JP2648978B2 - Photosensitive material processing equipment - Google Patents
Photosensitive material processing equipmentInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明は、ハロゲン化銀感光材料（以下、単に感光材
料という）を湿式で処理する感光材料処理装置に関す
る。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a photosensitive material processing apparatus for processing a silver halide photosensitive material (hereinafter simply referred to as a “photosensitive material”) in a wet manner.
＜従来の技術＞ 銀塩写真式複写機や自動現像機等の感光材料処理装置
においては、露光済の感光材料に対して湿式処理がなさ
れる。この処理では、通常、各処理糟に貯留された現像
液、漂白液、定着液（または漂白・定着液）、洗浄水に
感光材料を順次浸漬した後、これを乾燥することが行な
われる。<Prior Art> In a photosensitive material processing apparatus such as a silver halide photographic copying machine or an automatic developing machine, wet processing is performed on an exposed photosensitive material. In this processing, usually, the photosensitive material is sequentially immersed in a developing solution, a bleaching solution, a fixing solution (or a bleaching / fixing solution), and washing water stored in each processing tank, and then dried.
このような処理においては、環境保全、資源節約、コ
ストダウン等の要請から、一定の処理効果を得るための
処理液の使用量をできるだけ少なくすることが要請され
ている。In such processing, it is required to minimize the amount of the processing liquid used to obtain a certain processing effect in view of environmental conservation, resource saving, cost reduction, and the like.
例えば洗浄水の使用量を節約するには、水洗糟の設置
数を多くすればよいことが知られており、このため、従
来では、複数個（２〜９個程度）の水洗糟を横方向に並
設、し、感光材料を各水洗糟を順次通過させて水洗を行
なう方法（いわゆる多段向流方式）が採られていた。For example, it is known that the amount of washing water used can be reduced by increasing the number of washing tanks. For this reason, conventionally, a plurality of (about 2 to 9) washing tanks are arranged in the horizontal direction. And a method in which the photosensitive material is sequentially passed through each of the washing tanks to perform washing (a so-called multi-stage countercurrent method).
しかるに、この方法では、数個の水洗糟を並設するた
め、装置が大型化して広い設置スペースが必要となり、
しかも、水洗に要する時間も長くなるという欠点があ
る。However, in this method, several washing tanks are juxtaposed, so that the apparatus becomes large and a large installation space is required.
In addition, there is a disadvantage that the time required for washing with water is long.
このような欠点は、水洗以外の処理においても同様で
ある。Such a drawback is the same in processing other than water washing.
＜発明が解決しようとする課題＞ 本発明の目的は、装置が小型で設置スペースが少な
く、処理液の使用量の低減が図れ、しかも、処理時間が
短く、優れた写真性能を得ることができる感光材料処理
装置を提供することにある。<Problems to be Solved by the Invention> An object of the present invention is to provide a small-sized apparatus, a small installation space, a reduction in the amount of processing liquid used, a short processing time, and excellent photographic performance. An object of the present invention is to provide a photosensitive material processing apparatus.
＜課題を解決するための手段＞ このような目的は、下記（１）および（２）の本発明
により達成される。<Means for Solving the Problems> Such an object is achieved by the present invention of the following (1) and (2).
（１） 通路を介してほぼ水平方向に連接された複数の
処理室を有する処理糟と、 処理糟内の処理液を一時貯留する貯留手段と、 この処理糟内に設置され、感光材料を前記各処理室内
および前記各通路内のほぼ水平な搬送経路に沿って搬送
する搬送手段と、 前記各通路に、通路を遮蔽するよう設置された少なく
とも一対のブレードと、 前記処理室と前記貯留手段との間で処理液を移動さ
せ、各処理室内において、処理液の液面レベルを前記感
光材料の搬送経路より上方の位置と下方の位置とに変化
せる液面レベル調整手段とを有し、 感光材料のブレード通過時に液面をブレードより上方
とし、感光材料がブレード通過後液面をブレードより下
方とすることを特徴とする感光材料処理装置。(1) A processing vessel having a plurality of processing chambers connected in a substantially horizontal direction through a passage, a storage means for temporarily storing a processing solution in the processing vessel, Transport means for transporting along a substantially horizontal transport path in each processing chamber and in each of the passages; at least one pair of blades installed in each of the passages so as to shield the passages; and the processing chamber and the storage means Liquid level adjusting means for moving the processing liquid between the processing chambers and changing the liquid level of the processing liquid between a position above and below the conveyance path of the photosensitive material in each processing chamber; A photosensitive material processing apparatus wherein the liquid level is above the blade when the material passes through the blade, and the liquid level is below the blade after the photosensitive material passes through the blade.
（２）隣接する前記処理室間を接続する処理液の流路を
備える上記（１）に記載の感光材料処理装置。(2) The photosensitive material processing apparatus according to (1), further including a processing solution flow path connecting the adjacent processing chambers.
＜作用＞ このような構成の感光材料処理装置では、複数の処理
室をほぼ水平方向に連接し、感光材料を同方向に搬送す
るため、搬送経路長が短く、装置のサイズも小さくな
る。<Operation> In the photosensitive material processing apparatus having such a configuration, a plurality of processing chambers are connected in a substantially horizontal direction and the photosensitive material is transported in the same direction, so that the transport path length is short and the size of the apparatus is small.
また、各処理室内の処理液には液組成（濃度）の勾配
が形成されるため、処理効率が高まり、そのため、一定
の処理効果を得るのに必要な処理液の使用量（補充量）
が低減する。Further, since a gradient of the liquid composition (concentration) is formed in the processing liquid in each processing chamber, the processing efficiency is increased, and therefore, the amount (replenishment amount) of the processing liquid required to obtain a certain processing effect.
Is reduced.
この場合、隣接処理室間を接続する通路には、少なく
とも一対のブレードが設置されているため、感光材料が
次の処理室へ移行する際に感光材料の表面、特に画面
（乳剤面およびその裏面）から処理液が拭い取られ、次
の処理室への持ち込み量が減少する。さらに、通路はブ
レードにより実質的に遮蔽されているため、通路の処理
液の流通はほとんどないかまたは必要最小限にとどま
る。In this case, since at least one pair of blades is installed in the passage connecting the adjacent processing chambers, when the photosensitive material moves to the next processing chamber, the surface of the photosensitive material, particularly the screen (emulsion surface and back surface thereof) ), The processing liquid is wiped off, and the amount brought into the next processing chamber is reduced. In addition, the passage is substantially shielded by the blades, so that there is little or no flow of processing liquid in the passage.
従って、上記各処理室における処理液の液組成勾配が
維持される。Therefore, the liquid composition gradient of the processing liquid in each processing chamber is maintained.
また、感光材料の非処理時には、液面レベル調整手段
が作動して処理液の液面レベルを感光材料の搬送経路よ
り下方の位置に設定するので、通路を介しての隣接処理
室間での処理液の流通が確実に阻止され、よって、感光
材料の非処理時における上記液組成勾配も維持される。Further, when the photosensitive material is not processed, the liquid level adjusting means is operated to set the liquid level of the processing liquid to a position below the conveying path of the photosensitive material. The flow of the processing liquid is reliably prevented, and thus the above-mentioned liquid composition gradient when the photosensitive material is not processed is also maintained.
従って、処理休止時間が長し場合でも、次の処理を開
始する際には、上記液組成勾配が維持されているため、
処理液の入れ換えや特別な補充も必要とせず、定常運転
時と同等の良好かつ安定した写真性能が得られる。Therefore, even when the processing pause time is long, when starting the next processing, the liquid composition gradient is maintained,
Neither replacement of the processing solution nor special replenishment is required, and good and stable photographic performance equivalent to that in the normal operation can be obtained.
＜実施例＞ 以下、本発明の感光材料処理装置を添付図面に示す好
適実施例に基づいて詳細に説明する。<Embodiment> Hereinafter, a photosensitive material processing apparatus of the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.
第１図および第２図は、それぞれ本発明の感光材料処
理装置の構成例を示す断面側面図である。これらの図に
示すように、感光材料処理装置１は、処理糟２と、感光
材料Ｓを搬送する搬送手段５と、処理槽２内の通路4a〜
4eに設置されたブレード６、６′と、処理液の液面レベ
ルを変更、調整する液面レベル調整手段８とで構成され
ている。FIG. 1 and FIG. 2 are cross-sectional side views each showing a configuration example of the photosensitive material processing apparatus of the present invention. As shown in these drawings, the photosensitive material processing apparatus 1 includes a processing vessel 2, a transporting means 5 for transporting the photosensitive material S, and passages 4a to 4a in the processing tank 2.
4e and blades 6 and 6 ', and a liquid level adjusting means 8 for changing and adjusting the liquid level of the processing liquid.
処理槽２の内部には、ほぼ水平方向に連接された４つ
の処理室3a、3b、3cおよび3dと、隣接する処理室間を連
通する通路4b、4cおよび4dが形成されている。また、第
１図中の左側には、処理室3aと外部と連通する通路4aが
形成され、同図中右側には、処理室3dと外部とを連通す
る通路4eが形成されている。Inside the processing tank 2, there are formed four processing chambers 3a, 3b, 3c and 3d connected in a substantially horizontal direction, and passages 4b, 4c and 4d communicating between adjacent processing chambers. In addition, a passage 4a that communicates with the processing chamber 3a and the outside is formed on the left side in FIG. 1, and a passage 4e that communicates with the processing chamber 3d and the outside is formed on the right side in FIG.
また、各処理室3a〜3d内には、それぞれ、一対のロー
ラ51と、このローラ51間および後述するブレード６間へ
感光材料を導くガイド52とが設置されている。これらの
ローラ51およびガイド52により感光材料Ｓの搬送手段５
が構成される。この搬送手段５により、感光材料Ｓは、
各処理室3a〜3d内および各通路4a〜4e内をほぼ水平な方
向に延びる搬送経路に沿って搬送され、この間に処理が
なされる。In each of the processing chambers 3a to 3d, a pair of rollers 51 and a guide 52 for guiding a photosensitive material between the rollers 51 and between blades 6, which will be described later, are provided. By means of these rollers 51 and guides 52, the conveying means 5 for the photosensitive material S
Is configured. By this transporting means 5, the photosensitive material S is
It is transported along a transport path extending in a substantially horizontal direction in each of the processing chambers 3a to 3d and each of the passages 4a to 4e, and processing is performed during this.
このような処理槽２は、現像処理、漂白処理、定着処
理、漂白・定着処理、水洗処理、安定化処理等種々の処
理に用いることができるが、本発明では、水洗処理に用
いるのが特に好ましい。Such a processing tank 2 can be used for various processes such as a developing process, a bleaching process, a fixing process, a bleaching / fixing process, a washing process, and a stabilizing process. In the present invention, it is particularly used for the washing process. preferable.
従って、以下、水洗処理について代表的に説明する。 Therefore, the water washing process will be described below as a representative.
感光材料Ｓが最後に通過する処理室3dには、洗浄水
（処理液）Ｗを供給する給液口71が設置され、感光材料
Ｓが最初に通過する処理室3aには、洗浄液Ｗを排出する
排液口72が設置されている。A liquid supply port 71 for supplying cleaning water (processing liquid) W is provided in the processing chamber 3d through which the photosensitive material S finally passes, and the cleaning liquid W is discharged into the processing chamber 3a through which the photosensitive material S first passes. A drain port 72 is provided.
第１図に示すように、感光材料Ｓの処理時には、給液
口71から小量（例えば100〜500ml/m2）の新鮮な洗浄水
Ｗが処理室3d内に補充される。すると、処理室3d内にあ
った洗浄水Ｗは、後述するブレード６間に形成されるわ
ずかな隙間を通って隣接する処理室3c内に流入し、同様
にして処理室3b、3a内に順次流入し、疲労した洗浄水Ｗ
が排液口72からオーバーフローにより排出される。As shown in FIG. 1, at the time of processing the photosensitive material S, a small amount (for example, 100 to 500 ml / m 2 ) of fresh washing water W is replenished from the liquid supply port 71 into the processing chamber 3d. Then, the washing water W in the processing chamber 3d flows into the adjacent processing chamber 3c through a small gap formed between the blades 6 described later, and similarly enters the processing chambers 3b and 3a sequentially. Wash water W
Is discharged from the drain port 72 by overflow.
このように、洗浄水Ｗの流れ方向は、感光材料Ｓの搬
送方向と逆方向（カウンターフロー）であり、これによ
り、洗浄効果が高まる。As described above, the flow direction of the cleaning water W is opposite to the direction in which the photosensitive material S is transported (counter flow), whereby the cleaning effect is enhanced.
なお、処理液が現像液、漂白液、定着液、漂白・定着
液の場合には、処理液の流れは生じないようにするのが
処理品質の向上にとって好ましい。When the processing solution is a developing solution, a bleaching solution, a fixing solution, or a bleaching / fixing solution, it is preferable to prevent the flow of the processing solution for improving the processing quality.
各処理室内の洗浄水Ｗの組成には勾配が形成されてお
り、すなわち、洗浄水の新鮮な度合は、処理室3d＞3c＞
3b＞3aとなっている。このような液組成勾配が形成され
ていることは、洗浄効率の向上に寄与するので好まし
い。A gradient is formed in the composition of the cleaning water W in each processing chamber, that is, the freshness of the cleaning water is determined by the processing chamber 3d>3c>
3b> 3a. The formation of such a liquid composition gradient is preferable because it contributes to an improvement in cleaning efficiency.
各通路4a〜4eは、感光材料Ｓが通過可能な程度の狭幅
（例えば、幅５〜30mm程度）で、感光材料Ｓの幅方向に
長尺な形状をなしている。Each of the passages 4a to 4e has a narrow width (for example, a width of about 5 to 30 mm) that allows passage of the photosensitive material S, and has an elongated shape in the width direction of the photosensitive material S.
これら各通路4a〜4eには、通路4a〜4eを遮蔽する少な
くとも一対のブレード６が設置されている。At least one pair of blades 6 that shield the passages 4a to 4e are installed in each of the passages 4a to 4e.
このブレード６は、第４図に拡大して示すように、実
質的に変形しないフランジ部61と、先端へ向って厚さが
漸減し、感光材料Ｓの進入によって容易に変形可能な薄
肉部62とで構成されている。As shown in FIG. 4, the blade 6 has a flange portion 61 which is not substantially deformed, and a thin portion 62 whose thickness gradually decreases toward the tip and which can be easily deformed by entry of the photosensitive material S. It is composed of
そして、ブレード６は、そのフランジ部61にて、例え
ばボルト63のような固定具により、通路4a〜4eの感光材
料入側の対向する両縁部にそれぞれ取り付けられてい
る。The blades 6 are attached to the opposite edges of the passages 4a to 4e on the photosensitive material input side by means of fixing members such as bolts 63 at the flange portions 61, respectively.
このようなブレード６は、例えば、天然ゴム、クロロ
プレンゴム、ニトリルゴム、ブチルゴム、フッ素ゴム、
イソプレンゴム、ブタジエンゴム、スチレンブタジエン
ゴム、エチレンプロピレンゴム、シリコーンゴム等の各
種ゴム、軟質ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、アイオノマー樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹
脂のような軟質樹脂等の弾性材料（エラストマー）、ま
たはこれらのうち２以上を組み合わせたもので構成され
ている。Such a blade 6 includes, for example, natural rubber, chloroprene rubber, nitrile rubber, butyl rubber, fluoro rubber,
Various rubbers such as isoprene rubber, butadiene rubber, styrene butadiene rubber, ethylene propylene rubber, and silicone rubber, and elastic materials (elastomers) such as soft resins such as soft polyvinyl chloride, polyethylene, polypropylene, ionomer resin, fluorine resin, and silicone resin Or a combination of two or more of these.
ブレード６は、感光材料Ｓの非通過時には、それらの
薄肉部62の先端部同士が密着し、通路4a〜4eを実質的に
液密に遮蔽する。When the photosensitive material S does not pass through the blade 6, the tips of the thin portions 62 are in close contact with each other, and substantially block the passages 4a to 4e in a liquid-tight manner.
感光材料Ｓが通過する際には、第４図に示すように、
感光材料Ｓがブレード６の薄肉部62間に進入し、密着し
ていた薄肉部62が感光材料Ｓの厚さ分だけ押し広げられ
る。When the photosensitive material S passes, as shown in FIG.
The photosensitive material S enters between the thin portions 62 of the blade 6, and the thin portion 62 that has been in close contact is pushed out by the thickness of the photosensitive material S.
この状態で感光材料Ｓは、その両面が薄肉部62の内側
面に接触しつつ図中矢印方向へ進行し通路4a〜4eを通過
する。このとき、感光材料Ｓの表面（乳剤面およびその
裏面）に付着した洗浄水Ｗはブレード６の薄肉部62によ
り拭い取られる。これにより、汚れた洗浄水が、よりき
れいな洗浄水（上流側の処理室）へ持ち込まれる量が著
減し、前記液組成勾配の維持に寄与する。In this state, the photosensitive material S travels in the direction of the arrow in the figure and passes through the passages 4a to 4e while both surfaces thereof contact the inner surface of the thin portion 62. At this time, the washing water W attached to the front surface (the emulsion surface and the back surface) of the photosensitive material S is wiped off by the thin portion 62 of the blade 6. This significantly reduces the amount of dirty cleaning water brought into cleaner cleaning water (upstream processing chamber), thereby contributing to maintaining the liquid composition gradient.
また、感光材料Ｓが通路4b〜4dのブレード６を通過す
るときに、感光材料Ｓの両側端縁において、薄肉部62間
に感光材料Ｓの厚さ分のわずかな隙間ができるので、こ
の隙間を通って、処理室3d→処理室3c→処理室3b→処理
室3aの順に洗浄水Ｗが流れる。Further, when the photosensitive material S passes through the blades 6 of the passages 4b to 4d, a small gap corresponding to the thickness of the photosensitive material S is formed between the thin portions 62 at both side edges of the photosensitive material S. , The cleaning water W flows in the order of the processing chamber 3d, the processing chamber 3c, the processing chamber 3b, and the processing chamber 3a.
この洗浄水Ｗの流量は、前記洗浄水Ｗの補充量にほぼ
等しい量である。The flow rate of the cleaning water W is substantially equal to the replenishment amount of the cleaning water W.
感光材料Ｓが通路4a〜4eを通過した後は、ブレード６
は、元の状態に復帰し、薄肉部62同士が密着して、再び
通路4a〜4eを遮蔽する。After the photosensitive material S has passed through the passages 4a to 4e, the blade 6
Returns to the original state, the thin portions 62 come into close contact with each other, and again block the passages 4a to 4e.
なお、図示の例では、通路4b、4cおよび4dには、それ
ぞれ一対のブレードが設置され、通路4aおよび4eには、
それぞれ二対のブレードが設置されている。通路4aおよ
び4eにおいては、洗浄水Ｗが処理槽外へ漏れ出すのを防
止する必要があるため、それぞれ二対のブレード、すな
わち、前述した一対のブレード６と、通路内の対向面に
固定された同様の一対のブレード６′とが設置され、シ
ール効果が高められている。In the illustrated example, a pair of blades is installed in each of the passages 4b, 4c, and 4d, and the passages 4a and 4e have
Each has two pairs of blades. In the passages 4a and 4e, it is necessary to prevent the cleaning water W from leaking out of the treatment tank. A similar pair of blades 6 'is provided to enhance the sealing effect.
なお、ブレードの設置数は、図示の例に限定されない
ことは言うまでもない。It is needless to say that the number of blades is not limited to the illustrated example.
ブレード６、６′と薄肉部62同士の接触面圧は、0.00
5〜0.1kg/cm2程度、特に0.05〜0.02kg/cm2程度とするの
が好ましい。The contact surface pressure between the blades 6, 6 'and the thin portion 62 is 0.00
5~0.1kg / cm 2 or so, particularly preferably in the 0.05~0.02kg / cm 2 approximately.
また、感光材料Ｓの非通過時における薄肉部62同士の
接触面の感光材料進行方向の長さは、１〜20mm程度、特
に２〜10mm程度とするのが好ましい。The length of the contact surface between the thin portions 62 when the photosensitive material S does not pass through in the direction of travel of the photosensitive material is preferably about 1 to 20 mm, particularly preferably about 2 to 10 mm.
感光材料Ｓの表面に対するブレード６、６′の薄肉部
62の平均傾斜角度は、20〜70゜程度、特に30〜45゜程度
とするのが好ましい。Thin portions of blades 6, 6 'with respect to the surface of photosensitive material S
The average inclination angle of 62 is preferably about 20 to 70 °, particularly preferably about 30 to 45 °.
以上のような接触面圧、接触面長さおよび平均傾斜角
度とすることにより、洗浄水Ｗの拭い取り効果および通
路4a〜4eのシール効果がより高いものとなる。特に、薄
肉部62に変形（例えば波状の変形）が生じても、その弾
性により薄肉部同士の密着は維持されるので、洗浄水Ｗ
の拭い取り効果や通路4a〜4eのシール効果が維持され
る。By setting the contact surface pressure, the contact surface length, and the average inclination angle as described above, the wiping effect of the cleaning water W and the sealing effect of the passages 4a to 4e are further enhanced. In particular, even if deformation (for example, wavy deformation) occurs in the thin portion 62, the close contact between the thin portions is maintained by the elasticity, so that the cleaning water W
The wiping effect and the sealing effect of the passages 4a to 4e are maintained.
なお、通常、薄肉部62同士の密着力は、薄肉部の弾性
力により与えられているが、薄肉部62内に磁性材料を配
合し（例えば、ゴム磁石のようなもの）、薄肉部同士を
吸引させて密着力を与え、または高めることも可能であ
る。In general, the adhesive force between the thin portions 62 is given by the elastic force of the thin portions. However, a magnetic material is compounded in the thin portions 62 (for example, like a rubber magnet), and the thin portions are connected to each other. Suction can also be used to provide or enhance adhesion.
また、感光材料Ｓが薄肉部62と摺動しても、乳剤面の
キズ付き等の悪影響はほとんど生じないが、これが無視
できない場合、または、摺動抵抗の減少を図る場合に
は、薄肉部62の内側面に平滑化処理を施し、または内側
面にシリコーン、テフロン等の潤滑剤をコーティングす
る等の表面処理を施すことで対応すればよい。Even if the photosensitive material S slides on the thin portion 62, there is almost no adverse effect such as scratches on the emulsion surface. However, if this is not negligible or if the sliding resistance is to be reduced, the thin portion is hardly used. What is necessary is just to respond by performing a smoothing process on the inner surface of 62 or performing a surface treatment such as coating a lubricant such as silicone or Teflon on the inner surface.
ブレード６、６′が汚れを生じ、または劣化した場合
には、前記固定具の脱着により容易に清掃または交換す
ることができる。If the blades 6, 6 'become soiled or deteriorate, they can be easily cleaned or replaced by detaching the fixings.
なお、ブレード６、６′の形状や取り付け位置は、図
示の構成に限定されず、例えば、通路4a〜4eの内面や通
路4a〜4eの感光材料出口付近にブレードを取り付けても
よい。The shapes and mounting positions of the blades 6 and 6 'are not limited to those shown in the figure. For example, the blades may be mounted on the inner surfaces of the passages 4a to 4e or near the photosensitive material outlets of the passages 4a to 4e.
このような感光材料処理装置１には、各処理室3a〜3d
内における洗浄水Ｗの液面レベルを所定位置に設定する
ことができる液面レベル調整手段８が設けられている。
以下、これについて説明する。Such a photosensitive material processing apparatus 1 includes processing chambers 3a to 3d.
There is provided a liquid level adjusting means 8 which can set the liquid level of the cleaning water W in the inside at a predetermined position.
Hereinafter, this will be described.
第１図および第２図に示すように、各処理室3a〜3dの
下部には、それぞれ、洗浄水Ｗが流通する孔81a、81b、
81cおよび81dが形成されている。また、各処理室3a〜3d
の上部には、それぞれ空気が出入りする空気抜き孔82
a、82b、82cおよび82dが形成されている。As shown in FIGS. 1 and 2, holes 81a, 81b, through which the cleaning water W flows, are provided at the lower portions of the processing chambers 3a to 3d, respectively.
81c and 81d are formed. In addition, each processing chamber 3a-3d
In the upper part of the
a, 82b, 82c and 82d are formed.
また、処理槽２の図中下方には、洗浄液Ｗがストック
されている伸縮自在な４つの蛇腹体83a、83b、83cおよ
び83dが設置されている。これらの蛇腹体83a〜83dの上
部には、それぞれ蛇腹体内部に連通する管体84が突出形
成され、各管体84の先端部は、前記孔81a〜81dにそれぞ
れ接続されている。これにより処理室3a〜3dの内部と、
蛇腹体83a〜83dの内部とがそれぞれ連通する。Further, four elastic bellows 83a, 83b, 83c and 83d in which the cleaning liquid W is stored are provided below the processing tank 2 in the figure. At the upper portions of the bellows 83a to 83d, pipes 84 communicating with the inside of the bellows are formed so as to protrude, and the tips of the pipes 84 are connected to the holes 81a to 81d, respectively. Thereby, the inside of the processing chambers 3a to 3d,
The insides of the bellows 83a to 83d communicate with each other.
各蛇腹体83a〜83dは、それぞれ台85a、85b、85cおよ
び85d上に載置され、また各蛇腹体83a〜83dの上部端面
は、押え板86により係止されている。The bellows 83a to 83d are placed on the platforms 85a, 85b, 85c, and 85d, respectively, and the upper end surfaces of the bellows 83a to 83d are locked by holding plates 86.
各台85a〜85dの下部には、それぞれ蛇腹体83a〜83dを
伸縮させるための駆動源である油圧等で作動するシリン
ダ87a、87b、87および87dが設置され、これらのシリン
ダ87a〜87cのピストン88a、88b、88cおよび88dの先端
は、それぞれ台85a〜85dの下面に固着されている。Under the tables 85a to 85d, cylinders 87a, 87b, 87 and 87d which are operated by hydraulic pressure or the like, which are driving sources for expanding and contracting the bellows bodies 83a to 83d, respectively, are installed, and pistons of these cylinders 87a to 87c The tips of 88a, 88b, 88c and 88d are fixed to the lower surfaces of the tables 85a to 85d, respectively.
第１図に示すように、感光材料Ｓの処理時には、各シ
リンダ87a〜87dを作動して各ピストン88a〜88dを伸長
し、各蛇腹体83a〜83dを収縮させる。これにより、各蛇
腹体83a〜83d内の洗浄水Ｗは、各管体84および孔81a〜8
1dを介して対応する処理室3a〜3d内に注入され、その液
面レベルが感光材料Ｓの搬送経路より上方の位置に設定
される。この状態で、感光材料Ｓは液面下に没し、処理
が可能となる。As shown in FIG. 1, during processing of the photosensitive material S, each of the cylinders 87a to 87d is operated to extend each of the pistons 88a to 88d and to contract each of the bellows 83a to 83d. As a result, the washing water W in each of the bellows bodies 83a to 83d is filled with the respective pipe bodies 84 and the holes 81a to 81d.
The liquid is injected into the corresponding one of the processing chambers 3a to 3d via 1d, and the liquid level thereof is set at a position above the conveying path of the photosensitive material S. In this state, the photosensitive material S is immersed below the liquid surface, and processing becomes possible.
なお、各処理室3a〜3d内の液面レベルの上昇に伴なっ
て、各処理室内にあった空気は、空気抜き孔82a〜82dよ
り処理槽外へ排出される。In addition, as the liquid level in each of the processing chambers 3a to 3d rises, the air in each of the processing chambers is discharged out of the processing tank through the air vent holes 82a to 82d.
第２図に示すように、感光材料Ｓの非処理時、特に長
時間処理を行なわないときには、各シリンダ87a〜87dを
作動して各ピストン88a〜88dを収縮し、各蛇腹体83a〜8
3dを伸長させる。これにより、各処理室3a〜3d内の洗浄
水Ｗは、各孔81a〜81dおよび管体84を介して対応する蛇
腹体83a〜83d内に戻され、各処理室3a〜3d内の液面レベ
ルが感光材料Ｓの搬送経路より下方の位置に設定され
る。As shown in FIG. 2, when the photosensitive material S is not processed, especially when processing is not performed for a long time, each of the cylinders 87a to 87d is operated to contract each of the pistons 88a to 88d, and each of the bellows 83a to 83d is contracted.
Extend 3d. As a result, the cleaning water W in each of the processing chambers 3a to 3d is returned to the corresponding bellows 83a to 83d through each of the holes 81a to 81d and the pipe 84, and the liquid level in each of the processing chambers 3a to 3d. The level is set at a position below the conveyance path of the photosensitive material S.
なお、各処理室3a〜3d内の液面レベルの下降に伴なっ
て、外気が空気抜き孔82a〜82dより各処理室3a〜3d内へ
導入される。As the liquid level in each of the processing chambers 3a to 3d decreases, outside air is introduced into each of the processing chambers 3a to 3d through the air vent holes 82a to 82d.
このような構成とすることにより、各処理室3a〜3d内
の洗浄水Ｗは、それぞれ独立した状態で保持され、相互
の液の流通は生じない。従って、感光材料の処理休止状
態が長時間継続したとしても、処理を再開した際に、各
処理室3a〜3d間での前記液組成勾配は保たれており、高
い洗浄効果が得られる。With such a configuration, the cleaning water W in each of the processing chambers 3a to 3d is maintained in an independent state, and no mutual liquid flows. Therefore, even if the processing suspension state of the photosensitive material continues for a long time, when the processing is resumed, the liquid composition gradient between the processing chambers 3a to 3d is maintained, and a high cleaning effect can be obtained.
このような液面レベル調製手段８において、各シリン
ダ87a〜87dは、互いに独立して作動しても、連動して作
動してもよい。この場合、感光材料Ｓの搬送経路より上
方および／または下方に設定される液面レベルは、各処
理槽3a〜3d毎に異なっていても、等しくてもよい。In such a liquid level adjusting means 8, the cylinders 87a to 87d may operate independently of each other or may operate in conjunction with each other. In this case, the liquid level set above and / or below the transport path of the photosensitive material S may be different or equal for each of the processing tanks 3a to 3d.
また、図示と異なり、共通の駆動源で各蛇腹体83a〜8
3dを伸縮させる構成としてもよい。Also, different from the illustration, the bellows bodies 83a to 83
The 3d may be expanded and contracted.
また、各空気抜き孔82a〜82dにはバルブ（図示せず）
を設け、液面を変動させるときのみこのバルブを開くよ
うな構成としてもよい。A valve (not shown) is provided in each of the air vent holes 82a to 82d.
And the valve may be opened only when the liquid level is changed.
なお、本発明において、液面レベル調整手段は、図示
の構成のものに限定されないことは言うまでもない。例
えば、液面レベル調整手段として、洗浄水を貯溜するス
トックタンクと、このストックタンクと処理室とを接続
する配管と、この配管の途中に設けられた送液ポンプと
を有し、この送液ポンプの作動により、ストックタンク
内の洗浄水を処理室内に注入し、また処理室から排水す
ることができる構成のものを各処理室3a〜3d毎に設置し
てもよい。In the present invention, it goes without saying that the liquid level adjusting means is not limited to the one shown in the figure. For example, as a liquid level adjusting means, there is provided a stock tank for storing cleaning water, a pipe connecting the stock tank and the processing chamber, and a liquid feed pump provided in the middle of the pipe. By the operation of the pump, cleaning water in the stock tank may be injected into the processing chamber and drained from the processing chamber may be installed in each of the processing chambers 3a to 3d.
第３図は、本発明の感光材料処理装置の他の構成例を
示す断面側面図である。同図に示す感光材料処理装置
１′は、隣接する処理室間を接続する洗浄水の流路を備
えるものであり、その他の構成は、前記感光材料処理装
置１と同様である。FIG. 3 is a sectional side view showing another configuration example of the photosensitive material processing apparatus of the present invention. A photosensitive material processing apparatus 1 'shown in FIG. 1 includes a flow path of washing water for connecting between adjacent processing chambers, and other configurations are the same as those of the photosensitive material processing apparatus 1.
すなわち、処理槽２の第３図中止部付近には、処理室
3aと3bとを連通する流路9a、処理室3bと3cとを連通する
流路9bおよび処理室3cと3dとを連通する流路9cが形成さ
れている。That is, in the vicinity of the stop portion in FIG.
A flow path 9a that communicates 3a and 3b, a flow path 9b that communicates processing chambers 3b and 3c, and a flow path 9c that communicates processing chambers 3c and 3d are formed.
これにより、給液口71から新たな洗浄水Ｗが注入され
ると、第３図中の矢印で示すように、処理室3d内にあっ
た洗浄水Ｗがオーバーフローにより流路9cを通って隣接
する処理室3c内に流入し、同様にして流路9b、9aを通っ
て処理室3b、3a内に順次流入し、疲労した洗浄水Ｗが排
液口72から排出される。As a result, when new cleaning water W is injected from the liquid supply port 71, as shown by the arrow in FIG. 3, the cleaning water W in the processing chamber 3d overflows through the flow path 9c due to overflow. And flows into the processing chambers 3b and 3a sequentially through the flow paths 9b and 9a in the same manner, and the exhausted washing water W is discharged from the drain port 72.
前記感光材料処理装置１では、感光材料Ｓの処理時、
すなわち感光材料Ｓの通過によりブレード６間にわずか
な隙間ができ、洗浄水Ｗの流通が可能となったときにの
み洗浄水Ｗの補充を行なうことができるのであるが、第
３図に示す感光材料処理装置１′では、流路9a〜9cを設
けたことにより、感光材料Ｓの処理時、非処理時にかか
わらず洗浄液Ｗの補充を行なうことができる。In the photosensitive material processing apparatus 1, when the photosensitive material S is processed,
That is, a small gap is formed between the blades 6 by the passage of the photosensitive material S, and the cleaning water W can be replenished only when the circulation of the cleaning water W becomes possible. In the material processing apparatus 1 ', the provision of the flow paths 9a to 9c enables the replenishment of the cleaning liquid W regardless of whether the photosensitive material S is being processed or not.
なお、各流路9a〜9cは、感光材料Ｓの処理時に設定さ
れる液面レベルとほぼ等しい高さ位置に設置されるのが
好ましい。この場合、前記各処理室3a〜3dにおける液組
成勾配を維持する上で、流路9a〜9c内に図中の矢印と逆
方向の流れが形成されることは好ましくない。従って、
流路9a〜9cに若干の傾斜をつけるか、または、感光材料
Ｓの処理時における液面レベルを、各処理室3d、3c、3
b、3aの順に高くなるように設定しておくのが好まし
い。It is preferable that each of the flow paths 9a to 9c is installed at a height position substantially equal to a liquid level set at the time of processing the photosensitive material S. In this case, in order to maintain the liquid composition gradient in each of the processing chambers 3a to 3d, it is not preferable that a flow in the direction opposite to the arrow in the drawing is formed in the flow paths 9a to 9c. Therefore,
Each of the processing chambers 3d, 3c, and 3 may have a slight inclination in the flow paths 9a to 9c or a liquid level at the time of processing the photosensitive material S.
It is preferable to set the values so as to increase in the order of b and 3a.
本発明において、処理対象される感光材料Ｓの種類は
特に限定されず、例えば、カラーネガフィルム、カラー
反転フィルム、カラー印画紙、カラーポジフィルム、カ
ラー反転印画紙、製版用写真感光材料、Ｘ線写真感光材
料、黒白ネガフィルム、黒白印画紙、マイクロ用感光材
料等、各種感光材料が挙げられる。In the present invention, the type of the photosensitive material S to be processed is not particularly limited. For example, a color negative film, a color reversal film, a color photographic paper, a color positive film, a color reversal photographic paper, a photographic photosensitive material for plate making, an X-ray photographic material Various photosensitive materials such as materials, black-and-white negative films, black-and-white photographic papers, photosensitive materials for micros, and the like.
また、感光材料Ｓの形態も特に限定されず、シート
状、長尺帯状のいずれでもよい。Also, the form of the photosensitive material S is not particularly limited, and may be a sheet shape or a long band shape.
また、本発明は、例えば、自動現像機、湿式の複写
機、プリンタープロセッサ、ビデオプリンタープロセッ
サー、写真プリント作成コインマシーン、検版用カラー
ペーパー処理機等の各種感光材料処理装置に適用するこ
とができる。Further, the present invention can be applied to various photosensitive material processing apparatuses such as, for example, an automatic developing machine, a wet copying machine, a printer processor, a video printer processor, a photographic print making coin machine, and a color paper processing machine for plate inspection. .
＜発明の効果＞ 本発明の感光材料処理装置によれば、各処理室におけ
る処理液の液組成勾配が処理時、非処理時ともに良好に
維持されるため、処理効率が高く、よって、処理時間の
短縮、装置の小型化および処理液補充量の低減化が図
れ、しかも、得られた画像の写真性も良好である。<Effects of the Invention> According to the light-sensitive material processing apparatus of the present invention, since the liquid composition gradient of the processing liquid in each processing chamber is favorably maintained both during processing and during non-processing, processing efficiency is high, and thus processing time is high. , The size of the apparatus can be reduced, and the replenishment amount of the processing solution can be reduced, and the obtained image has good photographic properties.
第１図は、本発明の感光材料処理装置の処理時の状態を
示す断面側面図、第２図は、同装置の非処理時の状態を
示す断面側面図である。 第３図は、本発明の感光材料処理装置の他の構成例を示
す断面側面図である。 第４図は、本発明におけるブレードの構成例を拡大して
示す断面側面図である。 符号の説明 １、１′……感光材料処理装置 ２……処理糟 3a、3b、3c、3d……処理室 4a、4b、4c、4d、4e……通路 ５……搬送手段 51……ローラ 52……ガイド ６、６′……ブレード 61……フランジ部 62……薄肉部 63……ボルト 71……給液口 72……排液口 ８……液面レベル調整手段 81a、81b、81c、81d……孔 82a、82b、82c、82d……空気抜き孔 83a、83b、83c、83d……蛇腹体 84……管体 85a、85b、85c、85d……台 86……押え板 87a、87b、87c、87d……シリンダ 88a、88b、88c、88d……ピストン 9a、9b、9c……流路 Ｓ……感光材料 Ｗ……洗浄水FIG. 1 is a cross-sectional side view showing a processing state of the photosensitive material processing apparatus of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional side view showing a non-processing state of the apparatus. FIG. 3 is a sectional side view showing another configuration example of the photosensitive material processing apparatus of the present invention. FIG. 4 is a cross-sectional side view showing an enlarged configuration example of the blade in the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1 ': photosensitive material processing apparatus 2: processing chambers 3a, 3b, 3c, 3d: processing chambers 4a, 4b, 4c, 4d, 4e: passage 5: transport means 51: roller 52 Guide 6 and 6 'Blade 61 Flange 62 Thin section 63 Bolt 71 Supply port 72 Drain port 8 Liquid level adjusting means 81a, 81b, 81c , 81d… holes 82a, 82b, 82c, 82d… air vent holes 83a, 83b, 83c, 83d… bellows 84… pipes 85a, 85b, 85c, 85d… stand 86… presser plates 87a, 87b , 87c, 87d: cylinders 88a, 88b, 88c, 88d: pistons 9a, 9b, 9c: flow path S: photosensitive material W: washing water
Claims (2)
数の処理室を有する処理糟と、 処理糟内の処理液を一時貯留する貯留手段と、 この処理糟内に設置され、感光材料を前記各処理室内お
よび前記各通路内のほぼ水平な搬送経路に沿って搬送す
る搬送手段と、 前記各通路に、通路を遮蔽するよう設置された少なくと
も一対のブレードと、 前記処理室と前記貯留手段との間で処理液を移動させ、
各処理室内において、処理液の液面レベルを前記感光材
料の搬送経路より上方の位置と下方の位置とに変化せる
液面レベル調整手段とを有し、 感光材料のブレード通過時に液面をブレードより上方と
し、感光材料がブレード通過後液面をブレードより下方
とすることを特徴とする感光材料処理装置。1. A processing vessel having a plurality of processing chambers connected in a substantially horizontal direction via a passage, a storage means for temporarily storing a processing solution in the processing chamber, and a photosensitive material installed in the processing chamber and provided in the processing chamber. Transport means for transporting the processing chamber along a substantially horizontal transport path in each of the processing chambers and each of the passages; at least one pair of blades installed in each of the passages so as to shield the passage; the processing chamber and the storage Moving the processing liquid between the means,
A liquid level adjusting means for changing a liquid level of the processing liquid between a position above and below the conveyance path of the photosensitive material in each of the processing chambers; A photosensitive material processing apparatus, wherein the liquid surface is lower than the blade after the photosensitive material has passed through the blade.
流路を備える請求項１に記載の感光材料処理装置。2. The photosensitive material processing apparatus according to claim 1, further comprising a processing liquid flow path connecting between the adjacent processing chambers.
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|---|---|---|---|
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