JP2679869B2 - Positioning method for drilling position and laser drilling machine - Google Patents

Positioning method for drilling position and laser drilling machine

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JP2679869B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はレーザ孔開け加工機における孔開け加工位置
の位置合わせ方法およびレーザ孔開け加工機に関するも
のである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for aligning a drilling position in a laser drilling machine and a laser drilling machine.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

レーザ光を用いてワークに対して所定形状、寸法の孔
開けを行なうのは主としてその加工精度が高い点に着目
してのことである。特に、コンピューターやワードプロ
セッサに附帯するプリンタで用いられるインクジェット
ヘッドのインク吐出口の孔は、加工精度がそのまま、イ
ンク吐出量、吐出方向などに影響するので、この加工に
は細心の注意が必要である。
The reason that a laser beam is used to make a hole of a predetermined shape and size in a work is mainly to pay attention to the high processing accuracy. In particular, the hole of the ink discharge port of the ink jet head used in the printer attached to the computer or the word processor affects the ink discharge amount, the discharge direction, etc. without changing the processing accuracy, so this processing requires careful attention. .

なお、上記インクジェットヘッドはインクジェット記
録方式の中でも、とくにバブルジェット方式の記録ヘッ
ドに採用されている。そして、上記バブルジェット方式
の記録装置の代表的な構成および原理は例えば米国特許
第4723129号、同第4740796号明細書などに開示されてお
り、所謂、オンデマンド型、コンティニュアス型のいず
れにも適用可能である。この方式は例えばオンデマンド
型をあげて説明すると、液体(インク)が保持されてい
るシートや液路に対応して電気熱変換体を配設し、該電
気熱変換体に駆動信号に応じた熱エネルギーを発生さ
せ、記録ヘッドの熱作用面に膜沸騰を起し、結果的に上
記駆動信号に一対一で対応した気泡を液体(インク)内
に形成し、この気泡の成長、収縮で吐出口より液体(イ
ンク)を液滴の形で吐出させるのである。ここで与える
駆動信号は米国特許第4463359号、同第4345262号明細書
に開示されているようなパルス信号が望ましいものであ
る。また、上記熱作用面の温度上昇率については米国特
許第4313124号明細書に開示された条件が採用されると
よい。
The ink jet head is used in a bubble jet type recording head among ink jet recording types. Then, a typical configuration and principle of the bubble jet recording apparatus are disclosed in, for example, U.S. Pat.No. 4,723,129, No. 4740796, etc., so-called, on-demand type, continuous type. Is also applicable. This method will be described with reference to an on-demand type, for example. An electrothermal converter is provided corresponding to a sheet or a liquid path holding a liquid (ink), and the electrothermal converter responds to a drive signal. Thermal energy is generated, causing film boiling on the heat-acting surface of the recording head. As a result, bubbles corresponding to the above-described drive signals are formed one-to-one in the liquid (ink), and ejected by the growth and shrinkage of the bubbles. The liquid (ink) is ejected from the outlet in the form of droplets. The driving signal given here is preferably a pulse signal as disclosed in US Pat. Nos. 4,463,359 and 4,345,262. As for the rate of temperature rise of the heat acting surface, the condition disclosed in US Pat. No. 4,313,124 may be adopted.

上記インクジェットヘッドの構成は、上述した各明細
書に開示されているような吐出口、液路(直線状液流路
または直角液流路)、電気熱交換体の組合わせで成る
が、このほかにも、熱作用部が屈曲する領域に配置され
ている。例えば米国特許第4558333号、同第4459600号明
細書に開示されている構成であってもよい。更には、上
記インクジェットヘッドの構成は複数の電気熱変換体に
対して、共通するスリットを電気熱変換体の吐出部とす
る構成、例えば特開昭59−123670号公報所載の構成、あ
るいは熱エネルギーの出力波を吸収する開孔を吐出部に
対応した構成、例えば特開昭59−138461号公報所載の構
成であってもよい。なお、上述した明細書に所載の記録
ヘッドは、複数記録ヘッドを組合わせて所定幅に対応で
きる長さを確保しているが、1つの記載ヘッドで所定幅
(記録装置が記録できる最大記録媒体の幅)に対応した
長さに構成してもよい。
The ink jet head is composed of a combination of an ejection port, a liquid passage (a straight liquid passage or a right-angled liquid passage), and an electric heat exchanger as disclosed in the above-mentioned specifications. Also, the heat acting portion is arranged in the bending region. For example, the configuration disclosed in US Pat. Nos. 4,558,333 and 4,459,600 may be adopted. Further, the ink jet head has a structure in which a plurality of electrothermal converters have a common slit as a discharge portion of the electrothermal converters, for example, the structure disclosed in JP-A-59-123670, or The structure may be such that the opening for absorbing the output wave of energy corresponds to the discharge portion, for example, the structure disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 59-138461. Note that the recording head described in the above-mentioned specification secures a length that can correspond to a predetermined width by combining a plurality of recording heads. However, a single recording head has a predetermined width (maximum recording that can be recorded by the recording apparatus. The length may correspond to the width of the medium).

また、上記インクジェットヘッドの構成は、装置本体
に装着されることで電気的(電気熱変換体のため)な接
続ができ、またインクの供給をうける変換可能なチップ
タイプあるいは記録ヘッド自体に設けられるカートリッ
ジタイプとしてもよい。
In addition, the above-described inkjet head can be electrically (for electrothermal converter) connected by being attached to the apparatus main body, and can be provided on a convertible chip type that receives ink supply or the recording head itself. It may be a cartridge type.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

しかしながら、レーザ孔開け加工機によってインクジ
ェットヘッドなどのワークに対してレーザによる孔開け
を行なう場合、レーザ光を一点に絞って、1個づつ開け
るのでは多数の孔開けを必要とするワークについては、
その加工に非常に時間がかかる。特に、ワークに対する
正確な孔開け位置の設定には非常に多くの時間を費すこ
とになり、作業能率を著しく低下するという問題点があ
る。
However, when a laser punching machine is used to punch a workpiece such as an inkjet head with a laser, if the laser light is focused to one point and punched one by one, a workpiece that requires a large number of holes is
The processing takes a very long time. In particular, it takes a lot of time to set an accurate drilling position for a work, resulting in a problem that work efficiency is significantly reduced.

本発明は、上記従来の技術が有する問題点に鑑みてな
されたもので多数の孔開けを要するワークに対し、短時
間に位置精度の高い孔開け加工を可能にするレーザ孔開
け加工機における孔開け加工位置の位置合わせ方法およ
びその実施に用いるレーザ孔開け加工機を提供すること
を目的としている。
The present invention has been made in view of the problems of the above-described conventional technology, and for a workpiece that requires a large number of holes, a hole in a laser boring machine that enables boring with high positional accuracy in a short time. It is an object of the present invention to provide a method of aligning a boring position and a laser boring machine used for carrying out the method.

[課題を解決するための手段] 本発明は、レーザ光を用いてワークの加工面の所定の
加工位置に複数の孔を開ける際の、孔開け加工位置の位
置合わせ方法であって、 前記レーザ光は、開けようとする複数の孔に対応して
所望の光束に変換されて前記加工面の各加工位置に照射
され、 該加工面に照射される、少なくとも2つの光束の中心
位置を位置基準値として定め、 前記ワークの加工面の、前記少なくとも2つの光束が
照射される各加工位置を測定し、 測定した加工位置を、対応する前記位置基準値と比較
して加工位置と位置基準値との位置ずれ量を求め、 求めた位置ずれ量に基づいて前記ワークを移動させる
ものであり、 前記少なくとも2つの光束の中心位置を示す位置基準
値が、該光束によって、予め開けられた孔の中心位置で
ある場合が考えられる。
[Means for Solving the Problem] The present invention relates to a method for aligning a hole processing position when a plurality of holes are formed at predetermined processing positions on a processing surface of a work by using a laser beam, wherein the laser Light is converted into a desired light beam corresponding to a plurality of holes to be opened and is applied to each processing position on the processing surface, and the center position of at least two light beams applied to the processing surface is used as a position reference. Value, and measuring each processing position on the processing surface of the workpiece where the at least two light beams are irradiated, and comparing the measured processing position with the corresponding position reference value to obtain a processing position and a position reference value. The position reference value indicating the central position of the at least two light beams is the center of a hole previously formed by the light beams. Is the position There are cases.

また、本発明は、レーザ光源と、該レーザ光源が発す
るレーザ光を、移動ステージ上に装着されたワークの加
工面に照射するための投影光学系とを備えて、前記ワー
クの加工面の所定加工位置に複数の孔を開けるレーザ孔
開け加工機において、 前記レーザ光源と投影光学系との間に、前記レーザ光
を、開けようとする複数の孔に対応した所望のレーザ光
束に変換するためのマスクパターンが形成されたマスク
を配置し、 孔開け加工済ワークに開けられた加工孔の少なくとも
2個の孔中心位置を示す位置基準が格納される記憶手段
と、 未加工ワークの加工面を、レーザ光源側から照射する
ための透過照明系と、 前記孔開け加工済ワークの、前記少なくとも2個の加
工孔を反レーザ光源側から照明するための反射光学系
と、 前記透過照明系によって前記未加工ワークの加工面を
照明した際、前記少なくとも2個の加工孔に対応する加
工位置を観測し、また、前記反射光学系によって前記孔
開け加工済ワークの少なくとも2個の加工孔を照明した
際、該加工孔を観測する観測光学系と、 該測定光学系が観測した前記加工位置それぞれを示す
位置測定値を求め、また、前記測定光学系が観測した加
工孔それぞれの孔中心位置を求める画像処理系と、 該画像処理系が求めた各位置測定値を、前記記憶手段
に格納されている、対応する位置基準値と比較して位置
ずれ量を算出し、算出した位置ずれ量に基づいて前記移
動ステージを駆動し、また、前記画像処理系が求めた孔
中心位置を前記位置基準値として前記記憶手段に格納す
る制御系とを有するものである。
Further, the present invention comprises a laser light source and a projection optical system for irradiating the processed surface of the work mounted on the moving stage with the laser light emitted from the laser light source, and a predetermined processed surface of the work. In a laser drilling machine for drilling a plurality of holes at a processing position, for converting the laser light between the laser light source and the projection optical system into a desired laser light flux corresponding to the plurality of holes to be drilled. The mask on which the mask pattern is formed is arranged, and the storage means for storing the position reference indicating at least two hole center positions of the processed holes formed in the machined workpiece and the machined surface of the unmachined workpiece are stored. A transmissive illumination system for irradiating from a laser light source side, a reflective optical system for illuminating the at least two processed holes of the perforated workpiece from a side opposite to the laser light source, and the transmissive illumination system. When illuminating the machined surface of the unmachined work, the machined positions corresponding to the at least two machined holes are observed, and at least two machined holes of the machined work by the reflection optical system are observed. When illuminating, the observation optical system for observing the processing hole, and the position measurement value indicating each of the processing positions observed by the measurement optical system are obtained, and the hole center of each processing hole observed by the measurement optical system is obtained. An image processing system for obtaining a position, and each position measurement value obtained by the image processing system is compared with a corresponding position reference value stored in the storage means to calculate a position displacement amount, and the calculated position displacement is calculated. The control system drives the moving stage based on the amount and stores the hole center position obtained by the image processing system as the position reference value in the storage means.

前記ワークがインク流路となる複数の溝孔が並設され
たインクジェットヘッドであり、 前記マスクには、前記インクジェットヘッドのオリフ
ィスプレートに、前記複数の溝孔それぞれに通ずるイン
ク吐出口を形成するためのマスクパターンが形成されて
おり、 前記画像処理系が求める位置測定値は前記溝孔の中心
位置である場合がある。
The work is an inkjet head in which a plurality of groove holes serving as ink flow paths are arranged side by side, and in the mask, an orifice plate of the inkjet head is formed with an ink discharge port communicating with each of the plurality of groove holes. In some cases, the position measurement value obtained by the image processing system is the center position of the slot.

〔作用〕[Action]

本発明の、孔開け加工位置の位置合わせ方法は、ワー
クの加工面に照射される、少なくとも2つの光束の中心
位置と、該光束が照射される、前記加工面の加工位置と
の位置ずれ量を算出し、算出した位置ずれ量に基づいて
前記ワークを移動させて、前記加工位置を、前記光束の
中心位置に合わせるものであり、前記ワークの加工面に
照射される光束は、開けようとする複数の孔に対応した
ものであるため、同時に複数の加工位置が位置合わせさ
れる。
A method for aligning a drilling processing position according to the present invention is a positional deviation amount between a central position of at least two light beams irradiated on a processing surface of a work and a processing position of the processing surface irradiated with the light beams. Is calculated, and the work is moved based on the calculated positional deviation amount, and the processing position is aligned with the central position of the light flux. Since it corresponds to a plurality of holes to be formed, a plurality of processing positions are aligned at the same time.

本発明のレーザ孔開け加工機は、レーザ光源が発する
レーザ光を、開けようとする複数の孔に対応したレーザ
光束に変換し、該レーザ光束によって開けた孔開け加工
済ワークの少なくとも2つの加工孔の中心位置と、該加
工孔に対応する、未加工ワークの加工位置との位置ずれ
量に基づいて前記未加工ワークを移動させるので、前記
レーザ光束に対する未加工ワークの複数の加工位置の位
置合わせが同時に行なわれ、さらに、前記レーザ光束を
未加工ワークの加工面に照射するので、同時に複数の孔
を開けることができる。
The laser boring machine of the present invention converts at least two laser beams emitted from a laser light source into laser beams corresponding to a plurality of holes to be bored, and at least two boring-processed workpieces opened by the laser beams. Since the unprocessed work is moved based on the amount of positional deviation between the center position of the hole and the processed position of the unprocessed work corresponding to the processed hole, the positions of the plurality of processed positions of the unprocessed work with respect to the laser light flux. Since the matching is performed at the same time and the laser beam is applied to the processed surface of the unprocessed work, a plurality of holes can be simultaneously formed.

〔実 施 例〕〔Example〕

次に、本発明の実施例について図面を参照して説明す
る。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図(a),(b)は、それぞれ、本発明のレーザ
孔開け加工機の一例を示す平面図および側面図である。
1 (a) and 1 (b) are a plan view and a side view, respectively, showing an example of a laser drilling machine of the present invention.

本実施例のレーザ孔開け加工機は、エキシマレーザを
用いたレーザ光源10が発する紫外光のレーザ光Pを、開
けようとする孔に対応して所望の形状にするマスク30を
通し、該マスク30を通過したマスク像を、前記レーザ光
Pに直交するように位置合わせして装着されたインクジ
ェットヘッド等のワークWに照射して該ワークWにイン
ク吐出口等の孔を開けるものである。
The laser hole punching machine of the present embodiment passes a mask 30 of ultraviolet laser light P emitted from a laser light source 10 using an excimer laser into a desired shape corresponding to a hole to be opened, and the mask 30 The mask image that has passed through 30 is irradiated onto a work W such as an inkjet head that is mounted so as to be aligned so as to be orthogonal to the laser light P, and a hole such as an ink ejection port is formed in the work W.

本実施例のレーザ孔開け加工機は、レーザ光源10が発
するレーザ光Pを前記マスク30に一様に照射させるため
の照射光学系20と、前記マスク30の位置調整を行なうた
めのマスク位置調整機構32と、前記ワークWが装着され
る位置決め治具0を備えた移動ステージ120と、前記マ
スク30を通って出射したマスク像を前記ワークWに投影
する投影光学系50と、前記ワークWの位置合わせの際、
該ワークWに、前記レーザ光源10側から照明光を照射す
る透過照明系60と、該透過照明系60とは逆方向から照明
光を照射する反射光学系74,84(第11図(a)参照)を
備えるとともに、前記透過照明系60および反射光学系7
4,84によってワークWに照明光を照射することで形成さ
れる光像を2つのインダストリアルテレビ(以下、ITV
と称す)71,81にそれぞれ結像させる測定光学系70,80と
が装置フレーム90上に載置されており、さらに、前記IT
V71,81で結像した像の画像信号をそれぞれ取込んで前記
ワークWの位置合わせに関る信号処理を行なう2つの画
像処理系208,209と、レーザ光源10の発光およびワーク
Wの位置合わせをコントロールする、表示器201を有す
る制御系200とを備えている。
The laser boring machine of the present embodiment has an irradiation optical system 20 for uniformly irradiating the mask 30 with the laser light P emitted from the laser light source 10, and a mask position adjustment for adjusting the position of the mask 30. A mechanism 32, a moving stage 120 equipped with a positioning jig 0 on which the work W is mounted, a projection optical system 50 for projecting a mask image emitted through the mask 30 onto the work W, and the work W When aligning,
A transmissive illumination system 60 for irradiating the work W with illumination light from the laser light source 10 side, and reflective optical systems 74, 84 for irradiating the work W with illumination light from a direction opposite to the transmissive illumination system 60 (Fig. 11 (a)). (See above), and the transmission illumination system 60 and the reflection optical system 7 are also provided.
An optical image formed by illuminating the work W with illumination light by 4,84 is used by two industrial televisions (hereinafter referred to as ITV).
Measurement optical systems 70 and 80 for forming images on 71 and 81, respectively, are mounted on the device frame 90.
Two image processing systems 208 and 209 which respectively take in the image signals of the images formed by the V71 and 81 and perform signal processing relating to the alignment of the work W, and control the light emission of the laser light source 10 and the alignment of the work W And a control system 200 having a display 201.

ここで、ワークWについて、第2図(a),(b),
(c)を参照して説明する。
Here, regarding the work W, FIGS. 2 (a), (b),
This will be described with reference to FIG.

第2図(a),(b),(c)は、それぞれ、孔開け
が行なわれたワークWを示す斜視図、断面図および正面
図である。
2 (a), (b), and (c) are a perspective view, a cross-sectional view, and a front view, respectively, showing the work W in which holes have been punched.

本実施例のワークWは、インクジェットヘッドを形成
するためのものであり、64個あるいは128個の、インク
流路となる溝孔G(第2図(a),(b),(c)にお
いてG1,G2,G3,G4の4個のみ示している。)が長手方向
に並列配置された天部材W2に対して、オリフィスプレー
トとなる板状部材W3(加工面W1)を一体的に形成したも
のである。該ワークWに形成すべき、吐出口となる孔H
(第2図(a),(b),(c)においてはH1,H2,H3,H
4の4個のみ示している。)は前記溝孔G(G1,G2,G3,
G4)に一致するようにして、前記マスク30を通過したレ
ーザ光によって1回もしくは複数回に分けて前記板状部
材W3に開けられる。このワークWは位置決め治具40に前
記板状部材W3の加工面W1側を前記レーザ光源1に向けて
2個装着され、その後、レーザ光に対する位置合わせが
行なわれる。
The work W of this embodiment is for forming an ink jet head, and has 64 or 128 groove holes G (inks in FIG. 2 (a), (b), and (c)) that serve as ink flow paths. G 1, G 2, G 3 , shows four G 4 only.) relative to the top member W 2 arranged in parallel in the longitudinal direction, the plate-like member W 3 in which the orifice plate (working surface W 1 ) Is integrally formed. Holes H to be formed in the work W and serving as discharge ports
(In FIGS. 2 (a), (b), and (c), H 1 , H 2 , H 3 , H
Only 4 of 4 are shown. ) Is the groove G (G 1 , G 2 , G 3 ,
So as to match the G 4), it is opened in the plate-like member W 3 is divided into one or more times by a laser beam passing through the mask 30. Two pieces of this work W are mounted on the positioning jig 40 so that the processed surface W 1 side of the plate-shaped member W 3 faces the laser light source 1, and thereafter, alignment with respect to the laser light is performed.

本実施例のレーザ孔開け加工機では、ワークWの位置
合わせは、所定の2つの溝孔の中心位置を、以前にワー
クWに開けた孔のうち、前記2つの溝孔に対応する2つ
の孔の中心位置に一致させることにより行なう。この孔
の中心位置および溝孔の中心位置は前記測定光学系70,8
0のITV71,81で観測した、孔の像および溝孔の像の画像
信号を、画像処理系208,209にて信号処理することで求
められ、求めた孔の中心位置は基準値として記憶手段で
あるRAM202(第1図(b)参照)に、制御系200を介し
て格納される。また、制御系200では、前記画像処理系2
08,209で求めた溝孔の中心位置を前記基準値と比較して
ワークWのずれ量を算出し、算出したずれ量を移動量と
して移動系コントローラ206へ伝え、該移動系コントロ
ーラ206を介して移動ステージ120を駆動することによっ
てワークWの孔の中心と溝孔の中心とが一致される。
In the laser drilling machine of the present embodiment, the work W is aligned by aligning the center positions of two predetermined groove holes with two corresponding ones of the two holes out of the holes previously formed in the work W. This is done by matching the center position of the hole. The center position of this hole and the center position of the slot are determined by the measurement optical system 70, 8
Image signals of the image of the hole and the image of the groove observed by the ITV71, 81 of 0 are obtained by signal processing by the image processing systems 208, 209, and the obtained center position of the hole is a storage means as a reference value. The data is stored in the RAM 202 (see FIG. 1B) via the control system 200. In the control system 200, the image processing system 2
The shift amount of the work W is calculated by comparing the center position of the groove hole obtained in 08 and 209 with the reference value, and the calculated shift amount is transmitted to the movement system controller 206 as a movement amount and moved via the movement system controller 206. By driving the stage 120, the center of the hole of the work W and the center of the groove hole are aligned with each other.

前記レーザ孔開け加工機において、レーザ光源10から
出射したレーザ光束P(200Hz,50W,28mm×6mm)は、ま
ず、照明光学系20に入射し、その後、マスク30を照射す
る。この照明光学系20では、最初に、第3図(a)に示
すように、楕円マスク21、凹シリンドリカルレンズ22お
よび凸シリンドリカルレンズ23の組み合わせにより円形
に変換される。これは、28mm×6mmの長方形で出射した
レーザ光Pの光束の中央に、第3図(b)に示すような
マスク穴211を備えた楕円マスク21を配して前記レーザ
光Pを楕円に切り出し、はじめの凹シリンドリカルレン
ズ22を光束の巾の狭い方向(6mm側)に広げるように配
置して、凹シリンドリカルレンズ23により光束が28mmの
円形でかつ平行光P2となるように戻す。これは、2枚の
凹、凸のシリンドリカルレンズ22,23を、前記楕円マス
ク21からの、それぞれの距離f1,f2の比f1:f2が、第3図
(c)に示すようにf1:f2=6:28となるように、レーザ
光Pの光軸上に配置して、凹、凸のシリンドリカルレン
ズ22,23のパワーの比を6:28(凹:凸)とすることで可
能となる。
In the laser drilling machine, the laser beam P (200 Hz, 50 W, 28 mm × 6 mm) emitted from the laser light source 10 first enters the illumination optical system 20 and then irradiates the mask 30. In this illumination optical system 20, first, as shown in FIG. 3A, a combination of an elliptical mask 21, a concave cylindrical lens 22 and a convex cylindrical lens 23 converts the light into a circular shape. In this, an elliptical mask 21 having a mask hole 211 as shown in FIG. 3 (b) is arranged at the center of the luminous flux of the laser light P emitted in a rectangle of 28 mm × 6 mm to make the laser light P into an ellipse. The first concave cylindrical lens 22 is cut out and arranged so as to be widened in the direction in which the width of the light beam is narrow (6 mm side), and is returned by the concave cylindrical lens 23 so that the light beam becomes a circular 28 mm parallel light P 2 . This is because two concave and convex cylindrical lenses 22 and 23 have a ratio f 1 : f 2 of respective distances f 1 and f 2 from the elliptical mask 21 as shown in FIG. 3 (c). Are arranged on the optical axis of the laser light P so that f 1 : f 2 = 6: 28, and the power ratio of the concave and convex cylindrical lenses 22 and 23 is set to 6:28 (concave: convex). It becomes possible by doing.

さらに、前記平行光P2の光路上に、凸レンズ24と凹レ
ンズ25を、それらの配置間隔の距離f3:f4の比f3:f4を2
8:20として焦点の位置が同一となるように配置して構成
したビームコンプレッサにより、前記28mmの円形の平行
光P2を20mmの円形の平行光P3に変換する。
Further, the convex lens 24 and the concave lens 25 are arranged on the optical path of the parallel light P 2 with a ratio f 3 : f 4 of the distance f 3 : f 4 of their arrangement intervals being 2
At 8:20, the 28 mm circular parallel light P 2 is converted into a 20 mm circular parallel light P 3 by a beam compressor arranged so that the focal positions are the same.

次に、6mmの直径をした7個の凸レンズ261を第3図
(a),(b)のように配置したケラー照明用フライア
イレンズ26とフィールドレンズ27とを、第5図に示すよ
うに、順に前記平行光P3の光軸上に配置して該平行光P3
を7つに分割し、分割した光束を、第6図に示すよう
に、マスク30に形成されている19mm直線上にならんだ開
ける孔の形状をしたマスク穴31に一定の角度で照明す
る。
Next, as shown in FIG. 5, a fly eye lens 26 for Keller illumination and a field lens 27 in which seven convex lenses 261 having a diameter of 6 mm are arranged as shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b). , flat Yukimitsu P 3 disposed on the optical axis of the parallel light P 3 in order
Is divided into seven, and the divided luminous flux is illuminated at a constant angle into a mask hole 31 in the shape of a hole formed on a 19 mm straight line formed in the mask 30, as shown in FIG.

マスク30は、25μmのNiを使用して、開けようとする
孔の形状の倍の大きさのマスク穴31をエッチングにより
加工したものである。
The mask 30 is made by using Ni of 25 μm and etching a mask hole 31 having a size twice as large as the shape of the hole to be opened.

このマスク30は、マスク位置調整機構32上の不図示の
マスクホルダに固定されており、制御系200からインタ
ーフェース205を介して伝えられる指示によって位置調
整される。
The mask 30 is fixed to a mask holder (not shown) on the mask position adjusting mechanism 32, and its position is adjusted by an instruction transmitted from the control system 200 via the interface 205.

前述のように、照明光学系20で分割されてマスク30に
照射された7つの光束のうちマスク30を出た、孔開けに
必要な形状をした光束は、投影光学系50を形成するテレ
セントリックな4分の1の縮小投影レンズ51によりワー
クWに結像され、必要な形状の孔を開ける。
As described above, out of the seven light fluxes that are divided by the illumination optical system 20 and applied to the mask 30, the light flux that exits the mask 30 and has the shape necessary for opening a hole is not the telecentric light that forms the projection optical system 50. An image is formed on the work W by the 1/4 reduction projection lens 51, and a hole having a required shape is formed.

ワークWは、第7図(a)に示すように、前記位置決
め治具40上に、加工面W1を、レーザ光源10側に傾斜させ
た状態で装着されている。
As shown in FIG. 7A, the work W is mounted on the positioning jig 40 with the processing surface W 1 inclined to the laser light source 10 side.

位置決め治具40は、2個のワークWを保持するため、
第7図(b)に示すような、2つのバキューム穴401を
2組備えているとともに、該バキューム穴401で吸着保
持したワークWを固定するための突き当て機構を備えて
いる。この位置決め治具40は、第7図(c)に示すよう
に、制御系200からインターフェース204を介して伝えら
れる駆動信号によってバキュームソレノイド402を駆動
することで不図示の吸引源による吸引動作が行なわれ
て、2個のワークWを、それぞれ2つずつのバキューム
穴401で吸着保持する。さらに、前記バキューム穴401に
おける吸引圧力はバキュームセンサ403によって常に検
出されており、その検出圧力に基づいて、制御系200が
前記ワークWの保持状態を監視している。また、位置決
め治具40は、第7図(b)および第8図に示すように、
吸着保持面側の2点とワークWの側面の3点との計5点
の位置決め基準404を持っていて、オートハンド100によ
ってワークWを位置決め治具40上に供給した後、バキュ
ーム吸着し、第8図に示すように、レーザ光Pの光軸方
向からの2つの突き当て機構405,406によりレーザ光P
の光軸方向(矢示Y方向)に突き当て、その後、孔の並
び方向からの突き当て機構407により孔の並び方向(矢
示X方向)に突き当てて、2個のワークWを固定する。
Since the positioning jig 40 holds the two works W,
As shown in FIG. 7B, two sets of two vacuum holes 401 are provided and an abutting mechanism for fixing the work W sucked and held in the vacuum holes 401 is provided. As shown in FIG. 7C, the positioning jig 40 drives the vacuum solenoid 402 by a drive signal transmitted from the control system 200 via the interface 204, thereby performing a suction operation by a suction source (not shown). Then, the two works W are suction-held by two vacuum holes 401 each. Further, the suction pressure in the vacuum hole 401 is constantly detected by the vacuum sensor 403, and the control system 200 monitors the holding state of the work W based on the detected pressure. Further, the positioning jig 40, as shown in FIG. 7 (b) and FIG.
It has a positioning reference 404 of 5 points in total including 2 points on the suction holding surface side and 3 points on the side surface of the work W, and after the work W is supplied onto the positioning jig 40 by the auto hand 100, vacuum suction is performed, As shown in FIG. 8, the two abutting mechanisms 405 and 406 from the optical axis direction of the laser light P cause the laser light P to move.
In the direction of the optical axis (the Y direction indicated by the arrow), and then abutting mechanism 407 from the direction in which the holes are arranged in the direction in which the holes are arranged (the X direction in the arrow) to fix the two works W. .

2つの突き当て機構405,406は、位置決め治具40上で
保持した2つのワークWそれぞれに対応するものであ
る。この突き当て機構405,406と孔の並び方向の突き当
て機構407は、それぞれ、制御系200からの指示によっ
て、ソレノイドバルブ411,412,413を開閉させて、エア
シリンダ408,409,410を駆動することで動作する。
The two abutting mechanisms 405, 406 correspond to the two works W held on the positioning jig 40, respectively. The abutting mechanisms 405, 406 and the abutting mechanism 407 in the direction in which the holes are arranged are operated by opening and closing the solenoid valves 411, 412, 413 and driving the air cylinders 408, 409, 410, respectively, in accordance with an instruction from the control system 200.

また、上述の位置決め治具40が載置されている移動ス
テージ120は、レーザ光軸方向(Y方向)、レーザ光軸
と孔の並び方向に垂直な軸方向(Z方向)、該軸方向を
回転軸とする回転方向(θ方向)、孔の並び方向(X
方向)、レーザ光軸を回転軸とする回転方向(θ
向)の計5軸について移動が可能であり、制御計201か
ら移動系コントローラ206を通して伝えられる指示によ
って動作し、ワークWの位置決めを行なう。
Further, the moving stage 120 on which the above-mentioned positioning jig 40 is mounted has a laser optical axis direction (Y direction), an axial direction (Z direction) perpendicular to the alignment direction of the laser optical axis and the holes, and the axial direction. Rotational direction of rotation (θ Z direction), hole arrangement direction (X
Direction), and a total of 5 axes in the rotation direction (θ Y direction) with the laser optical axis as the rotation axis, and the workpiece W is positioned by operating according to an instruction transmitted from the controller 201 through the movement system controller 206. To do.

上述の突き当て機構405,406,407によってワークWを
固定した後、ワークWの溝位置の測定を行なう。
After the work W is fixed by the abutting mechanisms 405, 406, 407, the groove position of the work W is measured.

溝位置の測定は、レーザ光源10側の透過照明系60から
の透過照明光Q1をワークWに照射して溝の光像を、板状
部材W3を透過させ、レーザ光源10と反対側の測定光学系
70,80にて観測することで行なう。前記透過照明系60で
は、透過照明光Q1をワークWに照射するため、第9図に
示すように、該透過照明光Q1をワークWへ導く光ファイ
バ61と45゜ミラー62とが設けられている。
The measurement of the groove position is performed by irradiating the work W with the transmitted illumination light Q 1 from the transmitted illumination system 60 on the laser light source 10 side and transmitting the optical image of the groove through the plate-shaped member W 3 to the side opposite to the laser light source 10. Measuring optical system
This is done by observing at 70 and 80. In the transmissive illumination system 60, for illuminating the transmissive illumination light Q 1 in the workpiece W, as shown in FIG. 9, an optical fiber 61 for guiding a translucent over-illumination light Q 1 to the workpiece W and 45 ° mirror 62 is provided Has been.

光ファイバ61は、その出射光がレーザ光Pの光軸と直
交するように配置され、また、45゜ミラー62は、光ファ
イバ61によって導かれた透過照明光Q1がレーザ光Pと同
一方向に反射されるように配置されており、さらに、こ
の45゜ミラー62は、回転方向に規制されたエアシリンダ
63に取り付けられて、レーザ発光時には、該レーザ光を
遮断しない位置へ移動可能な構成となっている。
The optical fiber 61 is arranged so that the emitted light thereof is orthogonal to the optical axis of the laser light P, and the 45 ° mirror 62 is arranged such that the transmitted illumination light Q 1 guided by the optical fiber 61 is in the same direction as the laser light P. The 45 ° mirror 62 is an air cylinder that is regulated in the direction of rotation.
It is attached to 63 so that it can move to a position where it does not block the laser light when it emits laser light.

透過照明系60は、制御系200からインターフェース204
を介して伝えられる指示によって、出射光を遮断してい
るシャッター65を移動させることで、該出射光が出射さ
れ、また、45゜ミラー62は、同様に制御系200からの指
示によってバキュームソレノイド64を介してエアシリン
ダ63を駆動することで移動される。
The transmitted illumination system 60 is connected to the interface 204 from the control system 200.
The emitted light is emitted by moving the shutter 65 that blocks the emitted light according to an instruction transmitted via the vacuum solenoid 64 in accordance with an instruction from the control system 200. It is moved by driving the air cylinder 63 via.

観測する溝は、ワークWに開けようとする孔を64個と
すると、第10図に示すように、両端の溝(第1番目の溝
孔G1と第64番目の溝孔G64)の1つ内側の溝である第2
番目の溝孔G2と第63番目の溝孔G63の2つであり、前記
透過照明光Q1によって照射されて生じる前記第2番目の
溝光G2と第63番目の溝孔G63の光像は、第9図に示すよ
うに、それらの光路上に配置した、2つの反射面を有す
るミラー66によって、それぞれ、反射されて干渉するこ
となく測定光学系70,80へ入射する。
As for the grooves to be observed, assuming that there are 64 holes to be opened in the work W, as shown in FIG. 10, the grooves on both ends (first groove G 1 and 64th groove G 64 ) The second one is the inner groove
Th slot G 2 and the are two of the 63 th slot G 63, wherein the transmissive illumination light Q 1 groove light G 2 wherein the second occurring is irradiated by the 63 th slot G 63 As shown in FIG. 9, the light images of are reflected by the mirrors 66 having two reflecting surfaces arranged on their optical paths and are incident on the measurement optical systems 70 and 80 without interference.

前記測定光学系70,80の構成について説明すると、第1
1図(a)に示すように、ミラー66による光像の反射先
に、それぞれ、対物レンズ72,82が配置され、さらに、
該対物レンズ72,82を通過した光像の光軸上に、該光像
が結像する、500×480画素の分解能を持った2/3インチ
のITV71,81が配置されている。また、前記対物レンズ7
2,82とITV71,81の間の、前記光像の光軸上には、それぞ
れ、ハーフミラー73,83が配置されており、該ハーフミ
ラー73,83によって、それらの反射光路上に設けられた
反射光学系74,84が発生する光を、それぞれ、前記ミラ
ー66側へ反射させる。ITV71,81には、ワークWの溝位置
の測定の際、透過照明系60によってワークWを照明する
ことで生じる透過光像が、ミラー66で反射された後、前
記ハーフミラー73,83を通過して結像し、また、後述す
る、加工孔の位置および加工孔の面積の測定の際、前記
反射光学系74,84から発せられる光が、それぞれハーフ
ミラー73,83で反射された後さらにミラー66によって反
射されて、前記ワークWを反レーザ光源側から照射し、
それによってワークWから反射する、前記加工孔の反射
光像が、ミラー66で反射された後、それぞれハーフミラ
ー73,83を通過して結像する。反射光学系74,84は、それ
ぞれ、光の出射部にシャッター75,85が設けられてお
り、該シャッター75,85を、制御系200からインターフェ
ース204を通して伝えられる指示によって移動させるこ
とで、出射光がハーフミラー73,83方向へ発せられる。
Explaining the configuration of the measurement optical system 70, 80, the first
As shown in FIG. 1A, the objective lenses 72 and 82 are arranged at the reflection destinations of the optical images by the mirror 66, respectively.
On the optical axis of the optical image that has passed through the objective lenses 72 and 82, 2 / 3-inch ITVs 71 and 81 having a resolution of 500 × 480 pixels, on which the optical image is formed, are arranged. Also, the objective lens 7
Half mirrors 73 and 83 are arranged on the optical axis of the optical image between the two 82 and the ITVs 71 and 81, respectively, and are provided on their reflection optical paths by the half mirrors 73 and 83. The light generated by the reflective optical systems 74 and 84 is reflected to the mirror 66 side, respectively. In the ITV 71, 81, the transmitted light image generated by illuminating the work W by the transmissive illumination system 60 at the time of measuring the groove position of the work W passes through the half mirrors 73, 83 after being reflected by the mirror 66. Then, when measuring the position of the processing hole and the area of the processing hole, which will be described later, the light emitted from the reflection optical systems 74 and 84 is further reflected after being reflected by the half mirrors 73 and 83, respectively. Reflected by the mirror 66, the work W is irradiated from the side opposite to the laser light source,
As a result, the reflected light image of the processing hole, which is reflected from the work W, is reflected by the mirror 66 and then passes through the half mirrors 73 and 83 to form an image. The reflection optical systems 74 and 84 are provided with shutters 75 and 85 at the light emitting portions, respectively, and by moving the shutters 75 and 85 according to an instruction transmitted from the control system 200 through the interface 204, the emitted light is emitted. Is emitted toward the half mirrors 73 and 83.

上述した測定光学系70,80は、それぞれ、手動による
位置調整用の調整手段76,87上に載置されている。この
調整手段76,86は、第11図(b)に示すように、それぞ
れ、測定光学系70,80の光軸方向への調整用である移動
ステージ762,862と、レーザ光軸と孔の並び方向とで形
成される平面に対して垂直な方向への調整用である移動
ステージ763,863と、前記移動ステージ762,862の移動方
向と移動ステージ763,863の移動方向とで形成される平
面に対して垂直な方向への調整用である移動ステージ76
1,861とを備えたものである。
The above-mentioned measurement optical systems 70 and 80 are mounted on adjusting means 76 and 87 for manual position adjustment, respectively. As shown in FIG. 11 (b), the adjusting means 76 and 86 are movable stages 762 and 862 for adjusting the measurement optical systems 70 and 80 in the optical axis direction, and the laser optical axis and the hole alignment direction. In the direction perpendicular to the plane formed by the moving stages 763 and 863 for adjustment in the direction perpendicular to the plane formed by and the moving directions of the moving stages 762 and 862 and the moving stages 763 and 863. Movement stage 76 for adjustment of
With 1,861.

また、前記測定光学系70,80は、第11図(c)に示す
ように、それぞれ、オートフォーカスユニット77,87を
備えており、該オートフォーカスユニット77,87は、ワ
ークWの、溝位置測定後の位置合わせの際の精度を向上
させるため、溝のレーザ光軸方向の位置情報を制御系20
0へ送出する。
Further, as shown in FIG. 11 (c), the measurement optical systems 70 and 80 are respectively provided with autofocus units 77 and 87, and the autofocus units 77 and 87 are located at the groove positions of the work W. In order to improve the accuracy of alignment after measurement, the position information in the laser optical axis direction of the groove is controlled by the control system 20.
Send to 0.

この測定光学系70,80において、ミラー66にて反射し
た、ワークWの、第2番目の溝孔G2と第63番目の溝孔G
63との2つの溝の光像は、それぞれ、対物レンズ72,82
とハーフミラー73,83を通過してITV71,81に40倍の倍率
で0.33μm/画素の分解能で結像される。
In this measurement optical system 70, 80, the second groove hole G 2 and the 63rd groove hole G 2 of the work W reflected by the mirror 66
The optical images of the two grooves with 63 are the objective lenses 72, 82, respectively.
Then, the light passes through the half mirrors 73 and 83 and is imaged on the ITV 71 and 81 at a magnification of 40 times with a resolution of 0.33 μm / pixel.

そして、ITV71,81の2つの出力信号S1は、第1図にお
いて、それぞれ2つの画像処理系208,209に入力されて
該画像処理系208,209にて前記2つの溝位置を求める。
Then, the two output signals S1 of the ITVs 71 and 81 are input to two image processing systems 208 and 209 in FIG. 1, respectively, and the image processing systems 208 and 209 determine the two groove positions.

ここで画像処理系208,209の溝位置測定について、第1
2図に示すフローチャートに沿って説明する。なお、画
像処理系208,209は、同時に同一の方法で、それぞれ、
第2番目の溝孔G2、第63番目の溝孔G63の溝位置を測定
するため、一方の画像処理系208についてのみ説明す
る。
Regarding the groove position measurement of the image processing systems 208 and 209,
A description will be given along the flowchart shown in FIG. The image processing systems 208 and 209 use the same method at the same time.
In order to measure the groove positions of the second groove hole G 2 and the 63rd groove hole G 63 , only one image processing system 208 will be described.

まず、測定光学系70のITV71に映された第2番目の溝
孔G2の像の画像信号をRAM202へ取込む(S501)。RAM202
に取込まれた画像情報は、横方向が500画素、縦方向が4
80画素の取込エリアにおいて、横方向i(0≦i≦49
9)番目、縦方向j(0≦j≦479)番目の画素を(i,
j)であらわし、その画素のデータをV(i,j)であらわ
す。V(i,j)は明るさをあらわし0〜255の8ビットの
データであらわされる(0:黒,255:白)。
First, the image signal of the image of the second groove G 2 projected on the ITV 71 of the measurement optical system 70 is taken into the RAM 202 (S501). RAM202
The image information captured in is horizontally 500 pixels, vertically 4
In the capture area of 80 pixels, the horizontal direction i (0 ≤ i ≤ 49
The 9th pixel and the j-th (0 ≦ j ≦ 479) pixel in the vertical direction are (i,
j), and the pixel data is represented by V (i, j). V (i, j) represents brightness and is represented by 8-bit data of 0 to 255 (0: black, 255: white).

第13図(a)にITV71に映された溝孔G2の像を示す。
この像は、溝孔G2を示すラインが黒色で表わされる。こ
の溝孔G2の像には、ワークWの成形時に付いたと思われ
るキズも映されており、取込んだ画像信号についてもキ
ズを示すものが含まれていることになる。そこで、溝孔
G2の画像信号に対してフィルタリング処理を施して前記
キズの部分を取除く(S502)。
In Figure 13 (a) shows an image of the slot G 2 which is projected to ITV71.
In this image, the line showing the slot G 2 is shown in black. The image of the groove G 2 also shows a flaw that seems to have been formed when the work W is molded, and thus the captured image signal also includes a flaw. So the slot
A filtering process is applied to the G 2 image signal to remove the scratched portion (S502).

このフィルタリング処理について第14図(a)、
(b)、(c)、(d)を参照して説明する。
Regarding this filtering process, FIG. 14 (a),
This will be described with reference to (b), (c) and (d).

ここでは、第14図(a)に示すような、原画像に対し
てキズを取除く場合について説明する。
Here, a case where a flaw is removed from the original image as shown in FIG. 14 (a) will be described.

初めに、各画素の明るさの2値化の処理を行なう。画
素(i,j)の明るさV(i,j)の値が一定値(スライスレ
ベル)以上のものをV(i,j)=1(白)とし、スライ
スレベル以下のものをV(i,j)=0(黒)とし、これ
を全ての画素について行う。スライスレベルは2値化の
処理の前に全ての画素のデータV(i,j)の中での最大
値と最小値をさがし、この最大値と最小値の平均の値と
する。
First, the brightness of each pixel is binarized. V (i, j) = 1 (white) when the brightness V (i, j) of the pixel (i, j) is a constant value (slice level) or more, and V (i , j) = 0 (black), and this is performed for all pixels. Before the binarization process, the slice level is searched for the maximum value and the minimum value in the data V (i, j) of all the pixels, and is set as the average value of the maximum value and the minimum value.

次に、フイルタリング処理を行なう。1個の画素(i,
j)の処理を行なうのに、この画素(i,j)を中心にi−
2からi+2,j−2からj+2の範囲の画素の中で、前
記2値化処理に明るさが1となった画素が1つであれば
画素(i,j)の明るさはV(i,j)=1とし、範囲内の画
素全ての明るさが0のときのみV(i,j)=0とする。
Next, a filtering process is performed. One pixel (i,
j) is performed, i-
If one of the pixels in the range of 2 to i + 2, j-2 to j + 2 has a brightness of 1 in the binarization processing, the brightness of the pixel (i, j) is V (i , j) = 1, and V (i, j) = 0 only when the brightness of all pixels in the range is 0.

ここで第14図(c)、(d)は共に、画素(i,j)に
ついて、i−2からi+2、j−2からj+2の範囲の
画素を示すものであり、第14図(c)については画素
(i+2,j−2)の明るさが1となっており、第14図
(d)については範囲内全ての画素の明るさが0となっ
ている。したがって、この場合第14図(c)については
画素(i,j)の明るさV(i,j)は1となり、第14図
(d)についてはV(i,j)は0となる。
Here, FIGS. 14 (c) and 14 (d) both show pixels in the range of i-2 to i + 2 and j-2 to j + 2 with respect to the pixel (i, j). For (1), the brightness of the pixel (i + 2, j-2) is 1, and for (d) of FIG. 14, the brightness of all pixels in the range is 0. Therefore, in this case, the brightness V (i, j) of the pixel (i, j) is 1 in FIG. 14 (c), and V (i, j) is 0 in FIG. 14 (d).

上述の処理を、iが2〜497,jが2〜477の範囲の画素
それぞれについて行う。これ以外の画素は1とする。こ
れによりiが5画素jが5画素の範囲で全てが黒(0)
とならいキズ等を消すことができ、その結果、第14図
(b)に示すような、キズが取除かれた画像を得ること
ができる。
The above processing is performed for each pixel in the range of i of 2 to 497 and j of 2 to 477. The other pixels are set to 1. As a result, i is 5 pixels, j is 5 pixels, and all are black (0).
As a result, the scratches and the like can be erased, and as a result, an image in which the scratches are removed can be obtained as shown in FIG. 14 (b).

上述のように、本実施例では、5画素分のフイルタリ
ングをしているので、5画素以下の画像を取除いてしま
うことになるが、通常、前記溝孔を示すラインは10画素
分程度となるので、溝孔を示す画像が取除かれることは
ない。フィルタリング処理後の溝孔G2の画像を、第13図
(b)に示す。
As described above, in the present embodiment, since filtering for 5 pixels is performed, an image of 5 pixels or less will be removed, but normally, the line indicating the slot is about 10 pixels. Therefore, the image showing the slot is not removed. An image of the groove G 2 after the filtering process is shown in FIG. 13 (b).

次に、溝孔G2のアゴ乗せ部(i,j)、すなわち、前述
した第2図(a)において、天部材W2と板状部材W3とで
形成される角部のラインのY座標を求める(S503)。こ
の場合、フィルタリング処理後の溝孔G2の像を映したIT
V71の全画素(500×480画素)について、行毎の明るさ
の和Vjを求める。
Next, the jaw mounting portion (i, j) of the groove G 2 , that is, Y of the line of the corner formed by the top member W 2 and the plate member W 3 in FIG. 2 (a) described above. Find the coordinates (S503). In this case, the IT showing the image of the slot G 2 after the filtering process
For all the pixels of V71 (500 × 480 pixels), the sum V j of the brightness of each row is obtained.

この行毎の明るさの和Vjを行対応で表わしたものが第
13図(d)のグラフである。このグラフにおいて、明る
さの最低の部分は、第13図(b)に示すアゴ乗せ部のラ
イン上となる。
The sum of the brightness V j for each row is represented by the corresponding row.
13 is a graph of FIG. 13 (d). In this graph, the lowest brightness portion is on the line of the jaw loading portion shown in FIG. 13 (b).

第13図(d)のグラフにおいて明るさの最低部分の拡
大図を、第13図(e)に示す。
An enlarged view of the lowest brightness portion in the graph of FIG. 13 (d) is shown in FIG. 13 (e).

ここで、行毎の明るさの和Vjの中の最低値Vminを求
め、その最低値Vminに所定の値FVminを求め、その最低
値Vminに所定の値F(例えば10)を加え、これをスライ
スレベルとし前記グラフと交わる2点の中央に相当する
Y座標をアゴ乗せ部の位置ylとする。
Here, determine the minimum value V min in the brightness of the sum Vj of each row to obtain the predetermined value FV min to the minimum value V min, the predetermined value F (e.g. 10) to the minimum value V min In addition, this is set as a slice level, and the Y coordinate corresponding to the center of the two points intersecting with the graph is set as the position yl of the jaw mounting portion.

そして、前記アゴ乗せ部の位置ylに所定の値aを加え
た結果を前記溝孔G2のY位置(Y=yl+a)とする。a
の値は、例えば溝孔の深さを40μmとすると、20μm程
度が良い。
Then, the result of adding a predetermined value a to the position yl of the jaw mounting portion is defined as the Y position (Y = yl + a) of the groove hole G 2 . a
The value of is preferably about 20 μm when the depth of the groove is 40 μm.

前記アゴ乗せ部の位置としたY座標ylは、該アゴ乗せ
部のラインの中央を示すものとなっている。このアゴ乗
せ部は、拡大すると、実際には、凹凸があるため、前記
Y座標ylに所定の値b(本実施例では、20画素分6.6μ
m)を加えて、第13図(c)に示すような、アゴ乗せ部
に相当する安定したライン(Y=yl+b)を考える(S5
05)。
The Y coordinate yl that is the position of the jaw mounting portion indicates the center of the line of the jaw mounting portion. When the jaw mounting portion is enlarged, it actually has irregularities. Therefore, the Y coordinate yl has a predetermined value b (in this embodiment, 6.6 μm for 20 pixels).
m) is added to consider a stable line (Y = yl + b) corresponding to the chin rest portion as shown in FIG. 13 (c) (S5
05).

このyl+bのラインの明るさV(i,yl+b)を表わし
たものが、第13図(f)であり、2つの暗部(明るさの
低い点)が現われる。この2つの暗部は、第13図(c)
において、Y=yl+bのラインが溝を示すラインと交わ
る点A,Bの部分に相当するもので、その暗部の拡大図を
第13図(g)に示す。
FIG. 13 (f) shows the brightness V (i, yl + b) of the yl + b line, and two dark areas (points of low brightness) appear. These two dark areas are shown in Fig. 13 (c).
In FIG. 13, the line Y = yl + b corresponds to the points A and B where the line indicating the groove intersects, and an enlarged view of the dark portion is shown in FIG. 13 (g).

この第13図(g)において、2つの暗部について、そ
れぞれ明部から暗部に変化する点と、暗部から明部に変
化する点との2点の中央に相当するX座標X1,X2を算出
する(S506)。そして、算出したX1,X2の中央 に相当す座標を溝孔G2のX位置とする(S507)。
In FIG. 13 (g), X-coordinates X 1 and X 2 corresponding to the centers of two points, that is, a point changing from a bright section to a dark section and a point changing from a dark section to a bright section, are set for two dark sections. Calculate (S506). And the center of calculated X 1 and X 2 The coordinate corresponding to is the X position of the slot G 2 (S507).

求めた溝位置において、X位置は孔の並び方向(X方
向)に対応し、Y位置はレーザ光軸と孔の並び方向とに
垂直な方向(z方向)に対応するものであり、溝孔G2,G
63について、それぞれ、画像処理系208、209によって同
時に求められる。
In the obtained groove position, the X position corresponds to the hole arranging direction (X direction), and the Y position corresponds to the direction perpendicular to the laser optical axis and the hole arranging direction (z direction). G 2 , G
63 are simultaneously obtained by the image processing systems 208 and 209, respectively.

上述のようにして画像処理系208,209で求めた溝孔G2,
G63それぞれの溝位置の結果はケーブルS2(RS232)およ
びインターフェース207を通して制御系200に伝えられ、
該制御系200にて、伝えられた溝位置のデータとあらか
じめRAM202に記憶された基準値とのずれ量を算出する。
As described above, the groove hole G 2 obtained by the image processing system 208, 209,
The result of each groove position of G 63 is transmitted to the control system 200 through the cable S2 (RS232) and the interface 207.
The control system 200 calculates the amount of deviation between the transmitted groove position data and the reference value stored in the RAM 202 in advance.

算出内容は、孔の並び方向(X方向)と、レーザ光軸
と孔の並び方向とに垂直な方向(Z方向)と、レーザ光
の光軸を回転軸とする移動方向(θ方向)の3軸につ
いて算出する。
The calculation contents are the hole arrangement direction (X direction), the direction perpendicular to the laser optical axis and the hole arrangement direction (Z direction), and the moving direction with the optical axis of the laser light as the rotation axis (θ Y direction). The calculation is performed on the three axes.

この3軸についての移動量は下記の式によって算出さ
れる。
The movement amount about these three axes is calculated by the following formula.

ここで、第2番目の溝孔G2の、X方向およびZ方向の
位置を(X2,Z2)、第63番目の溝孔G63の、X方向および
Z方向の位置を(X63,Z63)とし、溝孔G2に対応する基
準値を、同様に(x2,z2)、溝孔G63に対応する基準値を
(x63,z63)とすると、 Z方向のずれ量dZは、 dZ=(z63−z2)/2−(Z63−Z2)/2X方向のずれ量dXは dX={(x63−X63)+(x2−X2)}/2 となる。
Here, the positions of the second slot G 2 in the X and Z directions are (X 2 , Z 2 ), and the positions of the 63rd slot G 63 in the X and Z directions are (X 63 , Z 63 ), the reference value corresponding to the groove G 2 is (x 2 , z 2 ), and the reference value corresponding to the groove G 63 is (x 63 , z 63 ). The amount of deviation dZ is dZ = (z 63 −z 2 ) / 2− (Z 63 −Z 2 ) / 2 The amount of deviation dX in the x direction is dX = {(x 63 −X 63 ) + (x 2 −X 2 ). } / 2.

また、前記測定光学系70,80の位置検出機構の光軸間
距離をDとすると、前記基準値が示す2つの基準点の間
の距離は、D+x2+x63で表わされる。ここで、x22》D,
x63》Dとすると、2つの基準点間の距離はDとなる。
When the distance between the optical axes of the position detecting mechanisms of the measurement optical systems 70 and 80 is D, the distance between the two reference points indicated by the reference value is represented by D + x 2 + x 63 . Where x 22 >> D,
x 63 >> D, the distance between the two reference points is D.

したがって、θ方向のずれ量dθは、 となる。Therefore, the amount of deviation dθ Y in the θ Y direction is Becomes

上記各式に基づいて算出した3軸についてのずれ量
を、ワークWの移動量として制御系200から移動系コン
トローラ206に入力する。移動系コントローラ206は、前
記移動量に基づいて前記3軸に対応する3つのドライバ
を介して移動ステージ120を駆動する。この位置決めに
おいて、前記3軸以外のレーザ光軸方向(Y方向)、レ
ーザ光軸と孔の並び方向と垂直な軸を回転軸とする回転
方向(θ方向)の2軸については、一定の精度のなか
に入るので調整は行なわないが、より精度を上げるた
め、前記測定光学系70,80に取り付けられたオートフオ
ーカスユニット77,87の信号の値とRAM202に格納されて
いる基準値との差から、前記2軸についての移動量を算
出し、その移動量を制御系200から移動系コントローラ2
06に入力し、該移動系コントローラ206が入力された移
動量に基づいて、前記2軸に対応す2つのドライバを介
して移動ステージ120を移動させることで調整すること
も可能である。
The shift amounts about the three axes calculated based on the above equations are input from the control system 200 to the movement system controller 206 as the movement amount of the work W. The movement system controller 206 drives the movement stage 120 via three drivers corresponding to the three axes based on the movement amount. In this positioning, two axes other than the above three axes, that is, the laser optical axis direction (Y direction) and the rotation direction (θ Z direction) having the axis perpendicular to the laser optical axis and the arrangement direction of the holes as the rotation axis are constant. Since it is in the range of accuracy, adjustment is not performed, but in order to improve the accuracy, the signal values of the autofocus units 77, 87 attached to the measurement optical systems 70, 80 and the reference value stored in the RAM 202 are used. The amount of movement about the two axes is calculated from the difference between
It is also possible to make an adjustment by moving the moving stage 120 via the two drivers corresponding to the two axes, based on the moving amount input to 06 and the moving system controller 206.

ワークWの位置調整後、制御系200からレーザ光源10
を、ケーブルS3(RS232)およびインターフェース203を
介して一定時間(2秒間)発光させる。これにより、ワ
ークWには所定の孔が開き、その後、後述するような孔
位置と孔径の校正を行なって2個目のワークWの位置に
位置決め治具40を移動させ、1個目と同様にして孔開け
を行なう。
After adjusting the position of the work W, the laser light source 10 from the control system 200
Light is emitted for a fixed time (2 seconds) via the cable S3 (RS232) and the interface 203. As a result, a predetermined hole is opened in the work W, and thereafter, the hole position and the hole diameter are calibrated as described later, and the positioning jig 40 is moved to the position of the second work W, like the first work. And make a hole.

2個目の加工の後、位置決め治具40を1個目のワーク
Wの加工の位置に移動させて、制御系200によって、バ
キュームソレノイド402を駆動することでワークWの吸
着状態を断つとともに、オートハンドコントローラ(以
下AHコントローラと称す)103にケーブルS4を介して完
了信号を送る。
After the second machining, the positioning jig 40 is moved to the machining position of the first work W, and the vacuum solenoid 402 is driven by the control system 200 to cut off the suction state of the work W. A completion signal is sent to the auto hand controller (hereinafter referred to as AH controller) 103 via cable S4.

オートハンド100は供給側と排出側のフィンガーを持
っていて、完了信号を受信後、加工済ワークを排出側フ
ィンガーで排出し、その後、供給側フィンガーによって
未加工のワークを孔開け加工機の位置決め治具40に供給
する。
The auto hand 100 has fingers on the supply side and discharge side, and after receiving the completion signal, discharges the processed work with the discharge side finger, and then the supply side finger drills the unprocessed work to position the processing machine. Supply to the jig 40.

本実施例のオートハンド100のフィンガーは、供給
側、排出側ともに、第15図に示すように、2つの吸引口
101,102を備えており、同時に2個の供給、排出を行な
う。
As shown in FIG. 15, the fingers of the auto hand 100 of this embodiment have two suction ports on both the supply side and the discharge side.
It is equipped with 101 and 102, and supplies and discharges two at the same time.

孔開け加工において、インクの吐出口となる孔の位置
精度と印字性能(特に吐出方向のバラツキ)は大きく関
係するため、該印字性能を一定値に抑える必要があり、
孔開けの位置精度を一定範囲(例えば±2μm)に入ら
なければならない。
In the punching process, since the positional accuracy of the holes that are the ink ejection ports and the printing performance (especially the variation in the ejection direction) are greatly related, it is necessary to suppress the printing performance to a constant value.
The positional accuracy of punching must be within a certain range (for example, ± 2 μm).

この位置精度としては、例えば、第16図に示すよう
な、孔の並び方向とレーザ光軸とで形成する平面に対し
て垂直な方向(矢示A方向)、孔の並び方向(矢示B方
向)および孔径のバラツキが考えられる。第16図は、孔
開け加工後のワークWを用いて作製したインクジェット
ヘッドからインクを吐出した印字ドットを示している。
As the positional accuracy, for example, as shown in FIG. 16, a direction (arrow A direction) perpendicular to a plane formed by the hole arrangement direction and the laser optical axis, and hole arrangement direction (arrow B). Direction) and variation in hole diameter are considered. FIG. 16 shows print dots formed by ejecting ink from an inkjet head manufactured using the workpiece W after the punching process.

ここで、孔開け加工が終了したワークWを用いて作製
した製品(インクジェットヘッド)について、第17図
(a),(b)および第18図(a),(b)を参照して
説明する。
Here, a product (inkjet head) manufactured using the work W for which the punching process has been completed will be described with reference to FIGS. 17 (a) and (b) and FIGS. 18 (a) and (b). .

第17図(a),(b)は、それぞれ、前記インクジェ
ットヘッドを示す斜視図と縦断面図であり、第18図
(a),(b)は、それぞれ、インクジェットの吐出口
近辺を示す縦断面図と横断面図である。
FIGS. 17 (a) and 17 (b) are a perspective view and a vertical cross-sectional view showing the inkjet head, respectively, and FIGS. 18 (a) and 18 (b) are vertical cross sections showing the vicinity of the ejection port of the inkjet, respectively. It is a front view and a cross-sectional view.

このインクジェットヘッドは、第17図(a),(b)
に示すように、孔開けが加工が施されたワークWを、ヒ
ータボード143上に載置して形成したものである。ヒー
タボード143は、第18図(a),(b)に示すように、
ワークWの溝孔Gn(G1,G2のみ図示している。)に対応
してヒータ143n(1431,1432のみ図示している。)を並
列配置したものであり、前記ワークWは、前記溝孔Gn
ヒータ143nをそれぞれ一致するようにして、前記ヒータ
ボード143上に載置される。また、第17図(a),
(b)に示すように、ワークWに開けられた孔Hnが吐出
口141n、該吐出口141nに通ずる溝孔Gnがインク流路、板
状部材W3がオリフィスプレート142となり、天部材W2
内部にインクIが蓄えられる。前記ヒータ143nは、イン
クジェットヘッドが印字装置に組込まれた際、第18図
(b)に示すように、それぞれ、配線材144nを介して、
不図示の印字駆動部に接続される。
This inkjet head is shown in FIGS. 17 (a) and 17 (b).
As shown in FIG. 5, a work W that has been perforated is placed and formed on the heater board 143. The heater board 143, as shown in FIGS. 18 (a) and 18 (b),
The heaters 143 n (only 143 1 and 143 2 are shown) are arranged in parallel in correspondence with the groove holes G n (only G 1 and G 2 are shown) of the work W. W is placed on the heater board 143 such that the groove G n and the heater 143 n are aligned with each other. In addition, FIG. 17 (a),
(B), the hole H n drilled in the work W is discharge port 141 n, slot G n is an ink flow path communicating with the discharge port 141 n, the plate-like member W 3 is next to the orifice plate 142, Ink I is stored inside the top member W 2 . When the ink jet head is incorporated in the printing apparatus, the heaters 143 n are respectively connected via wiring members 144 n as shown in FIG. 18 (b).
It is connected to a print driving unit (not shown).

このインクジェットヘッドにおいて、吐出口1411から
インクを吐出させる場合、前記印字駆動部からの駆動信
号によってヒータ1431を駆動して、溝孔G1内のインクI
を熱することで、第18図(b)のように、該溝孔G1内に
泡を発生させて、該泡から吐出口1411側のインクを液滴
として飛翔させる。他の吐出口141nについても同様であ
る。
In this ink jet head, when ink is ejected from the ejection port 141 1 drives the heater 143 1 by a drive signal from the print driver, the ink I in the slot G 1
The by heat, as in the FIG. 18 (b), thereby generating bubbles in the groove hole G 1, of flying ink discharge ports 141 1 side as droplets from該泡. The same applies to the other ejection ports 141 n .

このようなインクジェットヘッドの印字性能を一定値
に抑えるために、マスク30を通った後のレーザ光の位置
(マスク像)と測定光学系70,80の相対位置関係のずれ
量を抑える必要がある。そのため、開けた孔位置を測定
し、この位置を、次に孔開けを行なうワークWの溝位置
の基準位置とする校正方法をとる。これには前記測定光
学系70,80とその測定光学系70,80に取り付けられた反射
光学系74,84およびITV71,81からの信号S1の画像処理を
行なう画像処理系208,209と制御系200を用いる。孔開け
加工後、前記反射光学系74,84の出射光を遮断している
シャッター75,85を開けて、該出射光を、それぞれハー
フミラー73,83で反射させて対物レンズ72,82を通した
後、ミラー66にて反射させてワークWに照射させる。そ
して、ワークWから反射した、開けた孔の形状を示す光
像を、測定光学系70,80のITV71,81に結像させ、該ITV7
1,81の信号S1を画像処理系208,209にて画像処理して開
けた孔の位置を算出し、算出した値をケーブルS2および
インターフェース207を介して制御系200へ転送する。
In order to suppress the printing performance of such an inkjet head to a constant value, it is necessary to suppress the deviation amount of the relative positional relationship between the position (mask image) of the laser light after passing through the mask 30 and the measurement optical systems 70 and 80. . Therefore, the position of the hole that has been drilled is measured, and this position is used as a reference position for the groove position of the workpiece W to be subsequently drilled. The measurement optical system 70,80 and the reflection optical system 74,84 attached to the measurement optical system 70,80 and the image processing system 208,209 for performing the image processing of the signal S1 from the ITV 71,81 and the control system 200. To use. After the perforating process, the shutters 75 and 85 that block the light emitted from the reflective optical systems 74 and 84 are opened, and the light emitted is reflected by the half mirrors 73 and 83 respectively and passed through the objective lenses 72 and 82. After that, it is reflected by the mirror 66 and irradiated on the work W. Then, an optical image showing the shape of the opened hole, which is reflected from the work W, is formed on the ITV 71, 81 of the measurement optical system 70, 80, and the ITV 7
Image processing of the signals S1 of 1,81 is performed by the image processing systems 208 and 209 to calculate the positions of the opened holes, and the calculated values are transferred to the control system 200 via the cable S2 and the interface 207.

ここで、画像処理系208,209の孔位置測定について、
第19図に示すフローチャートに沿って説明する。なお、
画像処理系208,209は、同時に同一の方法で、それぞれ
第2番目の孔H2,第63番目の孔H63の孔位置を測定するた
め、一方の画像処理系208についてのみ説明する。
Here, regarding the hole position measurement of the image processing system 208, 209,
This will be described with reference to the flowchart shown in FIG. In addition,
Since the image processing systems 208 and 209 simultaneously measure the hole positions of the second hole H 2 and the 63rd hole H 63 by the same method, only one image processing system 208 will be described.

まず、測定光学系70のITV71に映された第2番目の孔H
2の像に画像信号を取込む(S510)。第20図に、ITV71に
映された孔H2の像を示す。このITV71の全画素の明るさ
を、前述の溝位置の測定の場合と同様に8ビットのバイ
ナリコード(0〜255)で表わし、明るさの頻度、すな
わち、同じ明るさの画素の個数を全て画素の範囲で調べ
る(S511)。この明るさの頻度を第21図に示す。第21図
においては、孔H2の暗い部分とそれ以外の明るい部分と
を示す2つのピーク値が現れ、小さい値(Vmin)の部分
が孔H2の暗い部分を示しており、このグラフからピーク
値が存在する明るさの最大値Vmaxと最小値Vminを求める
(S512)。求めたVmaxと最小値Vminとから、画像信号2
値化(暗部と明部とに区別)するためのスライスレベル
を下記の式によって求める(S513)。
First, the second hole H projected on the ITV71 of the measurement optical system 70
Capture the image signal in the image of 2 (S510). FIG. 20 shows an image of the hole H 2 projected on the ITV71. The brightness of all the pixels of this ITV71 is represented by an 8-bit binary code (0 to 255) as in the case of the above-mentioned groove position measurement, and the frequency of brightness, that is, the number of pixels of the same brightness Check in the pixel range (S511). The frequency of this brightness is shown in FIG. In FIG. 21, two peak values showing a dark part of the hole H 2 and a bright part other than that appear, and a small value (V min ) shows the dark part of the hole H 2. Then, the maximum value V max and the minimum value V min of the brightness where the peak value exists are obtained (S512). From the obtained V max and the minimum value V min , the image signal 2
The slice level for binarization (distinguishing between dark areas and bright areas) is obtained by the following formula (S513).

スライスレベル=Vmin+(Vmax−Vmin)×G(G:0.5) 求めたスライスレベルと各画素の明るさと比較して大小
関係を調べて画像信号を2値化する(S514)。これによ
って、孔H2の部分とそれ以外の部分とが区別され、第22
図に示すような、画像信号の2値化による孔H2の像が形
成される。
Slice level = V min + (V max −V min ) × G (G: 0.5) The obtained slice level is compared with the brightness of each pixel to check the magnitude relationship and binarize the image signal (S514). This distinguishes the portion of the hole H 2 from the other portion,
As shown in the figure, an image of the hole H 2 is formed by binarizing the image signal.

この2値化像において、X重芯とY重芯とを下記の式
によって求める(S515)。
In this binarized image, the X centroid and the Y centroid are obtained by the following formula (S515).

そして、求めたX重芯、Y重芯を、それぞれ、孔H2
孔位置X、孔位置Yとする(S517)。この孔位置につい
ても、前記溝孔の場合と同様に、2つの孔H2,H63が同時
に求められ、求めた孔位置において、孔位置Xは孔の並
び方向に対応し、孔位置Yは、レーザ光軸孔の並び方向
とに垂直な方向に対応する。
Then, the X center of gravity and the Y center of gravity thus obtained are set as the hole position X and the hole position Y of the hole H 2 (S517). Also for this hole position, two holes H 2 and H 63 are obtained at the same time as in the case of the above-mentioned slot, and at the obtained hole position, the hole position X corresponds to the arrangement direction of the holes and the hole position Y is , Corresponding to the direction perpendicular to the direction in which the laser optical axis holes are arranged.

このようにして求めた孔H2,H63の位置データを制御系
200へ転送される。
The position data of the holes H 2 and H 63 obtained in this way are used for the control system.
Transferred to 200.

制御系200では、この孔の位置を示す値を基準の位置
として、以前にRAM202上に記憶している、孔の並び方向
と(X方向)、レーザ光軸と孔の並び方向に垂直な方向
(Z方向)との2つの値を書き換え、前述したワークW
の3軸についての位置決めの際、この2つの値を基準値
(X,Z)として、画像処理の溝位置の値(X,Z)との差を
移動量として移動させる。
In the control system 200, the value indicating the position of the hole is used as a reference position, and the direction in which the holes are arranged in the RAM 202 (X direction) and the direction perpendicular to the laser optical axis and the direction in which the holes are arranged are stored in the RAM 202. (Z direction) and the two values are rewritten, and the work W described above is written.
At the time of positioning about the three axes, the two values are used as reference values (X, Z), and the difference from the groove position value (X, Z) of the image processing is moved as the movement amount.

孔の面積は印字性能(特に濃度)に大きく影響し、こ
の大きさのバラツキと大きさの平均値を一定にすること
は性能上重要である。
The area of the holes has a great influence on the printing performance (especially the density), and it is important for the performance to keep the variation of the size and the average value of the sizes constant.

ワークWに開けられた孔は、第23図に示すように、レ
ーザ光の入射側の径(入射径162)が大きく、出射側の
径(出射径161)が小さいテーパが形成され、レーザ光
のパワーを上げると、このテーパが小さくなり入射径16
2は一定で出射径161が大きくなって、第24図の特性図に
示すように、孔面積が大きくなる。また、レーザ光によ
る、孔開け部分への照射パルス数を変化させても同様で
ある。
As shown in FIG. 23, the holes formed in the work W are tapered so that the diameter of the laser light on the incident side (incident diameter 162) is large and the diameter of the emitting side (emission diameter 161) is small. When the power of is increased, this taper becomes smaller and the incident diameter 16
2 is constant and the emission diameter 161 becomes large, and the hole area becomes large as shown in the characteristic diagram of FIG. Further, the same applies when the number of irradiation pulses of the laser beam to the perforated portion is changed.

この様に孔の径とレーザパワー密度、照射パルス数と
大きな関係があるが、ここでレーザ光源として使用して
いるエキシマレーザは、パルス放電によるもので、1回
毎の光量にバラツキがありまたレーザ内のガス濃度、不
純物濃度、印加電圧や、光学系の寿命、汚れ等にも大き
く影響をうけるため、パワーが安定しない。そこで、第
25図(a),(b)に示すように、レーザ光Pの出口に
一定の面積のマスク穴113を有するアルミマスク112を持
つパワーメータ111で構成するパワーセンサ110を配置
し、前記アルミマスク112にレーザ光が当たるように、
途中に数%の反射率を持つビームスプリッタ114をお
く。レーザ照射時、ビームスプリッタ114による反射光
をアルミマスク112のマスク穴113を介してパワーメータ
111で受け、該パワーメータ111からの、レーザ光のパワ
ー密度を示す出力信号S5が一定値となるように、制御系
200によってインターフェース203およびケーブルS3を介
してレーザ光源10への印加電圧を変化させる。パワーメ
ータ111からの出力信号S5は、A/D変換器115を通して制
御系200へ送られる。第25図(c)に、レーザ光源10へ
の印加電圧とレーザ−パワーとの関係の一例を示す。こ
れにより、孔開けの際のレーザ発光中にレーザパワーを
測定すれば、レーザ光Pのパワー密度を一定に保つこと
ができ、孔の大きさのバラツキを一定値内に抑えること
が可能になる。前述のパワーメータ111としては光量測
定方式のものと熱側定方式のものがある。
As described above, the diameter of the hole, the laser power density, and the number of irradiation pulses have a great relationship. However, the excimer laser used as the laser light source here is based on pulse discharge, and the light quantity varies from time to time. The power is not stable because it is greatly affected by the gas concentration, impurity concentration, applied voltage in the laser, the life of the optical system, dirt, etc. Therefore,
As shown in FIGS. 25 (a) and 25 (b), a power sensor 110 composed of a power meter 111 having an aluminum mask 112 having a mask hole 113 having a constant area is arranged at the exit of the laser beam P, and the aluminum mask is used. So that the laser light hits 112,
A beam splitter 114 having a reflectance of several% is placed on the way. At the time of laser irradiation, the light reflected by the beam splitter 114 is passed through the mask hole 113 of the aluminum mask 112 to the power meter.
111, the control system so that the output signal S5 indicating the power density of the laser beam from the power meter 111 becomes a constant value.
The voltage applied to the laser light source 10 is changed by 200 via the interface 203 and the cable S3. The output signal S5 from the power meter 111 is sent to the control system 200 through the A / D converter 115. FIG. 25 (c) shows an example of the relationship between the voltage applied to the laser light source 10 and the laser power. As a result, if the laser power is measured during laser emission during drilling, the power density of the laser light P can be kept constant, and variations in the size of the holes can be suppressed within a fixed value. . As the power meter 111, there are a light quantity measurement type and a heat side fixed type.

さらに、孔の面積については、開けた孔の面積を測定
しこの面積によりレーザ光源10への印加電圧をコントロ
ールして一定の孔面積にすることも考えられる。これ
は、前記測定光学系70,80とその測定光学系70,80に取り
付けられた反射光学系74,84及び2つの測定光学系70,80
のITV71,81からの信号を画像処理する画像処理系208,20
9および制御系200を用いる。孔開け加工後、反射光学系
74,84の出射光を遮断しているシャッター75、85を開け
ることにより対物レンズ72,82側からワークWに照射す
る。
Further, regarding the area of the hole, it is possible to measure the area of the opened hole and control the voltage applied to the laser light source 10 by this area to make the area of the hole constant. This is because the measurement optical system 70, 80, the reflection optical system 74, 84 attached to the measurement optical system 70, 80, and the two measurement optical systems 70, 80.
Image processing system 208,20 for image processing signals from ITV71,81
9 and control system 200 are used. After drilling, reflective optical system
The work W is irradiated from the objective lens 72, 82 side by opening the shutters 75, 85 blocking the emitted light from the 74, 84.

そして、ワークWから反射する、開けた孔の形状を示
す光像が前記2つの測定光学系70,80に取り付けられたI
TV71,81に結像し、該ITV71,81からの信号S1をそれぞ
れ、画像処理系208,209にて画像処理し、これにより開
けた孔面積の算出をおこない、この値をケーブルS2およ
びインターフェース207を介して制御系200に転送する。
Then, an optical image showing the shape of the opened hole, which is reflected from the work W, is attached to the two measurement optical systems 70 and 80.
An image is formed on the TV 71, 81, the signal S1 from the ITV 71, 81 is image-processed by the image processing system 208, 209, respectively, and the area of the opened hole is calculated by this, and this value is passed through the cable S2 and the interface 207. Transfer to the control system 200.

ここで、画像処理系208,209の孔面積測定について、
第26図に示すフローチャートに沿って説明する。なお、
この場合も、画像処理系208,209は、同時に、同一の方
法で、それぞれ、孔H2,H63の孔面積を測定するため、一
方の画像処理系208についてのみ説明する。
Here, for the hole area measurement of the image processing system 208,209,
This will be described with reference to the flowchart shown in FIG. In addition,
Also in this case, the image processing systems 208 and 209 simultaneously measure the hole areas of the holes H 2 and H 63 by the same method, respectively. Therefore, only one image processing system 208 will be described.

まず、前述のようにして求めた孔位置X,Yから、面積
測定の開始点を設定するため、所定の値e1,e2(本実施
例では、共に100画素分)を減算する(S520,S521,S52
2)。そして、測定範囲を設定するため、X開始点とY
開始点に、それぞれ、所定の値f(本実施例では200画
素分)を加算し、その範囲内で、前記孔位置測定の際の
2値化像についての暗部を示す画素数をカウントする
(S523)。これによって、孔部分の画素数が求められた
ことになり、その画素数に1画素の面積を示す値h(本
実施例では0.33μm×0.33μm)を乗ずることで、孔面
積とする(S524)。
First, in order to set the start point of area measurement from the hole positions X and Y obtained as described above, predetermined values e 1 and e 2 (both 100 pixels in this embodiment) are subtracted (S520). , S521, S52
2). Then, to set the measurement range, the X start point and Y
A predetermined value f (200 pixels in this embodiment) is added to each of the starting points, and within that range, the number of pixels indicating the dark portion in the binarized image at the time of measuring the hole position is counted ( S523). As a result, the number of pixels in the hole is obtained, and the number of pixels is multiplied by the value h (0.33 μm × 0.33 μm in this embodiment) indicating the area of one pixel to obtain the hole area (S524). ).

このようにして求めた2つの孔H2,H63の孔面積のデー
タは制御系200へ転送される。
The data of the hole areas of the two holes H 2 and H 63 thus obtained are transferred to the control system 200.

制御系200では、転送された孔面積データにより一定
計算式に基き、レーザ光源10への印加電圧を決めケーブ
ルS3およびインターフェース203を介してレーザ光源10
へ転送する。これにより、次のワークWを加工する際の
レーザ光源10への印加電圧が決定する。この方法でも、
孔面積を一定にすることが可能である。
In the control system 200, the voltage applied to the laser light source 10 is determined based on a fixed calculation formula based on the transferred hole area data, and the laser light source 10 is transmitted via the cable S3 and the interface 203.
Transfer to This determines the voltage applied to the laser light source 10 when processing the next work W. Even with this method,
It is possible to keep the pore area constant.

また、孔の面積については、孔開け加工の際のマスク
30の照明光の分布は重要で、その分布にバラツキがある
と孔径がバラツキ、印字にムラを生じる。そこで、第27
図に示すように、フィールドレンズ27とマスク30の間に
ビームスプリッタ191をおき、光軸に対し垂直に、光量
の数%を反射させる。そして、この反射光の光軸上で、
マスク30の位置と等価の位置に、ラインセンサ192の受
光面をおき、さらに、該ラインセンサ192とハーフミラ
ー191との間の前記反射光の光軸上に減光及び可視光を
カットするフィルタ193を入れたパワー測定器190を配置
する。このパワー測定器190から、マスク30に当ってい
る照明光量を示す前記ラインセンサ192の出力を、増幅
器194およびA/D変換器195を介して制御系200に伝え、マ
スク30の第1番目の穴から第64番目の穴にあったている
光の分布を測定し、第28図に示すようなMAX値とMIN値の
差が一定値に入っていることを確認する。もし一定値に
入っていないときには制御系200が異常の発生を表示器2
01に表示して、孔開け加工機を停止させる。
Also, regarding the area of the holes, the
The distribution of the illumination light of 30 is important, and if the distribution is uneven, the hole diameter is uneven and the printing is uneven. Therefore, the 27th
As shown in the figure, a beam splitter 191 is placed between the field lens 27 and the mask 30 to reflect a few% of the light quantity perpendicularly to the optical axis. And on the optical axis of this reflected light,
A light receiving surface of the line sensor 192 is placed at a position equivalent to the position of the mask 30, and a filter that cuts out dimming and visible light on the optical axis of the reflected light between the line sensor 192 and the half mirror 191. A power measuring device 190 containing 193 is arranged. The output of the line sensor 192 indicating the amount of illumination light hitting the mask 30 is transmitted from the power measuring device 190 to the control system 200 via the amplifier 194 and the A / D converter 195, and the first mask of the mask 30 is transmitted. Measure the distribution of light falling from the hole to the 64th hole and confirm that the difference between the MAX and MIN values as shown in Fig. 28 is within a certain value. If it is not within a certain value, the control system 200 indicates that an error has occurred.
Display on 01 and stop the drilling machine.

次に、本実施例のレーザ孔開け加工機による一連の孔
開け動作について、第29図に示すフローチャートに沿っ
て説明する。
Next, a series of drilling operations by the laser drilling machine of this embodiment will be described with reference to the flowchart shown in FIG.

まず、位置決め治具40上に孔開け加工済のワークWが
あればオートハンド100によって排出し(S530)、新た
に未加工の第1,第2の2つのワークWをオートハンド10
0によって前記位置決め治具40上に供給する(S531。)
第1,第2のワークWが位置決め治具40上に装着される
と、バキューム穴401によって、それぞれバキューム吸
引した後、突き当て機構408,409,410によって固定する
(S532)。
First, if there is a work W that has been machined on the positioning jig 40, it is discharged by the auto hand 100 (S530), and the newly unprocessed first and second two work W are processed by the auto hand 10.
It is supplied onto the positioning jig 40 by 0 (S531.)
When the first and second works W are mounted on the positioning jig 40, they are vacuum sucked by the vacuum holes 401, respectively, and then fixed by the abutting mechanisms 408, 409, 410 (S532).

ここで、上述のステップS530〜S532におけるワークW
の排出、供給と該ワークWの位置決め治具40上での突き
当て固定までの操作を、第30図に示すフローチャートに
沿って説明する。
Here, the work W in steps S530 to S532 described above.
The operations from the discharge and supply of the workpiece W to the abutting and fixing of the workpiece W on the positioning jig 40 will be described with reference to the flowchart shown in FIG.

オートハンド100は、前述したように、供給側と排出
側の2つのフィンガーを備えているため、加工済の2つ
のワークWの排出と未加工の2つのワークWの供給を同
時に行なう。
As described above, the auto hand 100 has the two fingers on the supply side and the discharge side, and therefore discharges the two processed works W and supplies the two unprocessed works W at the same time.

まず、以前に、位置決め治具40上に供給した2つの未
加工ワークWについての孔開けが行なわれている間、前
記オートハンド100は、次に孔開けを行なおうとする未
加工の第1,第2の2つのワークWを供給側フィンガーで
バキューム吸着により保持して、前記位置決め治具40の
上方で待機している。
First, while the two unworked workpieces W that have been supplied onto the positioning jig 40 are being previously drilled, the auto hand 100 is the first unworked workpiece that is to be drilled next. Then, the second two works W are held by vacuum suction by the supply-side fingers and stand by above the positioning jig 40.

そして、位置決め治具40上の2つのワークWに対する
孔開けが終了して、AHコントローラ103を介して完了信
号が入力されると(S580)、前記オートハンド100は位
置決め治具40のワークWの位置まで下降する(S581)。
このとき、位置決め治具40においては、突き当て機構40
5,406,407による加工済ワークWの突き当て固定を解除
するとともに(S582)、バキューム穴401を介したバキ
ューム吸引を解除する(S584)。その後、オートハンド
100の排出側フィンガーのバキューム吸引によって2つ
の加工済ワークWをバキューム吸着する(S584)。つづ
いて、オートハンド100の供給側フィンガーを位置決め
治具40のワーク供給位置へ移動させて該オートハンド10
0を下降させる(S585,S586)。そして、オートハンド10
0による未加工の第1,第2のワークWのバキューム吸引
を解除して(S587)、該第1,第2のワークWを位置決め
治具40へ渡す。位置決め治具40では、バキューム穴401
を介して第1,第2のワークWをそれぞれバキューム吸着
し(S588)、さらに、突き当て機構407を駆動してレー
ザ光軸方向からの第1,第2の2つのワークWの突き当て
を行ない(S589)、その後、第1,第2のワークWそれぞ
れに対応する突き当て機構405,406を駆動して孔の並び
方向からの突き当てを行なって(S590)、位置決め治具
40上に供給された第1,第2のワークWを固定する。
Then, when the holes for the two workpieces W on the positioning jig 40 are completed and a completion signal is input via the AH controller 103 (S580), the auto hand 100 causes the workpiece W on the positioning jig 40 to move. It descends to the position (S581).
At this time, in the positioning jig 40, the abutting mechanism 40
The abutting and fixing of the processed work W by 5,406,407 is released (S582), and the vacuum suction through the vacuum hole 401 is released (S584). Then auto hand
The two processed workpieces W are vacuum-sucked by vacuum suction of 100 discharge side fingers (S584). Subsequently, the supply side finger of the auto hand 100 is moved to the work supply position of the positioning jig 40 to move the auto hand 10
Decrease 0 (S585, S586). And the auto hand 10
The vacuum suction of the unprocessed first and second workpieces W by 0 is released (S587), and the first and second workpieces W are transferred to the positioning jig 40. The positioning jig 40 has a vacuum hole 401
Vacuum suction of the first and second workpieces W respectively via (S588), and further drive the abutting mechanism 407 to abut the two workpieces W from the laser optical axis direction. After that (S589), the abutting mechanisms 405 and 406 corresponding to the first and second works W are driven to perform abutting from the direction in which the holes are arranged (S590), and the positioning jig
The first and second workpieces W supplied on the 40 are fixed.

上述のようにして固定された第1,第2の2つのワーク
Wに対し、まず、第1のワークWについて、前述の第12
図に示した方法で画像処理系208,209による溝孔G2,G63
の溝位置の測定を行なう(S533)。各溝孔G2,G63の測定
が終了すると、制御系200によって、測定した2つの溝
位置とそれらに対応する孔位置を示す基準値との比較が
行なわれて、溝位置のずれ量が所定の規格内か否か判断
する(S534,535)。規格内に入っていなければ、前記ず
れ量に基づいて移動系コントローラ206を介して移動ス
テージ120を駆動して溝位置が前記基準値の規格内に入
るように移動させる(S536)。前記ステップS534,S535
での判断において、溝位置が規格から外れていた場合、
その回数をカウントしており、その回数が所定の回数
(本実施例では10回とする)に達するまでは、ステップ
S533以降の操作を繰返す(S537)。所定回数(10回)を
越えた場合は、表示器201にて異常の発生を表示して(S
558)レーザ孔開け加工機を停止させ、リスタートの指
示を待つ(S559)。前記ステップS535の判断にて溝位置
が規格内であると判定された場合、透過照明系60のシャ
ッター65を駆動して透過照明光Q1を遮断するとともに、
エアシリンダ63を駆動して45゜ミラー62をレーザ光軸上
から退避させ(S538,S539)、さらに、反射光学系74,84
のシャッター75,85を、駆動して該反射光学系74,84の出
射光路上から除去する(S540)。その後、レーザ光源10
を発光させ(S541)、2秒後、発光を停止させる(S54
2,S543)。このとき、第1のワークWについての孔開け
が終了したことになる。
For the first and second workpieces W fixed as described above, first, for the first workpiece W,
Grooves G 2 and G 63 by the image processing system 208 and 209 by the method shown in the figure.
The groove position of is measured (S533). When the measurement of the respective groove holes G 2 and G 63 is completed, the control system 200 compares the measured two groove positions with the reference values indicating the hole positions corresponding to them, and the deviation amount of the groove positions is determined. It is determined whether or not it is within a predetermined standard (S534,535). If it is not within the standard, the moving stage 120 is driven based on the displacement amount via the moving system controller 206 to move the groove position so as to be within the standard of the reference value (S536). Steps S534, S535
If the groove position is out of the standard,
The number of times is counted, and until the number of times reaches a predetermined number (10 times in this embodiment), step
The operations after S533 are repeated (S537). If the specified number of times (10 times) has been exceeded, an error is displayed on the display 201 and the
558) Stop the laser drilling machine and wait for a restart instruction (S559). When it is determined that the groove position is within the standard in the determination in step S535, the shutter 65 of the transillumination system 60 is driven to block the transillumination light Q 1 .
The air cylinder 63 is driven to retract the 45 ° mirror 62 from the laser optical axis (S538, S539), and the reflection optical system 74, 84
The shutters 75 and 85 are driven to remove them from the emission optical paths of the reflection optical systems 74 and 84 (S540). Then the laser light source 10
Light is emitted (S541), and 2 seconds later, the light emission is stopped (S54
2, S543). At this time, the boring of the first work W is completed.

そして、第1のワークWに開けた孔の中心位置および
面積を測定するため、移動ステージ120をレーザ光軸方
向(Y方向)へ板状部材W3の厚さ分レーザ光源側へ移動
させる(S544)。この移動は、孔位置および孔面積は、
前述したように、反レーザ光源側の反射光学系74,84か
らの照明光によって第1のワークWを照明して測定する
ため、前記孔の像の、ITV71,81に対する焦点が、前記溝
孔位置の測定の際の、透過照明系60からの透過照明光Q1
によって第1のワークWが照明されることで生じる溝孔
の像の、ITV71,81に対する焦点と、板状部材W3の厚さ分
ずれるからである。
Then, in order to measure the center position and area of the holes made in the first work W, moves the moving stage 120 to the laser optical axis direction (Y-direction) of the plate member W 3 to the thickness of the laser light source side ( S544). In this movement, the hole position and hole area are
As described above, since the first work W is illuminated and measured with the illumination light from the reflection optical systems 74 and 84 on the side opposite to the laser light source, the focus of the image of the hole with respect to the ITV 71 and 81 is the groove hole. Transmitted illumination light Q1 from transmitted illumination system 60 when measuring position
This is because the focus on the ITVs 71 and 81 of the image of the slot formed by illuminating the first work W due to is shifted by the thickness of the plate-shaped member W 3 .

この移動ステージ120によるレーザ光源側への移動が
完了した後、前述の第19図および第26図に示した方法に
よって加工孔の中心位置および面積を測定する(S54
5)。この両者の測定が終了すると、RAM202に格納され
ている孔位置の基準値を、今回測定した加工孔の中心位
置を示す値に書換えるとともに、測定した加工孔面積の
大小に応じて、レーザ光源10の駆動用の印加電圧を設定
する(S546,547)。
After the movement to the laser light source side by the moving stage 120 is completed, the center position and the area of the processed hole are measured by the method shown in FIGS. 19 and 26 described above (S54
Five). When the measurement of both is completed, the reference value of the hole position stored in RAM202 is rewritten to the value indicating the center position of the measured hole this time, and the laser light source is changed according to the size of the measured hole area. The applied voltage for driving 10 is set (S546, 547).

この時点で第1のワークWについての操作は終了した
ことになる。
At this point, the operation on the first work W is completed.

つづいて、第2のワークWについて孔を開けるため、
移動ステージ120を孔の並び方向(X方向)に移動させ
て前記第2のワークWをレーザ光軸上に配置させる(S5
48)。その後、第2のワークWの溝孔位置を測定するた
め、透過照明系60のシャッター65を、駆動して透過照明
光路上から除去するとともに、エアシリンダ63を駆動し
て透過照明系60の45゜ミラー62をレーザ光軸上に移動さ
せ(S549,S550)、さらに、前記反射光学系74のシャッ
ター75を駆動して該反射光学系74の出射光を遮断させる
(S551)。そして、移動ステージ120を、レーザ光軸方
向(Y方向)に板状部材W3の厚さ分反レーザ光源側へ移
動させた後(S552)、同様にして溝孔G2,G63の位置を測
定する(S553)。
Next, to make a hole in the second work W,
The moving stage 120 is moved in the hole arrangement direction (X direction) so that the second work W is arranged on the laser optical axis (S5).
48). After that, in order to measure the position of the groove of the second work W, the shutter 65 of the transmissive illumination system 60 is driven to be removed from the transmitted illumination optical path, and the air cylinder 63 is driven to drive the shutter 45 of the transmissive illumination system 60. The mirror 62 is moved on the optical axis of the laser (S549, S550), and the shutter 75 of the reflection optical system 74 is driven to block the light emitted from the reflection optical system 74 (S551). Then, after moving the moving stage 120 to the side opposite to the laser light source by the thickness of the plate member W 3 in the laser optical axis direction (Y direction) (S552), the positions of the groove holes G 2 and G 63 are similarly set. Is measured (S553).

測定した溝位置については、前記第1のワークWの場
合と同様にRAM202に格納されている基準値と比較してそ
れらのずれ量が所定の規格内に入っているか否か判断す
る(S554,S555)。測定した溝位置が規格に入っていな
ければ、同様に該溝位置が基準値の示す孔の中心位置に
一致するように移動ステージ120を移動させる(S55
6)。この操作(S553〜S556)は、測定した溝位置が前
記規格内に入らなければ所定回数(10回)まで繰返され
るが(S557)、その回数(10回)を越えると、表示器20
1に異常の発生を表示し(S558)、レーザ孔開け加工機
を停止してリスタートの指示を待つ(S559)。
The measured groove position is compared with the reference value stored in the RAM 202 as in the case of the first work W, and it is determined whether or not the deviation amount is within a predetermined standard (S554, S555). If the measured groove position is not within the standard, similarly, the moving stage 120 is moved so that the groove position coincides with the center position of the hole indicated by the reference value (S55).
6). This operation (S553 to S556) is repeated up to a predetermined number of times (10 times) unless the measured groove position falls within the standard (S557).
The occurrence of an abnormality is displayed in 1 (S558), the laser drilling machine is stopped, and a restart instruction is waited for (S559).

測定した溝位置が基準値の規格内であれば、前記第1
のワークWの場合の操作(S538〜S547)と同一の操作
(S560〜569)を行なって、第2のワークWへ孔を開
け、その孔の位置および面積を測定して、孔位置を示
す、RAM202内の基準値を書換えるとともに、レーザ光源
10に対する印加電圧を前記孔の面積に応じて設定する。
If the measured groove position is within the standard of the reference value, the first
Performing the same operation (S560 to 569) as the operation (S538 to S547) in the case of the workpiece W, a hole is made in the second workpiece W, and the position and area of the hole are measured to indicate the hole position. , Rewrite the reference value in RAM202, laser light source
The applied voltage to 10 is set according to the area of the hole.

この時点で、第2のワークWに対する操作は終了した
ことになる。
At this point, the operation on the second work W is completed.

その後、移動ステージ120を孔の並び方向(X方向)
へ移動させて第1のワークWを最初の位置へ戻す(S57
0)。そして、透過照明系60のシャッター65を透過照明
光路上から除去するとともに、エアシリンダ63を駆動し
て45゜ミラー62をレーザ光軸上に移動させ(S571,S57
2)、さらに、反射光学系74,84のシャッター75,85を駆
動して該反射光学系74,84の出射光を遮断させる(S57
3)。つづいて、移動ステージ120をレーザ光軸方向(Y
方向)に板状部材W3の厚さ分反レーザ光源側へ移動させ
た後(S574)、未加工のワークWがあれば、前述したス
テップS530以降の操作を繰返して孔開け加工を行なう。
After that, move the moving stage 120 in the direction of the holes (X direction).
To return the first work W to the initial position (S57
0). Then, the shutter 65 of the transmitted illumination system 60 is removed from the transmitted illumination optical path, and the air cylinder 63 is driven to move the 45 ° mirror 62 on the laser optical axis (S571, S57
2) Further, the shutters 75 and 85 of the reflection optical systems 74 and 84 are driven to block the light emitted from the reflection optical systems 74 and 84 (S57
3). Subsequently, the moving stage 120 is moved in the laser optical axis direction (Y
After moving in the direction) to the thickness of the anti-laser light source side of the plate member W 3 (S574), if there is unprocessed workpiece W, for machining drilled repeat the operation from step S530 mentioned above.

上述の孔開け動作中に、前記パワー測定器190(第27
図参照)を用いて、マスク30のマスク穴31に対して照射
されているレーザ光の分布を測定してもよい。
During the punching operation described above, the power measuring device 190 (27th
(See the drawing) may be used to measure the distribution of the laser light with which the mask hole 31 of the mask 30 is irradiated.

また、孔位置を示す基準値については、ワークWと同
一形状のダミー部材に、予め孔を開け、その孔の中心位
置を測定してその測定値を前記基準値としてRAM202内に
予め格納してもよい。
As for the reference value indicating the hole position, a hole is previously formed in a dummy member having the same shape as the work W, the center position of the hole is measured, and the measured value is stored in advance in the RAM 202 as the reference value. Good.

前述した照明光学系20のレンズ群21〜25はフライアイ
レンズ26にレーザ光束をあわせるための光学系である
が、これを第31図の様に構成してもかまわない。
The lens groups 21 to 25 of the illumination optical system 20 described above are optical systems for adjusting the laser light flux to the fly-eye lens 26, but this may be configured as shown in FIG.

これは、レーザ光源10から出射するレーザ光Pを、そ
のレーザ光軸と孔の並び方向とでつくる平面に対し垂直
な方向に3つに分けるプリズム311,312を配置したもの
で、3つのビームはフライアイレンズ26の光軸にあるよ
うに前記平面に対して垂直な方向に所定の間隔で分けな
ければならない。フライアイレンズ26は、前述のように
6φのレンズを組合せているので、その光軸の間隔は前
記平面に対して垂直な方向に5.2mm離れている。光束の
巾はその方向に6mmなので、2mmずつ3本に分ける。もと
もとビーム間は2mm離れているので、プリズム311,312に
より3.2mmビームを離さなければならない。
This is an arrangement in which prisms 311 and 312 which divide the laser light P emitted from the laser light source 10 into three in a direction perpendicular to the plane formed by the laser optical axis and the arrangement direction of the holes are arranged. It must be divided at a predetermined interval in a direction perpendicular to the plane as on the optical axis of the eye lens 26. Since the fly-eye lens 26 is a combination of 6φ lenses as described above, the distance between its optical axes is 5.2 mm apart in the direction perpendicular to the plane. The width of the luminous flux is 6 mm in that direction, so divide it into 3 parts by 2 mm. Since the beams are originally separated by 2 mm, it is necessary to separate the 3.2 mm beams by the prisms 311 and 312.

プリズム311,312はレーザ光の入射面と出射面が平行
なものであり、マスク穴31の並び方向に回転軸をもつ回
転方向に回転させてビーム間隔が5.2mmとなるように前
記レーザ光を3本のビームに分割する。第32図は上述の
プリズム311,312を設けた場合にフライアイレンズ46に
入射するビームを示している。
The prisms 311 and 312 are such that the incident surface and the exit surface of the laser light are parallel to each other, and the three laser light beams are rotated so that the beam interval becomes 5.2 mm by rotating in a rotation direction having a rotation axis in the alignment direction of the mask holes 31. Split into beams. FIG. 32 shows a beam incident on the fly-eye lens 46 when the prisms 311 and 312 are provided.

また、前記プリズム311,312とレーザ光源10との間の
光軸上に、第33図に示すように、凸レンズ331および凹
レンズ332からなる、ビーム形状を圧縮する圧縮光学系3
30を配置してもかまわない。
Further, on the optical axis between the prisms 311 and 312 and the laser light source 10, as shown in FIG. 33, a compression optical system 3 for compressing the beam shape, which comprises a convex lens 331 and a concave lens 332.
You can place 30.

本実施例でレーザ光源10として用いたエキシマレーザ
は、紫外光を発振できるレーザであり、高強度のエネル
ギーを出力でき、単色性に優れ、指向性がよく、短パル
ス発振ができるだけでなく、レンズで集光することによ
りエネルギー密度を大きくできる利点がある。すなわ
ち、エミシマレーザ発振器は希ガスとハロゲンの混合気
体を放電励起することで、短パルス(15〜35ns)の紫外
光を発振でき、Kr−F,Xe−Cl,Ar−Fレーザなどがよく
用いられる。これらの発振エネルギーは数100mj/パル
ス、パルスの繰返し周波数30〜1000Hzである。このよう
に、高輝度の短パルス紫外光をポリマー樹脂の表面に照
射すると、照射部分が瞬間的にプラズマ発光と衝撃音を
伴って分解、飛散する。所謂“ABLATIVE PHOTODECOMPOS
ITION(APD)”過程を生じ、これによってポリマー樹脂
の孔開け加工ができるのである。これは、他のレーザ、
例えば赤外線であるCO2レーザによる孔開けの場合と、
明らかな差を生じる。例えば、ポリイミド(PI)フィル
ムにエキシマレーザ(KrFレーザ)を用いてレーザ光を
照射するとPIフィルムの光吸収波長がUV領域にあるた
め、きれいな孔を開けることができるが、UV領域にない
従来のYAGレーザでは孔のエッジが荒れ、CO2のレーザで
は孔の周囲にクレータができるのである。
The excimer laser used as the laser light source 10 in the present embodiment is a laser capable of oscillating ultraviolet light, capable of outputting high-intensity energy, excellent in monochromaticity, good directivity, not only short pulse oscillation, but also a lens. There is an advantage that the energy density can be increased by condensing with. That is, the Emissima laser oscillator can oscillate a short pulse (15 to 35 ns) ultraviolet light by discharge-exciting a mixed gas of a rare gas and a halogen, and a Kr-F, Xe-Cl, Ar-F laser or the like is often used. . The oscillation energy is several 100 mj / pulse, and the pulse repetition frequency is 30 to 1000 Hz. Thus, when the surface of the polymer resin is irradiated with high-intensity short-pulse ultraviolet light, the irradiated portion is instantaneously decomposed and scattered with plasma emission and impact noise. So-called "ABLATIVE PHOTODECOMPOS
ITION (APD) ”process, which allows the perforation of polymer resins.
For example, when drilling with a CO 2 laser that is infrared,
It makes a clear difference. For example, when a polyimide (PI) film is irradiated with a laser beam using an excimer laser (KrF laser), the PI film has a light absorption wavelength in the UV region, so a clean hole can be made, but the conventional The YAG laser has rough edges, and the CO 2 laser creates craters around the holes.

なお、SUSなどの金属、不透明なセラミックス、Siな
どは大気の雰囲気において、エキシマレーザーのレーザ
光を照射されても影響をうけないことから、上述のマス
ク30の材料として適用できる。
Metals such as SUS, opaque ceramics, Si, and the like are not affected even when irradiated with laser light of an excimer laser in the atmosphere, and thus can be applied as the material of the mask 30 described above.

次に実際に、このようなエキシマレーザを用いたレー
ザ孔開け加工機における実績を例示する。
Next, actual results of a laser drilling machine using such an excimer laser will be exemplified.

(実施1) ここで使用されたワークWは天部材W2にピッチ70.5μ
m、溝孔Gの幅4.3μm、溝孔Gの高さ45μmであると
共に、板状部材W3の吐出口径31μmφを形成するに当
り、エキシマレーザにINDEX200K(ルモニクス社製)を
用いて、レーザ出力250mj/パルス、繰返し周波数200H
z、発振時間2秒で加工した時、下記の表1のような成
績を得ている。なお、この時の板状部材W3の厚さは40〜
45μm、材質はポリサルフォンである。また、比較のた
め、従来例との加工精度な差を明らかにした(表1参
照)。
(Example 1) The work W used here has a pitch of 70.5μ on the top member W 2.
m, the width of the groove G is 4.3 μm, the height of the groove G is 45 μm, and in forming the discharge port diameter 31 μmφ of the plate-shaped member W 3, an INDEX200K (made by Lumonix) laser is used as an excimer laser. Output 250mj / pulse, repetition frequency 200H
When processed with z and oscillation time of 2 seconds, the results shown in Table 1 below are obtained. The thickness of the plate member W 3 at this time is 40 to
45μm, the material is polysulfone. For comparison, the difference in processing accuracy from the conventional example was clarified (see Table 1).

表1から明らかなように、本例のレーザ孔開け加工機
を用いて孔開けを実施した場合、オリフィスの面積のバ
ラ付き、形状の形態は、従来に比べて相当向上してい
る。これは当然、本例のレーザ孔開け加工機によって作
られたインクジェットヘッドの性能をも向上させること
になる。すなわち、液滴の吐出量および吐出方向が均一
となり、文字、図形などが鮮明で、形崩れしないのであ
る。
As is clear from Table 1, when the laser boring machine of this example is used for boring, the area of the orifice varies and the shape and shape are considerably improved as compared with the conventional case. This naturally also improves the performance of the inkjet head made by the laser punching machine of this example. That is, the ejection amount and the ejection direction of the droplets become uniform, and the characters and figures are clear and do not lose their shapes.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明は、以上説明したように構成されているので、
下記のような効果を奏する。
Since the present invention is configured as described above,
The following effects are obtained.

(1)本発明の、孔開け加工位置の位置合わせ方法によ
れば、開けようとする複数の孔に対応した光束に対する
加工位置の位置合わせを、複数の加工位置について同時
に行なうことができるので、孔開け加工についてのセッ
ティングにおいて、無駄な時間が削減され、作業能率を
大幅に向上させることができる。
(1) According to the hole processing position alignment method of the present invention, it is possible to simultaneously perform the position adjustment of the processing positions with respect to the light beams corresponding to the plurality of holes to be opened. It is possible to significantly reduce work efficiency by reducing wasteful time in setting for drilling.

(2)本発明のレーザ孔開け加工機によれば、同時に複
数の加工位置についての位置合わせが行なえるととも
に、位置合わせされた、複数の加工位置に対して、レー
ザ光束を照射して同時に孔開けを行なうので、均一な孔
を効率的に形成することが可能となる。
(2) According to the laser drilling machine of the present invention, it is possible to perform positioning for a plurality of processing positions at the same time, and to irradiate a laser beam to a plurality of aligned processing positions at the same time. Since the holes are opened, uniform holes can be efficiently formed.

(3)ワークの位置合わせが加工機によって自動的に行
なわれるので、作業者がレーザ光の危険にさらされるこ
とがなくなくり、孔開け作業の安全性が確保される。
(3) Since the positioning of the work is automatically performed by the processing machine, the worker is not exposed to the danger of the laser light, and the safety of the drilling work is ensured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図(a),(b)は、それぞれ、本発明のレーザ孔
開け加工機の一実施例を示す平面図および側面図、第2
図(a),(b),(c)はそれぞれ、孔開け加工後の
ワークWの一例を示す斜視図、断面図および正面図、第
3図(a)は照明光学系の光路を示す図、第3図(b)
は照明光学系の楕円マスクを示す正面図、第3図(c)
は照明光学系の凹および凸シリンドリカルレンズの位置
を示す図、第4図(a),(b)は、それぞれ、照明光
学系のフライアイレンズを示す正面図および側面図、第
5図は照明光学系の光路を示す図、第6図はマスクを示
す斜視図、第7図(a)は位置決め治具を示す側面図、
第7図(b)は、位置決め治具のバキューム穴を示す平
面図、第7図(c)は、位置決め治具のワーク吸着機構
を示すブロック図、第8図は位置決め治具の突き当て機
構を示す平面図、第9図は透過照明系の構成を示す図、
第10図はワークの一例を示す斜視図、第11図(a)は測
定光学系を示す平面図、第11図(b)は、調整手段を示
す側面図、第11図(c)は、測定光学系のAF回路を示す
図、第12図は画像処理系の溝位置測定の動作を示すフロ
ーチャート、第13図(a),(b),(c)は、インダ
ストリアルテレビに映した溝孔の像を示す正面図、第13
図(d),(e),(f),(g)は、それぞれ、溝孔
の像を映した際のインダストリアルテレビの画素の明る
さの分布を示す特性図、第14図(a),(b),
(c),(d)は、画像処理系のフィルタリング処理を
示す図、第15図は、オートハンドを示す断面図、第16図
は、インクジェットヘッドからインクを吐出して形成し
た印字ドットを示す図、第17図(a),(b)はインク
ジェットヘッドを示す斜視図および断面図、第18図
(a)は、インクジェットヘッドの吐出口を示す正面
図、第18図(b)はインクジェットヘッドの吐出口に通
ずる溝孔を示す断面図、第19図は画像処理系の孔位置測
定の動作を示すフローチャート、第20図はインダストリ
アルテレビに映した孔の像を示す図、第21図は孔の像を
映した際のインダストリアルテレビの画素の明るさの頻
度を示す特性図、第22図は画像信号の2値化によって形
成した、孔の2値化像を示す図、第23図はレーザ光によ
って開けた孔の一例を示す断面図、第24図は、レーザパ
ワーと孔面積との関係を示す特性図、第25図(a)はパ
ワーセンサを示すブロック図、第25図(b)はパワーセ
ンサを示す正面図、第25図(c)はレーザ光源への印加
電圧とレーザパワーとの関係を示す特性図、第26図は画
像処理系の孔面積測定の動作を示すフローチャート、第
27図はパワー測定器を示すブロック図、第28図はマスク
に対するレーザ光の照明分布を示す特性図、第29図は本
発明のレーザ孔開け加工機の動作の一例を示すフローチ
ャート、第30図はオートハンドによるワークの供給、排
出および位置決め治具による突き当て動作を示すフロー
チャート、第31図は照明光学系の第2実施例を示す図、
第32図は照明光学系のフライアイレンズに入射するレー
ザ光の一例を示す図、第33図は照明光学系の第3実施例
を示す図である。 10……レーザ光源、20……照明光学系、 21……楕円マスク、 22……凹シリンドリカルレンズ、 23……凸シリンドリカルレンズ、 24,261……凸レンズ、 25……凹レンズ、 26……フライアイレンズ、 27……フィールドレンズ、 30……マスク、 31,113,211……マスク穴、 32……マスク位置調整機構、 40……位置決め治具、50……投影光学系、 51……縮小投影レンズ、60……透過照明系、 61……光ファイバ、62……45゜ミラー、 63,64,408,409,410……エアーシリンダ、 65,75,85……シャッター、 66……ミラー、 70,80……測定光学系、 71,81……インダストリアルテレビ、 72,82……対物レンズ、 73,83,……ハーフミラー、 74,84……反射光学系、 76,86……調整手段、 77,87……オートフォーカスユニット、 90……装置フレーム、 100……オートハンド、 101,102……吸引口、 103……オートハンドコントローラ、 110……パワーセンサ、 111……パワーメータ、 112……アルミマスク、 114,191……ビームスプリッタ、 115,195……A/D変換器、 120,761,762,763,861,862,863……移動ステージ、 141……吐出口、 142……オリフィスプレート、 143……ヒータボード、144……配線材、 161……出射径、162……入射径、 190……パワー測定器、 192……ラインセンサ、 193……フィルタ、194……増幅器、 200……制御系、201……表示器、 202……RAM、 203,204,205,207……インターフェース、 206……移動系コントローラ、 208,209……画像処理系、 311,312……ブリズム、 401……バキューム穴、 402……バキュームソレノイド、 403……バキュームセンサ、 404……位置決め基準、 405,406,407……突き当て機構、 411,412,413……ソレノイドバルブ。
1 (a) and 1 (b) are a plan view and a side view, respectively, showing an embodiment of a laser drilling machine of the present invention, and FIG.
Drawings (a), (b), and (c) are a perspective view, a sectional view, and a front view showing an example of work W after perforation processing, respectively, and Drawing 3 (a) is a figure showing an optical path of an illumination optical system. , Fig. 3 (b)
Is a front view showing an elliptical mask of the illumination optical system, and FIG. 3 (c).
Is a diagram showing the positions of the concave and convex cylindrical lenses of the illumination optical system, FIGS. 4 (a) and 4 (b) are a front view and a side view showing the fly-eye lens of the illumination optical system, and FIG. The figure which shows the optical path of an optical system, FIG. 6 is a perspective view which shows a mask, FIG. 7 (a) is a side view which shows a positioning jig,
7 (b) is a plan view showing the vacuum holes of the positioning jig, FIG. 7 (c) is a block diagram showing the workpiece suction mechanism of the positioning jig, and FIG. 8 is an abutting mechanism of the positioning jig. FIG. 9 is a plan view showing the configuration of FIG.
FIG. 10 is a perspective view showing an example of the work, FIG. 11 (a) is a plan view showing the measurement optical system, FIG. 11 (b) is a side view showing the adjusting means, and FIG. 11 (c) is The figure which shows the AF circuit of the measurement optical system, the figure 12 is the flowchart which shows the operation of the groove position measurement of the image processing system, the figure 13 (a), (b) and (c) is the slot which is reflected in the industrial television Front view showing the statue of No. 13
Figures (d), (e), (f), and (g) are characteristic diagrams showing the distribution of the brightness of the pixels of the industrial television when the image of the slot is projected, respectively, and Fig. 14 (a), (B),
(C) and (d) are diagrams showing a filtering process of the image processing system, FIG. 15 is a sectional view showing an auto hand, and FIG. 16 is a print dot formed by ejecting ink from an inkjet head. FIGS. 17 (a) and 17 (b) are perspective views and cross-sectional views showing an inkjet head, FIG. 18 (a) is a front view showing ejection ports of the inkjet head, and FIG. 18 (b) is an inkjet head. FIG. 19 is a sectional view showing a slot hole communicating with the discharge port of FIG. 19, FIG. 19 is a flowchart showing the operation of hole position measurement of the image processing system, FIG. 20 is a view showing an image of the hole projected on the industrial television, and FIG. 21 is a hole. Fig. 22 is a characteristic diagram showing the frequency of brightness of pixels of an industrial television when an image of Fig. 22 is displayed. Fig. 22 shows a binarized image of a hole formed by binarizing an image signal. Fig. 23 shows a laser. Cross section showing an example of a hole opened by light , FIG. 24 is a characteristic diagram showing the relationship between laser power and hole area, FIG. 25 (a) is a block diagram showing the power sensor, FIG. 25 (b) is a front view showing the power sensor, and FIG. (C) is a characteristic diagram showing the relationship between the voltage applied to the laser light source and the laser power, and FIG. 26 is a flow chart showing the operation of the hole area measurement of the image processing system.
FIG. 27 is a block diagram showing a power measuring device, FIG. 28 is a characteristic diagram showing an illumination distribution of laser light on a mask, FIG. 29 is a flow chart showing an example of the operation of the laser drilling machine of the present invention, and FIG. Is a flow chart showing the supply and discharge of the work by the automatic hand and the abutting operation by the positioning jig, and FIG. 31 is a view showing the second embodiment of the illumination optical system,
FIG. 32 is a diagram showing an example of laser light incident on the fly-eye lens of the illumination optical system, and FIG. 33 is a diagram showing a third embodiment of the illumination optical system. 10 …… Laser light source, 20 …… Illumination optical system, 21 …… Ellipse mask, 22 …… Concave cylindrical lens, 23 …… Convex cylindrical lens, 24,261 …… Convex lens, 25 …… Concave lens, 26 …… Fly eye lens, 27 …… field lens, 30 …… mask, 31,113,211 …… mask hole, 32 …… mask position adjusting mechanism, 40 …… positioning jig, 50 …… projection optical system, 51 …… reduction projection lens, 60 …… transmission Illumination system, 61 …… Optical fiber, 62 …… 45 ° mirror, 63,64,408,409,410 …… Air cylinder, 65,75,85 …… Shutter, 66 …… Mirror, 70,80 …… Measurement optical system, 71,81 …… Industrial TV, 72,82 …… Objective lens, 73,83, …… Half mirror, 74,84 …… Reflective optical system, 76,86 …… Adjustment means, 77,87 …… Auto focus unit, 90… … Device frame, 100… Auto hand, 101, 102… Suction port, 103… Auto hand controller, 110 …… Power sensor, 111 …… Power meter, 112 …… Aluminum mask, 114,191 …… Beam splitter, 115,195 …… A / D converter, 120,761,762,763,861,862,863 …… Movement stage, 141 …… Discharge port, 142 ...... Orifice plate, 143 ...... Heater board, 144 ...... Wiring material, 161 …… Exit diameter, 162 …… Injection diameter, 190 …… Power measuring instrument, 192 …… Line sensor, 193 …… Filter, 194 …… Amplifier, 200 ... Control system, 201 ... Display, 202 ... RAM, 203,204,205,207 ... Interface, 206 ... Mobile system controller, 208,209 ... Image processing system, 311,312 ... Brism, 401 ... Vacuum hole, 402 …… Vacuum solenoid, 403 …… Vacuum sensor, 404 …… Positioning reference, 405,406,407 …… Abutting mechanism, 411,412,413 …… Solenoid valve.

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】レーザ光を用いてワークの加工面の所定の
加工位置に複数の孔を開ける際の、孔開け加工位置の位
置合わせ方法であって、 前記レーザ光は、開けようとする複数の孔に対応して所
望の光束に変換されて前記加工面の各加工位置に照射さ
れ、 該加工面に照射される、少なくとも2つの光束の中心位
置を位置基準値として定め、 前記ワークの加工面の、前記少なくとも2つの光束が照
射される各加工位置を測定し、 測定した加工位置を、対応する前記位置基準値と比較し
て加工位置と位置基準値との位置ずれ量を求め、 求めた位置ずれ量に基づいて前記ワークを移動させるこ
とを特徴とする、孔開け加工位置の位置合わせ方法。
1. A method of aligning a drilling processing position when drilling a plurality of holes at a predetermined processing position on a processing surface of a workpiece using laser light, wherein the laser light is a plurality of holes to be opened. Corresponding to each of the holes of the above-mentioned holes, and is irradiated to each processing position of the processing surface, and the center position of at least two light beams irradiated to the processing surface is set as a position reference value, and the processing of the workpiece is performed. Each processing position on the surface where the at least two light fluxes are irradiated is measured, and the measured processing position is compared with the corresponding position reference value to obtain a positional deviation amount between the processing position and the position reference value, A method for aligning a drilling position, wherein the work is moved based on the amount of positional deviation.
【請求項2】少なくとも2つの光束の中心位置を示す位
置基準値が、該光束によって、予め開けられた孔の中心
位置であることを特徴とする、孔開け加工位置の位置合
わせ方法。
2. A method for aligning a drilling position, wherein a position reference value indicating a center position of at least two light beams is a center position of a hole previously drilled by the light beams.
【請求項3】レーザ光源と、該レーザ光源が発するレー
ザ光を、移動ステージ上に装着されたワークの加工面に
照射するための投影光学系とを備えて、前記ワークの加
工面の所定の加工位置に複数の孔を開けるレーザ孔開け
加工機において、 前記レーザ光源と投影光学系との間に、前記レーザ光
を、開けようとする複数の孔に対応した所望のレーザ光
束に変換するためのマスクパターンが形成されたマスク
を配置し、 孔開け加工済ワークに開けられた加工孔の少なくとも2
個の孔中心位置を示す位置基準値が格納される記憶手段
と、 未加工ワークの加工面をレーザ光源側から照明するため
の透過照明系と、 前記孔開け加工済ワークの、前記少なくとも2個の加工
孔を反レーザ光源側から照明するための反射光学系と、 前記透過照明系によって前記未加工ワークの加工面を照
明した際、前記少なくとも2個の加工孔に対応する加工
位置を観測し、また、前記反射光学系によって前記孔開
け加工済ワークの少なくとも2個の加工孔を照明した
際、該加工孔を観測する観測光学系と、 該測定光学系が観測した前記加工位置それぞれを示す位
置測定値を求め、また、前記測定光学系が観測した加工
孔それぞれの孔中心位置を求める画像処理系と、 該画像処理系が求めた各位置測定値を、前記記憶手段に
格納されている、対応する位置基準値と比較して位置ず
れ量を算出し、算出した位置ずれ量に基づいて前記移動
ステージを駆動し、また、前記画像処理系が求めた孔中
心位置を前記位置基準値として前記記憶手段に格納する
制御系とを有することを特徴とするレーザ孔開け加工
機。
3. A laser light source, and a projection optical system for irradiating a laser beam emitted from the laser light source onto a processing surface of a work mounted on a moving stage, the projection surface of a predetermined surface of the processing surface of the work. In a laser drilling machine for drilling a plurality of holes at a processing position, for converting the laser light between the laser light source and the projection optical system into a desired laser light flux corresponding to the plurality of holes to be drilled. The mask on which the mask pattern of 1 is formed is placed, and at least 2 of the drilled holes in the drilled workpiece
Storage means for storing position reference values indicating individual hole center positions, a transillumination system for illuminating a machining surface of an unmachined work from the laser light source side, and at least two of the holes-processed works When the processed surface of the unprocessed workpiece is illuminated by the reflective optical system for illuminating the processed hole from the side opposite to the laser light source side, and the processed position corresponding to the at least two processed holes is observed. And an observation optical system for observing the processing holes when at least two processing holes of the drilled workpiece are illuminated by the reflection optical system, and the processing positions observed by the measurement optical system. An image processing system that obtains a position measurement value and also obtains a hole center position of each processed hole observed by the measurement optical system, and each position measurement value obtained by the image processing system are stored in the storage means. The position shift amount is calculated by comparing with the corresponding position reference value, the moving stage is driven based on the calculated position shift amount, and the hole center position obtained by the image processing system is used as the position reference value. A laser drilling machine having a control system stored in a storage means.
【請求項4】ワークがインク流路となる複数の溝孔が並
設されたインクジェットヘッドであり、 マスクには、前記インクジェットヘッドのオリフィスプ
レートに、前記複数の溝孔それぞれに通ずるインク吐出
口を形成するためのマスクパターンが形成されており、 画像処理系が求める位置測定値は前記溝孔の中心位置で
あることを特徴とする請求項3記載のレーザ孔開け加工
機。
4. A work is an ink jet head in which a plurality of groove holes serving as ink flow paths are arranged in parallel, and a mask is provided with an orifice plate of the ink jet head, and an ink discharge port communicating with each of the plurality of groove holes. 4. The laser drilling machine according to claim 3, wherein a mask pattern for forming is formed, and the position measurement value obtained by the image processing system is the center position of the groove hole.
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