JP2634916B2 - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JP2634916B2 JP1260486A JP26048689A JP2634916B2 JP 2634916 B2 JP2634916 B2 JP 2634916B2 JP 1260486 A JP1260486 A JP 1260486A JP 26048689 A JP26048689 A JP 26048689A JP 2634916 B2 JP2634916 B2 JP 2634916B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体メモリに関し、特にフラッシュライト
パービット機能を有する半導体メモリに関する。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a semiconductor memory, and more particularly, to a semiconductor memory having a flash write per bit function.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、この種の半導体メモリは、選択したワード線と
接続するメモリセル全てに同じ情報を書込む(以下フラ
ッシュライトするという)時、ディジット線レベルをド
ライバ回路にて制御し、フラッシュライトを行わない
(以下フラッシュライトマスクするという)ディジット
線は、これらディジット線にメモリセルのもつ信号量を
伝えてセンス増幅器で増幅し、再書込み(リフレッシュ
という)を行っていた。
Conventionally, in this type of semiconductor memory, when writing the same information to all the memory cells connected to a selected word line (hereinafter referred to as flash writing), the digit line level is controlled by a driver circuit, and flash writing is not performed. Digit lines (hereinafter referred to as flash write mask) transmit the signal amount of a memory cell to these digit lines, amplify them by a sense amplifier, and perform rewriting (refreshing).

このフラッシュライトとリフレッシュとは同時に行わ
れていた。
This flash write and refresh were performed simultaneously.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

上述した従来の半導体メモリは、ディジット線のレベ
ルが大きく変化するフラッシュライトと、ディジット線
のレベルがメモリセルの信号量により少ししか変化しな
いリフレッシュとが同時に行なわれ、リフレッシュ時の
ディジット線はフローティング状態となっているので、
これらディジット線が隣接している場合には、ディジッ
ト線間の寄生容量により、フラッシュライトされるディ
ジット線のレベル変化がリフレッシュ中のディジット線
のレベルに影響を及ぼし、正しく情報をリフレッシュす
る動作を防げるという欠点がある。
In the above-described conventional semiconductor memory, flash writing in which the level of the digit line greatly changes and refresh in which the level of the digit line slightly changes according to the signal amount of the memory cell are performed simultaneously, and the digit line at the time of refreshing is in a floating state. So
When these digit lines are adjacent to each other, due to the parasitic capacitance between the digit lines, a change in the level of the digit line to be flash-written affects the level of the digit line being refreshed, thereby preventing an operation of correctly refreshing information. There is a disadvantage that.

これを避るため、フラッシュライトするディジット線
とリフレッシュするディジット線の領域をひき離すと、
これらを制御する回路も増大し、その結果チップサイズ
が大きくなるという欠点がある。
To avoid this, separate the digit line area for flash writing and the digit line for refreshing,
There is also a disadvantage that the number of circuits for controlling these increases, resulting in an increase in chip size.

本発明の目的は、フラッシュライトするディジット線
とフラッシュライトマスクされリフレッシュするディジ
ット線とが隣接していても寄生容量による影響がなく正
しくリフレッシュすることができ、チップサイズを小さ
くすることができる半導体メモリを提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory that can be correctly refreshed without being affected by parasitic capacitance even if a digit line to be flash-written and a digit line to be flash-masked and refreshed are adjacent to each other, thereby reducing the chip size. Is to provide.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明の半導体メモリは、複数のワード線と、これら
各ワード線と接続する複数のメモリセルと、これらメモ
リセルの所定のメモリセルと接続し互いに相補の信号対
を伝達する複数の第1及び第2のディジット線対と、こ
れら各第1及び第2のディジット線対と対応して設けら
れ第1の制御信号によりオン・オフして互いに相補の入
力信号対を伝達制御する複数の第1のトランスファゲー
トと、これら各トランスファゲートとそれぞれ対応して
設けられ対応するこれらトランスファゲートからの信号
を一時保持する所定の容量の複数の容量素子を備えたフ
ラッシュライトレジスタと、前記各第1のディジット線
対と対応する前記容量素子との間に設けられ第2の制御
信号によりオン・オフしてこれら容量素子に保持されて
いる信号をこれら第1のディジット線対へそれぞれ伝達
制御する複数の第2のトランスファゲートと、前記各第
2のディジット線対と対応する前記容量素子との間に設
けられ第3の制御信号によりオン・オフしてこれら容量
素子に保持されている信号をこれら第2のディジット線
対へそれぞれ伝達制御する複数の第3のトランスファゲ
ートとを有している。
The semiconductor memory of the present invention includes a plurality of word lines, a plurality of memory cells connected to each of the word lines, and a plurality of first and second memory cells connected to predetermined ones of the memory cells and transmitting complementary signal pairs. A second digit line pair and a plurality of first digit lines provided corresponding to the first and second digit line pairs and turned on / off by a first control signal to control transmission of mutually complementary input signal pairs. A flash write register provided with a plurality of capacitive elements having a predetermined capacity for temporarily holding signals from the corresponding transfer gates, respectively, and the first digit A signal provided between the line pair and the corresponding capacitive element, which is turned on / off by a second control signal and held by the capacitive element, And a plurality of second transfer gates, each of which controls transmission to a corresponding one of the digit line pairs, and is turned on / off by a third control signal provided between each of the second digit line pairs and the corresponding one of the capacitive elements. A plurality of third transfer gates for controlling transmission of signals held in the capacitive element to these second digit line pairs.

〔実施例〕〔Example〕

次に、本発明の実施例について図面を参照して説明す
る。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例を示す回路図である。 FIG. 1 is a circuit diagram showing one embodiment of the present invention.

この実施例は、複数のワード線(WL1)と、これら各
ワード線(WL1)と接続する複数のメモリセル(NC1〜MC
4)と、これらメモリセルの所定のメモリセルMC1,MC3、
MC2,MC4と接続し互いに相補の信号対を伝達する複数の
第1及び第2のディジット線対DL1,▲▼,DL3,▲
▼、DL2,▲▼、DL4,▲▼と、これら
各第1及び第2のディジット線対DL1,▲▼,〜,D
L4,▲▼と対応して設けられ第1の接続信号Φ1
よりオン・オフして互いに相補の入力信号対DT,▲
▼を伝達制御する複数の第1のトランスファゲートT11
〜T18と、これら各トランスファゲートT11〜T18とそれ
ぞれ対応して設けられ対応するこれらトランスファゲー
トからの信号を一時保持する複数の容量素子C1〜C8を備
えたフラッシュライトレジスタと、第1のディジット線
対DL1,▲▼,DL3,▲▼と対応する容量素子C
1,C2,C5,C6との間に設けられ第2の制御信号Φ2により
オン・オフしてこれら容量素子C1,C2,C5,C6に保持され
ている信号をこれら第1のディジット線対へそれぞれ伝
達制御する複数の第2のトランスファゲートT21〜T24
と、各第2のディジット線対DL2,▲▼、DL4,▲
▼と対応する容量素子C3,C4,C7,C8との間に設けら
れ第3の制御信号Φ3によりオン・オフしてこれら容量
素子C3,C4,C7,C8に保持されている信号をこれら第2の
ディジット線対へそれぞれ伝達制御する複数の第3のト
ランスファゲートT31〜T34と、各ディジット線対DL1,▲
▼〜DL4,▲▼と対応して設けられこれらデ
ィジット線対DL1,▲▼〜DL4,▲▼の信号を
増幅して出力するセンス増幅器SA1〜SA4と、各ディジッ
ト線対DL1,▲▼〜DL4,▲▼と対応して設け
られこれらディジット線対DL1,▲▼〜DL4,▲
▼のバランス及び基準電圧VRの供給制御を行うディジ
ット線対レベル制御回路DC1〜DC4とを有する構成となっ
ている。
In this embodiment, a plurality of word lines (WL1) and a plurality of memory cells (NC1 to MC1) connected to each word line (WL1) are used.
4) and predetermined memory cells MC1, MC3,
A plurality of first and second pairs of digit lines DL1, ▲ ▼, DL3, ▲ connected to MC2, MC4 and transmitting mutually complementary signal pairs
▼, DL2, ▲ ▼, DL4, ▲ ▼ and these first and second digit line pairs DL1, ▲ ▼, ~, D
L4, ▲ ▼, which are provided corresponding to the first connection signal Φ 1 to be turned on / off by the first connection signal Φ 1 and are mutually complementary input signal pairs DT, ▲
A plurality of first transfer gates T11 for controlling transmission
To T18, a flash write register including a plurality of capacitive elements C1 to C8 provided in correspondence with the respective transfer gates T11 to T18 and temporarily holding signals from the corresponding transfer gates, and a first digit line. Capacitor C corresponding to DL1, ▲ ▼, DL3, ▲ ▼
1, C2, C5, and C6, which are turned on / off by a second control signal Φ2, and the signals held in these capacitive elements C1, C2, C5, and C6 are transferred to these first digit line pairs. Transfer gates T21 to T24 for controlling transmission to
And each second digit line pair DL2, ▲ ▼, DL4, ▲
▼ and the corresponding capacitance elements C3, C4, C7, C8 are provided and turned on / off by a third control signal Φ3, and the signals held in these capacitance elements C3, C4, C7, C8 are A plurality of third transfer gates T31 to T34 for controlling transmission to the second digit line pairs, respectively;
Sense amplifiers SA1 to SA4 which are provided corresponding to ▼ to DL4 and ▲ ▼ to amplify and output signals of these digit line pairs DL1, ▲ to DL4 and ▲ ▼, and each digit line pair DL1, ▲ to DL4 , ▲ ▼ and these digit line pairs DL1, ▲ ▼ ~ DL4, ▲
▼ has a digit line pair level control circuit DC1~DC4 for controlling the supply of the balance and the reference voltage V R from the configuration having.

次に、この実施例の動作について説明する。 Next, the operation of this embodiment will be described.

第2図はこの実施例の動作を説明するための各部信号
のタイミング図である。
FIG. 2 is a timing chart of signals of respective parts for explaining the operation of this embodiment.

まず最初に、第1の制御信号Φ1を高レベルにして、
トランスファゲートT11〜T18によりフラッシュライトす
る情報(DT,▲▼)をフラッシュライトレジスタ1
の各容量素子C1〜C8に伝えた後、第1の制御信号Φ1
低レベルにしトランスファゲートT11〜T18をオフとす
る。
First, the first control signal Φ 1 is set to a high level,
The information (DT, ▲ ▼) to be flash-written by the transfer gates T11 to T18 is stored in the flash write register 1.
After conveyed to the capacitors C1~C8 of turning off the transfer gate T11~T18 the first control signal [Phi 1 to a low level.

次に、ディジット線レベル制御回路DC1〜DC4の動作を
停止した後、選択されたワード線WL1を選択レベルにす
ると共に、ディジット線対DL2,▲▼、DL4,▲
▼をフラッシュライトするため第3の制御信号Φ3
高レベルとする。
Next, after the operation of the digit line level control circuits DC1 to DC4 is stopped, the selected word line WL1 is set to the selected level, and the digit line pair DL2, ▲ ▼, DL4, ▲
The third control signal Φ 3 is set to a high level to flash-write ▼.

すると基準電圧VRでフローティング状態となっている
(期間T)ディジット線対DL1,▲▼,DL3,▲
▼にはメモリセルMC1,MC3による信号量の差(A)が
発生し、ディジット線対DL2,▲▼,DL4,▲
▼にはフラッシュライトレジスタ1の容量素子C3,C4,C
7,C8による信号量の差(B)が発生する。
Then in a floating state at the reference voltage V R (period T) the digit line pairs DL1, ▲ ▼, DL3, ▲
In ▼, a difference (A) in signal amount between the memory cells MC1 and MC3 occurs, and the digit line pair DL2, ▲ ▼, DL4, ▲
▼ indicates the capacitive elements C3, C4, C of the flash write register 1.
A signal amount difference (B) occurs due to 7, C8.

この時、容量素子C3,C4,C7,C8の信号は、各容量素子C
1〜C8の容量値を適切に選ぶことにより、高レベル側
が、すぐにフラッシュライトマスクされているディジッ
ト線対DL1,▲▼,DL3,▲▼の高レベル側よ
りわずかに高いレベルまで低下し、これらディジット線
対DL1,▲▼〜DL4,▲▼のレベルの差は小さ
いので、これらが寄生容量CSにより互いに影響しあうこ
とはない。
At this time, the signals of the capacitors C3, C4, C7, C8 are
By properly selecting the capacitance values of 1 to C8, the high level side immediately drops to a level slightly higher than the high level side of the flash write masked digit line pair DL1, ▲ ▼, DL3, ▲ ▼, these digit line pair DL1, ▲ ▼ ~DL4, ▲ ▼ since the difference between the levels of small, they are never influence each other by the parasitic capacitance C S.

その後、センス増幅器活性化信号Φ4が高レベルにな
ることによりセンス増幅器SA1〜SA4を活性化し、ディジ
ット線対DL1,▲▼,DL3,▲▼のメモリセルM
C1,MC3をこれらのもつ信号で再書き込み(リフレッシ
ュ)し、ディジット線対DL2,▲▼,DL4,▲
▼のメモリセルMC2,MC4をフラッシュライトする。
Thereafter, the sense amplifier SA1~SA4 activated by sense amplifier activation signals [Phi 4 goes high, the digit line pairs DL1, ▲ ▼, DL3, ▲ ▼ the memory cells M
C1 and MC3 are rewritten (refreshed) with these signals, and digit line pairs DL2, ▲ ▼, DL4, ▲
Flash-write the memory cells MC2 and MC4 in ▼.

又、制御信号Φ2,Φ3のレベルを入れ換ることによ
り、リフレッシュするメモリセルとフラッシュライトす
るメモリセルとを入れ換えることができる。
Also, by switching the levels of the control signals Φ 2 and Φ 3 , the memory cell to be refreshed and the memory cell to be flash-written can be switched.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上説明したように本発明は、第1のトランスファゲ
ートにより、所定の容量をもつ容量素子にフラッシュラ
イトする信号を伝達した後第1のトランスファゲートを
オフ状態とし、この後ディジット線にこの容量素子の信
号を伝達する構成とすることにより、フラッシュライト
するディジット線とリフレッシュするディジット線とが
隣接していても寄生容量による影響をなくすことができ
るので、フラッシュライトするディジット線とフラッシ
ュライトマスク(リフレッシュ)するディジット線とを
混在させてレイアウト設計が可能となり、制御回路も小
さくでき、従ってチップサイズを小さくすることができ
る効果がある。
As described above, according to the present invention, the first transfer gate is turned off after the signal for flash writing is transmitted to the capacitor having a predetermined capacitance by the first transfer gate, and then the capacitor is connected to the digit line. The effect of the parasitic capacitance can be eliminated even if the digit line for flash writing and the digit line for refreshing are adjacent to each other, so that the digit line for flash writing and the flash write mask (refresh And digit lines can be mixed and layout design can be performed, and the control circuit can be reduced in size, so that the chip size can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の一実施例を示す回路図、第2図は第1
図に示された実施例の動作を説明するための各部信号の
タイミング図である。 1……フラッシュライトレジスタ、C1〜C8……容量素
子、CS……寄生容量、DC1〜DC4……ディジット線レベル
制御回路、DL1,▲▼〜DL4,▲▼……ディジ
ット線対、MC1〜MC4……メモリセル、SA1〜SA4……セン
ス増幅器、T11〜T18,T21〜T24,T31〜T34……トランスフ
ァゲート、WL1……ワード線。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. 4 is a timing chart of signals of respective parts for explaining the operation of the embodiment shown in the figure. 1 ...... flash write register, C1 to C8 ...... capacitive element, C S ...... parasitic capacitance, DC1 to DC4 ...... digit line level control circuit, DL1, ▲ ▼ ~DL4, ▲ ▼ ...... digit line pair, MC1~ MC4 memory cell, SA1 to SA4 sense amplifier, T11 to T18, T21 to T24, T31 to T34 transfer gate, WL1 word line.

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】複数のワード線と、これら各ワード線と接
続する複数のメモリセルと、これらメモリセルの所定の
メモリセルと接続し互いに相補の信号対を伝達する複数
の第1及び第2のディジット線対と、これら各第1及び
第2のディジット線対と対応して設けられ第1の制御信
号によりオン・オフして互いに相補の入力信号対を伝達
制御する複数の第1のトランスファゲートと、これら各
トランスファゲートとそれぞれ対応して設けられ対応す
るこれらトランスファゲートからの信号を一時保持する
所定の容量の複数の容量素子を備えたフラッシュライト
レジスタと、前記各第1のディジット線対と対応する前
記容量素子との間に設けられ第2の制御信号によりオ
ン,オフしてこれら容量素子に保持されている信号をこ
れら第1のディジット線対へそれぞれ伝達制御する複数
の第2のトランスファゲートと、前記各第2のディジッ
ト線対と対応する前記容量素子との間に設けられ第3の
制御信号によりオン・オフしてこれら容量素子に保持さ
れている信号をこれら第2のディジット線対へそれぞれ
伝達制御する複数の第3のトランスファゲートとを有す
ることを特徴とする半導体メモリ。
1. A plurality of word lines, a plurality of memory cells connected to each word line, and a plurality of first and second memory cells connected to predetermined ones of the memory cells and transmitting complementary signal pairs. And a plurality of first transfer circuits provided corresponding to the first and second digit line pairs and turned on / off by a first control signal to control transmission of complementary input signal pairs. A gate, a flash write register provided in correspondence with each of the transfer gates, and provided with a plurality of capacitance elements having a predetermined capacity for temporarily holding signals from the corresponding transfer gates; And turned on and off by a second control signal provided between the first capacitor and the corresponding capacitance element, and the signals held in these capacitance elements are converted into the first digit. A plurality of second transfer gates, each of which controls transmission to a corresponding one of the line pairs, and a capacitor which is provided between each of the second digit line pairs and a corresponding one of the capacitors, and which is turned on / off by a third control signal and And a plurality of third transfer gates for controlling transmission of the signal held in the second digit line pair to the second digit line pair, respectively.
【請求項2】第2及び第3のトランスファゲートのうち
の少なくとも何れか一方がオンとなる前に第1のトラン
スファゲートはオフとなり、前記第2及び第3のトラン
スファゲートのうちの少なくとも何れか一方がオンとな
り対応する容量素子の信号が対応するディジット線対に
伝達されたとき、これらディジット線対の高レベル側
が、対応するメモリセルの信号が伝達されたときのディ
ジット線対の高レベル側よりわずかに高いレベルとなる
ように前記各容量素子の容量値を設定した請求項(1)
記載の半導体メモリ。
2. The first transfer gate is turned off before at least one of the second and third transfer gates is turned on, and at least one of the second and third transfer gates is turned off. When one is turned on and the signal of the corresponding capacitive element is transmitted to the corresponding digit line pair, the high level side of these digit line pair is the high level side of the digit line pair when the signal of the corresponding memory cell is transmitted. The capacitance value of each of the capacitance elements is set so as to have a slightly higher level.
The semiconductor memory according to any one of the preceding claims.
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JPH0752577B2 (en) * 1988-01-07 1995-06-05 株式会社東芝 Semiconductor memory
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