JP2725857B2 - Method for producing hydrophobic organocolloidal silica - Google Patents

Method for producing hydrophobic organocolloidal silica

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JP2725857B2
JP2725857B2 JP23983589A JP23983589A JP2725857B2 JP 2725857 B2 JP2725857 B2 JP 2725857B2 JP 23983589 A JP23983589 A JP 23983589A JP 23983589 A JP23983589 A JP 23983589A JP 2725857 B2 JP2725857 B2 JP 2725857B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、疎水性有機溶媒中に安定に分散する疎水性
オルガノコロイダルシリカの製造法に関するものであ
る。さらに詳しくは本発明は、製造時の操作が簡単で、
しかも疎水性有機溶媒との相溶性、分散性が良く、安定
な疎水性オルガノコロイダルシリカを安価に製造する方
法に関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a hydrophobic organocolloidal silica which is stably dispersed in a hydrophobic organic solvent. More specifically, the present invention is easy to operate during manufacturing,
In addition, the present invention relates to a method for inexpensively producing a stable hydrophobic organocolloidal silica having good compatibility and dispersibility with a hydrophobic organic solvent.

〔従来技術および課題〕[Conventional technology and problems]

従来、コロイダルシリカは、有機系塗料の成膜性改善
のための添加剤等として、水またはメタノール、エタノ
ール、イソプロパノール、エチルセロソルブ、ブチルセ
ロソルブ等の親水性有機溶媒を溶媒とした各種工業製品
に混合され、使用されてきている。近年、各種工業製品
の細分化、高機能化に伴い、疎水性有機溶媒中において
も使用できるコロイダルシリカが要求されてきており、
このような疎水性コロイダルシリカを製造する方法とし
て、シランカップリング剤を使用する試みがなされてい
る。
Conventionally, colloidal silica has been mixed with various industrial products using water or hydrophilic organic solvents such as methanol, ethanol, isopropanol, ethyl cellosolve, and butyl cellosolve as additives for improving the film formability of organic paints. , Has been used. In recent years, with the subdivision and high functionality of various industrial products, colloidal silica that can be used in hydrophobic organic solvents has been required,
As a method for producing such a hydrophobic colloidal silica, an attempt has been made to use a silane coupling agent.

例えば、米国特許第4,027,073号には、水系コロイダ
ルシリカにトリアルコキシシランを添加する方法が記載
されている。
For example, U.S. Pat. No. 4,027,073 describes a method of adding trialkoxysilane to aqueous colloidal silica.

また、米国特許第4,188,451号には、親水性有機溶媒
型コロイダルシリカと少量の水の混合系に、トリアルコ
キシシランを添加する方法が記載されている。
U.S. Pat. No. 4,188,451 describes a method in which trialkoxysilane is added to a mixed system of hydrophilic organic solvent type colloidal silica and a small amount of water.

しかし、これらシランカップリング剤を使用する従来
の方法は、シランカップリング剤の自己縮合が起こるた
め、ゲル化安定性が悪いものであった。また高価なシラ
ンカップリング剤を多量に使用する必要があり、さらに
操作に細心の注意を必要として、繁雑であるなど工業化
への適正を欠くものであった。
However, conventional methods using these silane coupling agents have poor gelation stability because self-condensation of the silane coupling agent occurs. In addition, it is necessary to use a large amount of an expensive silane coupling agent, and further, it requires careful attention to the operation, which is complicated and lacks the suitability for industrialization.

したがって、本発明の目的は、製造時の操作が簡単
で、しかも疎水性有機溶媒との相溶性、分散性が良く、
安定な疎水性オルガノコロイダルシリカを安価に製造す
る方法を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is that the operation at the time of production is simple, and the compatibility with the hydrophobic organic solvent, the dispersibility is good,
An object of the present invention is to provide a method for inexpensively producing a stable hydrophobic organocolloidal silica.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

すなわち、本発明は疎水性有機溶媒とカチオン性界面
活性剤を混合した後、これに水系アニオン性コロイダル
シリカを添加し、脱水することを特徴とする、疎水性オ
ルガノコロイダルシリカの製造法を提供するものであ
る。
That is, the present invention provides a method for producing a hydrophobic organocolloidal silica, comprising mixing a hydrophobic organic solvent and a cationic surfactant, adding an aqueous anionic colloidal silica thereto, and dehydrating the mixture. Things.

(疎水性有機溶媒) 本発明に使用する疎水性有機溶媒は、疎水性オルガノ
コロイダルシリカの用途に応じて適宜選択すればよく、
所望の疎水性有機溶媒を使用することができ、とくに限
定されるものではない。一般的には、20℃における水に
対する溶解度が10以下、好ましくは3以下〔100gの水溶
液中の最大疎水性有機溶媒量(g)〕の疎水性有機溶媒
であれば、充分疎水性製品に適用することができる。例
えば、トルエン、ベンゼン、キシレン、メチルエチルケ
トン、テトラヒドロフラン等を挙げることができる。
(Hydrophobic organic solvent) The hydrophobic organic solvent used in the present invention may be appropriately selected depending on the use of the hydrophobic organocolloidal silica.
Any desired hydrophobic organic solvent can be used, and is not particularly limited. Generally, a hydrophobic organic solvent having a solubility in water at 20 ° C. of 10 or less, preferably 3 or less [maximum amount of hydrophobic organic solvent (g) in 100 g of an aqueous solution (g)] is sufficiently applied to a hydrophobic product. can do. For example, toluene, benzene, xylene, methyl ethyl ketone, tetrahydrofuran and the like can be mentioned.

(カチオン性界面活性剤) 本発明に使用することができるカチオン性界面活性剤
としては、とくに限定はなく、例えば「新界面活性剤」
(堀口博著:三共出版昭和50年10月10日発行)第493〜5
74頁や「界面活性剤等一覧表1989年版」(日本界面活性
剤工業会)等に記載されている、カチオン性界面活性剤
を使用することができる。
(Cationic Surfactant) The cationic surfactant that can be used in the present invention is not particularly limited, and for example, a “new surfactant”
(Horiguchi Hiroshi: Sankyo Publishing October 10, 1975) No. 493-5
Cationic surfactants described on page 74 and "List of Surfactants, etc., 1989 Edition" (Japan Surfactant Manufacturers Association) can be used.

具体的には第1級アミン(塩)型、第2級アミン
(塩)型、第3級アミン(塩)型、第4級アンモニウム
(塩)型、アミド型、イミダゾリン(誘導体)型、ポリ
アミン(塩)型、カチオン性澱粉型、ポリアルキルアン
モニウム(塩)型、ポリオキシエチレン型、カチオン樹
脂型、メラミン樹脂型、ジシアンジアミド型、ポリアル
キレンポリアミン(塩)型、特殊シリコン型、ジアミド
ポリアミン(塩)型、アミノ変性シリコン型、ラノリン
誘導体型、ポリアクリル系高分子型、フッ素樹脂型、メ
チルハイドロジエンポリシロキサン型、キロン型、ポリ
ウレタン型、シリコンジルコニウム型、特殊合成油型、
アルミニウム誘導体型、クロム錯塩型、ヤシアミン酢酸
(塩)型等を挙げることができる。好ましくは、第1級
アミンおよび/またはその塩、第2級アミンおよび/ま
たはその塩、第3級アミンおよび/またはその塩、イミ
ダゾールおよび/またはその塩、アルキル第4級アンモ
ニウムおよび/またはその塩、炭素以外の元素を有する
アルキル第4級アンモニウムおよび/またはその塩、ア
ルキルベンジル第4級アンモニウムおよび/またはその
塩、窒素環を有する第4級アンモニウムおよび/または
その塩等の第4級アンモニウムおよび/またはその塩等
が良く、例えば、 (式中R1〜R3およびR8〜R18は炭素原子数1〜30の直
鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケニル基であ
り、これらのうち、1分子中の少なくとも1つは炭素原
子数5〜30、好ましくは8〜25であって、それぞれ同一
でも異なっていても良い。R4〜R7は炭素原子数1〜25の
直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケニル基であ
り、これらのうち、1分子中の少なくとも1つは炭素原
子数5〜25、好ましくは8〜20であり、それぞれ同一で
も異なっていても良い。R19は炭素原子数7〜25、好ま
しくは9〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基、ア
ルケニル基である。Aはハロゲン、硫酸根または硝酸根
である。nはAの価数に等しい数である。Xは−O−、
−S−、−NH−、アミド基またはエステル基である。) で表されるカチオン性界面活性剤およびこれらに対応す
るアミン、アンモニウム、イミダゾール等を挙げること
ができる。上記式中の疎水性基R1〜R18は、カチオン性
界面活性剤を疎水性有機溶媒中に、常温乃至加温状態で
容易に分散または溶解させることのできるものであれば
良く、必ずしもこれらに限定されるものではない。
Specifically, primary amine (salt) type, secondary amine (salt) type, tertiary amine (salt) type, quaternary ammonium (salt) type, amide type, imidazoline (derivative) type, polyamine (Salt) type, cationic starch type, polyalkylammonium (salt) type, polyoxyethylene type, cationic resin type, melamine resin type, dicyandiamide type, polyalkylenepolyamine (salt) type, special silicon type, diamide polyamine (salt) ) Type, amino-modified silicon type, lanolin derivative type, polyacrylic polymer type, fluororesin type, methylhydrogenpolysiloxane type, chiron type, polyurethane type, silicon zirconium type, special synthetic oil type,
Examples thereof include an aluminum derivative type, a chromium complex type, and a cocoamine acetic acid (salt) type. Preferably, primary amine and / or salt thereof, secondary amine and / or salt thereof, tertiary amine and / or salt thereof, imidazole and / or salt thereof, alkyl quaternary ammonium and / or salt thereof And quaternary ammoniums such as alkyl quaternary ammoniums having an element other than carbon and / or salts thereof, alkylbenzyl quaternary ammoniums and / or salts thereof, quaternary ammoniums having a nitrogen ring and / or salts thereof, and the like. And / or its salts, for example, (Wherein R 1 to R 3 and R 8 to R 18 are a linear, branched or cyclic alkyl group or alkenyl group having 1 to 30 carbon atoms, of which at least one in one molecule is carbon R 4 to R 7 are linear or branched or cyclic alkyl or alkenyl groups having 1 to 25 carbon atoms, each having 5 to 30 atoms, preferably 8 to 25 atoms, which may be the same or different. Among them, at least one in one molecule has 5 to 25 carbon atoms, preferably 8 to 20 and may be the same or different, and R 19 has 7 to 25 carbon atoms, preferably A linear, branched or cyclic alkyl or alkenyl group of 9 to 20. A is a halogen, sulfate or nitrate, n is a number equal to the valence of A. X is -O-,
—S—, —NH—, an amide group or an ester group. ) And the corresponding surfactants such as amine, ammonium, imidazole and the like. The hydrophobic groups R 1 to R 18 in the above formula may be any as long as the cationic surfactant can be easily dispersed or dissolved in a hydrophobic organic solvent at room temperature to a heated state. However, the present invention is not limited to this.

(水系アニオン性コロイダルシリカ) 本発明に使用する水系アニオン性コロイダルシリカ
は、安定なものであればとくに限定はされず、例えば80
℃雰囲気下で1カ月以上ゲル化しない程度安定なもので
あれば、どのようなものでも使用することができる。
(Water-based anionic colloidal silica) The water-based anionic colloidal silica used in the present invention is not particularly limited as long as it is stable.
Any material can be used as long as it does not gel for at least one month under an atmosphere of ° C.

このような水系コロイダルシリカとしては、例えば米
国特許第2305738号に記載されているような、解膠法で
合成され、粒子の形状が不定形のものや、特開昭第58−
15022号に記載されているような、イオン交換法で合成
され、粒子の形状が球形のものがある。本発明で用いる
水系コロイダルシリカは、解膠法、イオン交換法のどち
らの方法で合成されたものでもよいが、好ましくは、経
済的理由からイオン交換法で合成されたものがよい。
Examples of such aqueous colloidal silica include those synthesized by a deflocculation method and having an irregular particle shape as described in, for example, U.S. Pat.
Some of them are synthesized by an ion exchange method and have a spherical particle shape as described in No. 15022. The aqueous colloidal silica used in the present invention may be synthesized by either the peptization method or the ion exchange method, but is preferably synthesized by the ion exchange method for economic reasons.

本発明の水系アニオン性コロイダルシリカは、シリカ
固形分5〜50重量%、好ましくは10〜40重量%、シリカ
粒子の表面積35〜350m2/g、好ましくは45〜270m2/g、pH
2〜9、好ましくはpH2〜7のものが良い。
The aqueous anionic colloidal silica of the present invention has a silica solid content of 5 to 50% by weight, preferably 10 to 40% by weight, a surface area of silica particles of 35 to 350 m 2 / g, preferably 45 to 270 m 2 / g, pH
Those having a pH of 2 to 9, preferably pH 2 to 7 are good.

シリカ固形分が上記量より少ないと経済性が悪化する
傾向にあり好ましくなく、シリカ固形分が上記量より多
いと反応時にゲル化する割合が増加する傾向にあり好ま
しくない。
If the silica solid content is less than the above amount, the economy tends to deteriorate, which is not preferable. If the silica solid content is more than the above amount, the ratio of gelation during the reaction tends to increase, which is not preferable.

シリカ粒子の表面積が上記量より小さいと、疎水性オ
ルガノコロイダルシリカの安定性が悪化する傾向にあり
好ましくなく、シリカ粒子の表面積が上記量より大きい
とシリカ粒子が沈澱し易く、疎水性オルガノコロイダル
シリカの安定性が悪化する傾向にあり、好ましくない。
If the surface area of the silica particles is smaller than the above amount, the stability of the hydrophobic organocolloidal silica tends to deteriorate, which is not preferable.If the surface area of the silica particles is larger than the above amount, the silica particles are easily precipitated, and the hydrophobic organocolloidal silica is Is liable to deteriorate in stability, which is not preferable.

pHが2より小さいと、疎水性オルガノコロイダルシリ
カのゲル化安定性が悪化する傾向にあり好ましくなく、
pHが上記範囲を超えると、疎水化反応が進行しにくくな
る傾向にあり好ましくない。
If the pH is less than 2, the gelation stability of the hydrophobic organocolloidal silica tends to deteriorate, which is not preferable.
If the pH exceeds the above range, the hydrophobization reaction tends to hardly proceed, which is not preferable.

(疎水性有機溶媒とカチオン性界面活性剤との混合) 本発明の方法においては、まず疎水性有機溶媒とカチ
オン性界面活性剤を混合する。
(Mixing of Hydrophobic Organic Solvent and Cationic Surfactant) In the method of the present invention, first, the hydrophobic organic solvent and the cationic surfactant are mixed.

カチオン性界面活性剤の量は、疎水性有機溶媒に対し
て1〜50重量%、好ましくは3〜20重量%である。
The amount of the cationic surfactant is 1 to 50% by weight, preferably 3 to 20% by weight, based on the hydrophobic organic solvent.

カチオン性界面活性剤の量が上記量を超えると、未反
応カチオン性界面活性剤が疎水性オルガノコロイダルシ
リカのゲル化し、安定性を悪化させる傾向があり、好ま
しくない。
If the amount of the cationic surfactant exceeds the above-mentioned amount, the unreacted cationic surfactant gels the hydrophobic organocolloidal silica and tends to deteriorate the stability, which is not preferable.

また、カチオン性界面活性剤の添加量が上記量未満で
あると、疎水化反応が不充分となることがあり好ましく
ない。
On the other hand, if the amount of the cationic surfactant is less than the above amount, the hydrophobizing reaction may be insufficient, which is not preferable.

本発明においては、疎水性有機溶媒とカチオン性界面
活性剤の混合に際して、疎水性有機溶媒にカチオン性界
面活性剤を分散乃至溶解することが好ましく、これが困
難な場合には、加熱することにより分散乃至溶解を促進
することができる。
In the present invention, at the time of mixing the hydrophobic organic solvent and the cationic surfactant, it is preferable to disperse or dissolve the cationic surfactant in the hydrophobic organic solvent. Or dissolution can be promoted.

この場合、加熱は150℃以下、好ましくは100℃以下が
良く、上記温度以上であるとシリカ固形分がゲル化し易
くなる傾向にあり好ましくない。
In this case, the heating is performed at a temperature of 150 ° C. or lower, preferably 100 ° C. or lower. If the temperature is higher than the above range, the silica solid content tends to gel, which is not preferable.

(水系アニオン性コロイダルシリカの添加) 本発明の方法においては、上記の疎水性有機溶媒とカ
チオン性界面活性剤を混合した液に、水系アニオン性コ
ロイダルシリカを添加する。水系アニオン性コロイダル
シリカの添加量は、シリカ固形分として、シリカ固形分
および疎水性有機溶媒の合計量に対して5〜60重量%、
好ましくは10〜50重量%が良い。
(Addition of water-based anionic colloidal silica) In the method of the present invention, water-based anionic colloidal silica is added to a liquid obtained by mixing the above-mentioned hydrophobic organic solvent and a cationic surfactant. The amount of the aqueous anionic colloidal silica added is 5 to 60% by weight based on the total amount of the silica solids and the hydrophobic organic solvent as silica solids,
Preferably, the content is 10 to 50% by weight.

水系アニオン性コロイダルシリカの添加量が上記量を
超えると、疎水性オルガノコロイダルシリカがゲル化
し、安定性が悪化する傾向にあり好ましくない。また、
水系アニオン性コロイダルシリカの添加量が上記量未満
であると、経済性が悪化する傾向にあり好ましくない。
If the amount of the aqueous anionic colloidal silica exceeds the above-mentioned amount, the hydrophobic organocolloidal silica gels and the stability tends to deteriorate, which is not preferable. Also,
If the amount of the aqueous anionic colloidal silica is less than the above amount, the economic efficiency tends to deteriorate, which is not preferable.

本発明の方法において、上記水系アニオン性コロイダ
ルシリカとカチオン性界面活性剤の反応は、常温で添加
するだけで速やかに進行するが、好ましくはカチオン性
界面活性剤を含有する疎水性有機溶媒を撹拌しながら添
加することが好ましい。
In the method of the present invention, the reaction between the aqueous anionic colloidal silica and the cationic surfactant proceeds promptly only by being added at room temperature, but preferably the hydrophobic organic solvent containing the cationic surfactant is stirred. It is preferable to add while adding.

(水分の除去) 本発明の方法においては、上記水系アニオン性コロイ
ダルシリカとカチオン性界面活性剤の反応の開始後、水
分を除去する。
(Removal of Water) In the method of the present invention, water is removed after the reaction of the aqueous anionic colloidal silica with the cationic surfactant is started.

水分の除去は水系アニオン性コロイダルシリカの添加
中および/または添加後に行うことができるが、好まし
くは添加中および添加後に行うことが良い。
The removal of water can be performed during and / or after the addition of the aqueous anionic colloidal silica, but is preferably performed during and after the addition.

水分の除去は、実質的に分離した水相が存在しなけれ
ば良いが、好ましくは、使用する有機溶媒の疎水性にも
よるが概ね、水系アニオン性コロイダルシリカ添加時
は、系全体の水分含量が10重量%以下、さらに好ましく
は5重量%以下となるように、添加量と水分除去量との
バランスをとった操作を行うのが良い。
The removal of water may be carried out as long as there is no substantially separated aqueous phase, but preferably depends on the hydrophobicity of the organic solvent used, but generally, when the aqueous anionic colloidal silica is added, the water content of the entire system is reduced. It is preferable to perform an operation that balances the amount of addition and the amount of water removal so that the amount of water is 10% by weight or less, more preferably 5% by weight or less.

最終的には系全体の水分含量が5重量%以下、さらに
好ましくは3重量%以下、さらに好ましくは1重量%以
下とすれば良い。
Finally, the water content of the entire system may be 5% by weight or less, more preferably 3% by weight or less, and further preferably 1% by weight or less.

水系アニオン性コロイダルシリカ添加時の水分含量が
上記量を超えると、シリカ粒子が沈澱する可能性が増大
する傾向にあり、最終的な系全体の水分含量が上記量を
超えると、製品としての疎水性オルガノコロイダルシリ
カのゲル化安定性が低下する傾向にあり好ましくない。
If the water content at the time of adding the aqueous anionic colloidal silica exceeds the above amount, the possibility that the silica particles will precipitate tends to increase, and if the final water content of the entire system exceeds the above amount, the hydrophobicity of the product becomes poor. The gelling stability of the hydrophobic organocolloidal silica tends to decrease, which is not preferable.

水分除去の方法は何ら限定されず、所望の方法を適宜
選択することができるが、例えばモレキュラーシーブま
たはゼオライトによる水分の吸着、もしくは加熱還流状
態での共沸脱水等の方法、およびこれらの方法を組み合
わせた方法を例示することができ、簡便さの点から工業
的には共沸脱水方法が適している。
The method of removing water is not limited at all, and a desired method can be appropriately selected.For example, a method such as adsorption of water by molecular sieve or zeolite, or a method such as azeotropic dehydration in a heated reflux state, and these methods may be used. Examples of combined methods can be given, and the azeotropic dehydration method is industrially suitable from the viewpoint of simplicity.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.

〔実施例〕〔Example〕

実施例 1 冷却器、温度計、撹拌機、滴下ロートを備えた反応器
に第1級アミン塩(C17H33COOCH2CH2NH3Cl)13.3重量部
および140重量部のキシレンを入れ、撹拌しながら96℃
に加熱して均一溶液とした。
Example 1 A reactor equipped with a condenser, a thermometer, a stirrer, and a dropping funnel was charged with 13.3 parts by weight of a primary amine salt (C 17 H 33 COOCH 2 CH 2 NH 3 Cl) and 140 parts by weight of xylene, 96 ° C with stirring
To obtain a homogeneous solution.

この溶液に300重量部の水系アニオン性コロイダルシ
リカ〔旭電化工業(株)製アデライトAT−20Q:シリカ固
形分20重量%、シリカ粒子表面積230m2/g、pH3.0〕を8
時間かけて滴下した。
To this solution, 300 parts by weight of aqueous anionic colloidal silica [Adelite AT-20Q manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd .: silica solids content 20% by weight, silica particle surface area 230 m 2 / g, pH 3.0] 8
It was dropped over time.

水系アニオン性コロイダルシリカの滴下中、温度は96
〜98℃に維持し、キシレンと水を共沸させた。キシレン
−水の蒸留物を継続的に冷却器通して集め、キシレンを
回収して反応系に戻す作業を繰り返して共沸脱水し、系
全体の水系アニオン性コロイダルシリカ滴下中の水分含
量を、2〜4重量%に保持した。
During the dropwise addition of the aqueous anionic colloidal silica, the temperature was 96
Maintained at 9898 ° C. and azeotroped xylene and water. The xylene-water distillate was continuously collected through a cooler, and the operation of collecting and returning the xylene to the reaction system was repeated to perform azeotropic dehydration. The water content in the aqueous system of the aqueous anionic colloidal silica was adjusted to 2%. 44% by weight.

滴下終了後、混合物を130℃に30分間保持して共沸脱
水を断続した後、室温に冷却しペーパーフィルター過
して疎水性オルガノコロイダルシリカ(キシレン中)20
9重量部を得た。
After dropping, the mixture was kept at 130 ° C. for 30 minutes to interrupt azeotropic dehydration, then cooled to room temperature, passed through a paper filter and passed through a hydrophobic organocolloidal silica (in xylene) 20
9 parts by weight were obtained.

この疎水性オルガノコロイダルシリカは、シリカ固形
分30.6重量%、水分含量0.1重量%の安定な低粘性液体
であった。またこの疎水性オルガノコロイダルシリカ
は、トルエン溶媒に任意に溶解することができた。
This hydrophobic organocolloidal silica was a stable low-viscosity liquid having a silica solid content of 30.6% by weight and a water content of 0.1% by weight. Further, this hydrophobic organocolloidal silica could be arbitrarily dissolved in a toluene solvent.

実施例 2 カチオン性界面活性剤として第2級アミン(C12H25NH
C12H25)13.0重量部、および疎水性有機溶媒としてトル
エン140重量部を使用した他は実施例1と同様にして、
疎水性オルガノコロイダルシリ(トルエン中)カ202重
量部を得た。
Example 2 Secondary amine (C 12 H 25 NH) as a cationic surfactant
C 12 H 25 ) In the same manner as in Example 1 except that 13.0 parts by weight and 140 parts by weight of toluene as a hydrophobic organic solvent were used,
202 parts by weight of hydrophobic organocolloidal silicide (in toluene) were obtained.

この疎水性オルガノコロイダルシリカは、シリカ固形
分30.6重量%、水分含量0.08重量%の安定な低粘性液体
であった。またこの疎水性オルガノコロイダルシリカ
は、キシレン溶媒に任意に溶解することができた。
This hydrophobic organocolloidal silica was a stable low-viscosity liquid having a silica solid content of 30.6% by weight and a water content of 0.08% by weight. The hydrophobic organocolloidal silica could be arbitrarily dissolved in a xylene solvent.

実施例 3 カチオン性界面活性剤として第3級アミン〔C17H35CO
OCH2CH2N(CH2CH2OH)〕14.9重量部、および疎水性有
機溶媒としてベンゼン140重量部を使用し、水系アニオ
ン性コロイダルシリカ滴下中の共沸温度を72〜74℃とし
た他は実施例1と同様にして、疎水性オルガノコロイダ
ルシリカ(ベンゼン中)212重量部を得た。
Example 3 Tertiary amine [C 17 H 35 CO 3
OCH 2 CH 2 N (CH 2 CH 2 OH) 2 ] 14.9 parts by weight and benzene 140 parts by weight as a hydrophobic organic solvent were used, and the azeotropic temperature during the dropwise addition of the aqueous anionic colloidal silica was adjusted to 72 to 74 ° C. Otherwise in the same manner as in Example 1, 212 parts by weight of hydrophobic organocolloidal silica (in benzene) was obtained.

この疎水性オルガノコロイダルシリカは、シリカ固形
分30.2重量%、水分含量0.2重量%の安定な低粘性液体
であった。またこの疎水性オルガノコロイダルシリカ
は、ベンゼン溶媒に任意に溶解することができた。
This hydrophobic organocolloidal silica was a stable low-viscosity liquid having a silica solid content of 30.2% by weight and a water content of 0.2% by weight. The hydrophobic organocolloidal silica could be arbitrarily dissolved in a benzene solvent.

実施例 4 カチオン性界面活性剤としてイミダゾール塩 12.3重量部を使用した他は実施例1と同様にして、疎水
性オルガノコロイダルシリカ(キシレン中)216重量部
を得た。
Example 4 Imidazole salt as a cationic surfactant 216 parts by weight of hydrophobic organocolloidal silica (in xylene) was obtained in the same manner as in Example 1 except that 12.3 parts by weight was used.

この疎水性オルガノコロイダルシリカは、シリカ固形
分30.2重量%、水分含量0.16重量%の安定な低粘性液体
であった。またこの疎水性オルガノコロイダルシリカ
は、テトラヒドロフラン溶媒に任意に溶解することがで
きた。
This hydrophobic organocolloidal silica was a stable low-viscosity liquid having a silica solid content of 30.2% by weight and a water content of 0.16% by weight. The hydrophobic organocolloidal silica could be arbitrarily dissolved in a tetrahydrofuran solvent.

実施例 5 カチオン性界面活性剤として窒素環を有する第4級ア
ンモニウム塩 12.6重量部を使用した他は実施例1と同様にして、疎水
性オルガノコロイダルシリカ(キシレン中)206重量部
を得た。
Example 5 Quaternary ammonium salt having a nitrogen ring as a cationic surfactant Except that 12.6 parts by weight were used, the same procedure as in Example 1 was carried out to obtain 206 parts by weight of a hydrophobic organocolloidal silica (in xylene).

この疎水性オルガノコロイダルシリカは、シリカ固形
分30.4重量%、水分含量0.15重量%の安定な低粘性液体
であった。またこの疎水性オルガノコロイダルシリカ
は、メチルエチルケトン溶媒に任意に溶解することがで
きた。
This hydrophobic organocolloidal silica was a stable low-viscosity liquid having a silica solid content of 30.4% by weight and a water content of 0.15% by weight. The hydrophobic organocolloidal silica could be arbitrarily dissolved in a methyl ethyl ketone solvent.

実施例 6 カチオン性界面活性剤として第4級アンモニウム塩 12.6重量部を使用した他は実施例1と同様にして、疎水
性オルガノコロイダルシリカ(キシレン中)201重量部
を得た。
Example 6 Quaternary ammonium salt as a cationic surfactant Except that 12.6 parts by weight were used, 201 parts by weight of hydrophobic organocolloidal silica (in xylene) was obtained in the same manner as in Example 1.

この疎水性オルガノコロイダルシリカは、シリカ固形
分30.2重量%、水分含量0.48重量%の安定な低粘性液体
であった。またこの疎水性オルガノコロイダルシリカ
は、トルエン溶媒に任意に溶解することができた。
This hydrophobic organocolloidal silica was a stable low-viscosity liquid having a silica solid content of 30.2% by weight and a water content of 0.48% by weight. Further, this hydrophobic organocolloidal silica could be arbitrarily dissolved in a toluene solvent.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明の効果は、製造時の操作が簡単で、しかも疎水
性有機溶媒との相溶性、分散性が良く安定な疎水性オル
ガノコロイダルシリカを安価に製造する方法を提供した
ことにある。
An effect of the present invention is to provide a method for inexpensively producing a stable hydrophobic organocolloidal silica which is easy to operate at the time of production, and has good compatibility and dispersibility with a hydrophobic organic solvent and good stability.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】疎水性有機溶媒とカチオン性界面活性剤を
混合した後、これに水系アニオン性コロイダルシリカを
添加し、脱水することを特徴とする、疎水性オルガノコ
ロイダルシリカの製造法。
1. A method for producing a hydrophobic organocolloidal silica, comprising mixing a hydrophobic organic solvent and a cationic surfactant, adding an aqueous anionic colloidal silica thereto, and dehydrating the mixture.
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