JP2708249B2 - Grinding method for ceramic members - Google Patents

Grinding method for ceramic members

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JP2708249B2
JP2708249B2 JP1323795A JP32379589A JP2708249B2 JP 2708249 B2 JP2708249 B2 JP 2708249B2 JP 1323795 A JP1323795 A JP 1323795A JP 32379589 A JP32379589 A JP 32379589A JP 2708249 B2 JP2708249 B2 JP 2708249B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、セラミックス部材の研削加工方法に係り、
例えば、大形電子計算機におけるLSIの発熱に対処する
セラミックス製冷却フィンの研削加工に好適なセラミッ
クス部材の研削加工方法に関するものである。
The present invention relates to a method for grinding a ceramic member,
For example, the present invention relates to a method of grinding a ceramic member suitable for grinding a cooling fin made of ceramics which copes with heat generated by an LSI in a large-sized computer.

[従来の技術] 従来、コンピュータに搭載されているLSIの冷却フィ
ンはアルミニウムによるものが主であった。しかし、コ
ンプータの高機能化、演算速度の高速化に伴いLSI1個当
りの発熱量が多くなり、冷却フィンにより高い熱伝導性
が要求されるようになった。また、配線も高密度化する
に到り、小さな金属粉でも基板上に落ちるとエラーの原
因となってしまうため、電気的に絶縁材であるセラミッ
クス材の使用が検討されるに到った。
[Related Art] Conventionally, cooling fins of an LSI mounted on a computer are mainly made of aluminum. However, the heat generation per LSI has increased with the sophistication of the computer and the increase in the calculation speed, and high heat conductivity has been required for the cooling fins. In addition, the density of wiring has been increased, and even a small metal powder falling on a substrate may cause an error. Therefore, use of a ceramic material that is an electrically insulating material has been studied.

大形電子計算機に搭載されているLSIの冷却フィン
は、LSIの上に置かれてLSIの熱を放熱するフィンと、そ
れと非接触に組み合わされ、熱を水冷ジャケットへ逃が
すフィンとからなっており、伝熱効果を高めるにはフィ
ン枚数を多くする必要があり、その分、溝巾,フィン巾
ともに1mm以下に狭く形成されている。また、LSI個々が
傾きを持つため、組み合わされたフィン同士が接触しな
いように、溝幅,溝の直角度,ピッチ等の寸法精度は10
μm以下と高くなっている。
The cooling fin of the LSI mounted on the large computer consists of a fin that is placed on the LSI and radiates the heat of the LSI, and a fin that is combined with it without contact and allows the heat to escape to the water cooling jacket. In order to enhance the heat transfer effect, it is necessary to increase the number of fins, and accordingly, both the groove width and the fin width are formed as narrow as 1 mm or less. Also, since each LSI has an inclination, the dimensional accuracy of the groove width, groove perpendicularity, pitch, etc. must be 10 so that the combined fins do not contact each other.
μm or less.

このようなLSIの冷却フィンなどのセラミックス部材
の溝加工は、ダイヤモンド砥石による研削が主となって
いる。この溝加工においては、薄い砥石が要求されるこ
とから強度のすぐれたメタルボンドダイヤモンドが用い
られている。
Groove processing of ceramic members such as cooling fins of such LSIs is mainly performed by diamond grinding. In this groove processing, a metal bond diamond having excellent strength is used because a thin grindstone is required.

しかるに、メタルボンドダイヤモンド砥石は目づま
り,目つぶれを起こしやすいもので、それによって砥石
の切れ味が低下すると、溝研削などの加工時に研削抵抗
が増大し、、加工精度の低下、クラックの発生などを招
くことになる。そこで、メタルボンドダイヤモンド砥石
は、特に砥石の目立て、すなわちドレッシングが必要で
ある。
However, metal-bonded diamond grindstones are susceptible to clogging and blinding. If the sharpness of the grindstone decreases, grinding resistance increases during machining such as groove grinding, resulting in reduced machining accuracy and cracks. Will be invited. Therefore, the metal bond diamond grindstone particularly requires dressing of the grindstone, that is, dressing.

従来、メタルボンドダイヤモンド砥石のドレッシング
法は放電加工によるものが主であったが、この方法で
は、放電による電極の消耗が激しく、電極の交換が不可
欠であり、加工能率の低下を招いていた。
Conventionally, the dressing method of a metal-bonded diamond grindstone is mainly based on electric discharge machining. However, in this method, the electrodes are intensely consumed due to electric discharge, and replacement of the electrodes is indispensable, leading to a reduction in machining efficiency.

これに代わる方法として、例えば、機械研究所報第42
巻(1988年)3号,「ファインセラミックスの加工技術
(第2報)−メタルボンド切断砥石のインプロセス電界
ドレッシング−」,岡野啓作他,ページ97〜106に論じ
られているように、電解作用を利用してメタルボンドダ
イヤモンド砥石のボンド材を溶出させてドレッシングす
る電解ドレッシング法が用いられている。しかし、従来
の電解ドレッシング法では、電解効率を上げるための研
削液供給ノズルを大きくし、両側面から砥石を覆う形で
電極が形成されていた。
As an alternative method, for example,
Vol. 3 (1988), "Fine Ceramics Processing Technology (2nd Report)-In-Process Electric Dressing of Metal Bond Cutting Wheel-", Keisaku Okano et al., Pp. 97-106. An electrolytic dressing method in which a bond material of a metal bond diamond grindstone is eluted and dressed using the method. However, in the conventional electrolytic dressing method, the size of the grinding liquid supply nozzle for increasing the electrolytic efficiency is increased, and the electrodes are formed so as to cover the grinding stone from both sides.

また、成形用工具(電極)の摩耗をきたすことなく、
所望形状の砥石を容易に成形する電解加工用電極とし
て、例えば特開昭56−9164号公報記載の技術が知られて
いる。
Also, without causing wear of the forming tool (electrode),
As an electrode for electrolytic processing for easily forming a grinding wheel having a desired shape, for example, a technique described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 56-9164 is known.

この公報には、櫛歯状に多数の電極先端部を有し、電
極先端部に挟まれた谷部に電解液墳出口を設け、この電
解液墳出口を有する谷部間に挟まれた谷部を、電解液の
衝突によって起る液のよどみ除去のための切欠部とした
電極が開示されている。
This publication discloses that a plurality of electrode tips are provided in a comb-like shape, an electrolyte solution outlet is provided in a valley sandwiched between the electrode tips, and a valley sandwiched between the valleys having the electrolyte solution outlet is provided. An electrode is disclosed in which a portion is formed as a cutout portion for removing liquid stagnation caused by the collision of the electrolyte.

しかし、この電解加工用電極は複雑な形状で、電極の
製作工数が決して安価でないことについて配慮されてい
なかった。
However, this electrode for electrolytic processing has a complicated shape, and no consideration has been given to the fact that the man-hour for manufacturing the electrode is not inexpensive.

[発明が解決しようとする課題] 上記従来技術における前者の電解ドレッシング法で
は、メタルボンドダイヤモンド砥石の側面のボンド材が
溶出することについて配慮がされておらず、上記電解ド
レッシングによるメタルボンドダイヤモンド砥石で溝加
工を行うと、砥石幅の減少による溝寸法精度が劣化する
こと、および砥石寿命が減少するという問題があった。
[Problems to be Solved by the Invention] In the former electrolytic dressing method in the above-mentioned conventional technique, no consideration is given to the elution of the bonding material on the side surface of the metal bond diamond grindstone. When grooving is performed, there is a problem that the groove dimensional accuracy is deteriorated due to a decrease in the width of the grindstone, and that the life of the grindstone is reduced.

本発明は、上記従来技術における課題に鑑みてなされ
たもので、メタルボンドダイヤモンド砥石の側面を減耗
させることなく、砥石外周面を高精度にドレッシングし
ながらセラミックス部材を研削でき、高精度な加工面が
得られるほか、無駄な砥粒の脱落がなく、砥石の寿命を
長くすることのできるセラミックス部材の研削方法を提
供することを、その目的とするものである。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems in the related art, and enables a ceramic member to be ground while dressing the outer peripheral surface of the grinding wheel with high precision without deteriorating the side surface of the metal bond diamond grinding wheel, thereby achieving a highly accurate machining surface. It is another object of the present invention to provide a method for grinding a ceramic member, which can provide a high grinding performance and can prolong the life of a grindstone without wasteful removal of abrasive grains.

特に、例えばセラミックス製冷却フィンを高精度に加
工しうる、実用的で、かつ信頼性の高い研削加工技術を
実現するものである。
In particular, the present invention realizes a practical and highly reliable grinding technology capable of processing a ceramic cooling fin with high precision.

[課題を解決するための手段] 上記目的を達成するために、本発明に係るセラミック
ス部材の研削加工方法の構成は、研削盤に装備されたメ
タルボンドダイヤモンド砥石に対向する位置に金属板を
設け、回転駆動される前記メタルボンドダイヤモンド砥
石と前記金属板との間に加工液を供給しながら印加し、
前記メタルボンドダイヤモンド砥石をドレッシングしな
がらセラミックス部材を加工するセラミックス部材の研
削加工方法において、前記金属板の厚さにより、加工液
が前記メタルボンドダイヤモンド砥石に当る範囲を制御
し、前記メタルボンドダイヤモンド砥石の外周面をドレ
ッシングするとともに、前記メタルボンドダイヤモンド
砥石の電解ドレッシングによるボンド材の溶出量をセラ
ミックス部材の溝加工の切込み量にフィードバックする
ようにしたものである。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, in a method of grinding a ceramic member according to the present invention, a metal plate is provided at a position facing a metal bond diamond grindstone mounted on a grinding machine. Applying while supplying a working liquid between the metal bond diamond grindstone and the metal plate that are driven to rotate,
In the method of grinding a ceramic member, wherein a ceramic member is processed while dressing the metal bond diamond grindstone, a thickness of the metal plate controls a range in which a working liquid hits the metal bond diamond grindstone, And the amount of the bond material eluted by the electrolytic dressing of the metal bond diamond grinding wheel is fed back to the amount of cut in the groove processing of the ceramic member.

なお、本発明を開発した技術的思想に沿って技術的手
段を付記すると次のとおりである。
In addition, technical means are described as follows according to the technical idea that developed the present invention.

セラミックス部材の研削加工は、メタルボンドダイヤ
モンド砥石側面のボンド材の溶出を押え、外周面での溶
出量を把握した砥石で加工する必要がある。そこで、本
発明は、電極形状を板状とし、加工液をフィルム状にし
て砥石外周面に供給し、電極の厚さと砥石,電極間の距
離および印加電圧を制御することによって砥石と電極と
の間の電解の強度分布をコントロールし、砥石側面での
ボンド材の溶出を抑えるとともに外周面での溶出量を最
適にしたものである。
When grinding a ceramic member, it is necessary to suppress the elution of the bonding material on the side surface of the metal bond diamond grindstone, and to grind it with a grindstone whose amount of elution on the outer peripheral surface is grasped. In view of the above, the present invention provides a plate-shaped electrode, supplies a processing liquid in a film form to the outer peripheral surface of the grindstone, and controls the thickness of the electrode, the grindstone, the distance between the electrodes, and the applied voltage to control the grinding wheel and the electrode. It controls the strength distribution of electrolysis during the process, suppresses the elution of the bonding material on the side surface of the grinding wheel, and optimizes the elution amount on the outer peripheral surface.

[作用] 上記の技術的手段による働きは、次のとおりである。[Operation] The operation of the above technical means is as follows.

電解ドレッシングでは研削液を介して電解しているの
で、加工液の供給された処のみが電解強度に比例して電
解を受ける。加工液の流れが砥石に当たるときの砥石軸
方向の流れの幅が砥石厚さと同等の場合には砥石端面の
コーナーのR部分にも加工液が供給されるため砥石側面
のボンド材も溶出するが、加工液が砥石端面のRより中
心側に供給されると、砥石に当たった加工液は遠心力に
より外側へ振り飛ばされるので、砥石側面に加工液がま
わり込むことなく、砥石外周面のボンド材のみが溶出す
る。
In the electrolytic dressing, since the electrolysis is performed via the grinding fluid, only the portion where the machining fluid is supplied undergoes electrolysis in proportion to the electrolysis strength. When the width of the flow in the axial direction of the grindstone when the flow of the machining fluid hits the grindstone is equal to the grindstone thickness, the machining fluid is also supplied to the R portion of the corner of the end face of the grindstone, so that the bonding material on the side face of the grindstone is also eluted. When the machining fluid is supplied to the center side of the grinding wheel end surface R, the machining fluid that hits the grinding wheel is shaken outward by centrifugal force. Only the material elutes.

そこで、電極となる金属板の厚さを、[砥石幅−2R]
より薄いものとして、該金属板を研削液供給口の前部に
設けることにより、加工液は金属板に倣ってフィルム状
になって流れ砥石外周面にぶつかる。
Therefore, the thickness of the metal plate to be the electrode is changed to [Whetstone width-2R]
By providing the metal plate as a thinner one in front of the grinding fluid supply port, the working fluid flows in a film shape following the metal plate and hits the outer peripheral surface of the grindstone.

また、砥石,電極間の電解の強さは電流密度に比例
し、両極間の距離に影響されるので、砥石,電流間に流
れる電流値を測定することにより電極の位置が常に適正
であるように制御するとともに、外周面でのボンド材の
溶出量を算出する。そしてその結果を、セラミックス部
材の研削加工、例えばセラミックス製冷却フィンの溝加
工などの切込み量にフィードバックすることにより、一
定した溝深さを維持し加工精度を高めることができる。
In addition, the strength of the electrolysis between the grindstone and the electrode is proportional to the current density and is affected by the distance between the two electrodes. Therefore, by measuring the value of the current flowing between the grindstone and the current, the position of the electrode is always appropriate. And the elution amount of the bonding material on the outer peripheral surface is calculated. The results are fed back to the amount of cut in the grinding of the ceramic member, for example, the groove processing of the ceramic cooling fins, so that a constant groove depth can be maintained and the processing accuracy can be improved.

[実施例] 以下、本発明の各実施例を第1図ないし第5図を参照
して説明する。
Embodiments Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 5.

第1図は、本発明の一実施例に係るセラミックス製冷
却フィンの加工に使用される電解ドレッシング装置の概
略構成図、第2図は、電解ドレッシング時における電極
厚さと砥石側面のポンド材溶出量の関係を示す線図、第
3図は、第1図A−A線拡大断面図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an electrolytic dressing apparatus used for processing a ceramic cooling fin according to one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram illustrating electrode thickness and elution amount of pound material on the side surface of the grinding wheel during electrolytic dressing. And FIG. 3 is an enlarged sectional view taken along the line AA of FIG.

第1図において、1は研削盤(図示せず)の主軸、2
は、主軸1に装着されたメタルボンドダイヤモンド砥石
で、このメタルボンドダイヤモンド砥石2は、金属から
なる台金2bと、該台金2bの外周面にダイヤモンドなどの
硬質材料からなる砥粒2cを銅などの金属中に含ませて一
体に成形された砥粒層2aとからなり、矢印方向に回転す
る。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a spindle of a grinding machine (not shown);
Is a metal-bonded diamond grindstone mounted on the spindle 1. This metal-bonded diamond grindstone 2 is made of a metal base 2b and an abrasive 2c made of a hard material such as diamond on the outer peripheral surface of the metal base 2b. And the like, and are integrally formed by being contained in a metal such as a metal, and rotate in the direction of the arrow.

3は、前記メタルボンドダイヤモンド砥石2に対向し
て配慮された加工液供給装置は、4は、前記加工液供給
装置3の先端に設けられた金属板で、この金属板4は所
定の厚さに設定された導電性に優れた銅などの金属電極
板である。この金属板4の後方からメタルボンドダイヤ
モンド砥石2の外周面に向けて研削液11が加工液(電解
液)として供給されるようになっている。
Reference numeral 3 denotes a processing liquid supply device which is considered to face the metal bond diamond grinding stone 2. Reference numeral 4 denotes a metal plate provided at the tip of the processing liquid supply device 3, and the metal plate 4 has a predetermined thickness. And a metal electrode plate made of copper or the like having excellent conductivity. A grinding fluid 11 is supplied from the rear of the metal plate 4 toward the outer peripheral surface of the metal bond diamond grindstone 2 as a working fluid (electrolyte).

5はカーボンプレートで、このカーボンプレート5
は、メタルボンドダイヤモンド砥石2を主軸1に固定し
ている砥石フランジ6にばね7によって強く押しつけら
れている。
5 is a carbon plate.
Is strongly pressed by a spring 7 against a grindstone flange 6 which fixes the metal bond diamond grindstone 2 to the main shaft 1.

9は、メタルボンドダイヤモンド砥石2と金属板4と
の間に印加する直流電圧供給装置であり、この直流電圧
供給装置9の正極側に前記カーボンプレート5がフィー
ダ線8を介して接続され、負極側に前記加工液供給装置
3の金属板4がフィーダ線10を介して接続されている。
Reference numeral 9 denotes a DC voltage supply device applied between the metal bond diamond grinding wheel 2 and the metal plate 4. The carbon plate 5 is connected to the positive electrode side of the DC voltage supply device 9 via a feeder line 8, The metal plate 4 of the working fluid supply device 3 is connected to the side via a feeder wire 10.

このように構成されたドレッシング装置によりメタル
ボンドダイヤモンド砥石2をドレッシングしながらセラ
ミックス製冷却フィン12を加工する動作を説明する。
The operation of processing the cooling fins 12 made of ceramics while dressing the metal-bonded diamond grindstone 2 by the dressing apparatus thus configured will be described.

メタルボンドダイヤモンド砥石2を回転させ、研削液
11を供給しながら前記砥石2と金属板4との間に直流電
圧供給装置9により所定の直流電圧を印加すると、研削
液11を介してメタルボンドダイヤモンド砥石2と金属板
4との間に電流が流れる。
Rotate the metal bond diamond wheel 2 to remove the grinding fluid
When a predetermined DC voltage is applied between the grinding wheel 2 and the metal plate 4 by the DC voltage supply device 9 while supplying the grinding wheel 11, a current flows between the metal bond diamond grinding wheel 2 and the metal plate 4 via the grinding fluid 11. Flows.

第3図は、ドレッシング中のメタルボンドダイヤモン
ド砥石2と電極である金属板4との状態を上から見た図
である。
FIG. 3 is a view of the state of the metal bond diamond grindstone 2 and the metal plate 4 as an electrode during dressing as viewed from above.

第3図に示すように、金属板4の厚さtが、メタルボ
ンドダイヤモンド砥石2の厚さTよりも砥石のコーナ部
のR分だけ薄いと、加工液供給装置3から供給される研
削液11は金属板4に沿って流れるため、砥石の外周面上
で研削液11の当っている部分の電解の強度が最高とな
り、この部分で積極的に電解作用が行なわれる。
As shown in FIG. 3, when the thickness t of the metal plate 4 is smaller than the thickness T of the metal bond diamond grindstone 2 by R at the corner of the grindstone, the grinding fluid supplied from the machining fluid supply device 3 Since 11 flows along the metal plate 4, the strength of the electrolysis at the portion where the grinding fluid 11 is applied on the outer peripheral surface of the grindstone becomes the highest, and the electrolysis is actively performed in this portion.

第2図は、横軸に電極厚さ(mm)、縦軸に砥石側面ボ
ンド材の溶出量をとって砥石厚さの選択を示した線図
で、砥石厚さが0.6mm、Rが0.2mmの薄刃砥石と、砥石厚
さ1.0mm、Rが0.2mmの薄刃砥石とを用いたときの金属板
4(電極)の厚さと該砥石側面でのボンド材の溶出量と
の関係の一例を示したものである。
FIG. 2 is a diagram showing the selection of the grinding wheel thickness by taking the electrode thickness (mm) on the horizontal axis and the elution amount of the bonding material on the grinding wheel side surface on the vertical axis, where the grinding wheel thickness is 0.6 mm and R is 0.2. An example of the relationship between the thickness of the metal plate 4 (electrode) and the amount of the bond material eluted on the side of the grinding wheel when a thin blade grinding wheel having a thickness of 1.0 mm and a grinding wheel thickness of 1.0 mm and a radius of 0.2 mm are used. It is shown.

図から明らかなように、金属板4の厚さtがメタルボ
ンドダイヤモンド砥石2の厚さTより2R以上小さいと砥
石側面でのボンド材の溶出は見られず、電極板4の厚さ
tがそれより大きくなると砥石側面のボンド材の溶出量
は急激に増大している。
As is apparent from the figure, when the thickness t of the metal plate 4 is smaller than the thickness T of the metal bond diamond grinding wheel 2 by 2R or more, the elution of the bonding material on the side surface of the grinding wheel is not observed, and the thickness t of the electrode plate 4 is reduced. When it becomes larger, the amount of the bond material eluted on the side surface of the grinding wheel sharply increases.

本実施例の装置において、金属板4の厚さtをメタル
ボンドダイヤモンド砥石2の厚さTより2R以上小さく設
定し、さらに加工液供給ノズル13からセラミックス部材
の研削加工点に加工液を供給し、前述の電解ドレッシン
グを行いながらセラミックス製冷却フィン12に溝加工を
行うことにより、砥石側面のボンド材の溶出がなく、溝
幅のばらつき,溝の直角度,溝深さのばらつきが10μm
以下の高精度に加工されたセラミックス製冷却フィンを
得ることができる。
In the apparatus of the present embodiment, the thickness t of the metal plate 4 is set to be smaller than the thickness T of the metal bond diamond grinding wheel 2 by 2R or more, and the processing liquid is supplied from the processing liquid supply nozzle 13 to the grinding point of the ceramic member. By performing the groove processing on the ceramic cooling fins 12 while performing the above-mentioned electrolytic dressing, there is no elution of the bonding material on the side surface of the grindstone, and the variation in the groove width, the perpendicularity of the groove, and the variation in the groove depth are 10 μm.
The following high-precision ceramic cooling fins can be obtained.

本実施例によれば、メタルボンドダイヤモンド砥石の
側面を減耗させることなく、砥石外周面を所定量ドレッ
シングできるので、無駄な砥粒の脱落がなく、メタルボ
ンドダイヤモンド砥石の寿命を低減させずに、高精度に
加工された溝をもち、冷却効果のすぐれたセラミックス
製冷却フィンを得ることができるという効果がある。
According to this embodiment, the outer peripheral surface of the grindstone can be dressed by a predetermined amount without deteriorating the side surface of the metal bond diamond grindstone.Therefore, there is no useless removal of abrasive grains, without reducing the life of the metal bond diamond grindstone. There is an effect that a cooling fin made of ceramics having a groove processed with high precision and having an excellent cooling effect can be obtained.

また、本実施例における金属板(電極)は単純な形状
であり、比較的低廉な工数でドレッシング装置を製作す
ることができる。
Further, the metal plate (electrode) in this embodiment has a simple shape, and the dressing apparatus can be manufactured with relatively low man-hours.

なお、冷却フィンのみでなく、セラミックス部材の研
削加工全般に本実施例の技術が適用できることは言うま
でもない。
Needless to say, the technique of the present embodiment can be applied not only to the cooling fins but also to the overall grinding of the ceramic member.

次に、第4図は、本発明の他の実施例に係る電解ドレ
ッシング装置の略示構成図である。図中、第1図と同一
符号のものは先の実施例と同等部分であるから、その説
明を省略する。また、第4図ではセラミックス部品の加
工部の図示を省略している。
Next, FIG. 4 is a schematic configuration diagram of an electrolytic dressing apparatus according to another embodiment of the present invention. In the figure, components having the same reference numerals as those in FIG. 1 are the same as those in the previous embodiment, and the description thereof will be omitted. In FIG. 4, illustration of the processing part of the ceramic part is omitted.

第4図の実施例では、金属板4(電極)を電解用の加
工液供給装置14に対し独立に設けたものである。
In the embodiment shown in FIG. 4, the metal plate 4 (electrode) is provided independently of the working fluid supply device 14 for electrolysis.

加工液供給装置14の加工液供給口は金属板4の上部近
傍にあるので、研削液11は金属板4に沿って流れ、メタ
ルボンドダイヤモンド砥石2の外周面上に供給されるの
で、先の第1,3図で説明した実施例と同様の効果が期待
される。
Since the machining fluid supply port of the machining fluid supply device 14 is located near the upper portion of the metal plate 4, the grinding fluid 11 flows along the metal plate 4 and is supplied onto the outer peripheral surface of the metal bond diamond grindstone 2. The same effects as in the embodiment described with reference to FIGS. 1 and 3 are expected.

次に、第5図は、本発明のさらに他の実施例に係る電
解ドレッシング装置の制御系統図である。図中、第1図
と同一符号のものは先の実施例と同等部分であるから、
その説明を省略する。また、第5図ではセラミックス部
品の加工部の図示を省略している。
Next, FIG. 5 is a control system diagram of an electrolytic dressing apparatus according to still another embodiment of the present invention. In the figure, those having the same reference numerals as those in FIG. 1 are the same as those in the previous embodiment.
The description is omitted. Further, in FIG. 5, illustration of a processed part of the ceramic part is omitted.

第5図において、15は、直流電圧供給系に備えた電流
計、16は、金属板4(電極)の位置決め手段に係る電極
位置制御装置、17は、メタルボンドダイヤモンド砥石2
の位置調整手段に係る砥石位置制御装置である。
In FIG. 5, 15 is an ammeter provided in a DC voltage supply system, 16 is an electrode position control device relating to a means for positioning the metal plate 4 (electrode), and 17 is a metal bond diamond grinding wheel 2.
Is a grindstone position control device according to the position adjusting means.

第5図の実施例では、例えばセラミックス製冷却フィ
ンの溝加工が進むにつれて、メタルボンドダイヤモンド
砥石2の外周面が機械的減耗するとともに電解ドレッシ
ングによるボンド材の溶出により後退し、砥石,電極間
距離が遠くなって電解効率が低下するのを防ぐために、
電流計15により装置内を流れる電流を常に監視してい
る。
In the embodiment of FIG. 5, for example, as the groove processing of the ceramic cooling fin progresses, the outer peripheral surface of the metal bond diamond grindstone 2 is mechanically worn and receded by the elution of the bonding material by electrolytic dressing, and the distance between the grindstone and the electrode is reduced. In order to prevent the electrolysis efficiency from dropping
The current flowing in the device is constantly monitored by the ammeter 15.

電流値が低下すると、電流位置制御装置16により電極
板4が適正位置に移動し、メタルボンドダイヤモンド砥
石2の外周面のボンド材の溶出量を常に一定にするとと
もに、その情報を砥石位置制御装置17にフィードバック
し、砥石の減耗分だけメタルボンドダイヤモンド砥石2
の切込みを大きくする。さらに、砥石の側面と金属板4
との相対距離を、光の投影法や触針ゲージにより検知
し、砥石の厚さ方向に対する電極板4の位置を精度良く
位置決めする。
When the current value decreases, the electrode plate 4 is moved to an appropriate position by the current position control device 16 so that the amount of the bond material eluted on the outer peripheral surface of the metal bond diamond grinding wheel 2 is always constant, and the information is transmitted to the grinding wheel position control device. Feedback to 17 and metal bond diamond wheel 2
Increase the depth of cut. Furthermore, the side of the whetstone and the metal plate 4
Is detected by a light projection method or a stylus gauge, and the position of the electrode plate 4 with respect to the thickness direction of the grindstone is accurately positioned.

第5図の実施例によれば、先の各実施例で説明した効
果をより確実にするとともに、装置の信頼性を高めるこ
とができる。
According to the embodiment shown in FIG. 5, the effects described in each of the above embodiments can be further ensured, and the reliability of the device can be improved.

[発明の効果] 以上詳細に説明したように、本発明によれば、メタル
ボンドダイヤモンド砥石の側面を減耗させることなく、
砥石外周面を高精度にドレッシングしながらセラミック
ス部材を研削でき、高精度な加工面が得られるほか、無
駄な砥粒の脱落がなく、砥石の寿命を流くすることので
きるセラミックス部材の研削方法を提供することができ
る。
[Effects of the Invention] As described above in detail, according to the present invention, without deteriorating the side surface of the metal bond diamond grindstone,
A ceramic member grinding method that can grind ceramic members while dressing the grinding wheel outer surface with high precision, obtains a high-precision machined surface, eliminates useless removal of abrasive grains, and extends the life of the grinding wheel Can be provided.

特に、セラミックス製冷却フィンを高精度に加工しう
る、実用的で、かつ信頼性の高い研削加工技術を実現す
ることができる。
In particular, a practical and highly reliable grinding technology capable of processing ceramic cooling fins with high precision can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は、本発明の一実施例に係るセラミックス製冷却
フィンの加工に使用される電解ドレッシング装置の略示
構成図、第2図は、電解ドレッシング時における電極厚
さと砥石側面のボンド材溶出量の関係を示す線図、第3
図は、第1図のA−A線拡大断面図、第4図は、本発明
の他の実施例に係る電解ドレッシング装置の略示構成
図、第5図は、本発明のさらに他の実施例に係る電解ド
レッシング装置の制御系統図である。 2……メタルボンドダイヤモンド砥石、3,14……加工液
供給装置、4……金属板、5……カーボンプレート、8,
10……フィーダ線、9……直流電圧供給装置、11……研
削液、12……セラミックス製冷却フィン、15……電流
計、16……電極位置制御装置、17……砥石位置制御装
置。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an electrolytic dressing apparatus used for processing a ceramic cooling fin according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram illustrating electrode thickness and elution of a bonding material on a side surface of a grindstone during electrolytic dressing. Diagram showing the relationship between quantities, the third
FIG. 1 is an enlarged sectional view taken along the line AA of FIG. 1, FIG. 4 is a schematic configuration diagram of an electrolytic dressing apparatus according to another embodiment of the present invention, and FIG. 5 is still another embodiment of the present invention. It is a control system diagram of the electrolytic dressing apparatus concerning an example. 2 ... Metal bond diamond grinding wheel, 3,14 ... Working fluid supply device, 4 ... Metal plate, 5 ... Carbon plate, 8,
10 feeder wire, 9 DC voltage supply device, 11 grinding fluid, 12 cooling fins made of ceramics, 15 ammeter, 16 electrode position control device, 17 wheel position control device.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平1−121172(JP,A) 特開 昭60−33006(JP,A) 特開 昭58−501623(JP,A) 特開 平3−170266(JP,A) 実開 平1−84963(JP,U) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (56) References JP-A-1-121172 (JP, A) JP-A-60-33006 (JP, A) JP-A-58-501623 (JP, A) JP-A-3-301 170266 (JP, A) Hira 1-84963 (JP, U)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】研削盤に装備されたメタルボンドダイヤモ
ンド砥石に対向する位置に金属板を設け、回転駆動され
る前記メタルボンドダイヤモンド砥石と前記金属板との
間に加工液を供給しながら印加し、前記メタルボンドダ
イヤモンド砥石をドレッシングしながらセラミックス部
材を加工するセラミックス部材の研削加工方法におい
て、 前記金属板の厚さにより、加工液が前記メタルボンドダ
イヤモンド砥石に当る範囲を制御し、前記メタルボンド
ダイヤモンド砥石の外周面をドレッシングするととも
に、 前記メタルボンドダイヤモンド砥石の電解ドレッシング
によるボンド材の溶出量をセラミックス部材の溝加工の
切込み量にフィードバックすることを特徴とするセラミ
ックス部材の研削加工方法。
1. A metal plate is provided at a position facing a metal bond diamond wheel mounted on a grinding machine, and a machining liquid is applied between the metal bond diamond wheel driven by rotation and the metal plate while supplying a processing liquid. A method of grinding a ceramic member while dressing the metal bond diamond grindstone, wherein a thickness of the metal plate controls a range in which a working fluid hits the metal bond diamond grindstone; A grinding method for a ceramic member, comprising: dressing an outer peripheral surface of a grindstone; and feeding back an elution amount of a bond material by electrolytic dressing of the metal bond diamond grindstone to a cut amount of a groove processing of the ceramic member.
【請求項2】請求項1記載のセラミックス部材の研削加
工方法の電解ドレッシングにおいて、 前記金属板の厚さを、前記メタルボンドダイヤモンド砥
石の厚さより該砥石の両側面のR寸法を差し引いた寸法
以下に設定したことを特徴とする電解ドレッシングを有
したセラミックス部材の研削加工方法。
2. The electrolytic dressing of the method for grinding a ceramic member according to claim 1, wherein the thickness of the metal plate is equal to or less than a value obtained by subtracting R dimensions of both side surfaces of the grinding wheel from the thickness of the metal bond diamond grinding wheel. A grinding method for a ceramic member having an electrolytic dressing, characterized in that:
【請求項3】請求項1記載のセラミックス部材の研削加
工方法の電解ドレッシングにおいて、 前記メタルボンドダイヤモンド砥石の摩耗量と電解ドレ
ッシングによるボンド材の溶出量とを制御して、前記メ
タルボンドダイヤモンド砥石の外周面を平坦にすること
を特徴とする電解ドレッシングを有したセラミックス部
材の研削加工方法。
3. The electrolytic dressing of the method for grinding a ceramic member according to claim 1, wherein a wear amount of the metal bond diamond grindstone and an elution amount of a bond material by the electrolytic dressing are controlled to control the metal bond diamond grindstone. A method for grinding a ceramic member having electrolytic dressing, wherein the outer peripheral surface is flattened.
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