JP2743100B2 - Manufacturing method of printed circuit board, photo solder resist and solder resist ink - Google Patents

Manufacturing method of printed circuit board, photo solder resist and solder resist ink

Info

Publication number
JP2743100B2
JP2743100B2 JP30154289A JP30154289A JP2743100B2 JP 2743100 B2 JP2743100 B2 JP 2743100B2 JP 30154289 A JP30154289 A JP 30154289A JP 30154289 A JP30154289 A JP 30154289A JP 2743100 B2 JP2743100 B2 JP 2743100B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exposure
solder resist
forming
film
permanent protective
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP30154289A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH03161993A (en
Inventor
達也 飯野
正彦 安藤
Original Assignee
東京プロセスサービス株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 東京プロセスサービス株式会社 filed Critical 東京プロセスサービス株式会社
Priority to JP30154289A priority Critical patent/JP2743100B2/en
Publication of JPH03161993A publication Critical patent/JPH03161993A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2743100B2 publication Critical patent/JP2743100B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明はチップ部品等を搭載したりマーキングするプ
リント基板の製造方法および基板上に永久保護被膜を形
成するフォトソルダーレジストあるいはソルダーレジス
トインキに関する。
Description: FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a method of manufacturing a printed circuit board for mounting and marking chip components and the like, and a photo solder resist or a solder resist ink for forming a permanent protective film on the substrate.

「従来の技術」 従来、プリント基板は基板に配線パターンを形成した
後、基板上にフォトソルダーレジストあるいはソルダー
レジストインキによって永久保護被膜を形成する。
2. Description of the Related Art Conventionally, on a printed circuit board, after forming a wiring pattern on the substrate, a permanent protective film is formed on the substrate using a photo solder resist or a solder resist ink.

しかる後、該永久保護被膜上に搭載するチップ部品を
示すための記号や文字やマーキング印刷によって形成し
ていた。
Thereafter, a symbol, a character, or a marking for indicating a chip component mounted on the permanent protective coating is formed.

「本発明が解決しようとする課題」 従来のプリント基板の製造方法ではフォトソルダーレ
ジストやソルダーレジストインキを硬化させて永久保護
被膜を形成した後、マーキング印刷を行い、該マーキン
グ印刷を乾燥、硬化させる作業が必要であり、製造に手
数と時間がかかり、コスト高となる欠点があった。
[Problem to be Solved by the Present Invention] In a conventional method for manufacturing a printed circuit board, after a photo solder resist or a solder resist ink is cured to form a permanent protective film, marking printing is performed, and the marking printing is dried and cured. There is a drawback that the work is required, the production is troublesome and time-consuming, and the cost is high.

また永久保護被膜を形成した後にスクリーン印刷でマ
ーキング印刷を行なうので、マーキング印刷位置の精度
が悪いという欠点があった。
In addition, since marking printing is performed by screen printing after forming the permanent protective film, there is a disadvantage that the accuracy of the marking printing position is poor.

本発明は以上のような従来の欠点に鑑み、永久保護被
膜と記号や文字等の形成を、容易に短時間に行なうこと
ができるとともに、記号や文字等を高精度の位置に形成
でき、かつ低コストなプリント基板の製造方法を提供す
ることを目的としている。
The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional drawbacks, and can form a permanent protective film and a symbol or a character easily, in a short time, and can form a symbol or a character at a highly accurate position, and It is an object of the present invention to provide a low-cost method for manufacturing a printed circuit board.

「課題を解決するための手段」 上記目的を達成するために、本発明は基板に配線パタ
ーンを形成するパターン形成工程と、このパターン形成
工程後に配線パターンを含む基板上に異なる波長の露光
によって発色、消色あるいは変色させることのできるフ
ォトソルダーレジスト被膜を形成するフォトソルダーレ
ジスト被膜形成工程と、このフォトソルダーレジスト被
膜形成工程後に永久保護被膜を形成する露光を行なう被
膜形成露光工程と、この被膜形成露光工程後に永久保護
被膜部位に該被膜形成露光工程の露光とは異なる波長の
露光で記号や文字等となるように発色、消色あるいは変
色させる文字等の出現露光工程と、この文字等の出現露
光工程後に現像、水洗、乾燥等を行なう後処理工程とで
プリント基板の製造方法を構成している。
Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, the present invention provides a pattern forming step of forming a wiring pattern on a substrate and, after this pattern forming step, color formation by exposure of a different wavelength on a substrate including the wiring pattern. A photo solder resist film forming step of forming a photo solder resist film capable of decoloring or discoloring; a film forming exposing step of performing an exposure for forming a permanent protective film after the photo solder resist film forming step; Appearance of characters and the like that develops, decolors, or discolors such that symbols or characters are formed by exposure at a wavelength different from the exposure in the film formation exposure step on the permanent protective film portion after the exposure step, and the appearance of the characters and the like A post-processing step of performing development, washing, drying, etc. after the exposure step constitutes a method of manufacturing a printed circuit board.

また、本発明は基板に配線パターンを形成するパター
ン形成工程と、このパターン形成工程後に配線パターン
を含む基板上に照射量の異なる露光によって発色、消色
あるいは変色させることのできるフォトソルダーレジス
ト被膜を形成するフォトソルダーレジスト被膜形成工程
と、このフォトソルダーレジスト被膜形成工程後に永久
保護被膜を形成する露光を行なう被膜形成露光工程と、
この被膜形成露光工程後に永久保護被膜部位に該被膜形
成露光工程の露光とは照射量の異なる露光で記号や文字
等となるように発色、消色あるいは変色させる文字等の
出現露光工程と、この文字等の出現露光工程後に現像、
水洗、乾燥等を行なう後処理工程とでプリント基板の製
造方法を構成している。
Further, the present invention provides a pattern forming step of forming a wiring pattern on a substrate, and a photo solder resist film that can be colored, decolored or discolored by exposure with different irradiation doses on the substrate including the wiring pattern after the pattern forming step. A photo solder resist film forming step of forming, and a film forming exposure step of performing exposure for forming a permanent protective film after the photo solder resist film forming step,
After the film forming exposure process, the permanent protective film site is exposed to light having a different irradiation dose from the exposure in the film forming exposure process to form a symbol, a character, or the like. Development after the exposure process
A post-processing step of washing, drying, and the like constitutes a printed circuit board manufacturing method.

「作 用」 上記のように構成されたプリント基板の製造方法は永
久保護被膜を形成した後、異なる波長の露光によって永
久保護被膜に記号や文字等を出現させることができる。
[Operation] In the method of manufacturing a printed circuit board configured as described above, after forming the permanent protective film, symbols, characters, and the like can appear on the permanent protective film by exposure to light of different wavelengths.

「本発明の実施例」 以下、図面に示す実施例により、本発明を詳細に説明
する。
"Examples of the present invention" Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples shown in the drawings.

第1図ないし第8図の実施例において、1は基板2に
配線パターン3を形成するパターン形成工程で、このパ
ターン形成工程1は第2図および第3図に示すように、
従来と同様な方法を用いて基板2上に配線パターン3を
形成する。
1 to 8, reference numeral 1 denotes a pattern forming step for forming a wiring pattern 3 on a substrate 2, and this pattern forming step 1 is performed as shown in FIGS. 2 and 3.
The wiring pattern 3 is formed on the substrate 2 by using the same method as in the related art.

4は前記配線パターン3を含む基板2上に所定の厚さ
のフォトソルダーレジスト被膜5を形成するフォトソル
ダーレジスト被膜形成工程で、このフォトソルダーレジ
スト被膜形成工程4は第4図に示すように、画像のない
スクリーン印刷版を用いた印刷あるいはロールコートに
よってほぼ全面にフォトソルダーレジスト被膜5を形成
する。
Reference numeral 4 denotes a photo solder resist film forming step of forming a photo solder resist film 5 having a predetermined thickness on the substrate 2 including the wiring pattern 3. The photo solder resist film forming step 4 is as shown in FIG. A photo solder resist film 5 is formed on almost the entire surface by printing using a screen printing plate having no image or by roll coating.

このフォトソルダーレジスト被膜形成工程4で使用さ
れるフォトソルダーレジストは、あらかじめ選定され
た、例えば300nm以上の波長の露光によって硬化するフ
ォトソルダーレジスト剤と、このフォトソルダーレジス
ト剤に所定の割合で混合された、該フォトソルダーレジ
スト剤を硬化させる波長とは異なる、例えば300nm以下
の波長の露光によって発色、消色あるいは変色する発色
剤とで構成されたものを使用する。
The photo solder resist used in the photo solder resist film forming step 4 is mixed at a predetermined ratio with a pre-selected photo solder resist agent that is cured by, for example, exposure to a wavelength of 300 nm or more, and the photo solder resist agent. Further, a photo-soldering resist which is different from the curing wavelength of the photo-solder resist, for example, a color developing agent which is colored, decolored or discolored by exposure to a wavelength of 300 nm or less is used.

前記フォトソルダーレジスト剤としてはメラミン、ア
ルキッド型、エポキシ系1液型等の熱硬化型や紫外線硬
化型が用いられる。
As the photo solder resist agent, a thermosetting type such as a melamine, an alkyd type, and an epoxy-based one-pack type or an ultraviolet curable type is used.

また発色剤としては例えば、ホトクロミック化合物で
あるスピロピラン、フルギド、トリフェニルイミダゾリ
ル、ビオロゲン、ベンゾチオピラン、ベンゾチアゾリ
ン、ジチエニルエチン、スピロオキサジン系等が使用さ
れる。
Examples of the coloring agent include photochromic compounds such as spiropyran, fulgide, triphenylimidazolyl, viologen, benzothiopyran, benzothiazoline, dithienylethyne, and spirooxazine.

なお、ホトクロミック化合物以外の発色剤を用いても
よい。
Note that a coloring agent other than the photochromic compound may be used.

6はフォトソルダーレジスト被膜5が形成された基板
2に永久保護膜7を形成する露光を行なう被膜形成露光
工程で、この被膜形成露光工程6は第5図に示すよう
に、永久保護被膜7を形成する画像8が形成されたポジ
フィルム9と、このポジフィルム9上に設置された、例
えば300nm以上の波長の紫外線を透過させる波長選定フ
ィルター10とをフォトソルダーレジスト被膜5上に位置
させ、例えば300nm以上の紫外線で所定時間露光を行な
うことで永久保護被膜7部分が硬化する。
Reference numeral 6 denotes a film forming exposure step for performing exposure for forming a permanent protective film 7 on the substrate 2 on which the photo solder resist film 5 has been formed. As shown in FIG. A positive film 9 on which an image 8 to be formed is formed, and a wavelength selection filter 10 which is provided on the positive film 9 and transmits ultraviolet rays having a wavelength of, for example, 300 nm or more, are positioned on the photo solder resist coating 5. Exposure to ultraviolet light of 300 nm or more for a predetermined time cures the permanent protective film 7.

11は前記被膜形成露光工程6後に硬化した永久保護被
膜7部位に記号や文字等を発色、消色あるいは変色によ
って形成する文字等の出現露光工程で、この文字等の出
現露光工程11は、第6図に示すように永久保護被膜7上
に特殊素材、例えば紫外線波長が250nmまで透過する材
料で作成された記号や文字を形成できるネガフィルム12
を用いて、250nmまでの紫外線で所定時間行なうことに
より、硬化した永久保護被膜7部分に発色、消色あるい
は変色した記号や文字等13が出現する。
Reference numeral 11 denotes an appearance exposure step for characters and the like formed by coloring, decoloring, or discoloring symbols and characters on the permanent protective coating 7 cured after the film formation exposure step 6. As shown in FIG. 6, a negative film 12 capable of forming symbols and characters made of a special material, for example, a material that transmits ultraviolet light up to 250 nm, on the permanent protective film 7.
Is performed for a predetermined period of time with ultraviolet rays up to 250 nm, whereby a symbol, character, or the like 13 which is colored, erased, or discolored appears on the cured permanent protective film 7.

14は前記文字等の出現露光工程11後に現像工程15、水
洗工程16および乾燥工程17等を順次行なう後処理工程
で、この後処理工程14によって、基板2上に未硬化部分
のフォトソルダーレジストが剥離され、第7図および第
8図に示すように記号や文字等が出現した永久保護被膜
7が形成されたプリント基板18ができ上がる。
Reference numeral 14 denotes a post-processing step in which a development step 15, a water-washing step 16, a drying step 17 and the like are sequentially performed after the above-mentioned character appearance exposure step 11, and the uncured portion of the photo solder resist is formed on the substrate 2 by the post-processing step 14. The printed circuit board 18 is formed on which the permanent protective film 7 on which symbols and characters have appeared as shown in FIGS. 7 and 8 is peeled off.

「本発明の異なる実施例」 次に第9図ないし第15図に示す本発明の異なる実施例
につき説明する。なお、これらの実施例の説明に当っ
て、前記本発明の実施例と同一構成部分には同一符号を
付して重複する説明を省略する。
"Different Embodiments of the Present Invention" Next, different embodiments of the present invention shown in FIGS. 9 to 15 will be described. In the description of these embodiments, the same components as those of the embodiment of the present invention will be denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted.

第9図および第10図の実施例において、前記本発明の
実施例と主に異なる点は、フォトソルダーレジスト被膜
形成工程4後に永久保護被膜7および記号や文字等13を
形成する特殊ポジ、ネガフィルム19を用いた紫外線照射
による露光工程20を行ない、該露光工程20で同時に永久
保護被膜7部位を硬化させるとともに、該硬化部位に記
号や文字等13を発色、消色あるいは変色により形成す
る。
9 and 10 are mainly different from the embodiment of the present invention described above in that the permanent protective film 7 and the special positive / negative for forming the symbols and characters 13 after the photo solder resist film forming step 4 are formed. An exposure step 20 by ultraviolet irradiation using the film 19 is performed, and at the same time, the permanent protective coating 7 is cured at the same time, and symbols, characters, etc. 13 are formed on the cured part by coloring, decoloring or discoloring.

このような露光工程20を行なってプリント基板18を製
造することにより、1回の露光工程で永久保護被膜7と
記号や文字13等を形成でき、容易にプリント基板18を製
造することができる。
By performing the exposure step 20 to manufacture the printed circuit board 18, the permanent protective film 7 and the symbols and characters 13 can be formed in one exposure step, and the printed circuit board 18 can be easily manufactured.

第11図ないし第15図の実施例において、前記本発明の
実施例と主に異なる点は、永久保護被膜7を異なる波長
の露光により発色、消色あるいは変色させることのでき
るソルダーレジストインキを用いたスクリーン印刷によ
って配線パターン3を含む基板2上に形成する永久保護
被膜形成工程21を行なった後、永久保護被膜7を紫外線
の照射等によって硬化させる永久保護被膜硬化工程22お
よび硬化した永久保護被膜7より記号や文字13等となる
ように発色、消色あるいは変色により文字等の出現露光
工程11を行なった点で、このような永久保護被膜工程2
1、永久保護被膜硬化工程22、文字等の出現露光工程11
等を用いてプリント基板18を製造しても良い。
11 to 15 mainly differs from the embodiment of the present invention in that a solder resist ink capable of forming, decoloring or discoloring the permanent protective film 7 by exposure to different wavelengths is used. After performing a permanent protective film forming step 21 for forming on the substrate 2 including the wiring pattern 3 by screen printing, a permanent protective film curing step 22 for curing the permanent protective film 7 by irradiating ultraviolet rays or the like, and a cured permanent protective film The point that the exposure step 11 of appearance of characters and the like by coloring, decoloring, or discoloring so as to become a symbol or a character 13 from FIG.
1, permanent protective film curing step 22, appearance step of characters and the like exposure step 11
The printed circuit board 18 may be manufactured using the method described above.

前記永久保護被膜硬化工程22と文字等の出現露光工程
11とを1回の紫外線の照射によって行なっても良い。
The permanent protective coating curing step 22 and the appearance exposure step of characters and the like
11 may be performed by one irradiation of ultraviolet rays.

なお、前記本発明の実施例では露光を波長の異なる紫
外線を用いるものについて説明したが、本発明はこれに
限らず、他の波長等を用いても良い。
In the above-described embodiments of the present invention, exposure using ultraviolet rays having different wavelengths has been described. However, the present invention is not limited to this, and other wavelengths may be used.

また、照射量の異なる露光によって、永久保護被膜を
形成するとともに、記号や文字等を発色、消色あるいは
変色させることのできるフォトソルダーレジストあるい
はソルダーレジストインキを用いてプリント基板を製造
しても良い。
In addition, a printed circuit board may be manufactured using a photo solder resist or a solder resist ink capable of forming, erasing, or discoloring symbols and characters while forming a permanent protective film by exposure with different irradiation doses. .

「本発明の効果」 以上の説明から明らかなように、本発明にあっては次
に列挙する効果が得られる。
"Effects of the present invention" As is clear from the above description, the following effects can be obtained in the present invention.

(1)基板に配線パターンを形成するパターン形成工程
と、このパターン形成工程後に配線パターンを含む基板
上に異なる波長の露光によって発色、消色あるいは変色
させることのできるフォトソルダーレジスト被膜を形成
するフォトソルダーレジスト被膜形成工程と、このフォ
トソルダーレジスト被膜形成工程後に永久保護被膜を形
成する露光を行なう被膜形成露光工程と、この被膜形成
露光工程後に永久保護被膜部位に該被膜形成露光工程の
露光とは異なる波長の露光で記号や文字等となるように
発色、消色あるいは変色させる文字等の出現露光工程
と、この文字等の出現露光工程後に現像、水洗、乾燥等
を行なう後処理工程とからなるので、永久保護被膜と記
号や文字等を容易に形成することができる。したがっ
て、製造コストの低減を図ることができる。
(1) A pattern forming step of forming a wiring pattern on a substrate, and a photo for forming a photo solder resist film capable of developing, decoloring or discoloring by exposure of different wavelengths on the substrate including the wiring pattern after the pattern forming step. A solder resist film forming step, a film forming exposure step of performing an exposure for forming a permanent protective film after the photo solder resist film forming step, and an exposure of the film forming and exposing step to a permanent protective film portion after the film forming exposure step It consists of an exposure step for the appearance of a character or the like that is colored, erased or discolored so as to become a symbol or a character by exposure at a different wavelength, and a post-processing step of developing, washing, drying, etc. after the exposure step for the appearance of the character or the like Therefore, it is possible to easily form a permanent protective film, symbols, characters, and the like. Therefore, the manufacturing cost can be reduced.

(2)前記(1)によって、記号や文字等を写真法で形
成できるので、文字等の寸法精度の向上を図ることがで
きる。
(2) According to the above (1), since symbols, characters, and the like can be formed by a photographic method, the dimensional accuracy of the characters and the like can be improved.

(3)前記(1)によって、文字等の形成に従来のよう
にマーキング印刷後に熱硬化させたり、紫外線硬化させ
たりする作業が不用なので、短時間に製造することがで
きる。
(3) According to the above (1), it is unnecessary to heat or ultraviolet cure after marking printing as in the related art for forming characters and the like, so that it can be manufactured in a short time.

(4)請求項2、3、4も前記(1)〜(3)と同様な
効果が得られる。
(4) Claims 2, 3, and 4 also provide the same effects as (1) to (3).

【図面の簡単な説明】 第1図は本発明の一実施例を示す工程図、第2図および
第3図はパターン形成工程の説明図、第4図はフォトソ
ルダーレジスト被膜形成工程の説明図、第5図は被膜形
成露光工程の説明図、第6図は文字等の出現露光工程の
説明図、第7図および第8図は記号や文字等が出現した
プリント基板の説明図、第9図および第10図、第11図な
いし第15図はそれぞれ本発明の異なる実施例を示す説明
図である。 1……パターン形成工程、2……基板、 3……配線パターン、 4……フォトソルダーレジスト被膜形成工程、 5……フォトソルダーレジスト被膜、 6……被膜形成露光工程、7……永久保護被膜、 8……画像、9……ポジフィルム、 10……波長選定フィルター、 11……文字等の出現露光工程、 12……ネガフィルム、13……文字等、 14……後処理工程、15……現像工程、 16……水洗工程、17……乾燥工程、 18……プリント基板、 19……特殊ポジ、ネガフィルム、 20……露光工程、 21……永久保護被膜形成工程、 22……永久保護被膜硬化工程。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a process drawing showing one embodiment of the present invention, FIGS. 2 and 3 are explanatory diagrams of a pattern forming process, and FIG. 4 is an explanatory diagram of a photo solder resist film forming process. , FIG. 5 is an explanatory view of a film forming exposure step, FIG. 6 is an explanatory view of an exposure step of appearance of characters and the like, FIG. 7 and FIG. FIG. 10, FIG. 10, and FIG. 11 to FIG. 15 are explanatory views showing different embodiments of the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Pattern forming process, 2 ... Substrate, 3 ... Wiring pattern, 4 ... Photo solder resist film forming process, 5 ... Photo solder resist film, 6 ... Film forming exposure process, 7 ... Permanent protective film , 8 ... Image, 9 ... Positive film, 10 ... Wavelength selection filter, 11 ... Exposure exposure step for characters, etc., 12 ... Negative film, 13 ... Characters, etc. 14 ... Post-processing step, 15 ... … Development process, 16… Washing process, 17… Drying process, 18 …… Printed circuit board, 19 …… Special positive, negative film, 20 …… Exposure process, 21 …… Permanent protective film forming process, 22 …… Permanent Protective film curing process.

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】基板に配線パターンを形成するパターン形
成工程と、このパターン形成工程後に配線パターンを含
む基板上に異なる波長の露光によって発色、消色あるい
は変色させることのできるフォトソルダーレジスト被膜
を形成するフォトソルダーレジスト被膜形成工程と、こ
のフォトソルダーレジスト被膜形成工程後に永久保護被
膜を形成する露光を行なう被膜形成露光工程と、この被
膜形成露光工程後に永久保護被膜部位に該被膜形成露光
工程の露光とは異なる波長の露光で記号や文字等となる
ように発色、消色あるいは変色させる文字等の出現露光
工程と、この文字等の出現露光工程後に現像、水洗、乾
燥等を行なう後処理工程とを含むことを特徴とするプリ
ント基板の製造方法。
1. A pattern forming step for forming a wiring pattern on a substrate, and after the pattern forming step, a photo solder resist film capable of developing, decoloring or discoloring by exposure of different wavelengths on the substrate including the wiring pattern. A photo solder resist film forming step, a film forming exposure step of exposing to form a permanent protective film after the photo solder resist film forming step, and an exposure of the film forming and exposing step to a permanent protective film portion after the film forming exposure step An appearance exposure step of a character or the like that is colored, erased or discolored so as to become a symbol or a character by exposure at a wavelength different from the exposure step, and a post-processing step of performing development, washing, drying, etc. after the exposure step of the character or the like A method for manufacturing a printed circuit board, comprising:
【請求項2】基板に配線パターンを形成する配線パター
ン形成工程と、このパターン形成工程後に配線パターン
を含む基板上に異なる波長の露光により発色、消色ある
いは変色させることのできるフォトソルダーレジスト被
膜を形成するフォトソルダーレジスト被膜形成工程と、
このフォトソルダーレジスト被膜形成工程後に永久保護
被膜を波長選定フィルターとポジフィルムとを用いて露
光を行なって形成する被膜形成露光工程と、この被膜形
成露光工程後に永久保護被膜部位に特殊ネガフィルムを
用いて記号や文字となるように発色、消色あるいは変色
させる文字等の出現露光工程と、この文字等の出現露光
工程後に現像、水洗、乾燥等を行なう後処理工程とを含
むことを特徴とするプリント基板の製造方法。
2. A wiring pattern forming step for forming a wiring pattern on a substrate, and a photo solder resist film capable of developing, decoloring or discoloring by exposure of different wavelengths on the substrate including the wiring pattern after the pattern forming step. Forming a photo solder resist film,
After the photo solder resist film forming step, a permanent protective film is formed by exposing using a wavelength selection filter and a positive film to form a permanent protective film, and after the film forming and exposing step, a special negative film is used for a permanent protective film portion. And a post-processing step of developing, washing with water, drying and the like after the character and the like appearing and decoloring or discoloring so as to become a symbol or a character. Manufacturing method of printed circuit board.
【請求項3】基板に配線パターンを形成するパターン形
成工程と、このパターン形成工程後に配線パターンを含
む基板上に異なる波長の露光によって発色、消色あるい
は変色させることのできるフォトソルダーレジスト被膜
を形成するフォトソルダーレジスト被膜形成工程と、こ
のフォトソルダーレジスト被膜形成工程後に特殊ボジ、
ネガ兼用フィルムを用いた露光により永久保護被膜およ
び発色、消色あるいは変色により記号や文字等を形成す
る露光工程と、この露光工程後に現像、水洗、乾燥等を
行なう後処理工程とを含むことを特徴とするプリント基
板の製造方法。
3. A pattern forming step of forming a wiring pattern on a substrate, and after this pattern forming step, a photo solder resist film capable of developing, decoloring or discoloring by exposure of different wavelengths to the substrate including the wiring pattern is formed. Photo solder resist film forming step, and after this photo solder resist film forming step, a special body,
The method includes a step of forming a permanent protective film by exposure using a negative / multipurpose film and a symbol or a character by coloring, decoloring or discoloring, and a post-processing step of performing development, washing, drying and the like after the exposure step. Characteristic printed circuit board manufacturing method.
【請求項4】基板に配線パターンを形成するパターン形
成工程と、このパターン形成工程後に配線パターンを含
む基板上に照射量の異なる露光によって発色、消色ある
いは変色させることのできるフォトソルダーレジスト被
膜を形成するフォトソルダーレジスト被膜形成工程と、
このフォトソルダーレジスト被膜形成工程後に永久保護
被膜を形成する露光を行なう被膜形成露光工程と、この
被膜形成露光工程後に永久保護被膜部位に該被膜形成露
光工程の露光とは照射量の異なる露光で記号や文字等と
なるように発色、消色あるいは変色させる文字等の出現
露光工程と、この文字等の出現露光工程後に現像、水
洗、乾燥等を行なう後処理工程とを含むことを特徴とす
るプリント基板の製造方法。
4. A pattern forming step for forming a wiring pattern on a substrate, and a photo solder resist film capable of developing, decoloring or discoloring by exposure with different irradiation doses on the substrate including the wiring pattern after the pattern forming step. Forming a photo solder resist film,
A film forming exposure step of performing an exposure for forming a permanent protective film after the photo solder resist film forming step, and an exposure of the film forming and exposing step on the permanent protective film portion after the film forming and exposing step are performed by different exposure amounts. A print characterized by including a step of exposing a character or the like to be colored, decolored, or discolored so as to form a color or a character, and a post-processing step of performing development, washing, drying, etc. after the step of exposing the character or the like. Substrate manufacturing method.
【請求項5】基板に配線パターンを形成するパターン形
成工程と、このパターン形成工程後に配線パターンを含
む基板上に永久保護被膜を異なる波長の露光あるいは照
射量の異なる露光により発色、消色あるいは変色させる
ことのできるソルダーレジストインキを用いたスクリー
ン印刷によって形成する永久保護被膜形成工程と、この
永久保護被膜形成工程後に永久保護被膜を硬化させる永
久保護被膜硬化工程と、この永久保護被膜硬化工程後に
記号や文字等となるように発色、消色あるいは変色させ
る文字等の出現露光工程とを含むことを特徴とするプリ
ント基板の製造方法。
5. A pattern forming step of forming a wiring pattern on a substrate, and after this pattern forming step, a permanent protective film is colored, decolored or discolored on a substrate including the wiring pattern by exposure to light of different wavelengths or to different amounts of irradiation. A permanent protective film forming step formed by screen printing using a solder resist ink capable of being cured, a permanent protective film curing step of curing the permanent protective film after the permanent protective film forming step, and a symbol after the permanent protective film curing step And a process of exposing a character or the like that develops, erases, or changes its color to become a character or a character.
【請求項6】あらかじめ選定された波長の露光によって
硬化するフォトソルダーレジスト剤と、このフォトソル
ダーレジスト剤に混合された該フォトソルダーレジスト
剤を硬化させる波長の露光とは異なる波長の露光によっ
て発色、消色あるいは変色する発色剤とからなることを
特徴とするフォトソルダーレジスト。
6. A photo-solder resist agent that is cured by exposure at a wavelength selected in advance, and a color formed by exposure at a wavelength different from the exposure at a wavelength that cures the photo-solder resist agent mixed with the photo solder resist agent. What is claimed is: 1. A photo solder resist comprising a color developing agent capable of decoloring or discoloring.
【請求項7】あらかじめ選定された波長の露光によって
硬化するソルダーレジストインキ剤と、このソルダーレ
ジストインキ剤に混合された該ソルダーレジストインキ
剤を硬化させる波長の露光とは異なる波長の露光によっ
て発色、消色あるいは変色する発色剤とからなることを
特徴とするソルダーレジストインキ。
7. A solder resist ink agent which is cured by exposure at a wavelength selected in advance, and a color formed by exposure at a wavelength different from the exposure at a wavelength which cures the solder resist ink agent mixed with the solder resist ink agent. A solder resist ink comprising a decoloring or discoloring color forming agent.
JP30154289A 1989-11-20 1989-11-20 Manufacturing method of printed circuit board, photo solder resist and solder resist ink Expired - Fee Related JP2743100B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30154289A JP2743100B2 (en) 1989-11-20 1989-11-20 Manufacturing method of printed circuit board, photo solder resist and solder resist ink

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30154289A JP2743100B2 (en) 1989-11-20 1989-11-20 Manufacturing method of printed circuit board, photo solder resist and solder resist ink

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03161993A JPH03161993A (en) 1991-07-11
JP2743100B2 true JP2743100B2 (en) 1998-04-22

Family

ID=17898192

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP30154289A Expired - Fee Related JP2743100B2 (en) 1989-11-20 1989-11-20 Manufacturing method of printed circuit board, photo solder resist and solder resist ink

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2743100B2 (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5374799B1 (en) * 2013-02-28 2013-12-25 東海神栄電子工業株式会社 Circuit board manufacturing method that eliminates the need to print characters and symbols by screen printing
WO2014132974A1 (en) * 2013-02-28 2014-09-04 東海神栄電子工業株式会社 Substrate manufacturing method, substrate, and mask film
JP5643416B1 (en) * 2013-12-24 2014-12-17 互応化学工業株式会社 Manufacturing method of coated wiring board
JP5728109B1 (en) * 2013-12-18 2015-06-03 東海神栄電子工業株式会社 Substrate manufacturing method, substrate and mask film

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002290018A (en) * 2001-03-26 2002-10-04 Nippon Paint Co Ltd Method of manufacturing printed wiring board and resist material

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5374799B1 (en) * 2013-02-28 2013-12-25 東海神栄電子工業株式会社 Circuit board manufacturing method that eliminates the need to print characters and symbols by screen printing
WO2014132974A1 (en) * 2013-02-28 2014-09-04 東海神栄電子工業株式会社 Substrate manufacturing method, substrate, and mask film
KR101802046B1 (en) * 2013-02-28 2017-11-27 토카이 신에이 일렉트로닉스 인더스트리 가부시키가이샤 Substrate manufacturing method, substrate, and mask film
US9857687B2 (en) 2013-02-28 2018-01-02 Tokai Shinei Electronics Inidustry Co., Ltd Method of manufacturing substrate and substrate and mask film
JP5728109B1 (en) * 2013-12-18 2015-06-03 東海神栄電子工業株式会社 Substrate manufacturing method, substrate and mask film
JP2015143808A (en) * 2013-12-18 2015-08-06 東海神栄電子工業株式会社 Method for manufacturing substrate, substrate, and mask film
JP5643416B1 (en) * 2013-12-24 2014-12-17 互応化学工業株式会社 Manufacturing method of coated wiring board
JP2015121653A (en) * 2013-12-24 2015-07-02 互応化学工業株式会社 Method for manufacturing coated wiring board

Also Published As

Publication number Publication date
JPH03161993A (en) 1991-07-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US2770534A (en) Method and material for making overlay masks
WO1999001796A3 (en) Pattern-forming methods
US4971895A (en) Double exposure method of photoprinting with liquid photopolymers
US3643597A (en) Method of making screen printing articles
JP2743100B2 (en) Manufacturing method of printed circuit board, photo solder resist and solder resist ink
JP2004526993A5 (en)
JPS6120024A (en) Single layer halation preventing system
WO2014132974A1 (en) Substrate manufacturing method, substrate, and mask film
JP3019503B2 (en) Manufacturing method of printed wiring board
EP0052806B1 (en) Dot-enlargement process for photopolymer litho masks
JPH04340295A (en) Manufacture of printed board, photosolder resist and solder resist ink
JPS5840517B2 (en) Keyboard button manufacturing method
JPH0462375B2 (en)
JPS60126650A (en) Method for printing resin pattern
JPH0365538B2 (en)
JPH0486801A (en) Production of color filter
JPS6132662B2 (en)
EP0396254A3 (en) Photosensitive composition and pattern formation method using the same
EP0313111A2 (en) Photoprinting with radiation transparent phototools
JP2766055B2 (en) How to prevent signature forgery of information carrying card
JPS55115003A (en) Production of color filter
JPH0755584B2 (en) Screen mask manufacturing method
JP2687616B2 (en) Manufacturing method of printed wiring board
JPH02144989A (en) Method of treating printed circuit board
JPH06255232A (en) Manufacture of printed wiring board

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees