1表に示す組成割合でそれぞれ調製した各銅導体ペ
ーストを、純度96重量%のアルミナ基板上にスクリーン
印刷機で適当なパターンに印刷を行い、120℃で10分間
乾燥して溶剤を除去した後、窒素雰囲気中で、ベルト炉
においてピーク温度750℃、ピーク温度保持時間10分を
含む1サイクル40分のプロファイルで焼成を行い、膜厚
20μmの銅厚膜を得た。
(Example) Each copper conductor paste prepared in the composition ratio shown in Table 1 was printed on an alumina substrate having a purity of 96% by weight in an appropriate pattern using a screen printer, and dried at 120 ° C for 10 minutes. After removing the solvent, baking is performed in a nitrogen atmosphere in a belt furnace at a peak temperature of 750 ° C and a profile of 40 minutes per cycle including a peak temperature holding time of 10 minutes.
A 20 μm thick copper film was obtained.

本発明例にあっては、ガラスフリットと酸化銅粉ある
いは銅粉は予めライカイ機によって複合化されたものを
使用したが、比較例にあってはそれらを単に混合したも
のを使用した。
In the examples of the present invention, glass frit and copper oxide powder or copper powder used were previously compounded by a raikai machine, but in the comparative example, those obtained by simply mixing them were used.

このようにして得た銅焼成膜についてそれぞれ導電
性、半田濡れ性および接着強度の導体特性を評価した。
結果は第2表にまとめて示す。なお、評価要領は次の通
りであった。
Conductive properties such as conductivity, solder wettability, and adhesive strength were evaluated for the copper fired films thus obtained.
The results are summarized in Table 2. The evaluation procedure was as follows.

(導電性): 導体抵抗値の測定により評価した。具体的には、4端
子法抵抗測定、および銅厚膜の線幅・膜厚より比抵抗値
を求めた。
(Conductivity): Evaluated by measuring conductor resistance. Specifically, the specific resistance was determined from the four-terminal method resistance measurement and the line width and thickness of the copper thick film.

(半田濡れ性): 焼成部品を230±3℃の温度に維持した63%Sn−37%P
b半田槽に3±0.5秒間浸漬し、4mm×4の銅被膜上に被
着した半田の被着率を目視で測定した。
(Solder wettability): 63% Sn-37% P with fired parts maintained at 230 ± 3 ℃
bImmersion in a solder bath for 3 ± 0.5 seconds, and the adhesion rate of the solder applied on the 4 mm × 4 copper film was visually measured.

(接着強度): 2mm角の銅導体被膜に、230±3℃の温度に維持した63
%Sn−37%Pb半田槽に3±0.5秒間浸漬した後、その上
に0.6mmφスズメッキ銅線をハンデゴテにて半田付けし
た。スズメッキ銅線を被膜端部より1mmの位置で90度曲
げて基板と垂直とし、基板を固定した状態で引張り試験
機により10cm/minの速度でスズメッキ銅線を引張り、ス
ズメッキ銅線が基板からはがれた時の接着強度を測定し
た。接着光度は半田付直後の値(初期接着強度)、およ
び150℃で100時間エージングした後の値を測定した。
(Adhesive strength): Maintained at a temperature of 230 ± 3 ° C. on a 2 mm square copper conductor film 63
After being immersed in a% Sn-37% Pb solder bath for 3 ± 0.5 seconds, a 0.6 mmφ tin-plated copper wire was soldered thereon with a handheld iron. The tin-plated copper wire is bent 90 degrees at a position 1 mm from the edge of the coating to make it perpendicular to the substrate.With the substrate fixed, the tin-plated copper wire is pulled at a speed of 10 cm / min by a tensile tester, and the tin-plated copper wire comes off the substrate. The adhesive strength was measured. The bonding luminosity was measured immediately after soldering (initial bonding strength) and after aging at 150 ° C. for 100 hours.

第2表に示す結果から分かるように、比較例にあって
は接着強度、特にエージング後の接着強度は著しく劣っ
ており、ガラスフリットを含有しない銅導体ペーストは
剥離してしまったし、ガラスフリットを単に含有するだ
けのもの、さらには酸化銅粉を含むものであっても単に
混合するだけのものにあっては、十分な接着強度が得ら
れないことが分かる。
As can be seen from the results shown in Table 2, the adhesive strength in the comparative example, particularly the adhesive strength after aging, was remarkably inferior, the copper conductor paste containing no glass frit was peeled off, and the glass frit was removed. It can be seen that sufficient adhesion strength cannot be obtained in the case of simply containing, or in the case of simply mixing even if containing copper oxide powder.

(発明の効果) 本発明によれば以上説明したようにガラスフリットと
酸化銅粉あるいは銅粉とを予め複合化しておくだけで、
得られる銅導体ペーストは、基板との密着性に優れ、か
つ導電性および半田濡れ性も満足する良好な導体被膜を
形成でき、産業上大きく役立つものであり、その意義は
大きい。
(Effects of the Invention) According to the present invention, the glass frit and the copper oxide powder or the copper powder are simply compounded in advance as described above,
The obtained copper conductor paste has excellent adhesion to the substrate and can form a good conductor film satisfying both conductivity and solder wettability, and is very useful in industry, and its significance is great.

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】銅粉、無機結合粉およびビヒクルからなる
銅導体ペーストにおいて、前記無機結合粉が酸化銅もし
くは銅でもってガラスフリットの表面を予め被覆したも
のであることを特徴とする銅導体ペースト。
1. A copper conductor paste comprising a copper powder, an inorganic binding powder, and a vehicle, wherein the inorganic binding powder is one in which the surface of a glass frit is previously coated with copper oxide or copper. .
【請求項2】前記ガラスフリット100重量部に対し5〜1
5重量部の酸化銅もしくは銅でガラスフリットの表面が
予め被覆された請求項1記載の銅導体ペースト。
2. The method according to claim 1, wherein said glass frit is 100 parts by weight.
The copper conductor paste according to claim 1, wherein the surface of the glass frit is previously coated with 5 parts by weight of copper oxide or copper.
【請求項3】前記無機結合粉が5重量部以下である請求
項1または2記載の銅導体ペースト。
3. The copper conductor paste according to claim 1, wherein the amount of the inorganic binding powder is 5 parts by weight or less.
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