JP2689672B2 - Manufacturing method of optical disk substrate - Google Patents
Manufacturing method of optical disk substrateInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光ディスク基板の製造方法、特に、情報の
読みだし専用であるビデオディスク,CDやCD−ROM,情報
の追記可能な追記型光ディスク,情報の書換え可能な書
換え可能型光ディスクなどの光ディスク基板とその製造
方法に関する。The present invention relates to a method for manufacturing an optical disk substrate, and more particularly to a video disk, a CD or a CD-ROM dedicated to reading information, and a write-once optical disk capable of additionally recording information. The present invention relates to an optical disk substrate such as a rewritable optical disk in which information can be rewritten, and a manufacturing method thereof.
従来の光ディスク基板は、第6図に示すような工程で
製造されている。A conventional optical disk substrate is manufactured by the process shown in FIG.
以下、順を追って説明する。 Hereinafter, description will be made in order.
(A) ガラス円盤製作工程では、ガラス円盤1の表面
を研磨し、洗浄を行う。(A) In the glass disk manufacturing process, the surface of the glass disk 1 is polished and washed.
(B) ホトレジスト塗布工程では、表面研磨し、洗浄
されたガラス円盤1の表面にホトレジスト13を塗布し、
これを乾燥する。(B) In the photoresist applying step, the surface of the glass disk 1 which has been surface-polished and washed is coated with the photoresist 13,
This is dried.
(C) レーザ光による記録工程では、記録すべき情報
をレーザ光4の強度変調によりガラス円盤1に塗布され
たホトレジスト13に照射し、露光を行う。(C) In the recording process using laser light, the information to be recorded is irradiated on the photoresist 13 applied to the glass disk 1 by the intensity modulation of the laser light 4 to perform exposure.
(D) 現像工程では、ホトレジスト13の現像を行う。
露光されていない部分のホトレジスト13は現像処理で反
応せず、レーザ光4により露光された部分のホトレジス
ト13は現像処理で反応してピット14ができる。このよう
にしてできたガラス円盤をガラス原盤という。(D) In the developing step, the photoresist 13 is developed.
The photoresist 13 in the unexposed portion does not react in the developing treatment, and the photoresist 13 in the portion exposed by the laser beam 4 reacts in the developing treatment to form pits 14. The glass disk made in this way is called a glass master.
(E) メッキ工程では、ガラス原盤にメッキを行う。
このメッキをした金属を剥すと、ガラス原盤のピット等
の凹凸が反転して転写されている。これをスタンパ15と
いう。(E) In the plating step, the glass master is plated.
When the plated metal is peeled off, irregularities such as pits on the glass master are inverted and transferred. This is called stamper 15.
(F) 成形工程では、前述のスタンパ15を用いて、ポ
リカーボネート等のプラスチック材料を射出成形等の技
術で転写し、あるいはフォトポリマー(2P)法等で転写
して光ディスク基板16の成形をする。このとき、スタン
パ15の凹凸は反転して転写されるので、最終的に成形さ
れる光ディスク基板16の凹凸は、ガラス原盤と一致す
る。(F) In the molding step, the stamper 15 is used to transfer a plastic material such as polycarbonate by a technique such as injection molding or a photopolymer (2P) method to mold the optical disk substrate 16. At this time, since the unevenness of the stamper 15 is inverted and transferred, the unevenness of the finally molded optical disk substrate 16 matches the glass master.
以上のように製作される光ディスク基板16には、それ
ぞれの光ディスクの用途に応じて反射膜,保護膜,記録
膜等が成膜される。On the optical disk substrate 16 manufactured as described above, a reflective film, a protective film, a recording film, etc. are formed according to the application of each optical disk.
第9図は、従来の光ディスク基板16を用いて光磁気デ
ィスクとしたときの一例であり、トラッキングサーボを
動作させるための溝19,トラッキングやセクターのアド
レス等の情報を記録しているピット17(基板のへこみの
こと)が形成された光ディスク基板16上に、中間膜8,磁
性記録膜9,保護膜10が構成される。このような従来の光
ディスク基板16は、ピット17や溝19はほぼ緩やかな曲面
で形成されているが、ピット17の底部に鋭角部分18を有
している。この光ディスク基板17の鋭角部分18は、光デ
ィスク基板16上に成膜される中間膜8,記録膜9,保護膜10
にも影響を与え、急峻な断差を形成する。光ディスクで
は、媒体に断差を生ずるような欠陥やゴミがあるとその
部分から記録膜や保護膜の剥離や腐食が起こりやすい傾
向があり、上記鋭角部分18も剥離や腐食を起こしやすく
なる傾向を持つ。FIG. 9 shows an example of a magneto-optical disk using the conventional optical disk substrate 16, which is a groove 19 for operating the tracking servo, and pits 17 for recording information such as tracking and sector addresses. An intermediate film 8, a magnetic recording film 9, and a protective film 10 are formed on an optical disk substrate 16 on which a substrate depression is formed. In such a conventional optical disk substrate 16, the pits 17 and the grooves 19 are formed with a substantially gentle curved surface, but the bottom of the pits 17 has an acute angle portion 18. The acute-angled portion 18 of the optical disc substrate 17 has an intermediate film 8, a recording film 9, and a protective film 10 formed on the optical disc substrate 16.
It also influences to form a steep gap. In an optical disc, if there are defects or dust that cause a gap in the medium, peeling or corrosion of the recording film or protective film tends to occur from that portion, and the acute angle portion 18 also tends to peel or corrode. To have.
光ディスク基板16にこのような鋭角部分18が存在する
理由は、以下の製造方法によるためである。The reason why such an acute angle portion 18 exists on the optical disc substrate 16 is due to the following manufacturing method.
前述したように、従来の光ディスク基板製造工程は、
第6図に示す工程で作られる。第7図は、第6図(C)
の拡大図であるが、ガラス円盤1上にホトレジスト11が
塗布されて構成されたガラス原盤上に、レーザ光4を照
射して記録が行われる。このガラス原盤を現像処理する
と第8図のようになる。ピット14はガラス円盤1が露出
するため、鋭角部分が発生する。このガラス原盤から、
第6図の(E)メッキ工程、(F)成形工程を経て光デ
ィスク基板を作成すると、第9図に示すようなピット17
の底部に鋭角部分18が発生する。As described above, the conventional optical disk substrate manufacturing process is
It is made by the process shown in FIG. FIG. 7 shows FIG. 6 (C).
Although it is an enlarged view of FIG. 3, laser light 4 is irradiated onto a glass master disk formed by coating a photoresist 11 on the glass disk 1 for recording. When this glass master is developed, it becomes as shown in FIG. Since the glass disk 1 is exposed in the pit 14, an acute angle portion is generated. From this glass master,
When an optical disk substrate is manufactured through the plating process (E) and the molding process (F) in FIG. 6, pits 17 as shown in FIG.
An acute angle portion 18 is generated at the bottom of the.
第6図の(C)レーザ光による記録工程では、ガラス
円盤1が露出しないように弱いレーザ光を照射して現像
処理すると、ピットのエッジがなだらかになりすぎるた
めに、再生信号強度が取れず、また情報の記録密度も低
下する。したがって、ピットエッジをなだらかにするこ
とが出来ない。In the recording process with a laser beam of FIG. 6C, when a weak laser beam is irradiated so as not to expose the glass disk 1 and the developing process is performed, the edge of the pit becomes too gentle, and the reproduction signal intensity cannot be obtained. Moreover, the information recording density is also reduced. Therefore, the pit edge cannot be made smooth.
以上から、従来の光ディスク基板製造方法は、ピット
部に鋭角部分を作らずに光ディスク基板を作成すること
ができなかった。From the above, the conventional optical disc substrate manufacturing method could not produce an optical disc substrate without forming an acute angle portion in the pit portion.
しかしながら、このような従来の光ディスク基板の製
造方法は、記録膜や保護膜の剥離や腐食が起りやすく長
期信頼性に欠けるという欠点がある。However, such a conventional method for manufacturing an optical disk substrate has a drawback in that the recording film and the protective film are likely to be peeled off or corroded, resulting in lack of long-term reliability.
(1) 本発明の光ディスク基板は、情報をピットの有
無で記録してある光ディスク基板において、ピットの底
部が鋭角が有せずに曲面で形成されて構成される。(1) The optical disk substrate of the present invention is an optical disk substrate in which information is recorded with or without pits, and the bottom of the pits is formed with a curved surface without an acute angle.
(2) 本発明の光ディスク基板製造方法は、情報をピ
ットの有無で記録してある光ディスク基板の製造方法に
おいて、ガラス円盤製作工程,ホトレジスト塗布工程,
レーザ光による記録工程,現像工程,メッキ工程および
成形工程からなり、前記ホトレジスト塗布工程において
感度特性の異なる2種類以上のホトレジストを使用して
構成される。(2) The optical disk substrate manufacturing method of the present invention is a method for manufacturing an optical disk substrate in which information is recorded by the presence or absence of pits.
It comprises a recording process by laser light, a developing process, a plating process, and a molding process, and is constituted by using two or more kinds of photoresists having different sensitivity characteristics in the photoresist coating process.
次に、本発明の実施例について、図面を参照して詳細
に説明する。Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
第1図は本発明の一実施例を示す製造工程図である。 FIG. 1 is a manufacturing process diagram showing an embodiment of the present invention.
第1図に示す光ディスク基板製造方法は、従来の光デ
ィスク基板製造工程とはホトレジスト塗布工程が異な
り、第1ホトレジスト塗布工程B1と第2ホトレジスト塗
布工程B2の2段階の工程からなる。The optical disc substrate manufacturing method shown in FIG. 1 is different from the conventional optical disc substrate manufacturing process in the photoresist coating process, and includes a two-step process including a first photoresist coating process B1 and a second photoresist coating process B2.
第2図は、第1ホトレジスト塗布工程B1と第2ホトレ
ジスト塗布工程B2を終了した後のガラス原盤に、レーザ
光4を照射して露光する図である。ガラス原盤上には、
第1ホトレジスト層2の第2ホトレジスト層3が積層さ
れている。この第1ホトレジスト層2の第2ホトレジス
ト層3の感度特性を第3図に示す。これにレーザビーム
4を照射して露光するが、このとき、レーザビーム4の
露光パワーは、現像処理後に第4図に示すようにピット
5でガラス基板1が露出しない露光パワーを用いる。こ
れにより、ピット底部は鋭角を有せずに、緩やかな曲面
で構成される。このとき、第2ホトレジスト膜3の露光
感度は、第1ホトレジスト膜2の露光感度よりも高いの
で、ピットのエッジは急峻にすることができるため、従
来例とは異なって、充分な再生信号強度を得ることがで
き、また情報の記録密度を低下することもない。FIG. 2 is a diagram in which the glass master after the completion of the first photoresist coating step B1 and the second photoresist coating step B2 is irradiated with laser light 4 for exposure. On the glass master,
The second photoresist layer 3 of the first photoresist layer 2 is laminated. The sensitivity characteristics of the second photoresist layer 3 of the first photoresist layer 2 are shown in FIG. This is irradiated with the laser beam 4 to be exposed. At this time, the exposure power of the laser beam 4 is such that the glass substrate 1 is not exposed by the pits 5 as shown in FIG. 4 after the development processing. As a result, the pit bottom has a gentle curved surface without an acute angle. At this time, since the exposure sensitivity of the second photoresist film 3 is higher than that of the first photoresist film 2, the edge of the pit can be made steep, so that unlike the conventional example, a sufficient reproduction signal strength is obtained. Can be obtained, and the recording density of information is not reduced.
第4図に示したガラス原盤から第1図に示すメッキ工
程Eと成形工程Fを経て、本発明による鋭角を有せずに
曲面でへこんでいるピットの光ディスク基板が作成でき
る。From the glass master shown in FIG. 4 through the plating step E and the forming step F shown in FIG. 1, an optical disk substrate of a pit having a curved surface without an acute angle can be prepared according to the present invention.
この発明による光ディスク基板を使用して、光磁気デ
ィスクとしたときの実施例の断面図を第5図に示す。FIG. 5 shows a sectional view of an embodiment in which a magneto-optical disk is formed by using the optical disk substrate according to the present invention.
第5図の本発明による光ディスク基板7にはトラッキ
ングサーボを動作させるための溝12,トラックやセクタ
ーのアドレス等の情報を記録しているピット11が形成さ
れ、その上に中間膜8,磁性記録膜9,保護膜10が構成され
る。このとき基板のピット11には第9図に示したような
鋭角部分18がないため、記録膜や保護膜の剥離や腐食は
起こらなくなる。On the optical disk substrate 7 according to the present invention shown in FIG. 5, a groove 12 for operating a tracking servo and a pit 11 for recording information such as a track or sector address are formed, and an intermediate film 8 and a magnetic recording layer are formed thereon. The film 9 and the protective film 10 are configured. At this time, since the pits 11 on the substrate do not have the acute-angled portions 18 as shown in FIG. 9, peeling or corrosion of the recording film or the protective film does not occur.
本発明の光ディスク基板の製造方法は、ピット底部の
鋭角部のない基板の提供が可能になるため、記録膜や保
護膜の剥離や腐食が起こらなくなり、長期信頼性を向上
できるという効果がある。The method for manufacturing an optical disk substrate of the present invention makes it possible to provide a substrate having no sharp corners at the bottom of the pits, so that peeling or corrosion of the recording film or protective film does not occur, and long-term reliability can be improved.
第1図は本発明の一実施例を示す製造工程図、第2図は
第1図に示す記録工程におけるガラス原盤およびレーザ
照射状態を示す断面図、第3図は第2図に示す各レジス
ト膜の感度特性図、第4図は第1図に示す現像工程後の
ガラス原盤の断面図、第5図は第1図に示す製造工程を
経て製造された光ディスク基板を用いて製作された光磁
気ディスクの断面図、第6図は従来の一例を示す製造工
程図、第7図は第6図に示す記録工程におけるガラス原
盤およびレーザ照射状態を示す断面図、第8図は第6図
に示す現像工程後のガラス原盤の断面図、第9図は第6
図に示す製造工程を経て製造された光ディスク基板を用
いて製作された光磁気ディスクの断面図である。 G,G1……ガラス原盤、1……ガラス円盤、2……第1ホ
トレジスト層、3……第2ホトレジスト層、4……レー
ザ光、5,11,14,17……ピット、6,15……スタンパ、7,16
……光ディスク基板、8……中間膜、9……磁性記録
膜、10……保護膜、12,19……溝、13……ホトレジス
ト、18……鋭角部分、 A……ガラス円盤製造工程、B1……第1ホトレジスト塗
布工程、B2……第2ホトレジスト塗布工程、B……ホト
レジスト塗布工程、C……記録工程、D……現像工程、
E……メッキ工程、F……成形工程、 l……残膜厚、V……露光量。FIG. 1 is a manufacturing process diagram showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view showing a glass master and a laser irradiation state in the recording process shown in FIG. 1, and FIG. 3 is each resist shown in FIG. FIG. 4 is a sensitivity characteristic diagram of the film, FIG. 4 is a cross-sectional view of the glass master after the developing process shown in FIG. 1, and FIG. 5 is a light produced by using an optical disk substrate manufactured through the manufacturing process shown in FIG. FIG. 6 is a sectional view of a magnetic disk, FIG. 6 is a manufacturing process diagram showing an example of a conventional method, FIG. 7 is a sectional view showing a glass master and a laser irradiation state in the recording process shown in FIG. 6, and FIG. 8 is FIG. The cross-sectional view of the glass master after the developing process shown in FIG.
FIG. 6 is a cross-sectional view of a magneto-optical disk manufactured using the optical disk substrate manufactured through the manufacturing process shown in the figure. G, G1 …… Glass master, 1 …… Glass disk, 2 …… First photoresist layer, 3 …… Second photoresist layer, 4 …… Laser light, 5,11,14,17 …… Pit, 6,15 ...... Stamper, 7,16
...... Optical disk substrate, 8 ... Intermediate film, 9 ... Magnetic recording film, 10 ... Protective film, 12,19 ... Groove, 13 ... Photoresist, 18 ... Acute angle part, A ... Glass disk manufacturing process, B1 ... first photoresist coating step, B2 ... second photoresist coating step, B ... photoresist coating step, C ... recording step, D ... developing step,
E ... Plating process, F ... Molding process, l ... Remaining film thickness, V ... Exposure amount.
Claims (1)
と、第1のホトレジストを塗布する第1のホトレジスト
塗布工程と、前記第1のホトレジスト塗布工程の後に前
記第1のホトレジストよりも露光感度が高い第2のホト
レジトを塗布する第2のホトレジスト塗布工程と、レー
ザ光による記録を行う記録工程と、前記記録の現像を行
う現像工程と、前記ガラス円盤上に現像により形成され
たピットパターンにメッキを施すメッキ工程と、前記メ
ッキにより形成されたスタンパにより光ディスクを成形
する成形工程とを含む光ディスク基板の製造方法におい
て、前記記録工程は、前記第1のホトレジストが完全に
は露光しない程度の一定の露光量で行われることを特徴
とする光ディスク基板の製造方法。1. A glass disk manufacturing process for manufacturing a glass disk, a first photoresist coating process for coating a first photoresist, and an exposure sensitivity higher than that of the first photoresist after the first photoresist coating process. A second photoresist coating step of applying a high second photoresist, a recording step of recording with a laser beam, a developing step of developing the recording, and a pit pattern formed by development on the glass disk. In a method of manufacturing an optical disk substrate, which includes a plating step of applying a step of forming an optical disk with a stamper formed by the plating, the recording step includes a constant step such that the first photoresist is not completely exposed. A method for manufacturing an optical disk substrate, which is performed with an exposure amount.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2046121A JP2689672B2 (en) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | Manufacturing method of optical disk substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2046121A JP2689672B2 (en) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | Manufacturing method of optical disk substrate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03248342A JPH03248342A (en) | 1991-11-06 |
JP2689672B2 true JP2689672B2 (en) | 1997-12-10 |
Family
ID=12738161
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2046121A Expired - Fee Related JP2689672B2 (en) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | Manufacturing method of optical disk substrate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2689672B2 (en) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL1021760C2 (en) * | 2002-10-28 | 2004-05-03 | Otb Groep B V | Main plate for manufacturing a stamp plate as well as a stamp plate and storage medium and a method for manufacturing the master plate, stamp plate and storage medium. |
JP4596284B2 (en) | 2008-05-26 | 2010-12-08 | ソニー株式会社 | Optical disc apparatus and focus control method |
JP4662186B2 (en) * | 2008-05-30 | 2011-03-30 | ソニー株式会社 | Optical disk apparatus and correction servo control signal generation method |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5821335B2 (en) * | 1975-11-29 | 1983-04-28 | 日本ビクター株式会社 | Enbanji Yojiyouhoushingoukirokubaitai |
JPS5810927B2 (en) * | 1978-01-13 | 1983-02-28 | 株式会社フジクラ | Pipeline aerial cable and its manufacturing method |
JPS5862451U (en) * | 1981-10-20 | 1983-04-27 | ティーディーケイ株式会社 | optical recording medium |
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JPH0229955A (en) * | 1988-07-18 | 1990-01-31 | Nec Corp | Production of optical disk |
-
1990
- 1990-02-26 JP JP2046121A patent/JP2689672B2/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH03248342A (en) | 1991-11-06 |
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