JP2640000B2 - Address decoder - Google Patents

Address decoder

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JP2640000B2
JP2640000B2 JP6730989A JP6730989A JP2640000B2 JP 2640000 B2 JP2640000 B2 JP 2640000B2 JP 6730989 A JP6730989 A JP 6730989A JP 6730989 A JP6730989 A JP 6730989A JP 2640000 B2 JP2640000 B2 JP 2640000B2
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Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 この発明はアドレス信号によりロム等の記憶領域のワ
ード線の1を選択するアドレスデコーダに関する。
The present invention relates to an address decoder for selecting one of word lines in a storage area such as a ROM by an address signal.

(ロ)従来の技術 第3図乃至第5図を参照して従来のアドレスデコーダ
を説明する。
(B) Conventional technology A conventional address decoder will be described with reference to FIGS.

第3図において、アドレス信号A0〜Anと、このアドレ
ス信号A0〜AnをインバータI0〜Inにより反転する反転ア
ドレス信号A 〜Anとを入力するアドレスデコー
ダ(2)はアドレス信号A0〜Anの状態に対応するワード
線Wa0〜Wajを活性化し、ロムマトリクス(3)の活性化
されたワード線に接続される複数のメモリセル(31a)
〜(31d)の状態を各ビット線(32a)〜(32d)に並列
出力する。なお、後記する理由によりロムマトリクスは
2分割されており、このアドレス信号A0〜Anによりロム
マトリクス(4)も同時に選択される。したがって、各
ロムマトリクス(3),(4)は各々4ビットのデータ
を出力するか、上位のアドレス信号An+1〜An+2を入力す
るセレクタ(5),(6)によりロムマトリクス
(3),(4)を選択するようにして、あるいはさらに
各ロムマトリクス内をアドレス選択してロムマトリクス
(3),(4)から各々8ビットのデータを出力する。
In FIG. 3, the address signal A 0 .about.An, inverted address signal A * 0 ~A * n and the address decoder for inputting for inverting the address signal A 0 .about.An by the inverter I 0 ~In (2) Address signal a 0 of the word lines Wa 0 ~Waj corresponding to ~An state of activation, the plurality of memory cells connected to the activated word line of ROM matrix (3) (31a)
To (31d) are output in parallel to the bit lines (32a) to (32d). Incidentally, Lom matrix for reasons described later is divided into two parts, ROM matrix (4) by the address signal A 0 .about.An also selected simultaneously. Therefore, each of the ROM matrices (3) and (4) outputs 4-bit data, or the ROM matrices (3) and (4) input the upper address signals An + 1 to An + 2 by the selectors (5) and (6). ) And (4), or furthermore, addresses are selected in each ROM matrix, and 8-bit data is output from each of the ROM matrices (3) and (4).

上記のように構成されるアドレスデコーダ(2)の構
造をその単一のワード線に着目して説明する。
The structure of the address decoder (2) configured as described above will be described focusing on the single word line.

第4図において、アドレスデコーダ(2)の単一のワ
ード線は並列PチャンネルMOSFET(21φ)および(2
10)〜(21n)、直列NチャンネルMOSFET(22φ)およ
び(220)〜(22n)およびインバータ(23a)〜(23b)
から構成されている。
In FIG. 4, a single word line of the address decoder (2) is composed of parallel P-channel MOSFETs (21φ) and (2φ).
1 0) ~ (21n), the series N-channel MOSFET (22φ) and (22 0) ~ (22n) and an inverter (23a) ~ (23b)
It is composed of

並列PチャンネルMOSFET(21φ),(210)〜(21n)
は図面横方向にP+拡散により形成される共通ドレイン領
域(24)と、同じく図面横方向にP+拡散により形成さ
れ、VDD線に接続される共通ソース領域(25)、および
メタル線(破線で示される。)で供給されるクロックφ
に接続されるゲート(26φ)、アドレス信号線A0〜An
と、このアドレス信号線A0〜Anにそれぞれ相前後して形
成される反転アドレス信号線A 〜Anに選択接続
されるゲート(260)〜(26n)から構成され、アドレス
信号線A0〜Anおよび反転アドレス信号線A 〜A
の下部に形成される2n個のチャンネルは所定の半数のチ
ャンネルが常にオフなるようにマスクされると共に、残
る半数のチャンネルにはアドレス信号か反転アドレス信
号が選択的にゲート入力され、所定のアドレス信号によ
って対応するワード線に接続される並列MOSFETの全てが
オフするようなされている。なお、図はPチャンネルMO
SFET(210)のゲート(260)が反転アドレス信号線A0
接続される例を示している。
Parallel P-channel MOSFET (21φ), (21 0 ) ~ (21n)
A common drain region (24) of the drawing transversely formed by P + diffusion is also formed by the P + diffusion in the drawings laterally, the common source region (25) which is connected to the V DD line, and the metal lines ( Clock φ supplied by a broken line.
(26φ) connected to the address signal lines A 0 to An
And gates (26 0 )-(26n) selectively connected to inverted address signal lines A * 0 -A * n formed before and after these address signal lines A 0 -An, respectively. Lines A 0 to An and inverted address signal lines A * 0 to A * n
The 2n channels formed underneath are masked so that a predetermined half of the channels are always turned off, and an address signal or an inverted address signal is selectively gated in the remaining half of the channels, and a predetermined address is input. The signal turns off all the parallel MOSFETs connected to the corresponding word line. The figure shows a P-channel MO
The gate of the SFET (21 0) (26 0 ) indicates an example that is connected to the inverted address signal lines A 0.

また、直列NチャンネルMOSFET(22φ),(220)〜
(22n)は並列PチャンネルMOSFETのP+拡散により形成
される共通ソース領域(24)、メタル配線、ポリシリコ
ン配線を介してインバータ(23a)の入力とVSS線との間
に形成されており、隣り合うMOSFETのソースとドレイン
が共通となるよう、また所定の半数のゲート領域の下部
のチャンネルが常にオンとなるようにマスクされてい
る。なお、この説明ではマスクされた箇所を素子として
数えていない。
Also, series N-channel MOSFETs (22φ), (22 0 )
(22n) is a common source region formed by the P + diffusion of parallel P-channel MOSFET (24), the metal wiring is formed between the input and the V SS line of the inverter (23a) via the polysilicon interconnection Masking is performed so that the source and drain of adjacent MOSFETs are common, and the channel below the predetermined half of the gate regions is always on. In this description, the masked portion is not counted as an element.

次に、第5図の等価回路を参照して従来のアドレスデ
コーダの動作を説明する。
Next, the operation of the conventional address decoder will be described with reference to the equivalent circuit of FIG.

全てのゲートがアドレス信号線A0〜Anに接続される単
位回路を考えると、これにより選択されるアドレスデコ
ーダ内のワード線は全てのアドレス信号線A0〜Anがハイ
レベルとなるとき、その並列PチャンネルMOSFET(2
10)〜(21n)が同時にオフし、直列NチャンネルMOSFE
T(220)〜(22n)が同時にオンする。そこで、クロッ
クφに同期してMOSFET(21φ)がオフ、(22φ)がオン
することによって、ワード線がVDD線より遮断され、VSS
線に接続される。これによりインバータ(23a)の出力
がハイレベルとなりロム(3)のワード線が活性化され
る。
Given the unit circuits all gates are connected to the address signal lines A 0 .about.An, thereby the word line in the address decoder is selected when all the address signal lines A 0 .about.An becomes high level, the Parallel P-channel MOSFET (2
10 0 ) to (21n) are turned off simultaneously, and the series N-channel MOSFE
T (22 0 ) to (22n) are simultaneously turned on. Therefore, when the MOSFET (21φ) is turned off and (22φ) is turned on in synchronization with the clock φ, the word line is cut off from the VDD line, and V SS
Connected to the wire. As a result, the output of the inverter (23a) becomes high level, and the word line of ROM (3) is activated.

上記したアドレスデコーダのアドレス確定時間は主と
してNチャンネル直列MOSFETによってアドレスデコーダ
のワード線をローレベルにする時間に支配されており、
NチャンネルMOSFETのオン抵抗、並列PチャンネルMOSF
ETのソース領域のP+拡散抵抗および配線、負荷の寄生容
量Cを小さくする必要が生ずる。
The address determination time of the address decoder is mainly governed by the time when the word line of the address decoder is set to low level by the N-channel series MOSFET.
ON resistance of N-channel MOSFET, Parallel P-channel MOSF
It becomes necessary to reduce the P + diffusion resistance of the source region of the ET and the parasitic capacitance C of the wiring and the load.

そこで、直列NチャンネルMOSFETから見て、並列Pチ
ャンネルMOSFETのP+拡散により形成されるソース領域の
抵抗を介する負荷が大きくならないように、前記したよ
うにロム領域を2分割することが行われている。
Therefore, as seen from the series N-channel MOSFET, the ROM region is divided into two as described above so that the load via the resistance of the source region formed by the P + diffusion of the parallel P-channel MOSFET does not increase. I have.

しかし、これにより従来のアドレスデコーダは、2分
割されるロム(3)とロム(4)のアドレス確定時間に
差が生ずる欠点を有すると共に、さらに大容量化のため
のアドレス信号線の増加に対応できない欠点を有してい
る。
However, as a result, the conventional address decoder has a drawback that the address determination time of the ROM (3) and the ROM (4) divided into two parts is different from each other, and the address decoder can cope with an increase in the number of address signal lines for further increasing the capacity. It has disadvantages that cannot be achieved.

(ハ)発明が解決しようとする課題 この発明は、このような点に鑑みてなされたものであ
って、ワード線の幅を広くすることなくあるいは高レベ
ル拡散することなく並列MOSFETのソース領域の実効抵抗
を低下させ、もって高速動作するアドレスデコーダを提
供することにある。さらには、大容量化に対応可能なア
ドレスデコーダを提供することにある。
(C) Problems to be Solved by the Invention The present invention has been made in view of the above points, and has been made in consideration of the above problem. An object of the present invention is to provide an address decoder which lowers effective resistance and operates at high speed. Another object of the present invention is to provide an address decoder that can cope with an increase in capacity.

(ニ)課題を解決するための手段 この発明は、ワード線と第1の電位線間に形成される
直列MOSFETと、この直列MOSFETに隣接する第1の領域に
おいてワード線と第2の電位線間に形成され、2分割さ
れたアドレス信号の一方をゲート入力する第1の並列MO
SFETと、直列MOSFETに隣接する第2の領域においてワー
ド線と第2の電位線間に形成され、2分割された他方の
アドレス信号をゲート入力する第2の並列MOSFETからな
る点を特徴とする。
(D) Means for Solving the Problems The present invention provides a series MOSFET formed between a word line and a first potential line, and a word line and a second potential line in a first region adjacent to the series MOSFET. A first parallel MO formed between the gates and gate-inputting one of the two divided address signals
It is characterized by comprising an SFET and a second parallel MOSFET formed between a word line and a second potential line in a second region adjacent to the series MOSFET and gate-inputting the other of the two divided address signals. .

(ホ)作 用 上記構成は、直列MOSFETの負荷となる並列MOSFETの共
通ソース領域の拡散抵抗を2分の1とすることにより、
この拡散抵抗と寄生容量とにより形成される時定数回路
の時定数を2分の1とし、もってアドレス確定時間を略
2分の1とするよう作用する。さらに、複数のロムマト
リクスのアドレス確定時間を等しくするよう作用する。
(E) Operation The above configuration reduces the diffusion resistance of the common source region of the parallel MOSFET, which is the load of the series MOSFET, by half.
The time constant of the time constant circuit formed by the diffusion resistance and the parasitic capacitance is reduced to one half, so that the address determination time is reduced to approximately one half. Further, it acts to make the address determination time of a plurality of ROM mats equal.

(ヘ)実施例 以下、図面を参照してこの発明の一実施例を説明す
る。
(F) Embodiment One embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図に示すように、この発明のアドレスデコーダの
単一のワード線は、直列NチャンネルMOSFET(22φ)お
よび(220)〜(22n)、この直列NチャンネルMOSFETに
隣接する第1の領域に略半数が形成される第1の並列P
チャンネルMOSFET(210)〜(21n/2)、前記直列Nチャ
ンネルMOSFETに隣接する第2の領域に残る半数が形成さ
れる第2の並列PチャンネルMOSFET(21n/2+1)〜(21
n)および(21φ)、インバータ(23a),(23b)から
構成されている。
As shown in FIG. 1, the single word line of the address decoder of the present invention is composed of a series N-channel MOSFET (22φ) and (22 0 ) to (22n), a first region adjacent to the series N-channel MOSFET. Of the first parallel P in which approximately half are formed
Channel MOSFETs (21 0 ) to (21n / 2 ) and second parallel P-channel MOSFETs (21n / 2 + 1 ) to (21n) which form the remaining half in the second region adjacent to the series N-channel MOSFET.
n) and (21φ), and inverters (23a) and (23b).

直列NチャンネルMOSFET(22φ),(220)〜(22n)
はワード線とVSS線間に、隣り合うMOSFETのソースとド
レインが共通となるよう形成されており、そのゲートに
はアドレス信号線A0〜Anか反転アドレス信号線A
nが選択的に接続されている。ただし、この発明に
おいてはコンタクト方式は必要条件ではない。
Series N-channel MOSFET (22φ), (22 0 ) ~ (22n)
Between the word line and the V SS line, it is formed so that the source and drain of adjacent MOSFET is common to the gate address lines A 0 .about.An or inverted address signal lines A * 0 ~
A * n is selectively connected. However, a contact method is not a necessary condition in the present invention.

第1および第2の並列PチャンネルMOSFET(21φ),
(210)〜(21n)は2分割されて前記直列Nチャンネル
MOSFET(22φ),(220)〜(22n)に隣接する2つの領
域に形成され、図面横方向にP+拡散により形成される共
通ソース領域(24)と、同じく図面横方向にP+拡散によ
り形成され、VDDに接続される共通ドレイン領域(2
5)、およびメタル線で形成されるクロック線φに接続
されるゲート(26φ)、アドレス信号線A0〜Anと、この
アドレス信号線A0〜Anにそれぞれ相前後して形成される
反転アドレス信号A 〜Anに選択接続されるゲー
ト(260)〜(26n)から構成されている。なお、第1の
並列PチャンネルMOSFETのゲートにアドレス信号を共給
するアドレス信号線はA0〜An/2およびこれを反転するA
〜An/2であり、第2の並列PチャンネルMOSFET
のゲートにアドレス信号を供給するアドレス信号線はAn
/2+1〜Anおよびこれを反転するアドレス信号線はAn/
2+1〜Anである。
First and second parallel P-channel MOSFETs (21φ),
(21 0 ) to (21n) are divided into two and the serial N channels
MOSFET (22φ), (22 0 ) ~ formed on two regions adjacent to the (22n), and a common source region (24) formed by the P + diffusion in the drawings laterally, also the P + diffusion in the drawings laterally common drain region is formed, it is connected to V DD by (2
5), and a gate (26φ) connected to a clock line φ formed of a metal line, address signal lines A 0 to An, and inverted addresses formed before and after these address signal lines A 0 to An, respectively. and it is configured to the signal a * 0 ~A * n from the gates selected connection (26 0) ~ (26n) . An address signal line for supplying an address signal to the gate of the first parallel P-channel MOSFET is A 0 to An / 2 and A
* 0 to A * n / 2 , the second parallel P-channel MOSFET
An address signal line that supplies an address signal to the gate of
/ 2 + 1 to An and the address signal line for inverting this are A * n /
2 + 1 to A * n.

実施例の動作を第2図の等価回路を参照して説明す
る。
The operation of the embodiment will be described with reference to the equivalent circuit of FIG.

全てのMOSFETのゲートがアドレス信号線A0〜Anに接続
される単位回路は全てのアドレス信号A0〜Anがハイレベ
ルとなるとき、その第1の並列PチャンネルMOSFET(21
0)〜(21n/2)および第2の並列PチャンネルMOSFET
(21n/2+1)〜(21n)の全てのMOSFETがオフし、直列N
チャンネルMOSFET(220)〜(22n)が全てオンする。こ
こで、クロックφに同期してMOSFET(21φ)がオフ、
(22φ)がオンすることによって、ワード線がVDD線よ
り遮断され、VSS線に接続される。
When the gates of all the MOSFET is a unit circuit connected to the address signal lines A 0 .about.An is that all of the address signals A 0 .about.An at the high level, the first parallel P-channel MOSFET (21
0 )-(21n / 2 ) and second parallel P-channel MOSFET
All the MOSFETs of (21n / 2 + 1 ) to (21n) are turned off and the series N
All the channel MOSFETs (22 0 ) to (22n) are turned on. Here, the MOSFET (21φ) is turned off in synchronization with the clock φ,
(22φ) is by turning on the word line is cut off from the V DD line, is connected to the V SS line.

このとき、一方の配線および負荷の寄生容量Cに充電
されている電荷は第1の並列PチャンネルMOSFET(2
10)〜(21n/2)の共通ソース領域の拡散抵抗Rを介し
て放電され、他方のそれは第2の並列PチャンネルMOSF
ET(21n/2+1)〜(21n)の共通ソース領域の拡散抵抗R
を介して放電される。したがって、一方のワード線は拡
散抵抗が付加されることによって、並列PチャンネルMO
SFETが形成されない従来例と比較してアドレス確定時間
が長くなるものの、他方のワード線は共通ソース領域の
拡散抵抗が2分の1となることによって、前者と等しい
略2分の1の時間でアドレスが確定する。
At this time, the electric charge charged to the one line and the parasitic capacitance C of the load is transferred to the first parallel P-channel MOSFET (2
1 0) ~ (21n / 2 ) are discharged through the diffusion resistance R of the common source regions of the other it is the second parallel P-channel MOSF
Diffusion resistance R of common source region of ET (21n / 2 + 1 ) to (21n)
Is discharged through. Therefore, one word line has a parallel P-channel MO
Although the address determination time is longer than that of the conventional example in which no SFET is formed, the other word line has a diffusion resistance of the common source region that is one half, so that the other word line has a half time equal to the former one. The address is determined.

(ト)発明の効果 以上説明したようにこの発明によれば、 (1)高レベルのP+拡散をすることなくワード線の実効
抵抗を低下させることができ、高速化に対応できる。
(G) Effects of the Invention As described above, according to the present invention, (1) the effective resistance of a word line can be reduced without performing high-level P + diffusion, and high-speed operation can be achieved.

(2)ワード線の線幅を広くすることなくワード線の実
効抵抗を低下させることができるため、高集積化に対応
できる。
(2) Since the effective resistance of the word line can be reduced without increasing the line width of the word line, high integration can be achieved.

(3)2分割された記憶領域のアドレス確定時間を同じ
にすることができる。
(3) The address determination times of the two divided storage areas can be made the same.

という顕著な効果を奏するアドレスデコーダを提供する
ことができる。
Address decoder having such a remarkable effect can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図はこの発明の一実施例の構造を説明する部分パタ
ーン図、第2図はこの発明の一実施例の部分等価回路
図、第3図は従来例のブロック図、第4図は従来例の構
造を説明する部分パターン図、第5図は従来例の部分等
価回路図である。 (21φ),(210)〜(21n)……並列PチャンネルMOSF
ET、(22φ),(220)〜(22n)……直列Nチャンネル
MOSFET、(23a),(23b)……インバータ、(24)……
ソース領域、(25)……ドレイン領域、(26φ),(26
0)〜(26n)……ゲート、A0〜An……アドレス信号、A
〜An……反転アドレス信号、C……寄生容量、
R……拡散抵抗。
FIG. 1 is a partial pattern diagram for explaining the structure of one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a partial equivalent circuit diagram of one embodiment of the present invention, FIG. 3 is a block diagram of a conventional example, and FIG. FIG. 5 is a partial equivalent circuit diagram of a conventional example, illustrating a partial pattern diagram for explaining the structure of the example. (21φ), (21 0 )-(21n) …… Parallel P-channel MOSF
ET, (22φ), (22 0 ) to (22n) …… Series N channels
MOSFET, (23a), (23b) …… Inverter, (24) ……
Source region, (25) Drain region, (26φ), (26
0 ) to (26n) ... gate, A 0 to An ... address signal, A
* 0 to A * n: inverted address signal, C: parasitic capacitance,
R: diffusion resistance.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】ワード線と第1の電位線間に形成され、ア
ドレス信号をゲート入力する直列MOSFETと、この直列MO
SFETに隣接する第1の領域においてワード線と第2の電
位線間に形成され、2分割されたアドレス信号の一方を
ゲート入力する第1の並列MOSFETと、直列MOSFETに隣接
する第2の領域においてワード線と第2の電位線間に形
成され、2分割された他方のアドレス信号をゲート入力
する第2の並列MOSFETからなるアドレスデコーダ。
1. A series MOSFET formed between a word line and a first potential line and gate-inputting an address signal;
A first parallel MOSFET formed between a word line and a second potential line in a first region adjacent to the SFET and gate-inputting one of two divided address signals; and a second region adjacent to the series MOSFET An address decoder comprising a second parallel MOSFET formed between a word line and a second potential line and gate-inputting the other of the two divided address signals.
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