JP2718565B2 - 圧力検出器 - Google Patents

圧力検出器

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兼久 橘川
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克芳 水元
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、セラミック製圧力検出器に関するものであ
る。
[従来の技術] この種の圧力検出器としては静電容量型のものや抵抗
変化型のものが知られており、前者は、ダイヤフラム及
び基板上にそれぞれ電極を形成し、圧力によりダイヤフ
ラムを形成させることによって電極間に生じた静電容量
に変化を生じさせ、圧力と静電容量とか相関することを
利用して圧力を検出するようにされている。
その具体例としては例えば特開昭59-214727号公報ま
たは特開昭59-148843号公報に記載のものを挙げること
ができ、それにおいては添付図面の第12図に示すように
セラミック製ダイヤフラムAとセラミック製基板Bとの
対向する面上にそれぞれ薄膜電極C、Dが形成され、セ
ラミック製ダイヤフラムAの周縁部をセラミックス製基
板BにガラスEにより所定の間隔を隔てて接着してい
る。
このような構造の圧力検出器の動作においては、セラ
ミック製ダイヤフラムAの外表面側に被測定圧力が作用
するように設定され、被測定圧力の作用でセラミック製
ダイヤフラムAは変形し、それによりダイヤフラムAの
内側表面に形成された電極Cがセラミック製基板Bに形
成された電極Dに対して変位することによってこれら電
極間の容量が変化し、この容量の変化から圧力を検出し
ている。
同様な構造の静電容量型圧力検出器の従来例としては
他に実開昭58-80540号公報、実開昭59-42938号公報及び
実開昭60-51444号公報等に記載のものを挙げることがで
きる。
一方、抵抗変化型圧力検出器は、ダイヤフラム上に抵
抗体を形成し、圧力によるダイヤフラムの変形に応じて
変化する抵抗体の抵抗値に基いて圧力を検出するように
されている。
ところで、このような従来のセラミック製圧力検出器
においては、個別に成形、焼成したダイヤフラムを基板
にガラス等で接合する構造であるため、ガラス等の接合
材とダイヤフラムまたは基板との間の熱膨脹係数の違い
により、圧力測定を繰返していくうちにガラス等の接合
材の強度が低下して圧力検出器の耐圧性が低下するとい
う欠点があった。
また圧力検出器が比較的高温雰囲気で使用される場合
には、ガラス等の接合材とダイヤフラムまたは基板との
間の熱膨脹係数が違うことにより、実際には圧力が作用
していなくてもダイヤフラムが変形する恐れがあり、そ
のため誤検出や検出誤差が生じるという欠点があった。
このような欠点を解消するため、特開昭63-292032号
公報や特公昭63-9174号公報に開示されているようにダ
イヤフラムと基板との間に所定の空間を形成するため焼
成の加熱により昇華する物質から成る介装体を挟み込ん
で一体焼成することが提案されている。
[発明が解決しようとする課題] ところで、このような一体焼成体から成る圧力検出器
では、その製造時にダイヤフラムと基板との間に所定の
空間を形成するために挿入される介装体として用いられ
る材料は比較的高価であり、しかも形成すべき空間の寸
法に合わせて予め所定の形状に成形しておく必要があ
り、またダイヤフラムと基板との一体焼成時にこのよう
な介装体を完全に昇華、消失させるために比較的長い加
熱時間が必要であり、そのため製造工程が繁雑化し、コ
ストが高くつく等の問題がある。
このような従来技術のもつ問題点を解決するため、本
発明者は、先に出願した特願平2-221370号に開示したよ
うに、ダイヤフラムに焼成収縮率の小さいセラミック材
料を使用し、基板にはダイヤフラムのセラミック材料よ
りも大きな焼成収縮率をもつセラミック材料を使用し、
焼成時にこれら焼成収縮率の差によりダイヤフラムと基
板との間に空洞部を生じるようにした圧力検出器を提案
した。しかし、この先に提案した圧力検出器では、形成
すべき空洞部の寸法等に応じてダイヤフラム及び(また
は)基板に要求される焼成収縮率を得るためには、それ
に適した成分及び組成比をもつ特別な材料を開発する必
要があるという新たな問題が生じてきた。
そこで、本発明は、このような材料についての問題を
解決して、既存のセラミック材料を利用して所要の寸法
の空洞部を容易に形成できる圧力検出器を提供すること
を目的としている。
[課題を解決するための手段] 上記の目的を達成するために、本発明の圧力検出器
は、未焼成セラミック材料から成る基板の表面に、焼成
収縮率が上記基板の材料より小さい未焼成セラミック材
料から成るダイヤフラムを積層し、基板の周辺部分に上
記ダイヤフラムを接着して、これらを同時焼成すること
により上記接着部を一体化し、焼成時の焼成収縮率の差
によって上記ダイヤフラムと基板との間に空洞を形成
し、さらに上記ダイヤフラムと基板のいずれか一方また
は両方に焼成収縮率を調整し得る補正用セラミック厚膜
層を積層して成ることを特徴としている。
圧力検出素子は少なくともダイヤフラムに設けること
により圧力測定をすることができる。また静電容量型の
圧力検出器として実施する場合には、ダイヤフラムと基
板との間の空洞を挟んでダイヤフラム及び基板に設けら
れた一対の電極から成ることができ、さらにまた抵抗変
化型圧力検出器として実施する場合にはダイヤフラムの
外面に形成した抵抗体から成ることができる。いずれの
場合も未焼成セラミック材料に圧力検出素子を設け、一
体焼成により形成することにより、セラミックと圧力検
出素子との密着を強固にすることができる。ただし、圧
力検出素子が抵抗体である場合には、抵抗体の焼成時に
おける酸化等の問題を避けるために一体焼成後に抵抗体
のみを設けるのが好ましい。
[作用] このように構成した本発明の圧力検出器においては、
ダイヤフラム及び(または)基板に、これらとは焼成収
縮率の相異なるセラミック厚膜層を一層以上積層するこ
とによって、ダイヤフラム及び(または)基板に、それ
らのほぼ中間値の焼成収縮率をもつものが得られる。従
って、要求される焼成収縮率に応じて個々のセラミック
材料を開発する必要がなく、既知の焼成収縮率をもつセ
ラミック層を積層してその中間の焼成収縮率を得ること
ができるので、ダイヤフラム及び基板の焼成収縮率をき
め細かく調整することができ、所要の大きさの空洞を容
易に形成することができる。
さらに、セラミック厚膜層を設けることにより、所望
の収縮率を有していない未焼成セラミックのダイヤフラ
ム及び基板の収縮率を微調整することができる。
[実施例] 以下、添付図面の第1図〜第11図を参照して本発明の
実施例について説明する。
第1図及び第2図には本発明の一実施例が示され、1
は焼成収縮率16.7%の組成をもつ純度92%のAl2O3材料
から成る厚さ0.80mmのグリーンシートの基板、2は基板
1と同じセラミック材料であるが焼成収縮率が基板より
小さい15.3%の組成をもつ厚さ0.10mmのグリーンシート
から成るダイヤフラムである。ダイヤフラム2の下面に
は、未焼成セラミックと有機バインダーとから成るセラ
ミック含有ペースト(焼成収縮16%)をスクリーン印刷
法により30μmの厚さに印刷して厚膜層3が形成されて
いる。基板1の上面及びそのダイヤフラム2の下面に形
成された厚膜層3上にはそれぞれ圧力検出素子を成すPt
製の円形状の電極4、5がそれぞれスクリーン印刷法に
より厚さ15μmに形成されている。これらの円形状の電
極4、5から図示されたように一辺部に向かって端子4
a、5aがのびており、また基板1上には、基板1上にダ
イヤフラム2を積層した際にダイヤフラム2の電極5の
端子5aに結合される端子4bが形成されている。
その後、それの円形状の電極部分5を除いた面部分、
好ましくは電極の周りの周辺部分に相当する基板1上に
基板1と同質の材料から成り有機系バインダを添加した
未焼成セラミックペーストがスクリーン印刷法により厚
さ30μmに印刷される。
そして、印刷されたセラミックペーストが乾かないう
ちに基板1上に電極4、5とを対向させてダイヤフラム
2を積層し、こうして得られた積層体は250℃で樹脂抜
きした後1550℃の温度で大気圧雰囲気中で焼成される。
その結果第2図に断面図で示されるように電極4、5間
に基板1とダイヤフラム2の収縮率の差により空間6が
形成され、そして基板1とダイヤフラム2はそれらの周
辺部において堅固に接合される。この場合、厚膜層3は
ダイヤフラム2の焼成収縮を調整して基板1とダイヤフ
ラム2との間に形成される空洞6を所望の寸法にするよ
うに作用する。
第3図及び第4図は本発明の別の実施例を示し、第1
図及び第2図と対応した部分は同じ符号で示す。この実
施例では、電極5はダイヤフラム2の下面に形成され、
その上からセラミック厚膜層3が形成されている。その
他の構成及び製造工程は第1図及び第2図の実施例と実
質的に同じである。
第5図及び第6図には本発明の更に別の実施例が示さ
れ、第3図及び第4図の実施例の場合と同様に前記各実
施例の装置と対応した部分は同じ符号で示す。
この実施例においては、基板1の表面には厚膜層3′
が厚さ50μmの焼成収縮16%を有するグリーンシートと
して形成されている。そして電極4は、基板1上に形成
された厚膜層3′と基板1との中間層の所にてダイヤフ
ラム2における電極5に対応して位置するように形成さ
れている。厚膜層3′は基板1の焼成収縮を調整して基
板1とダイヤフラム2との間に形成される空洞6を所望
の寸法にするように作用する。
第7図及び第8図は、電極5をダイヤフラム2の外面
上に設け、その上にダイヤフラム2と同じ材質の保護層
7を設けた構成の実施例を示している。この実施例で
は、ダイヤフラム2は厚さ50μmに形成され、そしてそ
の下面には第1図及び第2図の実施例の場合と同様にし
てセラミック厚膜層3が形成されている。さらに本実施
例では基板1の裏面にセラミック厚膜層8が形成され、
このセラミック厚膜層8は焼成後に生じる反りを防止す
るためのものであり、先の第1図〜第6図に示す実施例
にも適用できる。上記保護層7は、ダイヤフラム2の上
にダイヤフラム2上の電極5の汚染物質による汚染や電
極の劣化を防ぐため厚さ50μmに形成されている。
上記の各実施例において焼成により内部に形成される
空洞の大きさは、上述のように基板1及びダイヤフラム
2に使用する未焼成セラミック材料の組成すなわち含有
量や粒度を適当に選択し、さらに二者間の焼成収縮率を
もつセラミック厚膜を設けることにより所望のように設
定することができる。
このように構成した圧力検出器を第12図に示すような
従来構造のものと構造上の強度を比較するため、電気炉
で600℃に10分、室温で10分の冷熱サイクルテストを100
0回繰返し行った結果、第12図に示す構造のものは200サ
イクルで接合部のガラスEに亀裂が生じたが、本発明に
よるものでは何の変化も認められなかった。
ところで、図示実施例では、圧力検出素子として基板
及びダイヤフラムにそれぞれ電極を設け、これらの電極
間の容量の変化として圧力を検出する容量変化型圧力検
出器について説明してきたが、各実施例において基板及
びダイヤフラムに電極を設ける代わりに、ダイヤフラム
上に圧力検出素子として抵抗体を形成し、その抵抗の変
化として圧力を検出するように構成することもできる。
その一例を第9図〜第11図に示す。これらの図面におい
て第5図及び第8図の実施例と同様に前記各実施例の装
置と対応した部分は同じ符号で示す。
ダイヤフラム2上には第9図に示すように基板1と同
じセラミック材料を10重量%含んだ貴金属(Pt)粉末に
有機系バインダを添加して得たペーストをスクリーン印
刷し、導体端子層9が形成される。またダイヤフラム2
の下面には、未焼成セラミックと有機バインダーとから
成るセラミック含有ペースト(焼成収縮16%)をスクリ
ーン印刷法により30μmの厚さに印刷して焼成収縮調整
用のセラミック厚膜層3が形成されている。さらに基板
1の裏面には第7図及び第8図に示す実施例の場合と同
様にして反り防止用のセラミック厚膜層8が形成され
る。その後、導体端子層9と厚膜層3の形成されたダイ
ヤフラム2は、周辺部を有機バインダを添加した未焼成
セラミックペースト付けし乾かないうちに基板1に積層
し、樹脂抜き後焼成が行なわれる。こうして得られた焼
成体すなわち導体端子層9の所望の位置に第11図に示す
ように主に酸化ルテニウムから成る抵抗体10が転写によ
り5μ〜10μの厚さに形成され、そして850℃にて焼付
けられる。
また基板及びダイヤフラムの構成材料として図示実施
例ではAl2O3を用いているが、当然他の適当な未焼成セ
ラミック材料例えばジルコニアやシリマナイトを用いる
こともできる。
更に、図示実例において、各部の寸法、形状は実際の
適用に合わせて任意に設定することができる。
更にまた、本発明の圧力検出器は外圧力を受けてダイ
ヤフラムが変形し、その変形に応じて圧力を検出するも
のについて対象として例示してきたが、振動や加速度の
応力によりダイヤフラムを変形してこれらの振動や加速
度の大きさを検出するものとしても利用され得る。
[発明の効果] 以上説明してきたように、本発明の圧力検出器におい
ては、未焼成セラミック材料から成るダイヤフラムと、
このダイヤフラムに比べて焼成収縮率の大きい未焼成セ
ラミック材料から成る基板とをそれらの周辺部分におい
て接着し、一体焼成しているので、従来のようにダイヤ
フラムと基板との間に所定の空間を形成するための高価
な介装体を使用することなく所望の空洞を形成すること
ができ、しかもダイヤフラムと基板のいずれか一方また
は両方に焼成収縮率を調整し得る補正用セラミックス厚
膜層を積層しているので、ダイヤフラム及び基板に既知
の焼成収縮率を有するセラミック材料を使用しても補正
用の厚膜層の厚みを適宜変更させることにより、かなり
広範囲にダイヤフラム及び基板の焼成収縮率を微調整す
ることができ、その結果、所要寸法の空洞を容易に形成
することができ、製造工程を大幅に簡単化できるだけで
なく製造コストも大幅に低減することができる。
またダイヤフラムと基板と間の積層された部分は同化
して強固となり、熱膨張による接合強度の低下は防止で
き、例えば自動車のエンジン周辺等のような過酷な条件
下で使用される場合でも高温下において接合部分の熱膨
張が除去されるため無圧力状態で変形が生じることはな
く誤差なく安定して圧力検出を行うことができる。
更に、ダイヤフラム上に保護層を設けた場合には、汚
染物質による圧力検出素子の汚染や劣化を防ぐことがで
き、長期間安定して使用することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す分解斜視図、第2図は
第1図の装置を組立てた状態で示す第1図のI−I線に
沿った拡大線断面図、第3図は本発明の別の実施例を示
す分解斜視図、第4図は第3図の装置を組立てた状態で
示す第3図のII-II線に沿った拡大線断面図、第5図は
本発明のさらに別の実施例を示す分解斜視図、第6図は
第5図の装置を組立てた状態で示す第5図のIII-III線
に沿った拡大線断面図、第7図は保護層を設けた実施例
を示す分解斜視図、第8図は第7図の装置を組立てた状
態で示す第7図のIV-IV線に沿った拡大線断面図、第9
図は検出素子として抵抗体を利用した本発明の実施例を
示す分解斜視図、第10図は第9図の装置を組立てた状態
で示す第9図のV−V線に沿った拡大線断面図、第11図
は抵抗体を形成して完成させた装置の概略斜視図、第12
図は従来の静電容量変化型圧力検出器の一例を示す概略
断面図である。 図中 1:基板 2:ダイヤフラム 3、3′:補正用セラミック厚膜層 4:電極 5:電極 6:空洞 7:保護層 8:反り防止用セラミック厚膜層 9:導体端子層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 水元 克芳 愛知県名古屋市瑞穂区高辻町14番18号 日本特殊陶業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭57−4531(JP,A)

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】圧力により変形し得るセラミック製ダイヤ
    フラムと、該ダイヤフラムの周縁部を固定するセラミッ
    ク製基板と、上記ダイヤフラムの変形に応動する圧力検
    出素子とを有する圧力検出器において、未焼成セラミッ
    ク材料から成る基板の表面に、焼成収縮率が上記基板の
    材料より小さい未焼成セラミック材料から成るダイヤフ
    ラムを積層し、基板の周辺部分に上記ダイヤフラムを接
    着して、これらを同時焼成することにより上記接着部を
    一体化し、焼成時の焼成収縮率の差によって上記ダイヤ
    フラムと基板との間に空洞を形成し、さらに上記ダイヤ
    フラムと基板のいずれか一方または両方に焼成収縮率を
    調整し得る補正用セラミック厚膜層を積層して成ること
    を特徴とする圧力検出器。
  2. 【請求項2】補正用セラミック厚膜層が、未焼成セラミ
    ックペーストで印刷形成されている請求項1に記載の圧
    力検出器。
  3. 【請求項3】補正用セラミック厚膜層が、未焼成セラミ
    ックシートで形成されている請求項1に記載の圧力検出
    器。
  4. 【請求項4】圧力検出素子がダイヤフラムと基板との間
    の空洞を挟んでダイヤフラム及び基板に設けられた一対
    の電極から成る請求項1〜3のいずれかに記載の圧力検
    出器。
  5. 【請求項5】圧力検出素子が、ダイヤフラムの外面に形
    成され、歪みにより抵抗値の変化する抵抗体である請求
    項1〜3のいずれかに記載の圧力検出器。
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