JP2706833B2 - Cationic polymerization initiator and polymerizable composition - Google Patents

Cationic polymerization initiator and polymerizable composition

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JP2706833B2
JP2706833B2 JP3415590A JP3415590A JP2706833B2 JP 2706833 B2 JP2706833 B2 JP 2706833B2 JP 3415590 A JP3415590 A JP 3415590A JP 3415590 A JP3415590 A JP 3415590A JP 2706833 B2 JP2706833 B2 JP 2706833B2
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cationically polymerizable
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【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、カチオン重合性組成物、重合開始剤および
重合方法に関する。更に詳しくは、カチオン重合性物質
を光、電子線等の放射線および/または熱により短時間
に重合させ、良好な物性をもった硬化物や、実用のある
カチオン重合性ビニル化合物のオリゴマーを得るための
重合組成物、その重合のための開始剤および重合方法に
関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a cationically polymerizable composition, a polymerization initiator, and a polymerization method. More specifically, in order to polymerize a cationically polymerizable substance in a short time by radiation such as light or an electron beam and / or heat to obtain a cured product having good physical properties and a practical oligomer of a cationically polymerizable vinyl compound. A polymerization composition, an initiator for the polymerization and a polymerization method.

[従来の技術および解決すべき問題点] 一般に、カチオン重合性物質、とりわけエポキシ樹脂
は、高性能材料を必要とする種々の用途に使われてい
る。特に、紫外線等所定の波長の放射線の照射により重
合硬化させる方法は、短時間で硬化させることが可能
で、重合工程が簡易であるため、各種用途に供せられて
いる。
[Prior art and problems to be solved] In general, cationically polymerizable substances, especially epoxy resins, are used in various applications requiring high-performance materials. In particular, the method of polymerizing and curing by irradiation of radiation having a predetermined wavelength such as ultraviolet light can be cured in a short time, and the polymerization step is simple, so that it is used for various applications.

従来、エポキシ樹脂は硬化剤として活性なアミン含有
化合物やカルボン酸無水物を混入し、2液系で広く利用
されている。しかし、これらの硬化剤を用いた2液系
は、完全に成分を混合する必要があり、硬化時間も数時
間に及ぶ。
Conventionally, epoxy resins contain an active amine-containing compound or a carboxylic anhydride as a curing agent, and are widely used in a two-part system. However, a two-part system using these curing agents requires that the components be completely mixed, and the curing time is several hours.

エポキシ樹脂を1液系として硬化するのにフッ化ホウ
素−モノエチルアミンの系があるが、これは160℃ある
いはそれ以上の温度でも1〜8時間を要している。この
改良として米国特許3565861号が挙げられるが、やはり
高温を必要としている。従ってこれらの組成物は、熱に
敏感な電子部品等の被覆には使用できない。
There is a boron fluoride-monoethylamine system for curing the epoxy resin as a one-part system, which requires 1 to 8 hours at 160 ° C. or higher. U.S. Pat. No. 3,586,561, which is an improvement, also requires high temperatures. Therefore, these compositions cannot be used for coating heat-sensitive electronic components and the like.

更に、光によりエポキシ樹脂を硬化させるのに金属ハ
ロゲン化合物アリールジアゾニウム塩が提案されてい
る。しかし、これらは、急速に重合し、また早過ぎるゲ
ル化を受け易く、そのため暗所においてさえ寸時も満足
に貯蔵できない組成物になってしまうことが予想され
る。金属ハロゲン化物アリールジアゾニウム塩を含有す
るエポキシ材料に、その組成物の早過ぎるゲル化を抑制
し、また暗所における貯蔵性を与えることが提案された
が、コストが増大し、また全く満足すべき結果は得られ
ていない。また、これら組成物は、硬化中に窒素が放出
されるため、これにより得られる硬化物質が好ましくな
い気泡を含むという問題がある。
Further, a metal halide compound aryldiazonium salt has been proposed for curing an epoxy resin by light. However, they are expected to polymerize rapidly and are subject to premature gelling, resulting in compositions that cannot be stored satisfactorily even in the dark. It has been proposed to provide an epoxy material containing a metal halide aryldiazonium salt to prevent premature gelling of the composition and to provide shelf life in the dark, but at the cost of increased and completely satisfactory No results were obtained. In addition, these compositions have the problem that the cured material obtained therefrom contains undesirable bubbles because nitrogen is released during curing.

ところで、オニウム塩については種々の光分解性スル
ホニウム塩が公知である。例えば特開昭54−53181号に
はp−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキ
サフルオロアルセネート類を光硬化剤とすることが、ま
た特開昭50−151997号においては、フェニルスルホニウ
ム塩をエポキシ用光硬化剤とすることが知られている。
しかし、これらは光でエポキシ樹脂を硬化させるが、熱
を加えただけでは、エポキシ樹脂を硬化させることはで
きない。また上記の開示においては、下記一般式[I]
のようなスルホニウム塩は含まれていない。
By the way, various photodecomposable sulfonium salts are known as onium salts. For example, JP-A-54-53181 discloses that a p-hydroxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroarsenate is used as a photocuring agent, and JP-A-50-151997 discloses that a phenylsulfonium salt is used as a photocuring agent for epoxy. It is known that
However, although these cure the epoxy resin with light, the application of heat alone cannot cure the epoxy resin. In the above disclosure, the following general formula [I]
Is not included.

一方、熱を加えることによりオニウム塩を活性化さ
せ、エポキシ樹脂を硬化させることのできる熱潜在性開
始剤について、特開昭58−37003号や特開昭63−223002
号にはジアルキルベンジルスルホニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート塩のごときベンジルスルホニウム塩
が、特開昭56−152833号にはトリアルキル型のスルホニ
ウム塩が報告されている。
On the other hand, heat latent initiators capable of activating an onium salt by applying heat and curing an epoxy resin are disclosed in JP-A-58-37003 and JP-A-63-223002.
Discloses a benzylsulfonium salt such as a dialkylbenzylsulfonium hexafluoroantimonate salt, and JP-A-56-152833 reports a trialkyl sulfonium salt.

しかし、このスルホニウム塩は光に対しては不活性で
短時間でエポキシ樹脂を硬化させることはできないう
え、例えば150℃以上を必要とするなど、加熱時間、温
度とも実用的とはいえない。
However, this sulfonium salt is inactive to light, cannot cure the epoxy resin in a short time, and requires a temperature of 150 ° C. or higher, and is not practical in terms of heating time and temperature.

また、スピロ型エステルのごとき特殊エステルについ
ては、特開昭60−188425号にその加熱重合に関する硬化
剤が開示されている。
As for special esters such as spiro-type esters, JP-A-60-188425 discloses a curing agent for the heat polymerization.

一方、カチオン重合性ビニル化合物のカチオン重合開
始剤としては、鉱酸,BF3,ZnCl2,AlCl3などのルイス酸型
開始剤や、AlR2Cl,AlRCl2といったハロゲン含有有機ア
ルミニウム化合物などが公知である。しかしながら、こ
れら開始剤は0℃以上の温度ではカチオン重合反応があ
まりにも激しく、重合反応の調整が思うように制御でき
ず重合度が高まらない。もちろん、カチオン重合性モノ
マーとこれら開始剤をあらかじめ0℃以上で一液化し、
保存することも不可能である。
On the other hand, as cationic polymerization initiators of cationically polymerizable vinyl compounds, mineral acids, Lewis acid type initiators such as BF 3 , ZnCl 2 , and AlCl 3 and halogen-containing organic aluminum compounds such as AlR 2 Cl and AlRCl 2 are known. It is. However, at a temperature of 0 ° C. or higher, the cationic polymerization reaction of these initiators is too violent, and the control of the polymerization reaction cannot be controlled as desired and the degree of polymerization does not increase. Of course, the cationically polymerizable monomer and these initiators are pre-liquefied at 0 ° C. or higher,
It is impossible to save.

ビニル化合物を重合させようとすると、連鎖移動反応
や停止反応を制御する必要があり、通常適当な溶媒に溶
解したカチオン重合性モノマーを所定の極低温まで冷却
した後に、開始剤液が仕込まれ重合反応が行われる。し
かし、重合反応を工業的に極めて低温(例えば−130〜
−40℃)で行うためには、低温の冷媒を使用する必要が
あるため操作が煩雑であり、また冷却費用がかさむなど
決して満足すべき方法とはいえない。
In order to polymerize a vinyl compound, it is necessary to control a chain transfer reaction and a termination reaction. Usually, after cooling a cationic polymerizable monomer dissolved in an appropriate solvent to a predetermined cryogenic temperature, an initiator liquid is charged and polymerization is performed. The reaction takes place. However, the polymerization reaction is industrially performed at a very low temperature (for example, -130 to
In order to perform the process at -40 ° C), it is necessary to use a low-temperature refrigerant, so that the operation is complicated, and the cooling cost is increased.

また、加えるに、米国特許3283010号にはベンジルカ
チオンの放出についての記載があるが、この公報におい
ては、ポリマーの重合を意図していない。
In addition, U.S. Pat. No. 3,283,010 describes release of benzyl cations, but this publication does not intend to polymerize polymers.

[発明の目的] 本発明の目的は、放射線および/または熱でエポキシ
樹脂などのカチオン重合性物質を重合することができ、
かつまた、遮光下、10℃以下で貯蔵安定性に優れ、封止
剤、複合材用マトリックス樹脂などに利用されるカチオ
ン重合性組成物を提供し、その重合の方法、重合用の開
始剤を提案することにある。
[Object of the Invention] An object of the present invention is to polymerize a cationically polymerizable substance such as an epoxy resin with radiation and / or heat,
And also, under light shielding, excellent storage stability at 10 ° C. or less, provides a cationically polymerizable composition used as a sealant, a matrix resin for a composite material, and a method of polymerization thereof, a polymerization initiator. It is to propose.

または、スチレンなどのカチオン重合性ビニル化合物
を一定の条件のもとに重合させるとともに、重合開始剤
との混合物の遮光下、10℃以下での貯蔵安定性に優れた
モノマー組成物を提供するとともに、実用性のあるビニ
ル化合物のオリゴマーを工業的に提供し、その重合の方
法、重合用の開始剤を提案することにある。
Or, while polymerizing a cationically polymerizable vinyl compound such as styrene under certain conditions, while providing a monomer composition having excellent storage stability at 10 ° C or lower under a light-shielded mixture of a polymerization initiator and Another object of the present invention is to industrially provide a practical oligomer of a vinyl compound and propose a polymerization method and a polymerization initiator.

[問題点を解決するための手段] 本発明者らは、前記したような問題点を解決すべく鋭
意研究を重ねた結果、本発明に至った。
[Means for Solving the Problems] The present inventors have conducted intensive studies in order to solve the above-described problems, and as a result, have arrived at the present invention.

即ち、本発明は、カチオン重合性物質と、これを放射
線および/または熱により重合させることのできる下記
一般式[I]で示されるスルホニウム塩を含む重合性組
成物、および下記一般式[I]を主成分とする重合開始
剤、更には重合方法に関する。
That is, the present invention provides a polymerizable composition comprising a cationic polymerizable substance, a sulfonium salt represented by the following general formula [I], which can be polymerized by radiation and / or heat, and a general formula [I] The present invention also relates to a polymerization initiator containing as a main component, and a polymerization method.

(ただし、R1は水素,メチル基,アセチル基,メトキ
シカルボニル基,エトキシカルボニル基,ベンジルオキ
シカルボニル基,ベンゾイル基,フェノキシカルボニル
基,9−フルオレニルメトキシカルボニル基のいずれか
を、R2,R3は独立して水素,ハロゲン,C1〜C4のアルキル
基のいずれかを、R4はC1〜C4のアルキル基を、Qはo−
ニトロベンジル基,m−ニトロベンジル基,ジニトロベン
ジル基,トリニトロベンジル基,α−ナフチルメチル
基,β−ナフチルメチル基のいずれかを示す。XはSb
F6,AsF6,PF6,BF4のいずれかである。) [発明の構成] 本発明の重合開始剤は、ニトロ置換ベンジル−4−置
換または非置換オキシフェニルスルホニウムイオンまた
はナフチルメチル−4−置換または非置換オキシフェニ
ルスルホニウムイオンと所定の陰イオンとの対の化合物
であり、これらを構成要件としている。また、本発明に
使用されるカチオン重合性物質とは、酸重合性または酸
硬化性物質、とりわけエポキシ樹脂が好ましく用いられ
る。
(However, R 1 represents any one of hydrogen, methyl, acetyl, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, benzyloxycarbonyl, benzoyl, phenoxycarbonyl, 9-fluorenylmethoxycarbonyl, R 2 , R 3 is independently hydrogen, halogen, or a C 1 -C 4 alkyl group, R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group, and Q is o-
One of nitrobenzyl, m-nitrobenzyl, dinitrobenzyl, trinitrobenzyl, α-naphthylmethyl, and β-naphthylmethyl. X is Sb
One of F 6 , AsF 6 , PF 6 and BF 4 . [Constitution of the Invention] The polymerization initiator of the present invention comprises a pair of a nitro-substituted benzyl-4-substituted or unsubstituted oxyphenylsulfonium ion or a naphthylmethyl-4-substituted or unsubstituted oxyphenylsulfonium ion with a predetermined anion. And these are the constituent requirements. The cationically polymerizable substance used in the present invention is preferably an acid-polymerizable or acid-curable substance, particularly preferably an epoxy resin.

適当な物質の例は、エポキシド単量体類、エピサルフ
ァイド単量体類、ポリエポキシド類(あるいはエポキシ
樹脂)、ポリエピサルファイド類(あるいはエピサルフ
ァイド樹脂)、フェノール/ホルムアルデヒド樹脂、メ
ラミン/ホルムアルデヒド樹脂、尿素/ホルムアルデヒ
ド樹脂、スピロオルトエステル、ビシクロオルソエステ
ル、スピロオルトカーボネートのような環状エーテルお
よび環状チオエーテル(エポキシドおよびエピサルファ
イド以外のもの)およびそれらの重合体、ラクトン、ス
チレン、ビニルエーテルおよびビニルチオエーテルなら
びに、酸により処理されたとき樹脂を交叉結合または硬
化させる交叉結合剤を含有する樹脂であり、単独でも2
種類以上の混合でもかまわない。
Examples of suitable materials include epoxide monomers, episulfide monomers, polyepoxides (or epoxy resins), polyepisulfides (or episulfide resins), phenol / formaldehyde resins, melamine / formaldehyde resins, urea / Cyclic ethers and thioethers (other than epoxides and episulfides) such as formaldehyde resins, spiro orthoesters, bicycloorthoesters, spiroorthocarbonates and their polymers, lactones, styrene, vinyl ethers and vinyl thioethers and acids A resin containing a cross-linking agent that cross-links or cures the resin when treated.
A mixture of more than one type is also acceptable.

[作用] このような本発明の重合開始剤として使用されるスル
ホニウム塩は前述のとおりであり、このスルホニウム塩
は、対応する4−メルカプトフェノール類をアルキル化
し、更に相当するハライド類と反応させ、ハロゲンイオ
ンを有するスルホニウム塩を合成し、しかる後に所定の
錯塩と陰イオン交換を行うことで高収率に得られる。
[Action] The sulfonium salt used as such a polymerization initiator of the present invention is as described above. This sulfonium salt alkylates the corresponding 4-mercaptophenol, and further reacts with the corresponding halide. A high yield can be obtained by synthesizing a sulfonium salt having a halogen ion and then performing anion exchange with a predetermined complex salt.

本発明におけるスルホニウム塩として好ましいのは、
o−ニトロベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルス
ルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、m−ニト
ロベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウ
ム ヘキサフルオロアンチモネート、o−ニトロベンジ
ル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキ
サフルオロホスフェート、m−ニトロベンジル−4−ヒ
ドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロ
アルセネート、3,5−ジニトロベンジル−4−ヒドロキ
シフェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチ
モネート、3,5−ジニトロベンジル−4−ヒドロキシフ
ェニルエチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネ
ート、o−ニトロベンジル−4−ヒドロキシフェニルエ
チルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、o
−ニトロベンジル−3−クロル−4−ヒドロキシフェニ
ルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネー
ト、2,4,6−トリニトロベンジル−4−ヒドロキシフェ
ニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネー
ト、2,4−ジニトロベンジル−4−ヒドロキシフェニル
メチルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、α
−ナフチルメチル−4−ヒドロキシフェニルメチルスル
ホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、β−ナフチ
ルメチル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、α−ナフチルメチル
−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサ
フルオロホスフェート、α−ナフチルメチル−4−(ベ
ンジルオキシカルボニルオキシ)フェニルメチルスルホ
ニウム ヘキサフルオロアンチモネート、α−ナフチル
メチル−4−(メトキシカルボニルオキシ)フェニルメ
チルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート等が
挙げられる。
Preferred as the sulfonium salt in the present invention,
o-nitrobenzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, m-nitrobenzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, o-nitrobenzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluorophosphate, m-nitro Benzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroarsenate, 3,5-dinitrobenzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, 3,5-dinitrobenzyl-4-hydroxyphenylethylsulfonium hexafluoroantimonate, o -Nitrobenzyl-4-hydroxyphenylethylsulfonium hexafluoroantimonate, o
-Nitrobenzyl-3-chloro-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, 2,4,6-trinitrobenzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, 2,4-dinitrobenzyl-4-hydroxy Phenylmethylsulfonium hexafluorophosphate, α
-Naphthylmethyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, β-naphthylmethyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, α-naphthylmethyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluorophosphate, α-naphthylmethyl And 4- (benzyloxycarbonyloxy) phenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, α-naphthylmethyl-4- (methoxycarbonyloxy) phenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate and the like.

本発明において使用されるスルホニウム塩は、光、電
子線などの放射線に対して活性を上げるだけでなく、熱
に対しても活性がある。すなわち、放射線または熱で励
起されたこれらスルホニウム塩は、ベンジルカチオンま
たはナフチルメチルカチオンを放出し、前述のカチオン
重合性物質の重合を進行させると考えられる。
The sulfonium salt used in the present invention not only increases activity against radiation such as light and electron beams, but also has activity against heat. That is, it is considered that these sulfonium salts excited by radiation or heat release a benzyl cation or a naphthylmethyl cation and promote the polymerization of the above-mentioned cationically polymerizable substance.

また本発明において、カチオン重合性物質がビニル化
合物の場合は、重合反応に際して通常、開始剤、モノマ
ーなどに不活性な溶媒を用いた溶液重合法が行われる
が、場合によっては塊状重合法も行われる。溶媒として
は、例えば、トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳
香族炭化水素類、n−ヘキサン、n−ヘプタンのような
脂肪族炭化水素類、シクロヘキサンのような脂環式炭化
水素類、石油エーテル、リグロインのような炭化水素混
合物類、クロルベンゼン、ジクロルエタンのようなハロ
ゲン化炭化水素類などが使用でき、また、これらビニル
化合物の重合反応は常圧または加圧下で行われ、反応温
度は20℃以上の温度、好ましくは工業的に加熱が容易な
70〜150℃である。
In the present invention, when the cationically polymerizable substance is a vinyl compound, a solution polymerization method using an inert solvent as an initiator or a monomer is usually performed during the polymerization reaction. Will be Examples of the solvent include toluene, benzene, aromatic hydrocarbons such as xylene, n-hexane, aliphatic hydrocarbons such as n-heptane, alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, petroleum ether, Hydrocarbon mixtures such as ligroin, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene and dichloroethane can be used, and the polymerization reaction of these vinyl compounds is carried out under normal pressure or under pressure, and the reaction temperature is 20 ° C. or higher. Temperature, preferably industrially easy to heat
70-150 ° C.

また、本発明において重合開始剤として使用されるス
ルホニウム塩は遮光下、10℃以下ではカチオン重合反応
を開始しないため、必要によってはあらかじめモノマー
と開始剤を適当な溶媒を用いて一液化し、保存し、ある
いは商品化することも可能である。
In addition, the sulfonium salt used as a polymerization initiator in the present invention does not initiate a cationic polymerization reaction at 10 ° C. or less under light shielding, so that if necessary, a monomer and an initiator are liquidized in advance using an appropriate solvent and stored. Or commercialized.

本発明に使用されるスルホニウム塩は、樹脂100重量
部に対して0.01〜20重量部、好ましくは0.1〜5重量部
である。0.01重量部より少ないと充分な重合物が得られ
ない。20重量部を越える添加量では、重合後の物性にお
いて好ましいものが得られず、コストの面においても好
ましくない。また、重合硬化は、放射線処理または加熱
処理により行われ、必要によっては加熱と放射線照射を
併用することも可能である。また、重合時には、必要に
より溶媒を用いることもできる。
The sulfonium salt used in the present invention is 0.01 to 20 parts by weight, preferably 0.1 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the resin. If the amount is less than 0.01 part by weight, a sufficient polymer cannot be obtained. If the amount exceeds 20 parts by weight, favorable properties cannot be obtained after polymerization, which is not preferred in terms of cost. Further, the polymerization curing is carried out by a radiation treatment or a heat treatment, and if necessary, the heating and the radiation irradiation can be used in combination. At the time of polymerization, a solvent can be used if necessary.

本発明による放射線としては、波長200〜400nm範囲の
紫外線が最も効率よく、それゆえ、光源としては、低圧
水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、カ
ーボンアーク灯などが挙げられるが、太陽光の照射でも
重合、硬化が可能である。さらに電子線を照射すること
によっても重合、硬化させることができる。
As the radiation according to the present invention, ultraviolet rays having a wavelength in the range of 200 to 400 nm are most efficiently used. Can be polymerized and cured by irradiation. Further, polymerization and curing can be performed by irradiation with an electron beam.

本発明の組成物は、更に場合によっては、増量剤、難
燃剤、静電防止剤、界面活性剤、酸無水物に代表される
助剤等を混合して用いられる。
In some cases, the composition of the present invention is further used by mixing an extender, a flame retardant, an antistatic agent, a surfactant, an auxiliary represented by an acid anhydride, and the like.

本発明の組成物は、艶出しワニス、インキ、塗料、接
着剤、積層板、プリプレグ、成型材料、封止材料等に使
用できる。
The composition of the present invention can be used for polishing varnishes, inks, paints, adhesives, laminates, prepregs, molding materials, sealing materials, and the like.

本発明の硬化性組成物は、長期間保存可能で光や電子
線などの放射線の照射や150℃以下の加熱あるいは加熱
と放射線処理の併用で速やかに重合を開始する機能を備
え、高温硬化性に優れ、吸湿性がなく、耐水性、耐薬品
性、電気性に優れた硬化物を与える。
The curable composition of the present invention has a function that can be stored for a long period of time and rapidly initiates polymerization by irradiation with radiation such as light or an electron beam or heating at 150 ° C. or less or a combination of heating and radiation treatment. It gives a cured product that is excellent in water resistance, chemical resistance and electrical properties without moisture absorption.

また、カチオン重合性ビニル化合物組成物においての
特徴としては、従来困難であったモノマーと開始剤の一
液化保存、更には20℃以上でのカチオン重合反応を可能
とし、かつ、簡単な加熱で実用性のある重合度の高い重
合体を得ることが可能になった点にある。
Another characteristic of the cationically polymerizable vinyl compound composition is that it allows one-part storage of monomers and initiators, which was difficult in the past, and also enables cationic polymerization at 20 ° C or higher, and is practical with simple heating. The point is that it has become possible to obtain a polymer having a high degree of polymerization.

[実施例] 以下実施例にて本発明を詳細にするが、本発明は以下
のみに限定されるものではない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following.

実施例1 フェニルグリシジルエーテル1.0gに対して、α−ナフ
チルメチル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウ
ム ヘキサフルオロアンチモネートを0.034g混合した。
この混合物を脱気封管し、所定の温度で1時間塊状重合
させ、反応後、転化率を1H NMRスペクトルより決定し
た。その結果を次に示す。
Example 1 0.034 g of α-naphthylmethyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate was mixed with 1.0 g of phenylglycidyl ether.
This mixture was degassed and sealed, and subjected to bulk polymerization at a predetermined temperature for 1 hour. After the reaction, the conversion was determined from the 1 H NMR spectrum. The results are shown below.

実施例2 フェニルグリシジルエーテル1.0gに対して、実施例1
で用いたスルホニウム塩を0.034g混合し、脱気封管し
た。312nmの主波長光を有する400W高圧水銀ランプを光
源とし、理工科学産業製のロータリー光化学反応装置
(RH400−10W型)を使用し、10℃で光塊状重合を行った
ところ、2時間で転化率は65%であつた。
Example 2 Example 1 against 1.0 g of phenylglycidyl ether
0.034 g of the sulfonium salt used in the above was mixed, and the tube was degassed and sealed. Using a 400 W high-pressure mercury lamp with a main wavelength of 312 nm as a light source, using a rotary photochemical reactor (RH400-10W type) manufactured by Riko Kagaku Sangyo, light bulk polymerization was performed at 10 ° C. Was 65%.

実施例3 o−ニトロベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチル
スルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート 1gをエ
ピコート828(油化シェルエポキシ製 ビスフェノール
A型エポキシ樹脂)100gに溶解させ、これを厚さ0.5mm
にガラス板上に塗布した。これに太陽光を5時間照射し
たところ樹脂は完全にゲル化した。
Example 3 1 g of o-nitrobenzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate was dissolved in 100 g of Epicoat 828 (a bisphenol A type epoxy resin manufactured by Yuka Shell Epoxy) and the thickness was 0.5 mm.
On a glass plate. When this was irradiated with sunlight for 5 hours, the resin was completely gelled.

実施例4〜12 エピコート828(油化シェルエポキシ製ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂)100重量部と種々とスルホニウム
塩3重量部からなる配合物を調製し、各々約100mgをと
り、150℃に加熱した熱板上でゲル化時間を測定した。
結果を表1に示す。また、ここで調製した組成物を遮光
下、10℃で1ケ月放置したところ、著しい増粘は見られ
なかった。
Examples 4 to 12 Formulations comprising 100 parts by weight of Epikote 828 (bisphenol A type epoxy resin manufactured by Yuka Shell Epoxy) and various parts and 3 parts by weight of a sulfonium salt were prepared, and about 100 mg each was taken and heated to 150 ° C. The gel time was measured on the plate.
Table 1 shows the results. When the composition prepared here was allowed to stand at 10 ° C. for 1 month under light shielding, no remarkable thickening was observed.

実施例13 1−フェニル−4−エチル−2,6,7−トリオキサビシ
クロ[2,2,2]オクタン 0.5gに対して、α−ナフチル
メチル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネートを0.015g混合し、脱気、
封管した。この混合物を、120℃で20時間、塊状重合さ
せた。重合後、1H NMRスペクトルより、転化率100%を
確認した。次に重合体を塩化メチレン2mlで溶解し、ヘ
キサン100ml中に注入した。ヘキサン不溶部を乾燥さ
せ、0.35gのポリマーを得た。
Example 13 1-phenyl-4-ethyl-2,6,7-trioxabicyclo [2,2,2] octane was added to 0.5 g of α-naphthylmethyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium
Mix 0.015 g of hexafluoroantimonate, degas,
Sealed. This mixture was subjected to bulk polymerization at 120 ° C. for 20 hours. After polymerization, 100% conversion was confirmed from the 1 H NMR spectrum. The polymer was then dissolved in 2 ml of methylene chloride and poured into 100 ml of hexane. The hexane-insoluble portion was dried to obtain 0.35 g of a polymer.

実施例14 3,9−ジベンジル−1,5,7,11−テトラオキサスピロ
[5,5]ウンデカン 0.5gに対して、o−ニトロベンジ
ル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキ
サフルオロアンチモネートを0.015g混合し、脱気,封管
した。この混合物を150℃で2時間塊状重合させた。重
合後、1H NMRスペクトルより転化率95%を確認した。
Example 14 0.01 g of o-nitrobenzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate based on 0.5 g of 3,9-dibenzyl-1,5,7,11-tetraoxaspiro [5,5] undecane Mix, degas, and seal. This mixture was subjected to bulk polymerization at 150 ° C. for 2 hours. After the polymerization, a conversion rate of 95% was confirmed from the 1 H NMR spectrum.

次に、重合物を塩化メチレン2mlで溶解し、ヘキサン1
00ml中に注入した。ついでヘキサン不溶部を乾燥させ、
0.40gのポリマーを得た。
Next, the polymer was dissolved in 2 ml of methylene chloride, and hexane 1
Injected into 00 ml. Then, the hexane-insoluble part is dried,
0.40 g of the polymer was obtained.

実施例15 精製したスチレン0.5gに対してo−ニトロベンジル−
4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフ
ルオロアンチモネート 0.010gを混合し、脱気,封管し
た。ついで、攪拌下、100℃で重合を行った。60分後、
固化した反応液を四塩化炭素2mlで溶解し、この1H NMR
スペクトルより転化率89%を確認した。
Example 15 O-nitrobenzyl-based on 0.5 g of purified styrene
0.010 g of 4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate was mixed, degassed and sealed. Then, polymerization was carried out at 100 ° C. with stirring. After 60 minutes,
The solidified reaction solution was dissolved in 2 ml of carbon tetrachloride, and the 1 H NMR
A conversion of 89% was confirmed from the spectrum.

次にメタノール中にこれを注入し、重合を停止させ重
合体を析出させた。精製乾燥した重合体は白色結晶で収
率75%であった。
Next, this was poured into methanol to terminate the polymerization and precipitate a polymer. The purified and dried polymer was white crystals with a yield of 75%.

また、GPC(ポリスチレン換算)により▲▼=380
0,▲▼/▲▼=1.89であった。
GPC (polystyrene equivalent): ▲ ▼ = 380
0, ▲ ▼ / ▲ ▼ = 1.89.

実施例16〜22 実施例15に準じ種々のスルホニウム塩を用いてスチレ
ンの重合を行った。
Examples 16 to 22 According to Example 15, styrene was polymerized using various sulfonium salts.

結果を表2に示す。 Table 2 shows the results.

実施例23 実施例15と同一の配合によって60℃で60分、スチレン
の重合を行ったが、転化率は0%であった。
Example 23 Styrene was polymerized at 60 ° C. for 60 minutes using the same composition as in Example 15, but the conversion was 0%.

実施例24 精製したスチレン10gとo−ニトロベンジル−4−ヒ
ドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロ
アンチモネート 0.30gをクロルベンゼン20mlで溶解さ
せ、脱気封管し、遮光下10℃で1か月放置したが、スチ
レンの重合は起こらなかった。
Example 24 10 g of purified styrene and 0.30 g of o-nitrobenzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate were dissolved in 20 ml of chlorobenzene, degassed and sealed, and allowed to stand at 10 ° C for 1 month under light shielding. In addition, polymerization of styrene did not occur.

[発明の効果] 以上のとおり本発明に係る所定のスルホニウム塩は、
カチオン重合性物質の重合開始剤として有効であり、こ
れらを含有する重合組成物は光、電子線などの放射線の
照射および/または加熱処理による重合方法で重合、硬
化することができる。またこの一液化した組成物は混合
後も安定であり、前述の条件下において貯蔵性に優れて
いる。よって所期の目的を達成できる。
[Effect of the Invention] As described above, the predetermined sulfonium salt according to the present invention is:
It is effective as a polymerization initiator for cationically polymerizable substances, and a polymerization composition containing these can be polymerized and cured by a method of irradiation with radiation such as light or an electron beam and / or a heat treatment. The one-part composition is stable even after mixing, and has excellent storage properties under the conditions described above. Therefore, the intended purpose can be achieved.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−145459(JP,A) 特開 平3−59001(JP,A) 特開 平3−17101(JP,A) 特開 平3−200761(JP,A) 特開 平2−196812(JP,A) 特開 平2−1470(JP,A) 特開 平3−205405(JP,A) ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-3-145459 (JP, A) JP-A-3-59001 (JP, A) JP-A-3-17101 (JP, A) JP-A-3-3100 200761 (JP, A) JP-A-2-196812 (JP, A) JP-A 2-1470 (JP, A) JP-A 3-205405 (JP, A)

Claims (15)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】カチオン重合性物質の一種または二種以上
と、一般式[I]で示されるスルホニウム塩を含む重合
性組成物。 (ただし、R1は水素,メチル基,アセチル基,メトキシ
カルボニル基,エトキシカルボニル基,ベンジルオキシ
カルボニル基,ベンゾイル基,フェノキシカルボニル
基,9−フルオレニルメトキシカルボニル基のいずれか
を、R2,R3は独立して水素,ハロゲン,C1〜C4のアルキル
基のいずれかを、R4はC1〜C4のアルキル基を、Qはo−
ニトロベンジル基,m−ニトロベンジル基,ジニトロベン
ジル基,トリニトロベンジル基,α−ナフチルメチル
基,β−ナフチルメチル基のいずれかを示す。XはSb
F6,AsF6,PF6,BF4のいずれかである。)
1. A polymerizable composition comprising one or more cationically polymerizable substances and a sulfonium salt represented by the general formula [I]. (However, R 1 represents any one of hydrogen, methyl, acetyl, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, benzyloxycarbonyl, benzoyl, phenoxycarbonyl, 9-fluorenylmethoxycarbonyl, R 2 , R 3 is independently hydrogen, halogen, or a C 1 -C 4 alkyl group, R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group, and Q is o-
One of nitrobenzyl, m-nitrobenzyl, dinitrobenzyl, trinitrobenzyl, α-naphthylmethyl, and β-naphthylmethyl. X is Sb
One of F 6 , AsF 6 , PF 6 and BF 4 . )
【請求項2】カチオン重合性物質がエポキシ基を有する
化合物である特許請求の範囲第1項記載の重合性組成
物。
2. The polymerizable composition according to claim 1, wherein the cationically polymerizable substance is a compound having an epoxy group.
【請求項3】カチオン重合性物質がカチオン重合性ビニ
ル化合物である特許請求の範囲第1項記載の重合性組成
物。
3. The polymerizable composition according to claim 1, wherein the cationically polymerizable substance is a cationically polymerizable vinyl compound.
【請求項4】カチオン重合性物質が、スピロオルトエス
テル基,ビシクロオルトエステル基,スピロオルトカー
ボネート基のいずれかを一種または二種以上有する化合
物である特許請求の範囲第1項記載の重合性組成物。
4. The polymerizable composition according to claim 1, wherein the cationically polymerizable substance is a compound having one or more of spiro orthoester groups, bicycloorthoester groups, and spiroorthocarbonate groups. Stuff.
【請求項5】カチオン重合性物質100重量部に対して一
般式[I]で示されるスルホニウム塩の0.01〜20重量部
を添加してなる特許請求の範囲第1項記載の重合性組成
物。
5. The polymerizable composition according to claim 1, wherein 0.01 to 20 parts by weight of a sulfonium salt represented by the general formula [I] is added to 100 parts by weight of the cationically polymerizable substance.
【請求項6】特許請求の範囲第1項記載の一般式[I]
で示されるスルホニウム塩を主成分とするカチオン重合
性物質の重合開始剤。
6. A compound of the general formula [I] according to claim 1.
A polymerization initiator of a cationically polymerizable substance containing a sulfonium salt as a main component.
【請求項7】スルホニウム塩がm−ニトロベンジル−4
−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフル
オロアンチモネートである特許請求の範囲第6項記載の
重合開始剤。
7. The sulfonium salt is m-nitrobenzyl-4.
7. The polymerization initiator according to claim 6, which is -hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate.
【請求項8】スルホニウム塩がα−ナフチルメチル−4
−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフル
オロアンチモネートである特許請求の範囲第6項記載の
重合開始剤。
8. The method according to claim 1, wherein the sulfonium salt is α-naphthylmethyl-4.
7. The polymerization initiator according to claim 6, which is -hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate.
【請求項9】スルホニウム塩がα−ナフチルメチル−4
−(ベンジルオキシカルボニルオキシ)フェニルメチル
スルホニウム ヘキサフルオロアンチモネートである特
許請求の範囲第6項記載の重合開始剤。
9. The sulfonium salt is α-naphthylmethyl-4.
7. The polymerization initiator according to claim 6, which is-(benzyloxycarbonyloxy) phenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate.
【請求項10】スルホニウム塩がα−ナフチルメチル−
4−(メトキシカルボニルオキシ)フェニルメチルスル
ホニウム ヘキサフルオロアンチモネートである特許請
求の範囲第6項記載の重合開始剤。
10. The sulfonium salt is α-naphthylmethyl-
The polymerization initiator according to claim 6, which is 4- (methoxycarbonyloxy) phenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate.
【請求項11】カチオン重合性物質の一種または二種以
上に特許請求の範囲第1項記載の一般式[I]で示され
るスルホニウム塩の一種または二種以上を開始剤として
加え、これを放射線および/または熱により重合させる
ことを特徴とするカチオン重合性物質の重合方法。
11. One or more of the cationically polymerizable substances are added with one or more of the sulfonium salts represented by the general formula [I] of claim 1 as an initiator, and this is irradiated with radiation. And / or polymerization by heat.
【請求項12】放射線が紫外線である特許請求の範囲第
11項記載の重合方法。
12. The method according to claim 1, wherein the radiation is ultraviolet light.
Item 12. The polymerization method according to Item 11,
【請求項13】放射線が太陽光である特許請求の範囲第
11項記載の重合方法。
13. The method according to claim 1, wherein the radiation is sunlight.
Item 12. The polymerization method according to Item 11,
【請求項14】重合を20℃以上の温度で行うことを特徴
とする特許請求の範囲第11項記載の重合方法。
14. The method according to claim 11, wherein the polymerization is carried out at a temperature of 20 ° C. or higher.
【請求項15】カチオン重合性物質100重量部に対し
て、特許請求の範囲第1項記載の一般式[I]で示され
るスルホニウム塩を、0.01〜20重量部添加してなる特許
請求の範囲第11項記載の重合方法。
15. A method according to claim 1, wherein 0.01 to 20 parts by weight of a sulfonium salt represented by the general formula [I] is added to 100 parts by weight of the cationically polymerizable substance. Item 12. The polymerization method according to Item 11.
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