JP2669799B2 - 誘導加熱装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、金属ストリップの加熱
に好適な誘導加熱装置に関するものである。
に好適な誘導加熱装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、金属ストリップ（非磁性材）をＴ
ＦＸ（Transverse Flux Heating）方式により誘導加熱
する場合に、処理材の変更により金属ストリップの幅寸
法や厚さが変更されても、同一の誘導加熱装置で各種幅
寸法や厚さを有する金属ストリップを変更前と同様に加
熱していた。その際金属ストリップの幅方向の均一加熱
を行うための装置として、以下の公知例がある。
ＦＸ（Transverse Flux Heating）方式により誘導加熱
する場合に、処理材の変更により金属ストリップの幅寸
法や厚さが変更されても、同一の誘導加熱装置で各種幅
寸法や厚さを有する金属ストリップを変更前と同様に加
熱していた。その際金属ストリップの幅方向の均一加熱
を行うための装置として、以下の公知例がある。
【０００３】その内の一つは、加熱用鉄芯を分割したタ
イプの誘導加熱装置で、金属ストリップの厚み方向の両
側に対向配置した一対の誘導加熱コイルにより誘導加熱
する装置において、インダクタコイルにより取り囲まれ
た加熱用鉄芯を金属ストリップの幅方向に分割し、金属
ストリップの幅および幅方向の温度分布に合わせて上記
分割した鉄芯と金属ストリップとの距離を調節するよう
にしたものである（実開平１−１５８６９０号公報）。
イプの誘導加熱装置で、金属ストリップの厚み方向の両
側に対向配置した一対の誘導加熱コイルにより誘導加熱
する装置において、インダクタコイルにより取り囲まれ
た加熱用鉄芯を金属ストリップの幅方向に分割し、金属
ストリップの幅および幅方向の温度分布に合わせて上記
分割した鉄芯と金属ストリップとの距離を調節するよう
にしたものである（実開平１−１５８６９０号公報）。
【０００４】また、補助コイルを採用したものとして、
低温部を加熱するようにした誘導加熱装置が提案されて
いる（実公平６−１６４７０号公報）。即ち、この装置
では、金属ストリップの幅方向で、温度の低い部分（誘
導電流の曲がり部）を別途設けた補助コイルにより加熱
するようにし、金属ストリップの幅寸法が変わった際に
は、補助コイルの位置を調整して対応するようにしてあ
る。
低温部を加熱するようにした誘導加熱装置が提案されて
いる（実公平６−１６４７０号公報）。即ち、この装置
では、金属ストリップの幅方向で、温度の低い部分（誘
導電流の曲がり部）を別途設けた補助コイルにより加熱
するようにし、金属ストリップの幅寸法が変わった際に
は、補助コイルの位置を調整して対応するようにしてあ
る。
【０００５】さらに、補助コイルを採用したものとし
て、ストリップ幅方向両端部の過加熱を防止するように
した誘導加熱装置が提案されている（特公平５−７０９
１１号公報）。即ち、この装置は、金属ストリップの両
側部で、金属ストリップの長手方向に流れる誘導電流を
補助コイルにより発生する誘導電流により打ち消し、端
部の過加熱防止を図ったものである。そして、金属スト
リップの幅寸法が変わった際には、補助コイルの位置を
調整するようにしてある。
て、ストリップ幅方向両端部の過加熱を防止するように
した誘導加熱装置が提案されている（特公平５−７０９
１１号公報）。即ち、この装置は、金属ストリップの両
側部で、金属ストリップの長手方向に流れる誘導電流を
補助コイルにより発生する誘導電流により打ち消し、端
部の過加熱防止を図ったものである。そして、金属スト
リップの幅寸法が変わった際には、補助コイルの位置を
調整するようにしてある。
【０００６】この他、特開昭６４−１２４９０号公報に
は、同公報中のＦＩＧ．１に示すように、Ｊ字形のイン
ダクタコイルを使用して、同ＦＩＧ．６に示すように流
れる誘導電流を発生させることにより、ストリップ端部
での電流密度を下げて、ストリップ端部での過加熱を防
止し、温度分布の均一化を図るとともに、前記インダク
タコイルをストリップ幅方向に進退するするように設け
て、ストリップの幅寸法の変更に対応するものようにし
た誘導加熱装置が開示されている。
は、同公報中のＦＩＧ．１に示すように、Ｊ字形のイン
ダクタコイルを使用して、同ＦＩＧ．６に示すように流
れる誘導電流を発生させることにより、ストリップ端部
での電流密度を下げて、ストリップ端部での過加熱を防
止し、温度分布の均一化を図るとともに、前記インダク
タコイルをストリップ幅方向に進退するするように設け
て、ストリップの幅寸法の変更に対応するものようにし
た誘導加熱装置が開示されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の装置の内、
実開平１−１５８６９０号，実公平６−１６４７０号お
よび特公平５−７０９１１号各公報に開示の装置の場
合、加熱部は、最大幅の寸法に合わせて形成されてい
る。そのため、狭幅のストリップを加熱処理する場合、
インダクタコイルの端部がストリップの端部よりもはみ
出して、このはみ出した部分の間で生じる磁束は、比透
磁率の低い空気中を通るため、エネルギのロスが大き
く、この狭幅ストリップの場合、広幅ストリップの場合
に比して加熱効率が低下してしまう。
実開平１−１５８６９０号，実公平６−１６４７０号お
よび特公平５−７０９１１号各公報に開示の装置の場
合、加熱部は、最大幅の寸法に合わせて形成されてい
る。そのため、狭幅のストリップを加熱処理する場合、
インダクタコイルの端部がストリップの端部よりもはみ
出して、このはみ出した部分の間で生じる磁束は、比透
磁率の低い空気中を通るため、エネルギのロスが大き
く、この狭幅ストリップの場合、広幅ストリップの場合
に比して加熱効率が低下してしまう。
【０００８】即ち、同一電力を投入した際、最大幅のス
トリップでは、発生する磁束の大部分が加熱に関与する
が、狭幅のストリップでは、ストリップの端部からはみ
出したインダクタコイルに生じる磁束、即ち空気中に生
じる磁束は加熱に無関係になり、比透磁率の低い空気中
に磁束を通過させる電力が余分に必要になるという問題
がある。一方、特開昭６４−１２４９０号公報に開示の
装置の場合、前述の従来技術とは異なり、ストリップの
幅方向にインダクタコイルを進退させることが可能とな
っているが、加熱効率に影響を与える加熱用鉄芯をスト
リップ幅寸法毎に取り替える必要があり、調整が困難で
あるという問題がある。本発明は、斯る従来の問題点を
課題としてなされたもので、加熱効率の向上、自動化を
可能とした誘導加熱装置を提供しようとするものであ
る。
トリップでは、発生する磁束の大部分が加熱に関与する
が、狭幅のストリップでは、ストリップの端部からはみ
出したインダクタコイルに生じる磁束、即ち空気中に生
じる磁束は加熱に無関係になり、比透磁率の低い空気中
に磁束を通過させる電力が余分に必要になるという問題
がある。一方、特開昭６４−１２４９０号公報に開示の
装置の場合、前述の従来技術とは異なり、ストリップの
幅方向にインダクタコイルを進退させることが可能とな
っているが、加熱効率に影響を与える加熱用鉄芯をスト
リップ幅寸法毎に取り替える必要があり、調整が困難で
あるという問題がある。本発明は、斯る従来の問題点を
課題としてなされたもので、加熱効率の向上、自動化を
可能とした誘導加熱装置を提供しようとするものであ
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、第１発明は、連続搬送される金属ストリップの幅方
向に関して、少なくとも前記金属ストリップの最大の幅
寸法の外形を有するインダクタコイルの内方に加熱用鉄
芯を位置させたトランスバース方式の誘導加熱装置にお
いて、前記金属ストリップの幅方向の一方の側で、かつ
前記インダクタコイルの外方に磁気遮蔽板を設け、この
磁気遮蔽板の外方にバイパス用鉄芯を前記加熱用鉄芯に
連設した誘導加熱コイルを、前記ストリップ幅方向で前
記バイパス用鉄芯が反対に位置するように該ストリップ
を挟んで対向配置するとともに、前記誘導加熱コイルを
前記金属ストリップの幅方向および厚さ方向に移動可能
に設けた。
に、第１発明は、連続搬送される金属ストリップの幅方
向に関して、少なくとも前記金属ストリップの最大の幅
寸法の外形を有するインダクタコイルの内方に加熱用鉄
芯を位置させたトランスバース方式の誘導加熱装置にお
いて、前記金属ストリップの幅方向の一方の側で、かつ
前記インダクタコイルの外方に磁気遮蔽板を設け、この
磁気遮蔽板の外方にバイパス用鉄芯を前記加熱用鉄芯に
連設した誘導加熱コイルを、前記ストリップ幅方向で前
記バイパス用鉄芯が反対に位置するように該ストリップ
を挟んで対向配置するとともに、前記誘導加熱コイルを
前記金属ストリップの幅方向および厚さ方向に移動可能
に設けた。
【００１０】さらに、第２発明は、前記対向配置した一
方の誘導加熱コイルのバイパス用鉄芯と他方の誘導加熱
コイルの加熱用鉄芯とを当接させた。
方の誘導加熱コイルのバイパス用鉄芯と他方の誘導加熱
コイルの加熱用鉄芯とを当接させた。
【００１１】
【作用】上記発明のように構成することにより、金属ス
トリップの寸法が変わっても、金属中を通過する磁束を
多くできる。
トリップの寸法が変わっても、金属中を通過する磁束を
多くできる。
【００１２】
【実施例】次に、本発明の一実施例を図面にしたがって
説明する。図１〜８は、第１実施例に係る誘導加熱装置
１ａを示し、トランスバース方式の誘導加熱コイル２ａ
を対向配置して形成してある。各誘導加熱コイル２ａ
は、連続搬送される金属ストリップ３の幅方向に関し
て、少なくとも金属ストリップ３の最大の幅寸法の外形
を有するインダクタコイル４を有し、その内方には加熱
用鉄芯５が位置している。また、金属ストリップ３の幅
方向の一方の側であって、前記コイル４の外方に、磁気
を遮蔽する，例えば銅製の，磁気遮蔽板６が設けてあ
り、この磁気遮蔽板６の外方に加熱用鉄芯５に隣接し、
かつ金属ストリップ３に垂直な幅方向の断面において、
この加熱用鉄芯５とともに鈎形形状をなすバイパス用鉄
芯７が設けてある。
説明する。図１〜８は、第１実施例に係る誘導加熱装置
１ａを示し、トランスバース方式の誘導加熱コイル２ａ
を対向配置して形成してある。各誘導加熱コイル２ａ
は、連続搬送される金属ストリップ３の幅方向に関し
て、少なくとも金属ストリップ３の最大の幅寸法の外形
を有するインダクタコイル４を有し、その内方には加熱
用鉄芯５が位置している。また、金属ストリップ３の幅
方向の一方の側であって、前記コイル４の外方に、磁気
を遮蔽する，例えば銅製の，磁気遮蔽板６が設けてあ
り、この磁気遮蔽板６の外方に加熱用鉄芯５に隣接し、
かつ金属ストリップ３に垂直な幅方向の断面において、
この加熱用鉄芯５とともに鈎形形状をなすバイパス用鉄
芯７が設けてある。
【００１３】さらに、前記誘導加熱コイル２ａを、前記
金属ストリップ３の幅方向で前記バイパス用鉄芯７が反
対に位置するように該ストリップ３を挟んで対向配置す
るとともに、前記誘導加熱コイル２ａを金属ストリップ
３の幅方向および厚さ方向に移動可能に設けてある。な
お、図１〜３は、金属ストリップ３が最大幅Ｗmaxの場
合を示し、図４〜８は金属ストリップ３が最小幅Ｗmin
の場合を示し、図中の一点鎖線は磁力線を示している
（以下、同様）。図４，５に示すように、金属ストリッ
プ３の幅が最小幅Ｗminの場合、バイパス用鉄芯７の外
側の側面は、金属ストリップ３を挟んでこれと反対側に
位置するインダクタコイル４の端部と金属ストリップ３
の幅方向においてほぼ同じ位置か、それよりも外側に位
置するのが好ましい。このようにすることにより、金属
ストリップ３の加熱に寄与しない磁束の殆どがバイパス
用鉄芯７を通過するようになる。
金属ストリップ３の幅方向で前記バイパス用鉄芯７が反
対に位置するように該ストリップ３を挟んで対向配置す
るとともに、前記誘導加熱コイル２ａを金属ストリップ
３の幅方向および厚さ方向に移動可能に設けてある。な
お、図１〜３は、金属ストリップ３が最大幅Ｗmaxの場
合を示し、図４〜８は金属ストリップ３が最小幅Ｗmin
の場合を示し、図中の一点鎖線は磁力線を示している
（以下、同様）。図４，５に示すように、金属ストリッ
プ３の幅が最小幅Ｗminの場合、バイパス用鉄芯７の外
側の側面は、金属ストリップ３を挟んでこれと反対側に
位置するインダクタコイル４の端部と金属ストリップ３
の幅方向においてほぼ同じ位置か、それよりも外側に位
置するのが好ましい。このようにすることにより、金属
ストリップ３の加熱に寄与しない磁束の殆どがバイパス
用鉄芯７を通過するようになる。
【００１４】そして、斯る構成により、インダクタコイ
ル４のバイパス用鉄芯７側の端部を金属ストリップ３の
端部に合わせて誘導加熱を行うようになっている。即
ち、金属ストリップ３の幅に上下のインダクタコイル４
の重なり部の幅が合うように各誘導加熱コイル２ａの位
置を自動的に調整することができ、また、金属ストリッ
プ３に対向しないインダクタコイル４はバイパス用鉄芯
７に対向しているので磁束を形成するのに必要な電力が
大幅に縮小され、加熱効率がよくなるようになってい
る。
ル４のバイパス用鉄芯７側の端部を金属ストリップ３の
端部に合わせて誘導加熱を行うようになっている。即
ち、金属ストリップ３の幅に上下のインダクタコイル４
の重なり部の幅が合うように各誘導加熱コイル２ａの位
置を自動的に調整することができ、また、金属ストリッ
プ３に対向しないインダクタコイル４はバイパス用鉄芯
７に対向しているので磁束を形成するのに必要な電力が
大幅に縮小され、加熱効率がよくなるようになってい
る。
【００１５】また、磁気遮蔽板６により金属ストリップ
３の縁部での磁束集中が緩和され、この縁部での過加熱
が防止される。なお、磁気遮蔽板６のみで金属ストリッ
プ３の縁部での過加熱が緩和されない場合、インダクタ
コイル４の端部を金属ストリップ３の縁部より内側に位
置させることにより、この縁部での磁束密度をさらに小
さくすることができる。なお、金属ストリップ３とイン
ダクタコイル４との間の距離は、金属ストリップ３の変
形量（Ｃぞり，シーガル等）や搬送時に発生する振動の
振幅により決まる。よって、金属ストリップ３とインダ
クタコイル４との間の距離は処理材毎に変わり得る。
３の縁部での磁束集中が緩和され、この縁部での過加熱
が防止される。なお、磁気遮蔽板６のみで金属ストリッ
プ３の縁部での過加熱が緩和されない場合、インダクタ
コイル４の端部を金属ストリップ３の縁部より内側に位
置させることにより、この縁部での磁束密度をさらに小
さくすることができる。なお、金属ストリップ３とイン
ダクタコイル４との間の距離は、金属ストリップ３の変
形量（Ｃぞり，シーガル等）や搬送時に発生する振動の
振幅により決まる。よって、金属ストリップ３とインダ
クタコイル４との間の距離は処理材毎に変わり得る。
【００１６】図９〜１３は、第２実施例に係る誘導加熱
装置１ｂを示し、図１〜８に示す装置と共通する部分に
ついては、互いに同一番号を付して説明を省略する。な
お、図４，５の場合と同様に、図９，１０は金属ストリ
ップ３が最小幅Ｗminの場合を示している。この誘導加
熱装置１ｂは、第２発明の実施例に係るトランスバース
方式の一対の誘導加熱コイル２ｂを対向配置して形成し
てある。なお、磁束は空気中を通過するよりも金属中を
通過する方がエネルギ損失が大きくなる故、本実施例で
は、各バイパス用鉄芯７と、これに対向する加熱用鉄芯
５とを互いに当接させ、エネルギ損失が小さくなるよう
にしてある。
装置１ｂを示し、図１〜８に示す装置と共通する部分に
ついては、互いに同一番号を付して説明を省略する。な
お、図４，５の場合と同様に、図９，１０は金属ストリ
ップ３が最小幅Ｗminの場合を示している。この誘導加
熱装置１ｂは、第２発明の実施例に係るトランスバース
方式の一対の誘導加熱コイル２ｂを対向配置して形成し
てある。なお、磁束は空気中を通過するよりも金属中を
通過する方がエネルギ損失が大きくなる故、本実施例で
は、各バイパス用鉄芯７と、これに対向する加熱用鉄芯
５とを互いに当接させ、エネルギ損失が小さくなるよう
にしてある。
【００１７】上記各実施例では、上下一対のインダクタ
コイル４を金属ストリップ３の進行方向に沿って２列配
置したものを示したが、本発明はこれに限るものでな
く、以下に示すように、１列でもよく、３列以上であっ
てもよい。図１４〜１８に示した誘導加熱装置１ｃはイ
ンダクタコイル４を１列だけ有するもので、図１〜８に
示す装置と、実質的に同一であり、互いに共通する部分
については、同一番号を付して説明を省略する。なお、
図４，５の場合と同様に、図１４，１５は金属ストリッ
プ３が最小幅Ｗminの場合を示している。
コイル４を金属ストリップ３の進行方向に沿って２列配
置したものを示したが、本発明はこれに限るものでな
く、以下に示すように、１列でもよく、３列以上であっ
てもよい。図１４〜１８に示した誘導加熱装置１ｃはイ
ンダクタコイル４を１列だけ有するもので、図１〜８に
示す装置と、実質的に同一であり、互いに共通する部分
については、同一番号を付して説明を省略する。なお、
図４，５の場合と同様に、図１４，１５は金属ストリッ
プ３が最小幅Ｗminの場合を示している。
【００１８】図１９〜２３に示した誘導加熱装置１ｄは
インダクタコイル４を３列有するもので、図１〜８に示
す装置と、実質的に同一であり、互いに共通する部分に
ついては、同一番号を付して説明を省略する。なお、図
４，５の場合と同様に、図１９，２０は金属ストリップ
３が最小幅Ｗminの場合を示している。
インダクタコイル４を３列有するもので、図１〜８に示
す装置と、実質的に同一であり、互いに共通する部分に
ついては、同一番号を付して説明を省略する。なお、図
４，５の場合と同様に、図１９，２０は金属ストリップ
３が最小幅Ｗminの場合を示している。
【００１９】図２４，２５は、図１〜８に示す誘導加熱
装置１ａを適用した誘導加熱炉を示し、この内、図２４
は金属ストリップ３が最大幅Ｗmaxの場合，図２５は金
属ストリップ３が最小幅Ｗminの場合を示している。な
お、図１〜８に示す実施例と互いに共通する部分につい
ては、同一番号を付して説明を省略する。図示するよう
に、誘導加熱装置１ａの各誘導加熱コイル２ａは、主フ
レーム１１内に、金属ストリップ３の幅方向、および厚
さ方向に移動可能に支持してある。具体的には、主フレ
ーム１１の天井部、および床部の上にガイド１２を取付
け、上記天井部を貫いて、或は上記床部内に入り込んで
ガイド１２内を摺動するロッド１３が設けてある。この
ロッド１３の先端部には断面コ字形の誘導加熱コイル２
ａの支持フレーム１４U，１４Lが取付けてあり、昇降用
シリンダ１５U，１５Lにより各誘導加熱コイル２ａを、
この両者間の上下方向における中心位置を一定に保ちつ
つ、昇降させるように形成してある。
装置１ａを適用した誘導加熱炉を示し、この内、図２４
は金属ストリップ３が最大幅Ｗmaxの場合，図２５は金
属ストリップ３が最小幅Ｗminの場合を示している。な
お、図１〜８に示す実施例と互いに共通する部分につい
ては、同一番号を付して説明を省略する。図示するよう
に、誘導加熱装置１ａの各誘導加熱コイル２ａは、主フ
レーム１１内に、金属ストリップ３の幅方向、および厚
さ方向に移動可能に支持してある。具体的には、主フレ
ーム１１の天井部、および床部の上にガイド１２を取付
け、上記天井部を貫いて、或は上記床部内に入り込んで
ガイド１２内を摺動するロッド１３が設けてある。この
ロッド１３の先端部には断面コ字形の誘導加熱コイル２
ａの支持フレーム１４U，１４Lが取付けてあり、昇降用
シリンダ１５U，１５Lにより各誘導加熱コイル２ａを、
この両者間の上下方向における中心位置を一定に保ちつ
つ、昇降させるように形成してある。
【００２０】上下の誘導加熱コイル２ａの支持フレーム
１４U，１４Lの対向する端部には直動形のローラガイド
手段であるリニアガイド１６が設けてあり、その上に、
これに沿ってレール１７が水平方向に移動可能に配置し
てある。このレール１７には、断面コ字形のフレーム１
８U，１８Lが取付けてある。さらに、水平動用シリンダ
１９U，１９Lにより、このフレーム１８U，１８Lを各レ
ール１７とともに、水平方向における両誘導加熱コイル
２ａ間の中心位置を一定に保ちつつ、水平方向に移動さ
せるように形成してある。そして、斯る構成により誘導
加熱コイル２ａの昇降、水平動の自動化が可能な構造と
なっている。このように構成することで、処理する金属
ストリップの寸法が変更されてもシリンダ１５U，１５L
や１９U，１９Lの伸縮のみでストリップの幅方向や厚さ
方向の位置調節が実施できる。即ち、広幅材から狭幅材
に金属ストリップの寸法が変更になった場合、水平動用
シリンダ１９U，１９Lを伸ばして磁気遮蔽板６を前記ス
トリップの端部に近づける。狭幅材から広幅材に寸法が
変更された場合には、前記シリンダ１９U，１９Lを縮め
て対応する。また、厚さ方向の調節には昇降用シリンダ
１５U，１５Lを使用する。さらに、本誘導加熱炉の上流
側の所定位置で金属ストリップの寸法を検知して、上記
シリンダ１５U，１５Lや１９U，１９Lを制御すれば、誘
導加熱コイル２ａの位置調整を自動化することもでき
る。なお、上記誘導加熱炉において、誘導加熱装置１ａ
に代えて誘導加熱装置１ｂ〜１ｄのいずれかを用いても
よいことは言うまでもない。
１４U，１４Lの対向する端部には直動形のローラガイド
手段であるリニアガイド１６が設けてあり、その上に、
これに沿ってレール１７が水平方向に移動可能に配置し
てある。このレール１７には、断面コ字形のフレーム１
８U，１８Lが取付けてある。さらに、水平動用シリンダ
１９U，１９Lにより、このフレーム１８U，１８Lを各レ
ール１７とともに、水平方向における両誘導加熱コイル
２ａ間の中心位置を一定に保ちつつ、水平方向に移動さ
せるように形成してある。そして、斯る構成により誘導
加熱コイル２ａの昇降、水平動の自動化が可能な構造と
なっている。このように構成することで、処理する金属
ストリップの寸法が変更されてもシリンダ１５U，１５L
や１９U，１９Lの伸縮のみでストリップの幅方向や厚さ
方向の位置調節が実施できる。即ち、広幅材から狭幅材
に金属ストリップの寸法が変更になった場合、水平動用
シリンダ１９U，１９Lを伸ばして磁気遮蔽板６を前記ス
トリップの端部に近づける。狭幅材から広幅材に寸法が
変更された場合には、前記シリンダ１９U，１９Lを縮め
て対応する。また、厚さ方向の調節には昇降用シリンダ
１５U，１５Lを使用する。さらに、本誘導加熱炉の上流
側の所定位置で金属ストリップの寸法を検知して、上記
シリンダ１５U，１５Lや１９U，１９Lを制御すれば、誘
導加熱コイル２ａの位置調整を自動化することもでき
る。なお、上記誘導加熱炉において、誘導加熱装置１ａ
に代えて誘導加熱装置１ｂ〜１ｄのいずれかを用いても
よいことは言うまでもない。
【００２１】
【発明の効果】以上の説明より明らかなように、第１発
明によれば、バイパス用鉄芯を設けた誘導加熱コイルを
金属ストリップの幅方向および厚さ方向に移動できるよ
う該ストリップを挟んで対向配置してあるので、処理す
るストリップが広幅材から狭幅材に変わってもインダク
タコイルに発生した磁束の大部分は比透磁率の高いバイ
パス用鉄芯内を通過するので、広幅から狭幅の金属スト
リップ全般にわたり、加熱効率を向上させることができ
るとともに、金属ストリップの寸法に合わせて容易に位
置調整することが可能になる。
明によれば、バイパス用鉄芯を設けた誘導加熱コイルを
金属ストリップの幅方向および厚さ方向に移動できるよ
う該ストリップを挟んで対向配置してあるので、処理す
るストリップが広幅材から狭幅材に変わってもインダク
タコイルに発生した磁束の大部分は比透磁率の高いバイ
パス用鉄芯内を通過するので、広幅から狭幅の金属スト
リップ全般にわたり、加熱効率を向上させることができ
るとともに、金属ストリップの寸法に合わせて容易に位
置調整することが可能になる。
【００２２】さらに、第２発明によれば、前記対向配置
された一方の誘導加熱コイルのバイパス用鉄芯と、他方
の誘導加熱コイルの加熱用鉄芯とを当接させてあるので
磁束が比透磁率の低い空気中を通過することがほとんど
なくなる。このため、第１発明の効果に加え、さらに一
層加熱効率の向上が可能になる。
された一方の誘導加熱コイルのバイパス用鉄芯と、他方
の誘導加熱コイルの加熱用鉄芯とを当接させてあるので
磁束が比透磁率の低い空気中を通過することがほとんど
なくなる。このため、第１発明の効果に加え、さらに一
層加熱効率の向上が可能になる。
【図１】 第１発明に係る誘導加熱装置の平面図であ
り、ストリップ幅が最大のものである。
り、ストリップ幅が最大のものである。
【図２】 図１のII−II線断面図である。
【図３】 図１のIII−III線断面図である。
【図４】 第１発明に係る誘導加熱装置の平面図であ
り、ストリップ幅が最小のものである。
り、ストリップ幅が最小のものである。
【図５】 図４のV−V線断面図である。
【図６】 図４のVI−VI線断面図である。
【図７】 図４のVII−VII線断面図である。
【図８】 図４のVIII−VIII線断面図である。
【図９】 第２発明に係る誘導加熱装置の平面図であ
り、ストリップ幅が最小のものである。
り、ストリップ幅が最小のものである。
【図１０】 図８のX−X線断面図である。
【図１１】 図８のXI−XI線断面図である。
【図１２】 図８のXII−XII線断面図である。
【図１３】 図８のXIII-XIII線断面図である。
【図１４】 第１発明の第２実施例に係る誘導加熱装置
の平面図である。
の平面図である。
【図１５】 図１４のXV−XV線断面図である。
【図１６】 図１４のXVI−XVI線断面図である。
【図１７】 図１４のXVII−XVII線断面図である。
【図１８】 図１４のXVIII−XVIII線断面図である。
【図１９】 第１発明の第３実施例に係る誘導加熱装置
の平面図である。
の平面図である。
【図２０】 図１９のXX−XX線断面図である。
【図２１】 図１９のXXI−XXI線断面図である。
【図２２】 図１９のXXII−XXII線断面図である。
【図２３】 図１９のXXIII−XXIII線断面図である。
【図２４】 図１〜３に示す誘導加熱装置を適用した誘
導加熱炉の断面図で、金属ストリップが最大幅の場合を
示している。
導加熱炉の断面図で、金属ストリップが最大幅の場合を
示している。
【図２５】 図４〜８に示す誘導加熱装置を適用した誘
導加熱炉の断面図で、金属ストリップが最小幅の場合を
示している。
導加熱炉の断面図で、金属ストリップが最小幅の場合を
示している。
１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ 誘導加熱装置 ２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ 誘導加熱コイル ３ 金属ストリップ ４ インダクタコイル ５ 加熱用鉄芯 ６ 磁気遮蔽板 ７ バイパス用鉄芯
Claims (2)
- 【請求項１】 連続搬送される金属ストリップの幅方向
に関して、少なくとも前記金属ストリップの最大の幅寸
法の外形を有するインダクタコイルの内方に加熱用鉄芯
を位置させたトランスバース方式の誘導加熱装置におい
て、前記金属ストリップの幅方向の一方の側で、かつ，
前記インダクタコイルの外方に磁気遮蔽板を設け、この
磁気遮蔽板の外方にバイパス用鉄芯を前記加熱用鉄芯に
連設した誘導加熱コイルを前記ストリップ幅方向で前記
バイパス用鉄芯が反対に位置するように該ストリップを
挟んで対向配置するとともに、前記誘導加熱コイルを前
記金属ストリップの幅方向および厚さ方向に移動可能に
設けたことを特徴とする誘導加熱装置。 - 【請求項２】 前記対向配置した一方の誘導加熱コイル
のバイパス用鉄芯と他方の誘導加熱コイルの加熱用鉄芯
とを当接させたことを特徴とする請求項１に記載の誘導
加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2026295A JP2669799B2 (ja) | 1995-02-08 | 1995-02-08 | 誘導加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2026295A JP2669799B2 (ja) | 1995-02-08 | 1995-02-08 | 誘導加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08213159A JPH08213159A (ja) | 1996-08-20 |
| JP2669799B2 true JP2669799B2 (ja) | 1997-10-29 |
Family
ID=12022293
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2026295A Expired - Fee Related JP2669799B2 (ja) | 1995-02-08 | 1995-02-08 | 誘導加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2669799B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102455533B1 (ko) * | 2019-10-31 | 2022-10-17 | 주식회사 피에스텍 | 유도 가열 장치 및 이를 이용한 판재 가열 방법 |
-
1995
- 1995-02-08 JP JP2026295A patent/JP2669799B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08213159A (ja) | 1996-08-20 |
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