JP2616571B2 - Method for manufacturing semiconductor device - Google Patents

Method for manufacturing semiconductor device

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JP2616571B2 JP7053051A JP5305195A JP2616571B2 JP 2616571 B2 JP2616571 B2 JP 2616571B2 JP 7053051 A JP7053051 A JP 7053051A JP 5305195 A JP5305195 A JP 5305195A JP 2616571 B2 JP2616571 B2 JP 2616571B2
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    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明はIC(半導体集積回
路)等の半導体装置の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor device such as an IC (semiconductor integrated circuit).

【0002】[0002]

【従来の技術】ICなどの半導体装置の実装において、
信頼性が高く、コストのかからない実装方法が望まれて
いる。しかし、近年の半導体集積回路の大規模化に応
じ、それを搭載するICパッケージの多ピン化および狭
ピッチ化が加速しているために、これに対応した精密半
田付け技術の進歩が伴わない状況が生じてきている。即
ち、多ピンおよび挟ピッチ化されたICの端子を半田付
けするに際し、微細な半田付け部に一定量の半田を安定
的に供給することが極めて困難であるために、従来、こ
れらのICに対し、手付け作業に負っているところが大
きいのが現状である。
2. Description of the Related Art In mounting semiconductor devices such as ICs,
A highly reliable and inexpensive mounting method is desired. However, with the recent increase in the scale of semiconductor integrated circuits, the increase in the number of pins and the narrower pitch of IC packages on which they are mounted is accelerating, and the situation is not accompanied by the advancement of precision soldering technology corresponding to this. Is emerging. That is, when soldering multi-pin and narrow-pitch IC terminals, it is extremely difficult to stably supply a fixed amount of solder to a fine soldering portion. On the other hand, at present, much of the work is done by hand.

【0003】ところが手付け作業では、微細な部分に半
田を供給する場合、供給する半田量が一定しない問題が
ある。このため、供給する半田量が少ない場合は、接合
部の強度不足を来し、また、半田量が過多の場合は、隣
接する端子どうしが半田のブリッジによって接合されて
短絡してしまう不具合を生じていた。そこで、この種の
半導体装置の基板への実装方法として、予め半導体装置
の端子、例えば、ICのリードに半田メッキを施してお
き、基板の回路への接合の際に、接合部分に半田を外部
から供給して接合する方法がとられている。ここで、半
導体装置の端子に施されている半田メッキは、外部から
供給される半田との漏れ性を良好にする目的で設けられ
たもので、数μm程度の厚さで形成される。しかし、こ
の程度の厚さの半田メッキのみでは、接合強度が不足さ
れるので、不足となる半田を以下に説明する方法で外部
から供給して接合作業を行っていた。半田の供給方法に
は、糸半田を用いる方法、端子が接合される基板のパッ
ドに予めスクリーン印刷などによって半田ペーストを塗
布しておく方法、ディスペンサーによって基板のパッド
に半田ペーストを塗布する方法、溶融半田槽に基板を浸
漬する方法などがある。
[0003] However, when solder is supplied to a fine portion in a manual mounting operation, there is a problem that the amount of supplied solder is not constant. For this reason, if the amount of supplied solder is small, the strength of the joint is insufficient.If the amount of solder is excessive, there is a problem that adjacent terminals are joined by a solder bridge and short-circuited. I was Therefore, as a method of mounting this type of semiconductor device on a substrate, a terminal of the semiconductor device, for example, a lead of an IC is subjected to solder plating in advance, and when the substrate is joined to a circuit, the solder is externally applied to the joint portion. And joining them. Here, the solder plating applied to the terminals of the semiconductor device is provided for the purpose of improving the leakability with the solder supplied from the outside, and is formed with a thickness of about several μm. However, with only the solder plating having such a thickness, the bonding strength is insufficient, so that the insufficient solder is supplied from the outside by the method described below to perform the bonding operation. The solder can be supplied by a method using thread solder, a method in which a solder paste is applied in advance to a pad of a substrate to which a terminal is to be joined by screen printing or the like, a method in which a solder paste is applied to a pad in a substrate with a dispenser, There is a method of immersing the board in a solder bath.

【0004】しかし、QFPなどの多ピンで、リードの
間隔が狭い本体部を有するIC、例えば、リード間隔が
0.65mm以下のICなどでは、供給半田量が僅かで
も過剰であると、リフロー(溶融)後にリード間の半田
によるブリッジが発生し、また、少しでも不足すると、
接合強度の不足が生じるために、適正な量の半田を供給
することが極めて困難であった。そこで、本願出願人は
以下説明するように、ICのリードに厚膜半田メッキを
施すことにより適量な半田をリードに付着させる方法を
提案するに至った。
However, in the case of an IC such as a QFP having a multi-pin body having a narrow lead interval, for example, an IC having a lead interval of 0.65 mm or less, a reflow ( After melting), solder bridging between the leads will occur, and if any shortage occurs,
Because of insufficient bonding strength, it was extremely difficult to supply an appropriate amount of solder. Therefore, as described below, the applicant of the present application has proposed a method of applying an appropriate amount of solder to a lead of an IC by applying a thick film solder plating to the lead.

【0005】第3図はQFPなどに多ピンパッケージI
Cの多数リード6に電気半田メッキを施すための治具1
を示すものである。この治具1は黄銅などの金属からな
る4角形状の上枠3と非導電体の下枠2とネジ4…とか
ら構成されている。そして、第4図に示すように、その
下枠2と上枠3との間にQFPなどの多ピンパッケージ
ICの本体部5のリード6,6,…を挟み、ネジ4…で
固定したのち、この治具1を半田メッキ浴Aに浸漬し、
リード6,6…の大部分が半田メッキ浴A中に浸される
ように配置し、治具1を陰極に、半田インゴット7を陽
極として電気メッキすることによって行われる。
FIG. 3 shows a multi-pin package I for a QFP or the like.
Jig 1 for applying electric solder plating to many leads 6 of C
It shows. The jig 1 includes a rectangular upper frame 3 made of a metal such as brass, a non-conductive lower frame 2 and screws 4. Then, as shown in FIG. 4, the leads 6, 6,... Of the main body 5 of the multi-pin package IC such as QFP are sandwiched between the lower frame 2 and the upper frame 3, and are fixed with screws 4. This jig 1 is immersed in a solder plating bath A,
Most of the leads 6, 6,... Are arranged so as to be immersed in the solder plating bath A, and electroplating is performed using the jig 1 as a cathode and the solder ingot 7 as an anode.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したよ
うにしてQFPのリードの半田メッキを行った場合、Q
FPの4隅においてリードの配列の規則性が失われるた
め、4隅近傍のリードが他のリードよりもメッキ厚が厚
くなる傾向にある。このため、QFPをプリント基板に
実装する際にQFPの4隅の近傍における各リードの間
が半田によって橋絡される恐れがあるという問題があっ
た。また、リードのメッキ厚が一定でないため、QFP
を実装する際の実装強度が安定性に欠けるという問題が
あった。また、QFPに限らず、他のパッケージにおい
ても、リード間隔が等間隔でない部分があると、その部
分においてメッキ厚が変化してしまうという問題があっ
た。この発明は上述した事情に鑑みてなされたものであ
り、各リードに対し均一な厚さの半田メッキ層を電析さ
せることができる製造方法を提供することを目的とす
る。
By the way, when the lead of the QFP is solder-plated as described above,
Since the regularity of the arrangement of the leads is lost at the four corners of the FP, the plating near the four corners tends to be thicker than the other leads. For this reason, when mounting the QFP on the printed circuit board, there is a problem that the lead may be bridged between the leads near the four corners of the QFP by solder. Also, since the lead plating thickness is not constant, QFP
There is a problem that the mounting strength at the time of mounting is lacking in stability. Further, not only in QFP but also in other packages, if there is a portion where the lead interval is not equal, there is a problem that the plating thickness changes at that portion. The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a manufacturing method capable of depositing a solder plating layer having a uniform thickness on each lead.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本願の請求項1は、リードおよび補助リードを有す
るリードフレームに、半導体素子を搭載する搭載部を有
する半導体装置の製造方法において、半導体チップを有
する本体部を形成する本体部形成工程と、前記リードお
よび、補助リードを所定の形状に曲げるフォーミング工
程と、前記リードおよび補助リードに実装用の半田をメ
ッキするメッキ工程と、前記メッキ工程の後に、前記リ
ードフレームから外周フレームおよび補助リードを分離
する工程とを有することを特徴とする。また請求項2
は、前記補助リードとこれに隣接するリードとの間隔が
これらのリードの各々の間隔と一様にされていることを
特徴とする。さらに請求項3は、前記リードは前記半導
体装置の少なくとも一つの辺に沿って複数設けられ、
記補助リードは前記辺に沿う複数のリードのうち、両端
に配置されたリードに隣接してその外側に配置されたこ
とを特徴とする。
To achieve the above object, a first aspect of the present invention is a method of manufacturing a semiconductor device having a mounting portion for mounting a semiconductor element on a lead frame having leads and auxiliary leads. A main body forming step of forming a main body having a chip, a forming step of bending the lead and the auxiliary lead into a predetermined shape, a plating step of plating a solder for mounting on the lead and the auxiliary lead, and the plating step Separating the outer peripheral frame and the auxiliary lead from the lead frame. Claim 2
Is characterized in that the distance between the auxiliary lead and the lead adjacent thereto is equal to the distance between each of these leads. Further, a plurality of leads are provided along at least one side of the semiconductor device , and the auxiliary leads are both ends of a plurality of leads along the side.
The lead is arranged adjacent to and outside the lead .

【0008】[0008]

【作用】上記構成によれば、本来のリードに加えて補助
リードが設けられているので、特定位置のリードに過剰
な厚さのメッキが施されるのを防止することができる。
また、リードおよび補助リードの間隔を一様にすること
により、メッキ厚を一定にすることができる。また、適
性な厚さのメッキが均一に施された結果、安定した実装
強度を得ることができる。
According to the above construction, since the auxiliary lead is provided in addition to the original lead, it is possible to prevent the lead at a specific position from being plated with an excessive thickness.
Further, by making the interval between the lead and the auxiliary lead uniform, the plating thickness can be made constant. In addition, stable plating strength can be obtained as a result of uniform plating of an appropriate thickness.

【0009】[0009]

【実施例】以下、図面を参照し、本発明の一実施例を説
明する。第1図はこの発明の一実施例に用いられるQF
P用リードフレーム10を用いた半導体集積回路を示す
平面図である。この図においては、リードフレーム10
の図示ないしアイランド(半導体チップ搭載部)への半
導体チップの搭載、および半導体チップの各電極パッド
とリード6,6……とのワイヤボンディングを終え、さ
らにモールドレンジによる本体部5が形成された状態が
示されている。本実施例によるリードフレーム10は、
QFPの角部に位置する8個のリード6,6,……のさ
らにその外側に、半導体チップの電極パッドとは接続さ
れない8個の補助リード6a〜6hを有している。ここ
で、補助リード6a〜6hとその隣のリード6との間隔
は、他のリード6,6……の配置間隔と同一間隔になっ
ている。すなわち、4隅のリード6,6……について
も、他の箇所におけるリード6,6……と同様、隣接す
るリードとの間隔が一定になっている。第1図において
下方に図示された1辺に配列する補助リード6a、リー
ド6,6,……、補助リード6bはそれらの先端部が隣
のリードと分離されずに一体となっている。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a QF used in one embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a plan view showing a semiconductor integrated circuit using a P lead frame 10. In this figure, the lead frame 10
Of the semiconductor chip on the island (semiconductor chip mounting portion) and the wire bonding between the electrode pads of the semiconductor chip and the leads 6, 6,..., And the main body 5 is formed by a mold range. It is shown. The lead frame 10 according to the present embodiment includes:
Further, outside the eight leads 6, 6,... Located at the corners of the QFP, eight auxiliary leads 6a to 6h that are not connected to the electrode pads of the semiconductor chip are provided. Here, the interval between the auxiliary leads 6a to 6h and the adjacent lead 6 is the same as the arrangement interval of the other leads 6, 6,.... That is, the leads 6 at the four corners have a constant interval between adjacent leads, similarly to the leads 6 at the other locations. The auxiliary leads 6a, the leads 6, 6,..., And the auxiliary leads 6b arranged on one side shown in the lower part of FIG. 1 have their tips integrated with the adjacent leads without being separated.

【0010】他の辺についても同様であり、両端の補助
リードおよびそれらに挟まれたリード6,6,……の各
先端部が分離されず一体となっている。本体部5の4隅
の各々において、補助リード6bおよび6cの各基部は
連結部11を介して外周フレーム10bに接続され、補
助リード6dおよび6eの各基部は連結部12を介して
外周フレーム10aに接続され、補助リード6fおよび
6gの各基部は連結部13を介して外周フレーム10a
に接続され、さらに補助リード6hおよび6aの各基部
はモールドレジンゲート14を介して外周フレーム10
bに接続されている。すなわち、すべてのリード6,
6,……、補助リード6a〜6hおよびリードフレーム
10は電気的に短絡された状態となっている。
[0010] The same applies to the other sides, in which the auxiliary leads at both ends and the tips of the leads 6, 6, ... sandwiched therebetween are integrated without being separated. At each of the four corners of the main body 5, the bases of the auxiliary leads 6b and 6c are connected to the outer peripheral frame 10b via the connecting portion 11, and the bases of the auxiliary leads 6d and 6e are connected via the connecting portion 12 to the outer peripheral frame 10a. And the bases of the auxiliary leads 6f and 6g are connected to the outer peripheral frame 10a via the connecting portion 13.
The bases of the auxiliary leads 6h and 6a are connected to the outer peripheral frame 10 via a mold resin gate 14.
b. That is, all leads 6,
6,..., The auxiliary leads 6a to 6h and the lead frame 10 are electrically short-circuited.

【0011】リードに対する厚膜半田メッキを行う前
に、リードフォーミングが行われ、第2図に示すように
リード6,6,……および補助リード6a〜6hが所定
の形状に曲げられる。その後、リードフレーム10に陰
極を接続すると共に各リード6,6,……および補助リ
ード6a〜6hに対向するように陽極を配置させた状態
にて電気メッキ液中に浸し、電気メッキを行う。この結
果、リード6,6,……および補助リード6a〜6hに
半田メッキ層が電析される。ここで、各辺の最も端に位
置する補助リード6a〜6hは、メッキ厚が他よりも厚
くなるが、補助リードでないすべてのリード6,6,…
…は均一のメッキ厚となる。
Before the lead is subjected to thick film solder plating, lead forming is performed, and the leads 6, 6,... And the auxiliary leads 6a to 6h are bent into a predetermined shape as shown in FIG. After that, the cathode is connected to the lead frame 10 and the electrode is immersed in an electroplating solution in a state where the anode is arranged so as to face each of the leads 6, 6, ... and the auxiliary leads 6a to 6h, and electroplating is performed. As a result, a solder plating layer is deposited on the leads 6, 6,... And the auxiliary leads 6a to 6h. Here, the auxiliary leads 6a to 6h located at the end of each side are thicker than the others, but all the leads 6, 6,.
... has a uniform plating thickness.

【0012】半田メッキが終了すると、リード6,6,
……および補助リード6a〜6hの先端部が切断される
ことにより各リード間が分離される。また、連結部11
〜13およびモールドレンジゲート14の各々が本体部
5との境界部において切断される。この結果、リード
6,6,……のみを本体部5の4辺に有する半導体集積
回路がリードフレーム10から分離される。このように
してすべてのリード6,6,……に均一な厚さの厚膜半
田メッキの施された半導体集積回路が得られる。
When the solder plating is completed, the leads 6, 6,
By cutting off the tips of the auxiliary leads 6a to 6h, the leads are separated from each other. Also, the connecting portion 11
13 and the mold range gate 14 are cut off at the boundary with the main body 5. As a result, the semiconductor integrated circuit having only the leads 6, 6,... On the four sides of the main body 5 is separated from the lead frame 10. In this way, a semiconductor integrated circuit in which all the leads 6, 6,...

【0013】[0013]

【発明の効果】以上の説明であ明かなように、本発明に
よれば、本来のリードに加えて補助リードが設けられた
状態でメッキが行われるので、特定位置のリードに過剰
な厚さのメッキが施されるのを防止することができる。
また、リードおよび補助リードの間隔が一様な状態でメ
ッキを行うことによりメッキ厚を一定にすることができ
る。特に、所定の配列で並べられたリードの端部に補助
リードを配置することにより、この補助リードに厚い半
田が施され、その内側のリードの半田厚を一定にするこ
とができるから、補助リードを取り除くことにより、本
来のリードに一定の厚さの半田メッキを施し、一定の実
装強度を得ることができる。
As is apparent from the above description, according to the present invention, plating is performed in a state where auxiliary leads are provided in addition to the original leads, so that a lead at a specific position has an excessive thickness. Can be prevented from being applied.
In addition, plating can be performed at a constant thickness by plating with uniform spacing between the lead and the auxiliary lead. In particular, by arranging the auxiliary leads at the ends of the leads arranged in a predetermined arrangement, a thick solder is applied to the auxiliary leads, and the solder thickness of the inner leads can be made constant. By removing the lead, a certain thickness of solder plating can be applied to the original lead, and a certain mounting strength can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の一実施例によるリードを用いた半導
体集積回路を示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing a semiconductor integrated circuit using leads according to an embodiment of the present invention.

【図2】同実施例のリードフォーミング後の形状を示す
斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing a shape after lead forming of the embodiment.

【図3】従来の半田メッキ治具の構成を示す斜視図であ
る。
FIG. 3 is a perspective view showing a configuration of a conventional solder plating jig.

【図4】図3の従来の半田メッキ治具を用いた半田メッ
キを説明する図である。
FIG. 4 is a view for explaining solder plating using the conventional solder plating jig of FIG. 3;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10……リードフレーム、6………リード、6a〜6h
……補助リード。
10: Lead frame, 6: Lead, 6a to 6h
…… Auxiliary lead.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 太田 篤佳 静岡県浜松市中沢町10番1号 ヤマハ株 式会社内 (56)参考文献 特開 昭63−234551(JP,A) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (72) Inventor Atsushi Ota 10-1 Nakazawa-cho, Hamamatsu-shi, Shizuoka Yamaha Corporation (56) References JP-A-63-234551 (JP, A)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 半導体素子を搭載する搭載部を有する半
導体装置の製造方法において、 リードおよび補助リードを有するリードフレームに、半
導体チップを有する本体部を形成する本体部形成工程
と、 前記リードを所定の形状に曲げるフォーミング工程と、 前記リードおよび補助リードに実装用の半田をメッキす
るメッキ工程と、 前記メッキ工程の後に、前記リードフレームから外周フ
レームおよび補助リードを分離する工程と、を有するこ
とを特徴とする半導体装置の製造方法。
1. A method of manufacturing a semiconductor device having a mounting portion on which a semiconductor element is mounted, wherein: a main body portion forming step of forming a main body portion having a semiconductor chip on a lead frame having leads and auxiliary leads; A forming step of bending the lead and the auxiliary lead into a solder for mounting, and a step of separating the outer peripheral frame and the auxiliary lead from the lead frame after the plating step. A method for manufacturing a semiconductor device.
【請求項2】 前記補助リードとこれに隣接するリード
との間隔がこれらのリードの各々の間隔と一様にされて
いることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製
造方法。
2. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein a distance between the auxiliary lead and a lead adjacent thereto is made equal to a distance between each of these leads.
【請求項3】 前記リードは前記半導体装置の少なくと
一つの辺に沿って複数設けられ、前記補助リードは
記辺に沿う複数のリードのうち、両端に配置されたリー
ドに隣接してその外側に配置されたことを特徴とする
求項1または2のいずれかに記載の半導体装置の製造方
法。
Wherein said lead plurality arranged along at least one side of said semiconductor device, wherein the auxiliary lead before
Of the multiple leads along the marked side, the leads
Adjacent to de 請, characterized in that disposed on the outside
3. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 1 or 2 .
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