JP2705785B2 - Stage equipment - Google Patents

Stage equipment

Info

Publication number
JP2705785B2
JP2705785B2 JP4245194A JP4245194A JP2705785B2 JP 2705785 B2 JP2705785 B2 JP 2705785B2 JP 4245194 A JP4245194 A JP 4245194A JP 4245194 A JP4245194 A JP 4245194A JP 2705785 B2 JP2705785 B2 JP 2705785B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
ceramics
guide
base
air
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP4245194A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH07142558A (en
Inventor
一雄 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=12636441&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP2705785(B2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP4245194A priority Critical patent/JP2705785B2/en
Publication of JPH07142558A publication Critical patent/JPH07142558A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2705785B2 publication Critical patent/JP2705785B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Machine Tool Units (AREA)
  • Transmission Devices (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】本発明は可動ステージをガイドに
沿って移動するステージ装置、特には投影露光装置、電
子線描画装置、もしくはワイヤーボンダ等の半導体製造
装置に適用されるステージ装置に関する。 【0002】 【従来の技術】従来のステージ装置は、Al系、Ti
系、あるいはMg系の軽合金や他の金属材料を使用して
可動ステージ部分や伝達機構を構成している。 【0003】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の金属材料は、剛性、温度変化による変形、耐摩耗性、
及び防錆等の面で問題がある。特に、ステージ装置を真
空雰囲気中で使用する場合には、潤滑材の使用が制限さ
れるので、耐摩耗性が更に悪化する。 【0004】また、半導体製造分野で使用するような高
精度ステージ装置の精度維持は、金属材料の経時変化を
考えると、非常に難しい問題である。 【0005】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、その目的は、上述の従来技術の問題点を解決
すると共に、可動ステージの高速で且つ高精度な移動を
可能にし、例えば真空雰囲気中でも支障なく使用可能な
ステージ装置を提供することにある。 【0006】 【課題を解決するための手段】この問題を解決するた
め、本発明のステージ装置は、基準となる面を備える基
盤と、該基盤上に載置されるステージと、該ステージを
該基盤の基準となる面と平行な面内を所定方向に移動さ
せるためのガイド部と、該ステージを該ガイド部に沿っ
て移動させるための駆動力を発生する駆動源と、該ステ
ージを空気によって支持案内する空気軸受とを有し、該
空気軸受はステージを前記ガイド部に沿った移動方向に
案内するためのエアーパッドと、ステージを前記基準と
なる面に垂直な方向に支持するためのエアーパッドとを
備えると共に、前記ステージ、ガイド部、及びエアーパ
ッドの材質をセラミツクスとしたことを特徴とする。 【0007】 【実施例】以下、本発明を図に示した一実施例を用いて
詳細に説明する。 【0008】図1において、1はアルミナセラミツクス
製のチャックで、その上に載置されたシリコンウエハあ
るいは試料を真空吸着する。図には描いていないが、ウ
エハチャック1には真空吸着用の開口及び真空ポンプに
つながるダクトが設けられている。2はアルミナセラミ
ツクス製のXステージで、チャック1をX方向に移送す
る。3はアルミナセラミツクス製もしくは更に摺動面に
テフロン(登録商標)のコートを施した摺動部材で、X
ステージ2の内側面に設けられる。4はXステージ2に
送り力を与えるためのセラミツクス製のボールナット
で、結合部材を介してXステージ2に結合されており、
セラミツクス製またはルビー、サファイアなど非金属の
ボールを内蔵する。 【0009】5はセラミツクス製の送り用ボールネジ
で、ボールナット4と螺合する。6はボールネジ5を保
持するためのセラミツクス製ハウジングで、その内部に
はボールネジ5を受けるためにルビー、サファイアなど
の非金属で構成された軸受けを収容している。7はセラ
ミツクス製の動力伝達用カップリングで、カップリング
7の一方はボールネジ5につながり、他方はXステージ
を駆動するモータ8の駆動軸につながる。9はXステー
ジ2の移動を規制するためのセラミツクス製直線案内摺
動ガイドで、摺動ガイド9の片面は転動ガイド(図2参
照)に当接し、他面は摺動部材3に当接する。 【0010】次に、10はセラミツクス製のYステージ
で、Xステージ2の突出部2′,2′を支持すると共
に、X方向摺動ガイド9が結合されている。11はセラ
ミツクス製または更にテフロン(登録商標)のコートを
施した摺動部材で、Yステージ10の内側に設けられ
る。12はYステージ10の移動を規制するためのセラ
ミツクス製の直線案内摺動ガイドで、セラミツクス製基
盤18に結合される。13及び14は、セラミツクス製
でY方向送り用のボールネジ15を保持するためのセラ
ミツクス製ハウジングで、ハウジング13,14内には
セラミツクス材あるいはルビー、サファイアなどの非金
属材で構成された軸受けが収容されている。なお、図に
は描かれていないが、ボールナットがボールネジ15に
螺合すると共に、Yステージ10の内側に固定される。 【0011】16は動力伝達用のカップリングで、セラ
ミツクスで製作され、Yステージ10を駆動するモータ
17に結合する。10〜22はラッピングを行って平面
に鏡面仕上げを施したセラミツクス製の摺動面で、摺動
面19,20はXステージ2の下側突出部2′,2′を
支持し、摺動面21,22はYステージ10の下側突出
部10′,10′を各々支持する。 【0012】図2及び図3は、それぞれステージ2、1
0を支持するための構造を示しており、図2は本発明と
の対比をなす参考例の構造を、図3は本発明に係る構造
を示す。参考例の図2において、24はセラミツクスあ
るいは非金属材で作られたコロもしくは針状軸受であ
る。これに対して本発明の構造を示す図3において、2
5は空気軸受けを利用する場合のセラミツクス製のエア
ーパッドで、Xステージ2をガイド部に沿った移動方向
(X方向)に案内するためのエアーパッドと、Xステー
ジ2を鉛直方向(Z方向)に支持するためのエアーパッ
ドとを備えており、これらのエアーパッド25には不図
示の空圧ダクトがつながっている。尚、これらの部材の
内、摺動面と転動部を除いた部分に、用途に応じて従来
の合金製部材を使用することもできる。 【0013】以上の構成で、Yステージ10に固定され
たモータ8を駆動すれば、カップリング7を介してボー
ルネジ5が回転し、ボールネジ5と螺合するボールナッ
ト4を前後に送ることで、これに固定されたXステージ
2をX方向に前後動させ得る。Xステージ2は平面19
と20上を移動することで水平面内をZ方向に微動する
ことなく変位し、またY方向の変動はガイド9で規制さ
れる。他方、基盤18に固定されたモータ17を駆動す
れば、カップリング16を介してボールネジ15が回転
し、Yステージ10をY方向に前後動させ得る。Yステ
ージ10は平面上21と22上を移動し、ガイド12で
規制されて正確にY方向へ変位する。 【0014】この実施例で、結合用カップリング7,1
6としてセラミツクスを使用したのは、高剛性且つ低慣
性で、送り装置からの振動伝達を軽減できるからであ
る。また、ステージ全体をセラミツクス材料で構成すれ
ば、セラミツクス自体が非磁性体であるから、非磁性ス
テージを必要とする電子線描画装置に使用することもで
きる他、化学薬品等の付着する可能性がある他分野の精
密送り装置、精密測定装置に適用することも可能であ
る。また錆ないという利点を生かして、薬液中での使用
も可能であり、あるいは真空中の使用も可能であるか
ら、宇宙開発への応用も考えられる。また、ウエハを吸
着保持するチヤツクをセラミツクスとしたことで、露光
時にウエハが吸収した熱がステージに伝わり難く、ステ
ージの熱歪みによる変形を防ぐことができる。 【0015】 【発明の効果】本発明によれば、ステージ装置の可動部
分の軽量化をその剛性を低下させることなく行えると共
に、セラミツクス材の低熱伝導率、低熱膨張係数により
周囲雰囲気温度の変化に対して変動しにくい高精度なス
テージ装置の提供が可能になる。また、非接触の空気軸
受を採用し、このエアーパッドの材質も含めてステージ
全体をセラミツクスとすることで、移動体が軽量であり
且つ軸受での接触抵抗が小さいという2点の相乗効果に
よって、小駆動力で且つ高い制御応答性を得ることがで
きる。加えて、移動体が軽量なので空気軸受への空気供
給が小流量でステージ浮上させることができ、空気軸受
の小型化も達成することができる。さらには、エアーパ
ッド及びガイドの材質が共に低熱膨張率且つ経時変化の
小さいセラミツクスであるため、空気軸受の要である両
者の間の微小隙間を極めて高精度に保つことができる。 【0016】請求項2記載の発明によれば、上記効果に
加えて、ウエハ等の被搬送物を保持するチヤツクをセラ
ミツクスとしたことで、露光等によって被搬送物が吸収
した熱がステージに伝わり難く、ステージの熱歪みによ
る変形を防ぐことができる。 【0017】請求項3記載の発明によれば、上記効果に
加えて、基盤をセラミツクスとしたことで、ガイド部と
ステージと基盤との間で熱膨張係数の差による相対変位
が生じないので、更に高い精度のステージ装置を提供す
ることができる。 【0018】請求項4記載の発明によれば、上記効果を
持った二次元ステージ装置を提供することができる。 【0019】請求項5記載の発明によれば、上記効果を
持ったステージ装置を用いて半導体ウエハに露光できる
ため、高い生産性及び精度による半導体製造が可能とな
る。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a stage device for moving a movable stage along a guide, and more particularly to a semiconductor device such as a projection exposure apparatus, an electron beam drawing apparatus, or a wire bonder. The present invention relates to a stage device applied to a device. 2. Description of the Related Art Conventional stage devices include Al-based, Ti-based devices.
The movable stage portion and the transmission mechanism are formed by using a light alloy of Mg-based or Mg-based or other metal materials. [0003] However, these metallic materials have rigidity, deformation due to temperature change, abrasion resistance, and the like.
There is a problem in terms of rust prevention and the like. In particular, when the stage device is used in a vacuum atmosphere, the use of a lubricant is restricted, so that the wear resistance is further deteriorated. [0004] Maintaining the accuracy of a high-precision stage device used in the semiconductor manufacturing field is a very difficult problem in view of the aging of metal materials. The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to solve the above-mentioned problems of the prior art and to enable high-speed and high-precision movement of a movable stage. An object of the present invention is to provide a stage device that can be used without any problem even in a vacuum atmosphere. In order to solve this problem, a stage device according to the present invention comprises a base having a reference surface, a stage mounted on the base, and a stage mounted on the base. A guide section for moving in a predetermined direction in a plane parallel to a reference plane of the base, a driving source for generating a driving force for moving the stage along the guide section, An air pad for guiding the stage in a moving direction along the guide portion, and an air pad for supporting the stage in a direction perpendicular to the reference surface. And a pad, and the stage, the guide section, and the air pad are made of ceramics. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail with reference to an embodiment shown in the drawings. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a chuck made of alumina ceramics, which vacuum-adsorbs a silicon wafer or a sample placed thereon. Although not illustrated, the wafer chuck 1 is provided with an opening for vacuum suction and a duct connected to a vacuum pump. Reference numeral 2 denotes an alumina ceramic X stage for transferring the chuck 1 in the X direction. Numeral 3 is a sliding member made of alumina ceramics or further having a sliding surface coated with Teflon (registered trademark).
It is provided on the inner surface of the stage 2. Reference numeral 4 denotes a ceramic ball nut for applying a feeding force to the X stage 2, which is connected to the X stage 2 via a connecting member.
Built-in ceramic or non-metal ball such as ruby, sapphire. A feed ball screw 5 made of ceramics is screwed with the ball nut 4. Reference numeral 6 denotes a ceramic housing for holding the ball screw 5, in which a non-metallic bearing such as ruby or sapphire is accommodated for receiving the ball screw 5. Reference numeral 7 denotes a power transmission coupling made of ceramics. One of the couplings 7 is connected to the ball screw 5 and the other is connected to a drive shaft of a motor 8 for driving the X stage. Reference numeral 9 denotes a ceramic linear guide sliding guide for restricting the movement of the X stage 2. One surface of the sliding guide 9 contacts the rolling guide (see FIG. 2), and the other surface contacts the sliding member 3. . Reference numeral 10 denotes a ceramic Y stage, which supports the protruding portions 2 ', 2' of the X stage 2 and has an X-direction sliding guide 9 connected thereto. Reference numeral 11 denotes a sliding member made of ceramics or further coated with Teflon (registered trademark), and is provided inside the Y stage 10. Reference numeral 12 denotes a ceramic linear guide sliding guide for restricting the movement of the Y stage 10 and is coupled to a ceramic base 18. Reference numerals 13 and 14 denote ceramic housings made of ceramics for holding a ball screw 15 for feeding in the Y direction. Housings 13 and 14 accommodate bearings made of a ceramic material or a nonmetal material such as ruby or sapphire. Have been. Although not shown in the drawing, a ball nut is screwed into the ball screw 15 and fixed inside the Y stage 10. Reference numeral 16 denotes a power transmission coupling, which is made of ceramics and is coupled to a motor 17 for driving the Y stage 10. Reference numerals 10 to 22 denote ceramic sliding surfaces which are lapping and mirror-finished on a flat surface. The sliding surfaces 19 and 20 support the lower projecting portions 2 'and 2' of the X stage 2, and are provided with sliding surfaces. Reference numerals 21 and 22 support the lower projecting portions 10 'and 10' of the Y stage 10, respectively. FIGS. 2 and 3 show stages 2, 1 and 2, respectively.
FIG. 2 shows a structure of a reference example in comparison with the present invention, and FIG. 3 shows a structure according to the present invention. In FIG. 2 of the reference example, reference numeral 24 denotes a roller or needle bearing made of ceramics or a nonmetallic material. On the other hand, in FIG. 3 showing the structure of the present invention, 2
Reference numeral 5 denotes a ceramic air pad for using an air bearing. The air pad guides the X stage 2 in the moving direction (X direction) along the guide portion, and the X stage 2 moves in the vertical direction (Z direction). The air pads 25 are connected to a pneumatic duct (not shown). It should be noted that, among these members, a conventional alloy member can be used in a portion excluding the sliding surface and the rolling portion, depending on the application. In the above configuration, when the motor 8 fixed to the Y stage 10 is driven, the ball screw 5 rotates via the coupling 7 and the ball nut 4 screwed with the ball screw 5 is sent back and forth. The X stage 2 fixed thereto can be moved back and forth in the X direction. X stage 2 is flat 19
20 and 20, it is displaced in the horizontal plane without slight movement in the Z direction, and the fluctuation in the Y direction is regulated by the guide 9. On the other hand, if the motor 17 fixed to the base 18 is driven, the ball screw 15 rotates via the coupling 16 and the Y stage 10 can be moved back and forth in the Y direction. The Y stage 10 moves on planes 21 and 22 and is precisely displaced in the Y direction by being regulated by the guide 12. In this embodiment, coupling couplings 7, 1
The reason why ceramics is used as 6 is that vibration transmission from the feeder can be reduced with high rigidity and low inertia. If the entire stage is made of a ceramic material, the ceramic itself is a non-magnetic material, so that it can be used in an electron beam lithography apparatus requiring a non-magnetic stage, and there is a possibility that chemicals and the like may adhere to the stage. It is also possible to apply to a precision feeding device and a precision measuring device in a certain other field. In addition, since it can be used in a chemical solution or can be used in a vacuum, taking advantage of the advantage of no rust, it can be applied to space development. In addition, since the chuck that holds the wafer by suction is made of ceramics, the heat absorbed by the wafer during exposure is less likely to be transmitted to the stage, and the stage can be prevented from being deformed due to thermal distortion. According to the present invention, the weight of the movable portion of the stage device can be reduced without lowering its rigidity, and at the same time, the change in the ambient temperature due to the low thermal conductivity and low thermal expansion coefficient of the ceramic material. Thus, it is possible to provide a high-precision stage device that does not easily change. In addition, by adopting a non-contact air bearing and making the entire stage ceramics including the material of this air pad, the moving body is lightweight and the contact resistance at the bearing is small, resulting in a synergistic effect of two points. A small driving force and high control responsiveness can be obtained. In addition, since the moving body is lightweight, the air supply to the air bearing can be floated at a small flow rate on the stage, and the size of the air bearing can be reduced. Furthermore, since both the air pad and the guide are made of ceramics having a low coefficient of thermal expansion and a small change with time, a minute gap between the two, which is a key of the air bearing, can be maintained with extremely high precision. According to the second aspect of the present invention, in addition to the above-mentioned effects, since the chuck for holding the transferred object such as a wafer is made of ceramics, the heat absorbed by the transferred object due to exposure or the like is transmitted to the stage. It is difficult to prevent the stage from being deformed due to thermal distortion. According to the third aspect of the present invention, in addition to the above-described effects, since the base is made of ceramics, there is no relative displacement due to a difference in thermal expansion coefficient between the guide portion, the stage, and the base. A stage device with higher accuracy can be provided. According to the fourth aspect of the present invention, a two-dimensional stage device having the above effects can be provided. According to the fifth aspect of the present invention, since a semiconductor wafer can be exposed using the stage device having the above-described effects, semiconductor production with high productivity and accuracy can be achieved.

【図面の簡単な説明】 【図1】本発明のステージ装置の全体構成を示す斜視図
である。 【図2】本発明との対比のための参考例としての、コロ
もしくは針状軸受の構造を示す断面図である。 【図3】本発明にかかる空気軸受の構造を示す断面図で
ある。 【符号の説明】 1 チヤツク 2 Xステージ 3 摺動部材 4 ボールナツト 5 ボールネジ 6 ハウジング 7 カツプリング 8 Xモータ 9 Xガイド 10 Yステージ 11 摺動部材 12 Yガイド 13、14 ハウジング 15 ボールネジ 16 カツプリング 17 Yモータ 18 基盤
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view showing the overall configuration of a stage device according to the present invention. FIG. 2 is a sectional view showing a structure of a roller or a needle bearing as a reference example for comparison with the present invention. FIG. 3 is a sectional view showing a structure of an air bearing according to the present invention. [Description of Signs] 1 chuck 2 X stage 3 sliding member 4 ball nut 5 ball screw 6 housing 7 coupling 8 X motor 9 X guide 10 Y stage 11 sliding member 12 Y guide 13, 14 housing 15 ball screw 16 coupling 17 Y motor 18 Foundation

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】 1.基準となる面を備える基盤と、該基盤上に載置され
るステージと、該ステージを該基盤の基準となる面と平
行な面内を所定方向に移動させるためのガイド部と、該
ステージを該ガイド部に沿って移動させるための駆動力
を発生する駆動源と、該ステージを空気によって支持案
内する空気軸受とを有し、該空気軸受はステージを前記
ガイド部に沿った移動方向に案内するためのエアーパッ
ドと、ステージを前記基準となる面に垂直な方向に支持
するためのエアーパッドとを備えると共に、前記ステー
ジ、ガイド部、及びエアーパッドの材質をセラミツクス
としたことを特徴とするステージ装置。 2.請求項1記載のステージ装置において、前記ステー
ジには被搬送物を保持するチャックが設置され、該チャ
ックの材質はセラミツクスであることを特徴とするステ
ージ装置。 3.請求項1記載のステージ装置において、前記基盤の
材質はセラミツクスであることを特徴とするステージ装
置。 4.請求項1記載のステージ装置において、前記ステー
ジは前記基準となる平面に対して平行な面内を二次元的
に移動することを特徴とするステージ装置。 5.請求項2記載のステージ装置において、前記被搬送
物は半導体ウエハであることを特徴とするステージ装
置。
(57) [Claims] A base having a reference surface, a stage mounted on the base, a guide portion for moving the stage in a predetermined direction in a plane parallel to the reference surface of the base, and the stage; A drive source for generating a driving force for moving the guide along the guide portion; and an air bearing for supporting and guiding the stage with air. The air bearing guides the stage in a moving direction along the guide portion. And an air pad for supporting the stage in a direction perpendicular to the reference plane, and the material of the stage, the guide portion, and the air pad is made of ceramics. Stage equipment. 2. 2. The stage device according to claim 1, wherein a chuck for holding the transferred object is provided on the stage, and the material of the chuck is ceramics. 3. 2. The stage device according to claim 1, wherein a material of said base is ceramics. 4. 2. The stage device according to claim 1, wherein the stage moves two-dimensionally in a plane parallel to the reference plane. 5. 3. The stage device according to claim 2, wherein the transferred object is a semiconductor wafer.
JP4245194A 1994-03-14 1994-03-14 Stage equipment Expired - Lifetime JP2705785B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4245194A JP2705785B2 (en) 1994-03-14 1994-03-14 Stage equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4245194A JP2705785B2 (en) 1994-03-14 1994-03-14 Stage equipment

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58001576A Division JPS59129633A (en) 1983-01-08 1983-01-08 X-y stage

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19905096A Division JP2899250B2 (en) 1996-07-29 1996-07-29 Semiconductor manufacturing equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH07142558A JPH07142558A (en) 1995-06-02
JP2705785B2 true JP2705785B2 (en) 1998-01-28

Family

ID=12636441

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4245194A Expired - Lifetime JP2705785B2 (en) 1994-03-14 1994-03-14 Stage equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2705785B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101689505B1 (en) * 2016-06-27 2016-12-23 신정욱 Stage apparatus
CN111300080A (en) * 2020-03-10 2020-06-19 张安堂 Metal cutting machine tool convenient to adjust cutting length

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004317758A (en) * 2003-04-16 2004-11-11 Hitachi High-Technologies Corp Biaxial stage for microscope
WO2005027206A1 (en) * 2003-09-11 2005-03-24 Nikon Corporation Polishing plate, stage unit, and exposure apparatus
KR100819132B1 (en) * 2006-10-18 2008-04-02 드림산업(주) Tray supplying apparatus
JP7011535B2 (en) * 2018-06-07 2022-01-26 株式会社日立ハイテク Stage device and charged particle beam device

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52116078A (en) * 1976-03-26 1977-09-29 Toshiba Corp Electron beam-exposing device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101689505B1 (en) * 2016-06-27 2016-12-23 신정욱 Stage apparatus
CN111300080A (en) * 2020-03-10 2020-06-19 张安堂 Metal cutting machine tool convenient to adjust cutting length

Also Published As

Publication number Publication date
JPH07142558A (en) 1995-06-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4766465A (en) Carry device for fine movement
US5228358A (en) Motion guiding device
US5760564A (en) Dual guide beam stage mechanism with yaw control
EP0443831B1 (en) Motion guiding device
JP2705785B2 (en) Stage equipment
KR20010022691A (en) Chuck for a plate and suction board
JP2899250B2 (en) Semiconductor manufacturing equipment
US6571461B2 (en) Linear guide with an air bearing having provision for heating a support element of the linear guide to maintain fluid gap
JPH02225857A (en) Ball screw device
JPH11511319A (en) Motor system for performing orthogonal motion in a single plane
JP3524295B2 (en) Scanning exposure apparatus and device manufacturing method
JP5274656B2 (en) Moving stage, transfer device having moving stage, and charged particle beam device
JPS61112216A (en) Noncontacting drive type planar shift stage
US6515381B1 (en) Cantilever stage
JP2780837B2 (en) Movable stage device
JP3586386B2 (en) Semiconductor device manufacturing equipment
JP2000260691A (en) Stage, aligner and manufacture of surface plate
JP3553350B2 (en) XY stage
JPH02262091A (en) Positioning apparatus
JPH0516167B2 (en)
JP3084418B2 (en) Vertical XY stage for SOR exposure
JP2001091681A (en) Xy stage mechanism and exposing device
JP2656861B2 (en) Detachable transfer device
JP2002367553A (en) Sample stage
JPH01216120A (en) Linear guide