JP2666627B2 - Disc manufacturing method for disc friction device - Google Patents

Disc manufacturing method for disc friction device

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JP2666627B2
JP2666627B2 JP27614191A JP27614191A JP2666627B2 JP 2666627 B2 JP2666627 B2 JP 2666627B2 JP 27614191 A JP27614191 A JP 27614191A JP 27614191 A JP27614191 A JP 27614191A JP 2666627 B2 JP2666627 B2 JP 2666627B2
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metal
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英樹 田村
悟 広
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神鋼電機株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はディスク同士を選択的に
押圧・接触させて,一方のディスク側の回転を制動した
り,或いは,一方のディスク側から他方のディスク側に
回転を伝達したりする真空中で使用される機器に適用さ
れるディスク摩擦装置のディスクの製作方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to selectively pressing and contacting disks to brake the rotation of one disk, or to transmit the rotation from one disk to the other disk. The present invention relates to a method for manufacturing a disk of a disk friction device applied to equipment used in a vacuum.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば,従来の電磁摩擦ブレ−キは概略
次のような構成となっている。まず,制動側と被制動側
とがあり,これら制動側及び被制動側には,それぞれ制
動側ディスクと被制動側ディスクが取付けられている。
上記制動側ディスクは金属製であり,被制動側ディスク
は有機系摩擦材料製である。そして,制動側ディスクを
被制動側ディスクに押圧接触させることにより,被制動
側の回転を停止させるものである。尚,上記制動側ディ
スクとして有機系摩擦材料製のものを使用することもあ
る。ところで,従来の上記金属製のディスクの表面加工
はたとえば機械研磨等の加工手段で行われており,この
ような通常の加工手段では表面は規則性のない凹凸状態
となっていた。なお,従来の上記金属製のディスクの表
面粗さは,Ra=0.05μm,また,その最大高さRmax
≦2μm程度であることが,Raについては次の(1)に
示す文献中に,また,Rmax については次の(2)に示す
文献中に夫々記載されている。さらに,真空・宇宙用ブ
レ−キのブレ−キ材料についての研究が今なお行われて
いることが(3) に示す文献からわかる。 (1)Hawthone,H.M:Wear Debris Induced Friction Anoma
lies of Organic BrakeMaterials in Vacuo,Wear Mate
r,Vol.1(1987),P.381〜P.764。 (2)岩田,町田,戸田:宇宙用アクチュエ−タのブレ−キ材
料,トライボロジスト,第34巻第10号(1989),P.757〜P.76
4。 (3)Hawthone,H.M:On the Role of Interfatial Debris
Morphology in a Confor-ming Contact Tribosystem, 8
th Int. Conf. on Wear of Materials, ASME(1991), P.
277〜P.288。
2. Description of the Related Art For example, a conventional electromagnetic friction brake has the following structure. First, there are a brake side and a brake side, and a brake side disk and a brake side disk are mounted on these brake side and brake side, respectively.
The brake side disk is made of metal, and the brake side disk is made of an organic friction material. The brake-side disc is pressed against the brake-side disc to stop the brake-side rotation. Incidentally, a disc made of an organic friction material may be used as the braking side disc. By the way, the surface processing of the above-mentioned conventional metal disk is performed by processing means such as mechanical polishing, for example, and the surface is in an irregular state having no regularity by such normal processing means. The surface roughness of the conventional metal disk is Ra = 0.05 μm, and its maximum height Rmax
It is described that Ra is about 2 μm in the following document (1) for Ra, and Rmax is described in the following document (2). In addition, it is clear from the literature shown in (3) that research on brake materials for vacuum and space brakes is still ongoing. (1) Hawthone, HM: Wear Debris Induced Friction Anoma
lies of Organic BrakeMaterials in Vacuo, Wear Mate
r, Vol. 1 (1987), p. 381-p. 764. (2) Iwata, Machida, Toda: Braking materials for space actuators, Tribologist, Volume 34, No. 10 (1989), pp. 757-76.
Four. (3) Hawthone, HM: On the Role of Interfatial Debris
Morphology in a Confor-ming Contact Tribosystem, 8
th Int. Conf.on Wear of Materials, ASME (1991), P.
277-P.288.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで,上記従来の
ものによると次のような問題点があった。即ち,上記電
磁摩擦ブレ−キを真空中で使用した場合には,ある距離
をすべったところで摩擦力が急激に低下してしまい,所
望の制動機能を発揮することができなくなってしまうと
いう場合がある。これを図4を参照して説明する。図4
は横軸にすべり距離をとり,縦軸に摩擦係数をとって,
両者の関係を示した図である。又,実験に使用した制動
側ディスクは金属製(軟鋼)であってその表面粗さは,
最大高さ(Rmax )が1μmであり,又,被制動側ディ
スクは有機系摩擦材料製である。又,図中線図aが大気
中でのデ−タであり,線図bが真空中でのデ−タであ
る。この図4から明らかなように,真空中にあっては,
すべり距離がある値を越えた場合に,摩擦係数が急激に
低下していることがわかる。又,同様の現象として,制
動側ディスクとして,表面粗さ(Ra)が0.05μmとし
たステンレス鋼を使用した例が前記(1) の文献に紹介さ
れているが,この構造のものでは真空中に使用される機
器に適用するには問題があった。本発明は従来のものの
上記問題点(課題)を解決するようにしたディスク摩擦
装置のディスク製作方法を提供することを目的とするも
のである。
However, according to the above-mentioned prior art, there are the following problems. That is, when the electromagnetic friction brake is used in a vacuum, the frictional force suddenly drops at a certain distance, and the desired braking function cannot be exhibited. is there. This will be described with reference to FIG. FIG.
Is the slip distance on the horizontal axis and the friction coefficient on the vertical axis.
It is a figure showing the relation between both. Also, the braking side disk used in the experiment was made of metal (mild steel) and its surface roughness was
The maximum height (Rmax) is 1 μm, and the disc to be braked is made of an organic friction material. A diagram a in the figure is data in the atmosphere, and a diagram b is data in a vacuum. As is clear from FIG. 4, in a vacuum,
It can be seen that when the slip distance exceeds a certain value, the friction coefficient sharply decreases. As a similar phenomenon, an example in which a stainless steel having a surface roughness (Ra) of 0.05 μm is used as the braking-side disk in the above-mentioned document (1) is described. There was a problem in applying it to equipment used for SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a disk for a disk friction device which solves the above-mentioned problems (problems) of the conventional one.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は,有機系摩擦材
料製のディスクと金属製のディスクとを選択的に押圧・
接触させることにより,制動機能又は回転伝達機能を発
揮させる真空中で使用されるディスク摩擦装置における
金属製のディスクを,レ−ザ溶射,プラズマ溶射等の溶
射を用いた加工手段で行い,上記ディスクの表面に部分
的な突起を持たせ,(金属製ディスクの表面粗さ又は代
表高さ)/(有機材料製ディスクの表面粗さ)>1とな
るように加工して製作するようにしたディスク摩擦装置
のディスク製作方法に関する。
According to the present invention, a disc made of an organic friction material and a disc made of a metal are selectively pressed and pressed.
A metal disk in a disk friction device used in a vacuum that exerts a braking function or a rotation transmitting function by being brought into contact with the disk is processed by a processing means using thermal spraying such as laser spraying or plasma spraying. A disk having a partial projection on the surface of the disk and processed so that (surface roughness or representative height of a metal disk) / (surface roughness of an organic disk)> 1 The present invention relates to a method for manufacturing a disk of a friction device.

【0005】この場合,上記金属製のディスクの表面加
工を溶射に代えて,ショットピ−ニング,ショットブラ
スト等の打痕付与,又は型を用いた押し込み,又はメッ
キ,又はエッチング,又はパタ−ンエッチング,又は焼
結,又は鋳造,又はダイキャスト,又は熱間等方圧加工
(HIP),或いは冷間等方圧加工(CIP)という他
の特殊加工手段で行うようにしても良い。
In this case, instead of thermal spraying, the surface processing of the metal disk is performed by applying a dent such as shot peening, shot blasting, or the like, or by using a mold, or by plating, etching, or pattern etching. Or other special processing means such as sintering, casting, die casting, hot isostatic pressing (HIP), or cold isostatic pressing (CIP).

【0006】[0006]

【作用】本発明のディスクの製作方法では,金属製のデ
ィスクの表面を,溶射等の特殊な加工手段で加工し,上
記ディスクの表面を部分的な突起を有する表面とし,
(金属製ディスクの表面粗さ又は代表高さ)/(有機材
料製ディスクの表面粗さ)>1となるように加工するも
のであるから,真空中における摩擦力の低下が防止され
る。
According to the method of manufacturing a disk of the present invention, the surface of a metal disk is processed by a special processing means such as thermal spraying, and the surface of the disk is formed as a surface having partial projections.
Since the processing is performed so that (surface roughness or representative height of metal disk) / (surface roughness of organic material disk)> 1, a reduction in frictional force in a vacuum is prevented.

【0007】[0007]

【実施例】以下,図1乃至図3を参照して本発明の一実
施例を説明する。この実施例は,本発明製作方法で製作
したディスクを電磁摩擦ブレ−キに適用した構成例を示
すものである。図1において,1は被制動側の回転軸1
であり,この回転軸1には,ハブ2を介して被制動側デ
ィスク3がスプライン嵌合されている。被制動側ディス
ク3は有機系摩擦材料製である(例えば,ポリイミド樹
脂系材料,フェノ−ル樹脂系材料等)。又,図中左右両
面を被制動面5,5’としている。一方,制動側とし
て,一対の制動側ディスク7,9が配置されている。こ
れら制動側ディスク7,9は,上記被制動側ディスク3
を挟むように配置されている。上記制動側ディスク7,
9の内,制動側ディスク9は調整用ボルト等のねじ部材
11によって基板13に固定されている。一方,制動側
ディスク7は,図中カラ−7aを摺動して左右方向に移
動可能に設置されており,コイルスプリング15によっ
て被制動側ディスク3方向に付勢されている。又,電磁
コイル17に通電することにより,上記コイルスプリン
グ15のスプリング力に抗して,図中左側に移動するも
のである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. This embodiment shows a configuration example in which a disk manufactured by the manufacturing method of the present invention is applied to an electromagnetic friction brake. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a rotating shaft 1 on the braked side.
A disk 3 to be braked is spline-fitted to the rotating shaft 1 via a hub 2. The brake-side disk 3 is made of an organic friction material (for example, a polyimide resin material, a phenol resin material, or the like). Also, the left and right sides in the figure are the braking surfaces 5, 5 '. On the other hand, a pair of braking-side disks 7 and 9 are arranged as the braking side. The braking side disks 7, 9 are
Are arranged so as to sandwich the. The braking side disk 7,
Among them, the braking side disk 9 is fixed to the substrate 13 by a screw member 11 such as an adjusting bolt. On the other hand, the braking-side disk 7 is installed so as to be movable in the left-right direction by sliding on a collar 7a in the figure, and is urged in the direction of the braking-side disk 3 by a coil spring 15. When the electromagnetic coil 17 is energized, it moves to the left in the figure against the spring force of the coil spring 15.

【0008】そして,上記電磁コイル17が非通電状態
の場合には,一対の制動側ディスク7,9が被制動側デ
ィスク3の被制動面5,5’に押圧・接触するもので,
所望の制動機能が発揮されて,回転軸1はその回転を規
制される。これに対して,上記電磁コイル17が通電状
態の場合には,制動側ディスク7が,被制動側ディスク
3の被制動面5より離間するので,制動機能が停止され
て,回転軸1はその回転を許容される。
When the electromagnetic coil 17 is in a non-energized state, the pair of brake-side disks 7 and 9 press and contact the brake-receiving surfaces 5 and 5 'of the brake-side disk 3.
A desired braking function is exhibited, and the rotation of the rotating shaft 1 is regulated. On the other hand, when the electromagnetic coil 17 is in the energized state, the braking side disk 7 is separated from the braked surface 5 of the disk 3 to be braked, so that the braking function is stopped, and the rotating shaft 1 is stopped. Rotation is allowed.

【0009】ところで,上記制動側ディスク7,9は金
属製であり(例えば,軟鋼,オ−ステナイト系ステンレ
ス鋼,アルミニウム合金,チタン,各種表面処理鋼
等),その表面を,たとえば図2に示す構成となるよう
に,次のような11通りの特殊な加工方法で製作するも
のである。図2において,Rmax(Ra)はディスク素地
の表面粗さを,Rdは上記各種の特殊加工方法で付与し
た突起の代表高さを示す。 (1)溶射という加工手段によるもの 第1は,レ−ザ溶射,プラズマ溶射等の溶射を用いた加
工手段でディスク表面を加工するもので,たとえば,図
2(A)に示すように,上記ディスクの表面に部分的な
突起20a1,20a2,・・を有する表面とし,(金属
製ディスクの表面粗さ又は代表高さ)/(有機材料製デ
ィスクの表面粗さ)>1となるように加工してディスク
を製作するものである。このほか,上記条件式を満足す
る加工形態としては,図2(B),(C)に示すように
部分突起の形状を突起20b1,20b2,;20c1
20c2,・・・と変形することにより各種の実施態様
が考えられる。このほか,上記金属製のディスクの表面
に部分突起を形成し,上記条件式を満足させるような特
種な加工の加工手段として,次の,10通りの方法があ
る。 (2)ショットピ−ニング,ショットブラスト等の打痕
付与 (3)型を用いた押し込み (4)メッキ (5)エッチング (6)パタ−ンエッチング (7)焼結 (8)鋳造 (9)ダイキャスト (10)熱間等方圧加工(HIP) (11)冷間等方圧加工(CIP)
Incidentally, the braking side disks 7, 9 are made of metal (for example, mild steel, austenitic stainless steel, aluminum alloy, titanium, various surface-treated steels, etc.), and the surface thereof is shown, for example, in FIG. It is manufactured by the following eleven special processing methods so as to have a configuration. In FIG. 2, Rmax (Ra) indicates the surface roughness of the disk substrate, and Rd indicates the representative height of the projections provided by the above various special processing methods. (1) Processing by means of thermal spraying First, the disk surface is processed by processing means using thermal spraying such as laser spraying or plasma spraying. For example, as shown in FIG. partial projections 20a 1 on the surface of the disk, 20a 2, and the surface having a ..., (surface roughness or representative height of the metallic disk) / (surface roughness of the organic material-made disc)> 1 and so as To produce a disk. In addition, the machining mode that satisfies the above condition, FIG. 2 (B), the protrusion 20b 1 the shape of the portion projection as shown in (C), 20b 2,; 20c 1,
Various embodiments are conceivable by transforming them into 20c 2 ,. In addition, there are the following ten methods as special processing means for forming a partial projection on the surface of the metal disk and satisfying the above conditional expression. (2) Indentation of shot peening, shot blasting, etc. (3) Indentation using mold (4) Plating (5) Etching (6) Pattern etching (7) Sintering (8) Casting (9) Die Cast (10) Hot isostatic pressing (HIP) (11) Cold isostatic pressing (CIP)

【0010】有機系摩擦材料製のディスクの表面粗さに
対する金属製ディスク表面粗さの比と摩擦力との関係
を,図3を参照して説明する。図3は,横軸に(金属製
ディスクの表面粗さ)/(有機系摩擦材料製ディスクの
表面の粗さ)をとり,縦軸に動摩擦係数が0.2 に低下す
るまでのすべり距離(L0.2 )をとって,その変化を示
した図である。又,この場合には,上記制動側ディスク
7,9と同じ材質の一方向研磨された金属製ディスクに
対して,上記被制動側ディスク3と同じ材質の有機系摩
擦材料製のディスクとを摩擦したものである。本考案に
よる特殊な部分突起をもつ金属製ディスクの場合は,図
3の横軸を(金属製ディスクの表面粗さ又は代表高さ)
/(有機材料製ディスクの表面粗さ)と見る。この場
合,図3より明らかなように,金属製ディスクの表面の
粗さが有機系摩擦材料製のディスクの表面の粗さより小
さい場合には,長くても 0.5km程度で動摩擦係数が
0.2に低下してしまう。又,その際,試験終了後の摩擦
面が黒っぽくなってしまう。これに対して,表面粗さ比
S が1以上の場合には,3km以上のすべり距離を示
しており,中には10km以上のすべり距離を示している
ものも確認されている。つまり,表面粗さ比RS を1以
上とすることにより,摩擦力の低下を防止することがで
きるものである。又,この場合には,金属製ディスクの
表面に有機系摩擦材料がまだら状に付着し,その色彩
は,有機系摩擦材料の切粉の色に近いものであり,前者
とは全く異なるものであった。上記のように本実施例の
加工方法により製作されたディスクを適用した電磁摩擦
ブレ−キでは,真空中における摩擦力の低下を防止し
て,長期にわたって安定した制動機能を発揮させること
ができる。これは,金属製制動側ディスク7,9の表面
粗さ又は,代表高さを,有機材料製被制動側ディスクの
表面粗さより大きくなるように構成したからである。
The relationship between the ratio of the surface roughness of a metal disk to the surface roughness of a disk made of an organic friction material and the frictional force will be described with reference to FIG. In FIG. 3, the horizontal axis represents (surface roughness of a metal disk) / (the surface roughness of an organic friction material disk), and the vertical axis represents a slip distance (L 0.2) until the dynamic friction coefficient decreases to 0.2. ) Is a diagram showing the change. In this case, the disc made of an organic friction material of the same material as the disc 3 to be braked is rubbed against the unidirectionally polished metal disc of the same material as the discs 7 and 9. It was done. In the case of a metal disk having a special partial projection according to the present invention, the horizontal axis in FIG. 3 is (surface roughness or representative height of the metal disk).
// (surface roughness of organic material disc). In this case, as is clear from FIG. 3, when the surface roughness of the metal disk is smaller than the surface roughness of the disk made of an organic friction material, the dynamic friction coefficient is about 0.5 km at most.
It drops to 0.2. Also, at that time, the friction surface after the test is darkened. On the other hand, when the surface roughness ratio R S is 1 or more, a slip distance of 3 km or more is shown, and some of them show a slip distance of 10 km or more. That is, by setting the surface roughness ratio R S to 1 or more, it is possible to prevent a decrease in frictional force. In this case, the organic friction material adheres to the surface of the metal disk in a mottled manner, and its color is close to the color of the chip of the organic friction material, which is completely different from the former. there were. As described above, in the electromagnetic friction brake using the disk manufactured by the working method of the present embodiment, it is possible to prevent a decrease in frictional force in a vacuum and exhibit a stable braking function for a long time. This is because the surface roughness or the representative height of the metal braking side disks 7, 9 is configured to be larger than the surface roughness of the organic material braking side disk.

【0011】尚,本発明は前記した各実施例に限定され
るものではない。例えば,前記各実施例の場合には,摩
擦型の電磁ブレ−キ装置を例にとって示したが,摩擦型
の電磁クラッチ装置に適用しても同様の効果を奏するこ
とができる。
The present invention is not limited to the above embodiments. For example, in each of the above-described embodiments, the friction type electromagnetic brake device has been described as an example, but the same effect can be obtained by applying to a friction type electromagnetic clutch device.

【0012】[0012]

【発明の効果】上記のように,本発明によるディスク摩
擦装置のディスク製作方法によると,溶射等の特種な加
工手段によって,金属製のディスクの表面粗さ又は代表
高さを,有機系摩擦材料製ディスクの表面粗さより大き
くなるように加工するものであるから,次のような優れ
た効果を有する。 本発明の加工方法では,従来の通常の金属加工方法で
は実現不可能な図2に示すような代表高さRdの部分的
な突起20a1,20a2・・を金属製ディスク表面に付
与することができ,金属製ディスクの表面粗さ又は代表
高さが有機材料製ディスクの表面粗さより大きくなるよ
うに加工したディスクを適用した電磁摩擦ブレ−キは真
空中における摩擦力の低下を防止することができる。 したがって,本発明の製作方法で製作したディスクを
適用した電磁摩擦ブレ−キは真空中で長期にわたって安
定した機能を維持することができるから,真空用又は宇
宙用の機器,例えば,宇宙ステ−ションにおけるマニピ
ュレ−タの関節の保持および停止用のブレ−キ等の用途
に適用されるディスク摩擦装置として好適であり,本発
明の実利は大である。
As described above, according to the disk manufacturing method of the disk friction device according to the present invention, the surface roughness or the representative height of the metal disk can be reduced by the special processing means such as thermal spraying. Since it is processed so as to be larger than the surface roughness of the disc made, it has the following excellent effects. In the processing method of the present invention is to impart conventional ordinary metal processing methods partial projections 20a of the representative height Rd shown in unrealizable 2 in 1, 20a 2 ... a metal disk surface An electromagnetic friction brake using a disk processed so that the surface roughness or the representative height of a metal disk is larger than the surface roughness of an organic material disk is to prevent a reduction in frictional force in a vacuum. Can be. Therefore, since the electromagnetic friction brake using the disk manufactured by the manufacturing method of the present invention can maintain a stable function for a long time in a vacuum, it can be used for vacuum or space equipment such as a space station. It is suitable as a disc friction device applied to applications such as a brake for holding and stopping a joint of a manipulator in the above, and the utility of the present invention is great.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例が適用される電磁ブレ−キ装
置の構成を示す縦断正面図である。
FIG. 1 is a vertical sectional front view showing a configuration of an electromagnetic brake device to which an embodiment of the present invention is applied.

【図2】本発明の溶射等の特種な加工手段によって加工
した金属製のディスクの表面加工状態を示す要部断面図
で,(A)〜(C)は夫々本発明の加工形態(実施態
様)の例を示すものである。
FIG. 2 is a sectional view of a main part showing a surface processing state of a metal disk processed by a special processing means such as thermal spraying according to the present invention, wherein (A) to (C) are processing forms (embodiments) of the present invention, respectively. 3) shows an example.

【図3】本発明の一実施例の作用を示す図で,表面粗さ
比RS と摩擦力の関係を示し,表面粗さ比RS と動摩擦
係数が0.2 に低下するまでのすべり距離の関係を示して
いる。
FIG. 3 is a diagram showing the operation of one embodiment of the present invention, showing the relationship between the surface roughness ratio R S and the frictional force, and the surface roughness ratio R S and the slip distance until the dynamic friction coefficient decreases to 0.2. Shows the relationship.

【図4】従来例の説明に使用した図で,大気中と真空中
におけるすべり距離と摩擦係数との関係を比較して示す
図である。
FIG. 4 is a diagram used for explaining a conventional example, and is a diagram showing a comparison between a slip distance and a friction coefficient in the air and in a vacuum.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

3:被制動側ディスク 7:制動側ディスク 9:制動側ディスク 3: Disc to be braked 7: Disc to be braked 9: Disc to be braked

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−88830(JP,A) 特開 昭64−79432(JP,A) 特開 平5−42635(JP,A) 実開 昭61−177230(JP,U) 実開 平3−19129(JP,U) 実開 昭63−126632(JP,U) 実開 昭53−35351(JP,U) 特公 昭38−8224(JP,B1) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (56) References JP-A-62-88830 (JP, A) JP-A-64-79432 (JP, A) JP-A-5-42635 (JP, A) 177230 (JP, U) JP-A 3-19129 (JP, U) JP-A 63-126632 (JP, U) JP-A 53-35351 (JP, U) JP-B 38-8224 (JP, B1)

Claims (11)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 有機系摩擦材料製のディスクと金属製の
ディスクとを選択的に押圧・接触させることにより,制
動機能又は回転伝達機能を発揮させる真空中で使用され
るディスク摩擦装置における金属製のディスクを,レ−
ザ溶射,プラズマ溶射等の溶射を用いた加工手段で行
い,上記ディスクの表面に部分的な突起を持たせ,(金
属製ディスクの表面粗さ又は代表高さ)/(有機材料製
ディスクの表面粗さ)>1となるように加工して製作す
るようにしたことを特徴とするディスク摩擦装置のディ
スク製作方法。
1. A disk friction device used in a vacuum which exerts a braking function or a rotation transmitting function by selectively pressing and contacting a disk made of an organic friction material and a metal disk. Insert the disk
The surface of the disk is provided with partial protrusions by a processing means using thermal spraying such as thermal spraying or plasma spraying, and (surface roughness or representative height of metal disk) / (surface of organic material disk) (Roughness)> 1. A method of manufacturing a disk for a disk friction device, wherein the disk is manufactured by processing.
【請求項2】 上記金属製のディスクの表面加工を溶射
に代えて,ショットピ−ニング,ショットブラスト等の
打痕付与という加工手段で行うようにした請求項1記載
のディスク摩擦装置のディスク製作方法。
2. A method of manufacturing a disk for a disk friction device according to claim 1, wherein the surface processing of said metal disk is performed by a processing means such as shot peening, shot blasting or the like instead of thermal spraying. .
【請求項3】 上記金属製のディスクの表面加工を溶射
に代えて,型を用いた押し込みという加工手段で行うよ
うにした請求項1記載のディスク摩擦装置のディスク製
作方法。
3. A method for manufacturing a disk for a disk friction device according to claim 1, wherein the surface processing of said metal disk is performed by a pressing means using a mold instead of thermal spraying.
【請求項4】 上記金属製のディスクの表面加工を溶射
に代えて,メッキという加工手段で行うようにした請求
項1記載のディスク摩擦装置のディスク製作方法。
4. The method of manufacturing a disk for a disk friction device according to claim 1, wherein the surface processing of said metal disk is performed by plating instead of thermal spraying.
【請求項5】 上記金属製のディスクの表面加工を溶射
に代えて,エッチングという加工手段で行うようにした
請求項1記載のディスク摩擦装置のディスク製作方法。
5. The disk manufacturing method for a disk friction device according to claim 1, wherein the surface processing of said metal disk is performed by processing means called etching instead of thermal spraying.
【請求項6】 上記金属製のディスクの表面加工を溶射
に代えて,パタ−ンエッチングという加工手段で行うよ
うにした請求項1記載のディスク摩擦装置のディスク製
作方法。
6. A method of manufacturing a disk for a disk friction device according to claim 1, wherein the surface processing of said metal disk is performed by processing means called pattern etching instead of thermal spraying.
【請求項7】 上記金属製のディスクの表面加工を溶射
に代えて,焼結という加工手段で行うようにした請求項
1記載のディスク摩擦装置のディスク製作方法。
7. The disk manufacturing method for a disk friction device according to claim 1, wherein the surface processing of said metal disk is performed by processing means called sintering instead of thermal spraying.
【請求項8】 上記金属製のディスクの表面加工を溶射
に代えて,鋳造という加工手段で行うようにした請求項
1記載のディスク摩擦装置のディスク製作方法。
8. The method of manufacturing a disk for a disk friction device according to claim 1, wherein the surface processing of said metal disk is performed by processing means called casting instead of thermal spraying.
【請求項9】 上記金属製のディスクの表面加工を溶射
に代えて,ダイキャストという加工手段で行うようにし
た請求項1記載のディスク摩擦装置のディスク製作方
法。
9. The method of manufacturing a disk for a disk friction device according to claim 1, wherein the surface processing of the metal disk is performed by die casting instead of thermal spraying.
【請求項10】 上記金属製のディスクの表面加工を溶
射に代えて,熱間等方圧加工(HIP)という加工手段
で行うようにした請求項1記載のディスク摩擦装置のデ
ィスク製作方法。
10. The disk manufacturing method for a disk friction device according to claim 1, wherein the surface processing of the metal disk is performed by hot isostatic pressing (HIP) instead of thermal spraying.
【請求項11】 上記金属製のディスクの表面加工を溶
射に代えて,冷間等方圧加工(CIP)という加工手段
で行うようにした請求項1記載のディスク摩擦装置のデ
ィスク製作方法。
11. The method of manufacturing a disk for a disk friction device according to claim 1, wherein the surface processing of the metal disk is performed by cold isostatic pressing (CIP) instead of thermal spraying.
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