JP2671683B2 - Method for manufacturing semiconductor device - Google Patents

Method for manufacturing semiconductor device

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JP2671683B2
JP2671683B2 JP34566291A JP34566291A JP2671683B2 JP 2671683 B2 JP2671683 B2 JP 2671683B2 JP 34566291 A JP34566291 A JP 34566291A JP 34566291 A JP34566291 A JP 34566291A JP 2671683 B2 JP2671683 B2 JP 2671683B2
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film carrier
hole
cover tape
resin
semiconductor chip
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体装置の製造方法に
関し、特にフィルムキャリア方式の半導体装置の製造方
法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor device, and more particularly to a method for manufacturing a film carrier type semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のフィルムキャリア方式の半導体装
置の製造方法を図9(a),(b)を用いて説明する。
2. Description of the Related Art A conventional method of manufacturing a film carrier type semiconductor device will be described with reference to FIGS.

【0003】図9(a),(b)の平面図及びF−F線
断面図に示すように、搬送及び位置決め用のスプロケッ
トホール9と半導体チップ1が入るデバイスホール3を
有するポリイミド等の絶縁フィルム上に銅等の金属箔を
接着し、この金属箔をエッチング等により所望の形状の
インナーリード5,アウターリード6及び電気選別の為
のパッド7等を形成してテープ状のフィルムキャリア1
0を構成する。
As shown in the plan views of FIGS. 9A and 9B and the sectional view taken along the line FF, insulation of polyimide or the like having a sprocket hole 9 for carrying and positioning and a device hole 3 into which the semiconductor chip 1 is inserted A tape-shaped film carrier 1 is prepared by adhering a metal foil such as copper on the film and forming inner leads 5, outer leads 6 and a pad 7 for electrical selection having a desired shape by etching the metal foil.
0.

【0004】次にインナーリード5を支えるフィルム枠
であるサスペンダー8上に必要に応じて密着性を向上さ
せる為のポリイミド樹脂等からなるコーティング層15
を形成したフィルムキャリア10と、あらかじめ電極端
子上に金属突起物であるバンプ2を設けた半導体チップ
1とを準備する。次でこのフィルムキャリア10のイン
ナーリード5の先端部と半導体チップ1のバンプ2とを
熱圧着法または共晶法等により接続する。
Next, a coating layer 15 made of a polyimide resin or the like for improving the adhesiveness is formed on the suspender 8 which is a film frame for supporting the inner leads 5, if necessary.
A film carrier 10 on which is formed and a semiconductor chip 1 in which bumps 2 which are metal projections are provided in advance on electrode terminals are prepared. Next, the tips of the inner leads 5 of the film carrier 10 and the bumps 2 of the semiconductor chip 1 are connected by a thermocompression bonding method or a eutectic method.

【0005】次にダイレクト・トランスファーモールド
法により樹脂封止を行なう。この方法は、コーティング
層15の部分を含むサスペンダー8部をトランスファー
モールド金型で挟み込み、樹脂16を流し込んでトラン
スファーモールドを実施し、トランスファーモールド・
パッケージを形成するものである。更にフィルムキャリ
アテープの状態で電気選別用パッド7上に接触子を接触
させて、電気選別やデバイスの特性試験を実施し半導体
装置を完成させる。
Next, resin sealing is performed by the direct transfer molding method. In this method, 8 parts of the suspenders including the coating layer 15 are sandwiched by transfer mold dies, and a resin 16 is poured to perform transfer molding.
It forms a package. Further, in the state of the film carrier tape, a contactor is brought into contact with the electric selection pad 7 to perform electric selection and device characteristic test to complete the semiconductor device.

【0006】上記のようなフィルムキャリア方式の半導
体装置の製造方法は、ボンディングがリードの数と無関
係に一度で可能であるため、スピードが速いこと、フィ
ルムキャリアテープを使用するためボンディング等の組
立と電気選別作業の自動化がはかれ量産性が優れている
こと、トランスファーモールドにより樹脂で半導体装置
を保護する為、従来のトランスファーモールド型半導体
装置と同等の包装形態及び取扱いが可能となる等の利点
を有している。
In the method of manufacturing a semiconductor device of the film carrier type as described above, the bonding can be performed at one time regardless of the number of leads, so that the speed is high, and since the film carrier tape is used, the assembly such as bonding and the like can be performed. It has advantages such as that the electric sorting work is automated and mass productivity is excellent, and because the semiconductor device is protected by resin by transfer molding, it can be packaged and handled in the same way as the conventional transfer mold type semiconductor device. Have

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】この従来のフィルムキ
ャリア方式の半導体装置でダイレクト・トランスファー
モールド法で樹脂封止が実施されたものは、液状樹脂を
チップ上に滴下する樹脂封止方法と比べ、外形が一定と
なる等の利点がある。
This conventional film carrier type semiconductor device in which resin encapsulation is carried out by the direct transfer molding method is more advantageous than the resin encapsulation method in which a liquid resin is dropped on a chip. There are advantages such as a uniform outer shape.

【0008】しかしながらモールド時の樹脂の流れによ
り半導体チップの傾きが発生したり、又薄型のパッケー
ジ形態である為、表面にボイドが発生するという問題が
あった。更に高圧の型締を必要とする為、ポリイミド等
のフィルムの強度不足から、型締後のフィルムキャリア
方式の半導体装置に反りが発生し作業の自動化等が困難
になるという問題があった。
However, there is a problem that the semiconductor chip is inclined due to the resin flow at the time of molding and a void is generated on the surface because of the thin package form. Further, since high-pressure mold clamping is required, there is a problem that the film carrier type semiconductor device after the mold clamping is warped due to insufficient strength of the film such as polyimide, and automation of the work becomes difficult.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置の製
造方法は、絶縁フィルムに設けられたデバイスホールと
このデバイスホールの周辺部に設けられたアウターリー
ド用ホールとこのアウターリード用ホールに囲まれたサ
スペンダーとデバイスホールの周辺部に設けられアウタ
ーリードと一体的に形成された金属箔からなるインナー
リードとを少くとも有するフィルムキャリアと、バンプ
が形成された半導体チップと、トランスファーモールド
時の通気口となるスリットが設けられたカバーテープと
を準備する工程と、前記フィルムキャリアのデバイスホ
ール内に延在して設けられた前記インナーリードの先端
部に前記半導体チップのバンプを接続したのち前記サス
ペンダー上に前記カバーテープを貼りつける工程と、前
記フィルムキャリアのトランスファーモールド金型にお
けるゲート部に相当する部分を打抜いたのちトランスフ
ァーモールド金型で前記半導体チップを樹脂封止する工
程とを含むものである。
According to a method of manufacturing a semiconductor device of the present invention, a device hole provided in an insulating film, an outer lead hole provided in the peripheral portion of the device hole, and an outer lead hole are surrounded. Film carrier having at least a suspended suspender and inner leads made of metal foil integrally formed with outer leads provided around the device hole, semiconductor chips with bumps formed, and ventilation during transfer molding. A step of preparing a cover tape provided with a slit serving as a mouth, and connecting the bumps of the semiconductor chip to the tip end portions of the inner leads extending in the device holes of the film carrier, and then the suspenders. Attaching the cover tape on top of the film carrier The transfer molding die after punched a portion corresponding to the gate portion of the transfer mold the semiconductor chip in which a step of resin-sealing.

【0010】[0010]

【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図1は本発明の第1の実施例に用いるフィ
ルムキャリアの上面図であり、半導体チップを接続した
場合を示している。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a top view of a film carrier used in the first embodiment of the present invention, showing a case where semiconductor chips are connected.

【0011】図1においてフィルムキャリア10は、搬
送及び位置決め用のスプロケットホール9と半導体チッ
プ1が入るデバイスホール3とその周囲に設けられたア
ウターリード用ホール4とを有するポリイミド等の絶縁
フィルム上に、厚さ約35μmの銅等の金属箔を接着
し、この金属箔をエッチング等により所望の形状のイン
ナーリード5とアウターリード6及び電気選別の為のパ
ッド7を形成して構成される。
In FIG. 1, a film carrier 10 is provided on an insulating film such as a polyimide film having a sprocket hole 9 for carrying and positioning, a device hole 3 in which the semiconductor chip 1 is inserted, and an outer lead hole 4 provided around the device hole 3. A metal foil such as copper having a thickness of about 35 μm is adhered, and the metal foil is formed by etching or the like to form inner leads 5 and outer leads 6 having a desired shape and pads 7 for electrical selection.

【0012】図2(a)〜(c)は本発明の第1の実施
例に用いるカバーテープの上面図、A−A線断面図及び
側面図である。
FIGS. 2A to 2C are a top view, a sectional view taken along the line AA and a side view of a cover tape used in the first embodiment of the present invention.

【0013】図2(a)〜(c)に示すようにカバーテ
ープ11は、厚さ50μm程度の耐熱性のポリイミド等
のテープから構成されており、その外形寸法は、図1に
示したフィルムキャリアテープ10のアウターリード用
ホール4に囲まれた部分以下としてある。そして、その
中央部には、デバイスホール3の寸法以上の大きさのホ
ール13が設けられており、その周囲のテープの表面に
は、トランスファーモールド時の通気口(エアベント)
となる幅500μm,深さ25μm程度の複数のスリッ
ト12が設けられている。
As shown in FIGS. 2 (a) to 2 (c), the cover tape 11 is made of a heat-resistant polyimide tape or the like having a thickness of about 50 μm, and the outer dimensions thereof are the film shown in FIG. It is below the portion surrounded by the outer lead holes 4 of the carrier tape 10. A hole 13 having a size equal to or larger than that of the device hole 3 is provided in the center portion thereof, and the surface of the tape around the hole 13 is provided with a vent hole (air vent) at the time of transfer molding.
A plurality of slits 12 having a width of 500 μm and a depth of about 25 μm are provided.

【0014】図3(a),(b)は、図1に示したキャ
リアテープ10に半導体チップ1を接続したのち、図2
に示したカバーテープ11をキャリアテープ10のサス
ペンダー8の上に貼り付けた場合の上面図及びB−B線
断面図である。
3 (a) and 3 (b), the semiconductor chip 1 is connected to the carrier tape 10 shown in FIG.
3 is a top view and a cross-sectional view taken along line BB when the cover tape 11 shown in FIG.

【0015】図4は実施例に用いるトランスファーモー
ルド用金型の断面図である。上金型21には、金型のゲ
ート部に相当するフィルムキャリア10の部分を打ち抜
く為のポンチ23が設けられている。このポンチ23の
高さは、例えばフィルムキャリア10とカバーテープ1
1との合計の厚さが210μmである場合、210〜2
30μmである。
FIG. 4 is a sectional view of a transfer mold used in the embodiment. The upper die 21 is provided with a punch 23 for punching out a portion of the film carrier 10 corresponding to the gate portion of the die. The height of the punch 23 is, for example, the film carrier 10 and the cover tape 1.
When the total thickness of 1 and 210 is 210 μm, 210-2
30 μm.

【0016】また下金型22には、ポンチ23により打
ち抜かれたフィルムキャリア10を受入れ、かつトラン
スファーモールド時に樹脂をゲートからキャビティ25
の方向に導入するような所望の形状に加工された溝24
が設けられている。そして、この溝24の深さは、例え
ば半導体チップ1とバンプ2とを含めた高さからサスペ
ンダー8の厚さ125μm程度を引いた値に100μm
程度を加えた値であり、パッケージとなる深さと同値で
ある。
Further, the lower die 22 receives the film carrier 10 punched by the punch 23, and at the time of transfer molding, resin is injected from the gate into the cavity 25.
Groove 24 processed into a desired shape so as to be introduced in the direction of
Is provided. The depth of the groove 24 is 100 μm, for example, a value obtained by subtracting the thickness of the suspender 8 of about 125 μm from the height including the semiconductor chip 1 and the bumps 2.
It is a value that adds the degree, and is the same value as the package depth.

【0017】次に第1の実施例の製造方法について説明
する。
Next, the manufacturing method of the first embodiment will be described.

【0018】まず図1に示したフィルムキャリア10
と、図3で示したバンプ2を有する半導体チップ1を用
意し、デバイスホール3内に延在して設けられたインナ
ーリード2の先端部に熱圧着法によりバンプ2を接続す
る。
First, the film carrier 10 shown in FIG.
Then, the semiconductor chip 1 having the bumps 2 shown in FIG. 3 is prepared, and the bumps 2 are connected to the tip end portions of the inner leads 2 extending in the device holes 3 by thermocompression bonding.

【0019】次で図3(a),(b)に示したように、
図2に示したカバーテープ11をフィルムキャリア10
のサスペンダー8の上部に貼り付ける。
Next, as shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b),
The cover tape 11 shown in FIG.
Stick it on the top of suspender 8.

【0020】次に図4に示したトランスファーモールド
用の下金型22上に、このフィルムキャリア10を位置
合せしてセットして上金型21で挟むと同時に、ポンチ
23にてフィルムキャリア10のトランスファーモール
ド金型のゲート部に当時する部分を打ち抜く。この操作
により図3(a)に示したフィルムキャリア10のゲー
ト部20が打ち抜かれる。
Next, the film carrier 10 is aligned and set on the lower mold 22 for transfer molding shown in FIG. Punching the part that was at that time into the gate part of the transfer mold. By this operation, the gate portion 20 of the film carrier 10 shown in FIG. 3A is punched out.

【0021】次で従来の方法と同様に樹脂封止を行うこ
とにより、図5(a),(b)に示すように、半導体チ
ップ1を樹脂封止してなるトランスファーモールドパッ
ケージ30がトランスファーモールドゲート31と共に
形成される。
Next, resin molding is carried out in the same manner as in the conventional method, and as shown in FIGS. 5 (a) and 5 (b), the transfer mold package 30 formed by resin-molding the semiconductor chip 1 is transferred. It is formed together with the gate 31.

【0022】このように第1の実施例によれば、樹脂封
止時にカバーテープ11を設けたフィルムキャリア10
の、上金型21のポンチ23に接触する部分は打ち抜か
れ、下金型22の溝24内に落る。その後樹脂がゲート
を通る際に、ポンチ23で打ち抜かれたフィルムキャリ
ア10の表面部とポンチ23の表面部間を通過する。よ
って樹脂は、下金型22側からキャビティ25内の半導
体チップ1の方向へ流出する様になるが、カバーテープ
11がインナーリード5及び半導体チップ1の傾きを抑
える架台となる為、傾きや反りのない信頼性の高い形態
のパッケージを有する半導体装置が生産性良く製造でき
る。
As described above, according to the first embodiment, the film carrier 10 provided with the cover tape 11 at the time of resin sealing.
The part of the upper die 21 that contacts the punch 23 is punched out and falls into the groove 24 of the lower die 22. Then, when the resin passes through the gate, it passes between the surface portion of the film carrier 10 punched by the punch 23 and the surface portion of the punch 23. Therefore, the resin flows out from the lower mold 22 side toward the semiconductor chip 1 in the cavity 25, but since the cover tape 11 serves as a pedestal for suppressing the inclination of the inner lead 5 and the semiconductor chip 1, the inclination and the warp are caused. It is possible to manufacture a semiconductor device having a highly reliable package with no productivity.

【0023】またフィルムキャリア10の表側にスリッ
ト12からなる通気口を設けてあるため、圧力によるフ
ィルムキャリア10の変形で金型側の通気口をふさぐ現
象がなくなるため、ボイド発生率を減少させる事が可能
となる。更に、カバーテープ11の形状及び厚みを変更
することにより、金型側の加工を必要としないで樹脂の
流出を制御でき、且つパッケージの形態を容易に変更す
ることができる。
Further, since the air vent formed of the slit 12 is provided on the front side of the film carrier 10, the phenomenon of blocking the air vent on the die side due to the deformation of the film carrier 10 due to the pressure is eliminated, so that the void generation rate can be reduced. Is possible. Furthermore, by changing the shape and thickness of the cover tape 11, the outflow of the resin can be controlled without the need to process the mold side, and the form of the package can be easily changed.

【0024】次に第2の実施例について説明する。図6
(a)〜(c)は本発明の第2の実施例に用いるカバー
テープの上面図、D−D線断面図及び側面図である。
Next, a second embodiment will be described. FIG.
(A)-(c) is the top view of the cover tape used for the 2nd Example of this invention, the DD sectional view and the side view.

【0025】図6(a)〜(c)において、カバーテー
プ11Aは図2に示したカバーテープ11と同様の外形
寸法を有する厚さ50μm程度のポリイミドテープから
構成されており、その裏面の中央部は矩形状の溝14が
設けられている。そしてこの溝14からカバーテープ1
1Aの端部に達する複数のスリット12Aが設けられて
いる。このように構成されたカバーテープ11Aを、図
7に示すように、第1の実施例で用いたキャリアテープ
10のサスペンダー8の上部に貼り付ける。
In FIGS. 6A to 6C, the cover tape 11A is made of a polyimide tape having a thickness of about 50 μm and having the same outer dimensions as the cover tape 11 shown in FIG. The part is provided with a rectangular groove 14. Then, from this groove 14 to the cover tape 1
A plurality of slits 12A reaching the end of 1A are provided. As shown in FIG. 7, the cover tape 11A configured as described above is attached to the upper portion of the suspender 8 of the carrier tape 10 used in the first embodiment.

【0026】そして、このカバーテープ11Aを設けた
フィルムキャリア10を前記第1の実施例の製造方法と
同様に、上金型21と下金型22とを用いて樹脂封止を
実施すれば、図8(a),(b)の上面図及びE−E線
断面図に示すように、トランスファーモールドパッケー
ジ30Aは、トランスファーモールドゲート31Bを設
けて形成される。
Then, the film carrier 10 provided with the cover tape 11A is resin-sealed by using the upper mold 21 and the lower mold 22 as in the manufacturing method of the first embodiment. As shown in the top views of FIGS. 8A and 8B and the sectional view taken along the line EE, the transfer mold package 30A is formed by providing a transfer mold gate 31B.

【0027】この第2の実施例では、カバーテープ11
Aの溝14の寸法が特に制約されないため、第1の実施
例に用いるカバーテープ11より量産性に優れ、且つ上
金型21とカバーテープ11Aとの密着性によるスリッ
ト12Aの変形がほとんど生じないため、通気性の向上
が可能となり、樹脂の流通がスムーズになる。
In the second embodiment, the cover tape 11
Since the size of the groove 14 of A is not particularly limited, the productivity is higher than that of the cover tape 11 used in the first embodiment, and the slit 12A is hardly deformed due to the adhesion between the upper die 21 and the cover tape 11A. Therefore, the air permeability can be improved and the resin can be smoothly distributed.

【0028】尚、上記第1及び第2の実施例において
は、トランスファー封止と同時にフィルムキャリアのゲ
ート部の打ち抜きを行なっているが、あらかじめゲート
部のみを打ち抜いてから樹脂封止してもよい。この場合
トランスファーモールド用金型のポンチ23と溝24は
不要となる。
In the first and second embodiments, the gate portion of the film carrier is punched out at the same time as the transfer sealing. However, only the gate portion may be punched out in advance and then the resin sealing is performed. . In this case, the punch 23 and the groove 24 of the transfer molding die are unnecessary.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上説明した様に本発明は、樹脂封止時
における金型内の空気を通す通気口となるスリットを設
けたカバーテープを、フィルムキャリアの上部に貼り付
けて、ポンチを設けた上金型と溝を設けた下金型とで挟
み込んで樹脂封止を実施し、トランスファーモールドパ
ッケージを形成するため、リード及び半導体チップの傾
きや反りの発生を抑制でき、信頼性の高いパッケージ形
態の半導体装置が得られ作業の自動化が容易になるとい
う効果がある。
As described above, according to the present invention, a cover tape provided with a slit serving as a ventilation hole for passing air in a mold at the time of resin sealing is attached to an upper portion of a film carrier to provide a punch. Since a transfer mold package is formed by sandwiching between the upper mold and the lower mold that has grooves, and forming a transfer mold package, it is possible to suppress the occurrence of inclination and warpage of leads and semiconductor chips, and a highly reliable package. There is an effect that a semiconductor device having a form is obtained and work can be easily automated.

【0030】更にフィルムキャリアの上面に通気口が形
成されるため、圧力によるフィルムキャリアの変形で金
型側の通気口をふさぐ現象がなくなるため、ボイド発生
率を減少させる事ができるという効果もある。
Further, since the vent hole is formed on the upper surface of the film carrier, the phenomenon of blocking the vent hole on the mold side due to the deformation of the film carrier due to the pressure is eliminated, and thus the void generation rate can be reduced. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施例に用いるフィルムキャリ
アの上面図。
FIG. 1 is a top view of a film carrier used in a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施例に用いるカバーテープの
上面図,断面図及び側面図。
FIG. 2 is a top view, a sectional view, and a side view of a cover tape used in the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1の実施例を説明するための半導体
チップとカバーテープを接続したフィルムキャリアの上
面図及び断面図。
3A and 3B are a top view and a cross-sectional view of a film carrier in which a semiconductor chip and a cover tape are connected for explaining a first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第1の実施例に用いる金型の断面図。FIG. 4 is a sectional view of a mold used in the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第1の実施例を説明するための半導体
装置の上面図及び断面図。
5A and 5B are a top view and a cross-sectional view of a semiconductor device for explaining a first embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第2の実施例に用いるカバーテープの
上面図,断面図及び側面図。
FIG. 6 is a top view, a sectional view, and a side view of a cover tape used in a second embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第2の実施例を説明するための半導体
チップとカバーテープを接続したフィルムキャリアの断
面図。
FIG. 7 is a sectional view of a film carrier in which a semiconductor chip and a cover tape are connected to each other for explaining a second embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第2の実施例を説明するための半導体
チップとカバーテープを接続したフィルムキャリアの上
面図及び断面図。
8A and 8B are a top view and a cross-sectional view of a film carrier in which a semiconductor chip and a cover tape are connected for explaining a second embodiment of the present invention.

【図9】従来の半導体装置の製造方法を説明するための
上面図及び断面図。
9A and 9B are a top view and a cross-sectional view for explaining a conventional method for manufacturing a semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体チップ 2 バンプ 3 デバイスホール 4 アウターリード用ホール 5 インナーリード 6 アウターリード 7 選別用パッド 8 サスペンダー 9 スプロケットホール 10 フィルムキャリア 11,11A カバーテープ 12,12A スリット 13 ホール 14 溝 15 コーティング層 16 樹脂 20 ゲート部 21 上金型 22 下金型 23 ポンチ 24 溝 25 キャビティ 30,30A トランスファーモールドパッケージ 31,31A トランスファーモールドゲート 1 Semiconductor Chip 2 Bump 3 Device Hole 4 Outer Lead Hole 5 Inner Lead 6 Outer Lead 7 Sorting Pad 8 Suspender 9 Sprocket Hole 10 Film Carrier 11, 11A Cover Tape 12, 12A Slit 13 Hole 14 Groove 15 Coating Layer 16 Resin 20 Gate part 21 Upper mold 22 Lower mold 23 Punch 24 Groove 25 Cavity 30,30A Transfer mold package 31,31A Transfer mold gate

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 絶縁フィルムに設けられたデバイスホー
ルとこのデバイスホールの周辺部に設けられたアウター
リード用ホールとこのアウターリード用ホールに囲まれ
たサスペンダーとデバイスホールの周辺部に設けられア
ウターリードと一体的に形成された金属箔からなるイン
ナーリードとを少なくとも有するフィルムキャリアと、
バンプが形成された半導体チップと、トランスファーモ
ールド時の通気口となるスリットが設けられたカバーテ
ープとを準備する工程と、前記フィルムキャリアのデバ
イスホール内に延在して設けられた前記インナーリード
の先端部に前記半導体チップのバンプを接続したのち前
記サスペンダー上に前記カバーテープを貼りつける工程
と、前記フィルムキャリアのトランスファーモールド金
型におけるゲート部に相当する部分を打抜いたのちトラ
ンスファーモールド金型で前記半導体チップを樹脂封止
する工程とを含むことを特徴とする半導体装置の製造方
法。
1. A device hole provided in an insulating film, an outer lead hole provided in the peripheral portion of the device hole, a suspender surrounded by the outer lead hole, and an outer lead provided in the peripheral portion of the device hole. And a film carrier having at least an inner lead made of a metal foil integrally formed with,
A step of preparing a semiconductor chip on which a bump is formed and a cover tape provided with a slit that serves as a ventilation hole at the time of transfer molding, and the inner lead of the inner lead provided extending in a device hole of the film carrier. A step of connecting the bumps of the semiconductor chip to the tip and then attaching the cover tape on the suspender, and punching out a portion corresponding to the gate portion in the transfer mold die of the film carrier, and then using the transfer mold die. And a step of resin-sealing the semiconductor chip.
【請求項2】 ゲート部に相当する部分のフィルムキャ
リアを打抜くためのポンチを有する上金型と、打抜かれ
たフィルムキャリアを受け入れると共にキャビティ内へ
樹脂を導入するための溝を有する下金型とを用い、フィ
ルムキャリアの打抜きと樹脂封止とを連続して行う請求
項1記載の半導体装置の製造方法。
2. An upper die having a punch for punching a film carrier corresponding to a gate portion, and a lower die having a groove for receiving the punched film carrier and introducing a resin into the cavity. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein the punching of the film carrier and the resin sealing are continuously performed by using.
【請求項3】 カバーテープの中央にはデバイスホール
にほぼ等しい開口部が設けられている請求項1記載の半
導体装置の製造方法。
3. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein an opening substantially equal to the device hole is provided in the center of the cover tape.
【請求項4】 カバーテープの裏面の中央部にスリット
に接続する溝が設けられている請求項1記載の半導体装
置の製造方法。
4. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein a groove connecting to the slit is provided in a central portion of the back surface of the cover tape.
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