JP2677432B2 - 成形用金型 - Google Patents

成形用金型

Info

Publication number
JP2677432B2
JP2677432B2 JP28587589A JP28587589A JP2677432B2 JP 2677432 B2 JP2677432 B2 JP 2677432B2 JP 28587589 A JP28587589 A JP 28587589A JP 28587589 A JP28587589 A JP 28587589A JP 2677432 B2 JP2677432 B2 JP 2677432B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mold
molding
cavity
present
injection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP28587589A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH03146318A (ja
Inventor
俊裕 近藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
Priority to JP28587589A priority Critical patent/JP2677432B2/ja
Publication of JPH03146318A publication Critical patent/JPH03146318A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2677432B2 publication Critical patent/JP2677432B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C45/00Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
    • B29C45/17Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
    • B29C45/26Moulds
    • B29C45/37Mould cavity walls, i.e. the inner surface forming the mould cavity, e.g. linings

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、成形用金型、特に合成樹脂製精密部品等
の射出成形用金型の改良に関するものである。
〔従来の技術〕
従来のこの種の合成樹脂製精密部品、例えばレンズ、
CD(コンパクトディスク)、光磁気(記録)ディスク,
磁気(記録)ディスク等の光学部品等の射出成形用金型
においては、成形品の溶融樹脂材料の冷却が遅くなり易
いリブやボス部分の冷却を促進するため、金型中、特に
これらの関連部分のみ、キャビティーを形成する金型材
料として、熱伝導率が比較的大きい、例えばベリリウム
銅等の銅合金が使用されていた。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、銅合金をこの種の金型のキャビティー
に使用する場合、これら銅合金は鉄系材料に比較して硬
度が低く、表面に傷等が入り易いため、金型のキャビテ
ィー全体を銅合金にすることは好ましくなく、前記のよ
うに特に必要な部分のみに制限されることを余儀なくさ
れていた。このため、金型におけるこれら部分的な銅合
金の挿入部の合わせ線部には、不連続のいわゆる“入れ
子線”が現れ、冷却速度に関連する温度勾配上からも、
これら挿入する銅合金の大きさ/質量等を考慮する必要
があり、そのバランス、調整が極めて困難であった。
この発明は、以上のような従来例のこの種の金型構成
の問題点にかんがみてなされたもので、溶融樹脂を均一
かつ迅速に冷却することができ、従って成形サイクルを
短縮することができるこの種の金型の提供を目的として
いる。
〔課題を解決するための手段〕
このため、この発明においては、金型キャビティを、
銅母材の表面の少くともこのキャビティ表面に無電解り
んニッケルめっき工程によりNiPめっき層を施したブッ
シュ部材により構成することにより、前記目的を達成し
ようとするものである。
〔作用〕
以上のような金型キャビティーの構成により、ブッシ
ュ部材の熱伝導率が向上し、成形サイクルが短縮され、
また、従来例のようにリブやボス等の部分的と異なり、
キャビティー表面の温度分布も均一化することにより、
成形品の熱応力による反り等の変形も減少する。さらに
重要部分の表面が比較的硬いNiP層に覆われているた
め、銅合金そのままの従来の金型に比して、傷等が入り
難く、また、NiP層を鏡面研磨することにより精密製品
の無欠陥表面を提供することができる。
〔実施例〕
以下に、この発明を実施例に基づいて説明する。
第1図に、この発明に係る成形金型の一実施例の概念
的断面図で、各構成要素の相対的寸法関係はこの発明の
効果を明確にするため誇張して示す。
(構成) 図例は、例えばCD等の高密度情報記録担体用射出成形
用金型の概念図で、例えばPC(ポリカーボネート)、PM
MA(ポリメチルメタアクリレート)、PES(ポリエーテ
ルサルフォン)、PEI(ポリエーテルイミド)等の溶融
樹脂材料は、不図示の射出成形機から、一対の割形1,2
中に組込まれた各鏡面ブッシュ3,4間に区画形成された
成形キャビティー5中に、射出成形機から、スプルーブ
ッシュ6,中心ゲート7を通って射出される。
また、射出充填された溶融樹脂は、各冷却通路8,9中
を流れる冷却媒体により、各鏡面ブッシュ3,4を介して
冷却される。これら鏡面用材料としては、従来一般に鏡
面加工性に優れたステンレス系の材料が使用されている
が、これらステンレス材料系の材料では熱伝導率が比較
的小さいため成形キャビティー5中に充填された溶融樹
脂材料の冷却に時間がかかり、成形サイクルが長くなる
という既述の問題点があったため、この発明原理の特徴
は、熱伝導率の高い銅を母材として、その表面に無電解
ニッケルりんめっき工程により非晶質のNiP層10を設け
た部材を使用して各鏡面ブッシュ3,4を製作したことに
あり、その形状断面図例を第2図に示す。
非晶質のNiP層10は、鏡面研磨時に結晶質に比してピ
ンホール等ができ難く、欠陥のない鏡面仕上げが得られ
る。これらのNiPのめっき層10は、第2図のように銅母
材11の全面を覆うようにしてもよいし、また第3図に示
すように、キャビティー面10aのみでも差支えない。
(検証実験例) この発明による効果を検証するため、前記実施例に基
づく金型を製作し、従来の射出成形機を用いて、PEI
(ポリエーテルイミド)樹脂を、第1図における中心ス
プールブッシュ6より供給して、直径3.5″磁気ディス
ク基板製品を射出成形した。なお、金型中、鏡面ブッシ
ュ3,4は、第2図に示す銅母材11表面に200μm長さのNi
Pめっき層10を施した本発明例と、従来例のステンレス
銅製の2種類を使用して比較を行った。
なお、この場合、射出シリンダ温度は390℃、金型温
度は150℃であった。
上記2種類の鏡面板(ブッシュ)使用による最短成形
サイクルは、成形された製品基板の成形限界基準として
平面度の許容限界値を30μmとした場合、従来法では25
秒であったのに対して、本発明実施例において、15秒に
短縮された。
また、この試験で使用した鏡面板の鏡面状態を比較し
たところ、従来法のステンレス鋼鏡面では5μm以上の
ピンホールが32個有存したのに対して、本実施例のNiP
めっき層において、0個であり、その効果が実証され
た。
〔発明の効果〕
以上、説明したように、この発明によれば、この種の
金型のキャビティーを形成する各ブッシュ部材を、銅母
材の上に無電解りんニッケルめっき工程により、NiP層
を設けた部材により製作するよう構成したため、ブッシ
ュ部材の熱伝導性が向上して成形サイクルが短縮される
と共に、キャビティー表面の温度分布も均一となるため
射出成形品の熱変形も減少する。また、NiP層は銅合金
自体より硬度が大きいため、傷が入り難く、金型の耐久
性を向上すると同時にNiP層の研磨により、欠陥のない
鏡面を形成して精密製品の成形に適用することができ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明に係る射出成形金型の一実施例の概
念的断面図、第2図及び第3図は、それぞれその鏡面ブ
ッシュの2実施例断面図である。 1,2……割型 3,4……鏡面ブッシュ 5……成形キャビティー 10,10a……NiPめっき層 11……銅母材

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】相対する一対の割形内に装着されてその間
    に形成されるキャビティー内に溶融成形材料が射出充填
    される一対の銅母材のブッシュ部材の少くとも前記キャ
    ビティー面に無電解ニッケルりんめっき(NiP)層を施
    したことを特徴とする成形用金型。
JP28587589A 1989-10-31 1989-10-31 成形用金型 Expired - Fee Related JP2677432B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28587589A JP2677432B2 (ja) 1989-10-31 1989-10-31 成形用金型

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28587589A JP2677432B2 (ja) 1989-10-31 1989-10-31 成形用金型

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03146318A JPH03146318A (ja) 1991-06-21
JP2677432B2 true JP2677432B2 (ja) 1997-11-17

Family

ID=17697163

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28587589A Expired - Fee Related JP2677432B2 (ja) 1989-10-31 1989-10-31 成形用金型

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2677432B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0844058A4 (en) * 1996-05-10 1998-12-09 Sony Corp MOLD FOR THE PRODUCTION OF A DISC-SHAPED SUBSTRATE, METHOD FOR PRODUCING SUCH A MOLD AND SUCH A DISK-SHAPED SUBSTRATE
CN106042229A (zh) * 2016-08-02 2016-10-26 苏州骏创汽车科技股份有限公司 易冷却模具

Also Published As

Publication number Publication date
JPH03146318A (ja) 1991-06-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5893998A (en) Boundary apparatus for optical component molding
JP2677432B2 (ja) 成形用金型
US20030194464A1 (en) Mold for molding the substrate of an optical disk
EP1192034B1 (en) Method of forming an optical disk with reduced edge wedge
JP5650641B2 (ja) ディスク基板成形装置、ディスク基板成形方法及びディスク基板成形用金型
JP3871815B2 (ja) 光ディスク用成形金型
JPS6259014A (ja) 円盤状記録媒体成形金型
JP2002264191A (ja) 射出成形金型
JP3690740B2 (ja) 光ディスク用のスタンパー
JP2707501B2 (ja) 射出成形用スタンパー
JP4670196B2 (ja) 射出成形装置および射出成形方法
JPS58151223A (ja) 光デイスク基板の製造法及び成形金型
JP4167422B2 (ja) ディスク状基板材料製造用金型装置及びディスク状基板材料の製造方法
JP2002361689A (ja) 薄肉基板の成形方法、光ディスクメディア製造方法及び薄肉基板成形用スタンパ
JP2000263615A (ja) 光情報記録媒体基板の成形金型
JPH01253417A (ja) 成形用金型
JPH11134712A (ja) 光ディスク及びその光ディスク製造金型
JP3884139B2 (ja) 磁気デイスクの製造方法
JP2004291341A (ja) 光学素子用成形金型及び光学素子の成形方法並びに光学素子
JP2003048234A (ja) 光ディスク成形金型及び成形基板並びに光ディスク
JPH02154344A (ja) 両面型スタンパおよびその製造方法
JPH04224921A (ja) ディスク成形用金型
JPS6241852B2 (ja)
JPH11320616A (ja) ディスク用基板の製造方法及びディスク用基板
US20080138510A1 (en) Optical disk mold and method of forming the same

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees