JP2735575B2 - Magneto-optical recording medium - Google Patents

Magneto-optical recording medium

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JP2735575B2 JP63208217A JP20821788A JP2735575B2 JP 2735575 B2 JP2735575 B2 JP 2735575B2 JP 63208217 A JP63208217 A JP 63208217A JP 20821788 A JP20821788 A JP 20821788A JP 2735575 B2 JP2735575 B2 JP 2735575B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、基板の信号面にエンハンス層と光磁気記録
層と保護層とを順次積層して成る光磁気記録媒体に係
り、特に、前記エンハンス層および保護層の組成に関す
る。
The present invention relates to a magneto-optical recording medium in which an enhancement layer, a magneto-optical recording layer, and a protective layer are sequentially laminated on a signal surface of a substrate. It relates to the composition of the enhancement layer and the protective layer.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来より、基板の信号面に、エンハンス層と光磁気記
録層と保護層とを順次積層して成る光磁気記録媒体が知
られている。
2. Description of the Related Art A magneto-optical recording medium in which an enhancement layer, a magneto-optical recording layer, and a protective layer are sequentially laminated on a signal surface of a substrate has been known.

前記エンハンス層は、光磁気記録層からの反射光を繰
り返し反射させ、見かけ上のカー回転角を大きくしてCN
値の改善を図るものであつて、例えば、窒化シリコン
(SiN)、窒化アルミニウム(AlN)、硫化亜鉛(Zn
S)、酸化シリコン(SiO)、酸化アルミニウム(Al
2O3)、炭化シリコン(SiC)などの誘電体にて形成され
る。また、このエンハンス層には、基板側からの透湿を
防止するという機能もある。一方、保護層は、光磁気記
録層の表面を硬化して異物の衝合による光磁気記録層の
損傷を防止すると共に、光磁気記録層への透湿を防止す
るために設けられる。
The enhance layer repeatedly reflects the reflected light from the magneto-optical recording layer, and increases the apparent Kerr rotation angle to increase the CN.
For example, silicon nitride (SiN), aluminum nitride (AlN), zinc sulfide (Zn
S), silicon oxide (SiO), aluminum oxide (Al
2 O 3 ), formed of a dielectric such as silicon carbide (SiC). The enhanced layer also has a function of preventing moisture permeation from the substrate side. On the other hand, the protective layer is provided to harden the surface of the magneto-optical recording layer to prevent damage to the magneto-optical recording layer due to collision of foreign matter and to prevent moisture permeation to the magneto-optical recording layer.

かように、エンハンス層と保護層とは透湿防止の点で
機能が共通するから、成膜装置の小型化、ターゲツトの
種類の減少、およびターゲツトの交換に要する工数の省
力化等を図るため、従来より、保護層をエンハンス層と
同一の材料にて形成することが行われている。
As described above, since the enhancement layer and the protective layer have the same function in terms of preventing moisture permeation, the purpose is to reduce the size of the film forming apparatus, reduce the number of types of targets, and reduce the number of steps required for replacing targets. Conventionally, the protective layer is formed of the same material as the enhance layer.

ところで、前記したエンハンス層材料および保護層材
料のうち、酸化物系の化合物はそれに含まれる酸素が光
磁気記録層の劣化させる虞れがあることから、非酸化物
系の化合物を用いることがより好ましいとされている。
また、非酸化物系の薄膜をスパツタリングにて形成する
場合、導入ガスとして純アルゴンガスを用い、真空槽内
のガス圧を高く設定すると、成膜された薄膜の屈折率が
大きくなり過ぎ、却つて記録/再生特性が劣化する。
By the way, among the above-mentioned materials for the enhancement layer and the material for the protective layer, the oxide-based compound is more likely to use a non-oxide-based compound because oxygen contained therein may deteriorate the magneto-optical recording layer. It is preferred.
Also, when a non-oxide thin film is formed by sputtering, if pure argon gas is used as the introduction gas and the gas pressure in the vacuum chamber is set high, the refractive index of the formed thin film becomes too large, and As a result, the recording / reproducing characteristics deteriorate.

このため、従来より非酸化物系のエンハンス層、例え
ば窒化物のエンハンス層をスパツタリングするに当つて
は、スパツタガスとして窒素ガスが10%程度添加された
アルゴンガスを用い、真空槽内のガス圧を比較的低く設
定するといつた方法が採られている。保護層について
は、機能上屈折率を調整する必要はないが、前記した生
産性向上の見地から、エンハンス層と同様の方法で形成
されている。
For this reason, conventionally, when sputtering a non-oxide-based enhanced layer, for example, a nitride enhanced layer, an argon gas to which about 10% of nitrogen gas is added as a sputter gas is used, and the gas pressure in the vacuum chamber is reduced. The method used when setting it relatively low is adopted. It is not necessary to adjust the refractive index of the protective layer functionally, but it is formed in the same manner as the enhance layer from the viewpoint of improving the productivity described above.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

然るに、前記のような方法で形成された全く同一組成
のエンハンス層および保護層を有する光磁気記録媒体
は、高温高湿環境下に放置すると、短時間のうちにエン
ハンス層および保護層にクラツクを生じ、耐環境性の点
で実用性に問題があるということが判明した。
However, a magneto-optical recording medium having an enhancer layer and a protective layer having exactly the same composition and formed by the above-described method may cause cracks in the enhancer layer and the protective layer within a short time when left in a high-temperature and high-humidity environment. It was found that there was a problem in practicality in terms of environmental resistance.

本発明は、前記した従来技術の欠点を解消し、高温高
湿環境下における光磁気記録媒体の耐久性を改善するこ
とを目的とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art and to improve the durability of a magneto-optical recording medium in a high-temperature and high-humidity environment.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明は、前記の目的を達成するため、基板の信号面
に、非酸化物系の化合物とこれよりも少量の酸化物系の
化合物とを含む誘電体にて形成されたエンハンス層と、
光磁気記録層と、前記エンハンス層と同種の誘電体にて
形成された保護膜とを順次積層して成る光磁気記録媒体
において、前記保護層に含まれる酸化物の含有率を前記
エンハンス層に含まれる酸化物の含有率よりも高くする
という構成にした。
The present invention, in order to achieve the above object, on the signal surface of the substrate, an enhanced layer formed of a dielectric containing a non-oxide compound and a smaller amount of an oxide compound than this,
In a magneto-optical recording medium in which a magneto-optical recording layer and a protective film formed of the same kind of dielectric material as the enhance layer are sequentially laminated, the content of the oxide contained in the protective layer is set to the enhance layer. The configuration is such that it is higher than the content of the contained oxide.

〔作用〕[Action]

非酸化物系の化合物とこれよりも少量の酸化物系の化
合物とを含む誘電体薄膜においては、酸化物の含有率が
高い誘電体薄膜は、酸化物の含有率が低い誘電体薄膜に
比べて延性および熱膨張率が大きくなる。延性および熱
膨張率の大きな保護層を光磁気記録層を介して延性およ
び熱膨張率の小さいエンハンス層に積層すると、基板上
に積層された積層体の平均の延性および熱膨張率が上昇
する。よつて、エンハンス層の光学的性質を劣化するこ
となく、高温高湿環境下におけるエンハンス層および保
護層のクラツクを防止することができ、光磁気記録媒体
の耐久性が改善される。
In a dielectric thin film containing a non-oxide compound and a smaller amount of an oxide compound, a dielectric thin film having a high oxide content is compared with a dielectric thin film having a low oxide content. Therefore, ductility and coefficient of thermal expansion increase. When a protective layer having a large ductility and a large coefficient of thermal expansion is laminated on an enhanced layer having a small ductility and a small coefficient of thermal expansion via a magneto-optical recording layer, the average ductility and the coefficient of thermal expansion of the laminate laminated on the substrate are increased. Therefore, the crack of the enhance layer and the protective layer in a high temperature and high humidity environment can be prevented without deteriorating the optical properties of the enhance layer, and the durability of the magneto-optical recording medium is improved.

また、前記エンハンス層および保護層の成膜に当つて
は、真空槽内のを所定の高真空度まで真空引きしたの
ち、不活性ガスなどのスパツタガスを導入して行うが、
いかに高度に真空引きしても真空槽内の空気を完全に排
気することは事実上不可能であり、また、スパツタガス
ボンベ中に混入した微量の酸素がスパツタガスの導入と
ともに真空槽内に導入されることもあり、さらには、樹
脂製の基板を用いた場合には、基板中から空気が放出さ
れることもある。
In addition, when forming the enhance layer and the protective layer, the inside of the vacuum chamber is evacuated to a predetermined high vacuum degree, and then a sputter gas such as an inert gas is introduced.
It is practically impossible to completely exhaust the air in the vacuum chamber no matter how high the vacuum is drawn, and a small amount of oxygen mixed in the spatter gas cylinder is introduced into the vacuum chamber with the introduction of the spatter gas. In some cases, when a resin substrate is used, air may be released from the substrate.

このように、真空槽内には微量の酸素が存在すると考
えられるが、真空層内のガス圧が高いほど、また、不活
性ガスに混入される混合ガスの含有率が高いほど、スパ
ツタ粒子ひいては成膜された薄膜中に取り込まれる酸素
の割合が高くなる。よつて、エンハンス層を形成する際
のスパツタ条件と保護層を形成する際のスパツタ条件を
適宜調整することによつて、酸化物の含有率の高い保護
層と酸化物の含有率の低いエンハンス層とを形成するこ
とができる。
As described above, it is considered that a small amount of oxygen is present in the vacuum chamber, but the higher the gas pressure in the vacuum layer and the higher the content of the mixed gas mixed in the inert gas, the higher the spatter particles and The proportion of oxygen incorporated in the formed thin film increases. Therefore, by appropriately adjusting the sputter conditions for forming the enhanced layer and the sputter conditions for forming the protective layer, the protective layer having a high oxide content and the enhanced layer having a low oxide content are appropriately adjusted. And can be formed.

〔実施例〕〔Example〕

第1図に示すように、本発明に係る光磁気記録媒体
は、基板1の信号パターン2の形成面にエンハンス層3
と光磁気記録層4と保護層5とを順次積層して成る。
As shown in FIG. 1, a magneto-optical recording medium according to the present invention comprises an enhancement layer 3 on a surface of a substrate 1 on which a signal pattern 2 is formed.
And the magneto-optical recording layer 4 and the protective layer 5 are sequentially laminated.

基板1は、例えばガラスなどの透明セラミツクスや、
ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタクリレート
(PMMA)、ポリメチルペンテン、エポキシ等の透明な樹
脂材料によつて形成される。該基板1の片面には、トラ
ツキング信号に対応する案内溝やアドレス信号に対応す
るプリピツトなどの信号ターン2が形成されている。な
お、この基板1の平面形状は、例えばデイスク状または
カード状などの、必要に応じて任意の形状に形成するこ
とができる。
The substrate 1 is made of, for example, transparent ceramics such as glass,
It is formed of a transparent resin material such as polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), polymethyl pentene, and epoxy. On one surface of the substrate 1, signal turns 2 such as guide grooves corresponding to tracking signals and prepits corresponding to address signals are formed. The planar shape of the substrate 1 can be formed in an arbitrary shape as required, such as a disk shape or a card shape.

信号パターン2の形成手段としては、前記基板1の材
質によつて適宜の方法が適用される。
As a means for forming the signal pattern 2, an appropriate method is applied depending on the material of the substrate 1.

例えば、基板1がPCやPMMA、それにポリメチルペンテ
ンなどの熱可塑性樹脂にて形成される場合には、射出成
形用金型内に溶融した基板材料を射出して基板1と信号
パターン2とを一体に成形する所謂インジエクシヨン法
が適する。また、この基板材料に関しては、射出成形用
金型内に溶融した基板材料を射出したのちに圧力を加え
る、所謂コンプレツシヨン法あるいはインジエクシヨン
−コンプレツシヨン法といつた形成手段を適用すること
もできる。さらに、基板1がガラスなどのセラミツクス
やエポキシなどの熱硬化性樹脂にて形成される場合に
は、所望の信号ターンの反転パターンが形成されたスタ
ンパ(金型)と基板1との間で光硬化性樹脂を展伸し、
スタンパの反転パターンを基板1に転写する所謂2P法
(Photo−polymerization;光硬化性樹脂法)が適する。
また、エポキシなどの熱硬化性樹脂に関しては、金型内
に溶融状態にある基板材料を静注して基板1と信号パタ
ーン2とを一体に成形する所謂注型法を適用することも
できる。
For example, when the substrate 1 is formed of a thermoplastic resin such as PC, PMMA, and polymethylpentene, the molten substrate material is injected into an injection molding die to connect the substrate 1 and the signal pattern 2 to each other. The so-called integral extrusion method of integrally molding is suitable. As for the substrate material, a forming method such as a so-called compression method or an injection-compression method for applying pressure after injecting a molten substrate material into an injection molding die may be applied. it can. Further, when the substrate 1 is formed of ceramics such as glass or a thermosetting resin such as epoxy, light is emitted between the substrate 1 and a stamper (die) on which a desired signal turn inversion pattern is formed. Expand the curable resin,
The so-called 2P method (photo-polymerization; photocurable resin method) of transferring the inverted pattern of the stamper to the substrate 1 is suitable.
As for a thermosetting resin such as epoxy, a so-called casting method in which a substrate material in a molten state is injected into a mold by intravenous injection and the substrate 1 and the signal pattern 2 are integrally formed can be applied.

エンハンス層3は、金属元素の窒化物、金属元素の炭
化物、金属元素のフツ化物、金属元素の硫化物、金属元
素の水素化物、または非金属元素の窒化物、非金属元素
の炭化物、非金属元素のフツ化物、非金属元素の硫化
物、非金属元素の水素化物などから成り、酸化物系誘電
体の含有率が低い物質にて形成される。前記化合物をつ
くる金属元素としては、任意の金属元素を用いることが
できるが、特に、アルミニウム、コバルト、クロム、
鉄、ゲルマニウム、ハフニウム、インジウム、マグネシ
ウム、モリブデン、ニオブ、スズ、タンタル、チタン、
タングステン、亜鉛、ジルコニウムから選択されたもの
が好適である。また、前記化合物をつくる非金属元素と
しては、ホウ素、シリコンから選択されたものが特に好
適である。
The enhancement layer 3 is made of a nitride of a metal element, a carbide of a metal element, a fluoride of a metal element, a sulfide of a metal element, a hydride of a metal element, a nitride of a nonmetal element, a carbide of a nonmetal element, a nonmetallic carbide. It is formed of a material having a low oxide dielectric content, such as a fluoride of an element, a sulfide of a nonmetallic element, or a hydride of a nonmetallic element. As the metal element forming the compound, any metal element can be used, and in particular, aluminum, cobalt, chromium,
Iron, germanium, hafnium, indium, magnesium, molybdenum, niobium, tin, tantalum, titanium,
Those selected from tungsten, zinc and zirconium are preferred. In addition, as the nonmetallic element forming the compound, one selected from boron and silicon is particularly preferable.

前記エンハンス層3は、屈折率を所望の値、すなわち
エンハンスメント効果を奏し、かつ記録膜4に照射され
る記録/再生用光の光量を減少しないために必要な値に
調整するため、X線光電子分光分析による酸化物の含有
率が10%〜20%に調整されている。
The enhancement layer 3 adjusts the refractive index to a desired value, that is, an X-ray photoelectron in order to adjust the refractive index to a value required to exhibit an enhancement effect and not to decrease the amount of recording / reproducing light applied to the recording film 4. The oxide content by spectroscopic analysis is adjusted to 10% to 20%.

記録層4は、例えばテルビウムと鉄とコバルトを含む
非晶質合金など、公知に属する任意の光磁気記録材料を
もつて形成することができる。
The recording layer 4 can be formed of any known magneto-optical recording material such as an amorphous alloy containing terbium, iron, and cobalt.

保護層5は、前記エンハンス層3を形成する化合物と
同種の化合物をもつて形成されるが、延性および熱膨張
率をエンハンス層3より大きくするため、X線光電子分
光分析による酸化物の含有率が15%〜40%に調整されて
いる。
The protective layer 5 is formed with a compound of the same kind as the compound forming the enhance layer 3. However, in order to make the ductility and the coefficient of thermal expansion larger than those of the enhance layer 3, the content of the oxide by X-ray photoelectron spectroscopy is determined. Has been adjusted to 15% to 40%.

前記実施例の光磁気記録媒体は、エンハンス層3を酸
化物の含有率が低い物質にて形成し、その屈折率を所望
の値に調整したので、エンハンスメント効果が高い。ま
た、保護層5を酸化物の含有率が高い物質にて形成し、
その延性および熱膨張率をエンハンス層3よりも大きく
したので、基板上に積層された積層体の平均の延性およ
び熱膨張率がエンハンス層自体よりも大きくなり、高温
高湿環境下におけるエンハンス層および保護層のクラツ
クを防止することができる。
In the magneto-optical recording medium of the above embodiment, the enhancement layer 3 is formed of a substance having a low oxide content, and the refractive index thereof is adjusted to a desired value, so that the enhancement effect is high. Further, the protective layer 5 is formed of a substance having a high oxide content,
Since the ductility and the coefficient of thermal expansion are made larger than that of the enhance layer 3, the average ductility and the coefficient of thermal expansion of the laminated body laminated on the substrate become larger than that of the enhance layer itself. Cracking of the protective layer can be prevented.

また、エンハンス層材料および保護層材料として、酸
化物の含有率が低い物質を用いたので、記録層4がエン
ハンス層3および保護層5に含まれる酸素によつて侵さ
れるということがほとんどなく、また、防湿性が高いこ
とから、記録層の保護効果が高い。
Further, since a material having a low oxide content is used as the material for the enhance layer and the material for the protective layer, the recording layer 4 is hardly attacked by oxygen contained in the enhance layer 3 and the protective layer 5, In addition, the protective effect of the recording layer is high because of its high moisture-proof property.

次に、本発明に係る光磁気記録媒体の製造方法を第2
図の流れ図に従つて説明する。
Next, the method for manufacturing a magneto-optical recording medium according to the present invention will be described in the second.
The description will be made according to the flowchart in the figure.

まず、ステツプS−1において、スパツタリング装置
の真空槽内に信号パターンが形成された基板を収納し、
真空槽を所定の真空度まで真空引きする。このときの真
空度は、薄膜に要求される純度と作業時間とを考慮して
決定される。
First, in step S-1, the substrate on which the signal pattern is formed is housed in the vacuum chamber of the sputtering apparatus.
The vacuum chamber is evacuated to a predetermined degree of vacuum. The degree of vacuum at this time is determined in consideration of the purity required for the thin film and the operation time.

次いで、ステツプS−2において、基板上に酸化物の
含有率が低く所望の屈折率を有するエンハンス層が形成
されるように、真空槽内に導入されるガスの種類および
ガス圧を調整し、ステツプS−3においてエンハンス層
のスパツタリングを行う。
Next, in step S-2, the type and gas pressure of the gas introduced into the vacuum chamber are adjusted so that an enhanced layer having a low oxide content and a desired refractive index is formed on the substrate, In step S-3, the enhancement layer is sputtered.

次いで、ステツプS−4において、エンハンス層上に
所望の記録層が形成されるように、真空槽内に導入され
るガスの種類およびガス圧を調整し、ステツプS−5に
おいて記録層のスパツタリングを行う。
Next, in step S-4, the kind and pressure of the gas introduced into the vacuum chamber are adjusted so that a desired recording layer is formed on the enhanced layer, and in step S-5, sputtering of the recording layer is performed. Do.

さらに、ステツプS−6において、記録層上に酸化物
の含有率が高く延性および熱膨張率の高い保護層が形成
されるように、真空槽内に導入されるガスの種類および
ガス圧を調整し、ステツプS−7において保護層のスパ
ツタリングを行う。
Further, in step S-6, the type and pressure of the gas introduced into the vacuum chamber are adjusted so that a protective layer having a high oxide content and a high ductility and a high coefficient of thermal expansion is formed on the recording layer. Then, in step S-7, sputtering of the protective layer is performed.

前記実施例の光磁気記録媒体の製造方法は、各層をス
パツタリングする毎に、真空槽内に導入するガスの種類
とガス圧とを調整するようにしたので、所望の物性を備
えたエンハンス層および保護層を容易に作成することが
できる。
In the method of manufacturing the magneto-optical recording medium of the embodiment, each time the layers are sputtered, the type and the gas pressure of the gas introduced into the vacuum chamber are adjusted, so that the enhanced layer having desired physical properties and A protective layer can be easily formed.

以下、より具体的に実施例と従来技術に係る比較例と
を掲げ、本発明の効果に言及する。
Hereinafter, more specific examples and comparative examples according to the related art will be described, and effects of the present invention will be referred to.

<第1実施例> 樹脂製基板が収納された真空槽を3×10-5(Pa)まで
真空引きした。
First Example A vacuum chamber containing a resin substrate was evacuated to 3 × 10 −5 (Pa).

次いで、真空槽内に10%の窒素ガスを混入させたアル
ゴンガスを導入して真空槽内のガス圧を0.2(Pa)に平
衡させ、前記基板の信号面に窒化シリコン系のエンハン
ス層を850Å〜900Åの厚さにスパツタリングした。
Then, an argon gas mixed with 10% nitrogen gas is introduced into the vacuum chamber to equilibrate the gas pressure in the vacuum chamber to 0.2 (Pa), and a silicon nitride-based enhanced layer is formed on the signal surface of the substrate by 850 mm. Sputtered to a thickness of ~ 900 mm.

次いで、真空槽内のガスを一旦排気したのち、純アル
ゴンガスを導入して真空槽内のガス圧を0.2(Pa)に平
衡させ、前記エンハンス層上にテルビウム−鉄−コバル
ト系の記録層を約1000Åの厚さにスパツタリングした。
Next, once the gas in the vacuum chamber is evacuated, pure argon gas is introduced to balance the gas pressure in the vacuum chamber to 0.2 (Pa), and a terbium-iron-cobalt-based recording layer is formed on the enhanced layer. Sputtered to a thickness of about 1000 mm.

さらに、真空槽内のガスを再度排気したのち、純アル
ゴンガスを導入して真空槽内のガス圧を1.0(Pa)に平
衡させ、前記記録層上に窒化シリコン系の保護層を約10
00Åの厚さにスパツタリングした。
Further, after the gas in the vacuum chamber is evacuated again, pure argon gas is introduced to equilibrate the gas pressure in the vacuum chamber to 1.0 (Pa), and a silicon nitride-based protective layer is formed on the recording layer by about 10 μm.
Sputtered to a thickness of 00 mm.

<第2実施例> 第1実施例と同一の方法で樹脂基板の信号面にエンハ
ンス層および記録層を順次積層したのち、真空槽内のガ
スを排気し、真空槽内に純窒素ガスを導入して真空槽内
のガス圧を0.2(Pa)に平衡させ、前記記録層上に窒化
シリコン系の保護層を約1000Åの厚さにスパツタリング
した。
<Second embodiment> After the enhancement layer and the recording layer are sequentially laminated on the signal surface of the resin substrate by the same method as the first embodiment, the gas in the vacuum chamber is exhausted, and pure nitrogen gas is introduced into the vacuum chamber. The gas pressure in the vacuum chamber was equilibrated to 0.2 (Pa), and a silicon nitride-based protective layer was sputtered on the recording layer to a thickness of about 1000 mm.

<第3実施例> 第1実施例と同一の方法で樹脂基板の信号面にエンハ
ンス層および記録層を順次積層したのち、真空槽内のガ
スを排気し、真空槽内にアルゴンガスと窒素ガスとが50
%ずつ混合されたガスを導入して真空槽内のガス圧を0.
5(Pa)に平衡させ、前記記録層上に窒化シリコン系の
保護層を約1000Åの厚さにスパツタリングした。
<Third Embodiment> After the enhancement layer and the recording layer are sequentially laminated on the signal surface of the resin substrate by the same method as the first embodiment, the gas in the vacuum chamber is exhausted, and the argon gas and the nitrogen gas are injected in the vacuum chamber. And 50
The gas pressure in the vacuum chamber was reduced to 0.
After equilibrating to 5 (Pa), a silicon nitride-based protective layer was sputtered on the recording layer to a thickness of about 1000 mm.

<比較例> エンハンス層および保護層を形成する際、共に10%の
窒素ガスが混入されたアルゴンガスを真空槽内に導入
し、真空槽内のガス圧を0.2(Pa)に平衡させてスパツ
タリングを行つた。
<Comparative Example> When forming the enhancement layer and the protective layer, argon gas mixed with 10% nitrogen gas was introduced into the vacuum chamber, and the gas pressure in the vacuum chamber was equilibrated to 0.2 (Pa) to perform sputtering. Went.

導入ガスの種類および真空槽内のガス圧を除く他の条
件については、前記第1ないし第3実施例の場合と同じ
である。
Other conditions except for the type of gas to be introduced and the gas pressure in the vacuum chamber are the same as those in the first to third embodiments.

前記各実施例および比較例の光磁気記録媒体を気温60
℃、相対湿度90%の環境下に放置したところ、比較例の
光磁気記録媒体は20時間経過時にエンハンス層および保
護層の一部にクラツクが発生し、100時間経過時にはエ
ンハンス層および保護層の全体にクラツクがひろがつた
のに対し、本発明に係る光磁気記録媒体は、2000時間経
過後もクラツクの発生が認められなかつた。
The magneto-optical recording medium of each of the above Examples and Comparative Examples was heated to a temperature of 60.
When left in an environment of 90 ° C. and a relative humidity of 90%, the magneto-optical recording medium of the comparative example cracked in a part of the enhancement layer and the protective layer after 20 hours, and after 100 hours, the cracks occurred in the enhance layer and the protective layer. While the cracks spread throughout the magneto-optical recording medium according to the present invention, no cracks were observed even after lapse of 2,000 hours.

なお、前記実施例においては、窒化シリコンのみを例
にとつて説明したが、他の金属または非金属の硫化物、
炭化物、水素化物等についても同様の効果がある。
In the above embodiment, only silicon nitride was described as an example, but other metal or nonmetal sulfides,
Similar effects are obtained for carbides, hydrides and the like.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上説明したように、本発明は、基板の信号面にエン
ハンス層と光磁気記録層と保護層をこの順に積層した光
磁気記録媒体において、保護層に含まれる酸化物の含有
量をエンハンス層に含まれる酸化物の含有量よりも高く
したので、基板上に積層された積層体の平均の延性及び
熱膨張率が上昇し、高温高湿環境下における光磁気記録
媒体の耐久性が改善される。
As described above, the present invention relates to a magneto-optical recording medium in which an enhancement layer, a magneto-optical recording layer, and a protective layer are laminated in this order on the signal surface of a substrate, and the content of the oxide contained in the protective layer is reduced to the enhanced layer. Since the content is higher than the content of the contained oxide, the average ductility and the coefficient of thermal expansion of the laminated body laminated on the substrate are increased, and the durability of the magneto-optical recording medium in a high-temperature and high-humidity environment is improved. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明に係る光磁気記録媒体の要部断面図、第
2図は本発明に係る光磁気記録媒体の製造を説明する流
れ図である。 1:基板、2:信号パターン、3:エンハンス層、4:記録層、
5:保護層。
FIG. 1 is a sectional view of a main part of a magneto-optical recording medium according to the present invention, and FIG. 2 is a flowchart for explaining the manufacture of the magneto-optical recording medium according to the present invention. 1: substrate, 2: signal pattern, 3: enhanced layer, 4: recording layer,
5: protective layer.

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】基板の信号面に、非酸化物系の化合物とこ
れよりも少量の酸化物系の化合物とを含む誘電体にて形
成されたエンハンス層と、光磁気記録層と、前記エンハ
ンス層と同種の誘電体にて形成された保護膜とを順次積
層して成る光磁気記録媒体において、前記保護層に含ま
れる酸化物の含有率を前記エンハンス層に含まれる酸化
物の含有率よりも高くしたことを特徴とする光磁気記録
媒体。
1. An enhancement layer formed on a signal surface of a substrate by a dielectric containing a non-oxide compound and a smaller amount of an oxide compound than the compound, a magneto-optical recording layer, and the enhancement layer. In a magneto-optical recording medium in which a layer and a protective film formed of the same kind of dielectric are sequentially laminated, the content of the oxide contained in the protective layer is determined by the content of the oxide contained in the enhanced layer. A magneto-optical recording medium characterized by having a higher height.
【請求項2】請求項1に記載の光磁気記録媒体におい
て、前記エンハンス層および保護層を、窒化シリコンと
これよりも少量の酸化シリコンとを含む誘電体にて形成
したことを特徴とする光磁気記録媒体。
2. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the enhance layer and the protective layer are formed of a dielectric containing silicon nitride and a smaller amount of silicon oxide. Magnetic recording medium.
【請求項3】請求項1に記載の光磁気記録媒体におい
て、前記基板を樹脂材料にて形成したことを特徴とする
光磁気記録媒体。
3. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein said substrate is formed of a resin material.
【請求項4】請求項1に記載の光磁気記録媒体におい
て、前記保護層を、前記エンハンス層よりも延性および
熱膨張率の高い薄膜にて形成したことを特徴とする光磁
気記録媒体。
4. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein said protective layer is formed of a thin film having higher ductility and a higher coefficient of thermal expansion than said enhanced layer.
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