JP2610894B2 - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JP2610894B2
JP2610894B2 JP62237149A JP23714987A JP2610894B2 JP 2610894 B2 JP2610894 B2 JP 2610894B2 JP 62237149 A JP62237149 A JP 62237149A JP 23714987 A JP23714987 A JP 23714987A JP 2610894 B2 JP2610894 B2 JP 2610894B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体記憶装置に関するもので、例え
ば、バイポーラ・CMOS型のランダム・アクセス・メモリ
(以下、バイポーラ・CMOS型RAMという)などに利用し
て有効な技術に関するものである。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a semiconductor memory device, and is used, for example, for a bipolar CMOS random access memory (hereinafter referred to as a bipolar CMOS RAM). And effective technology.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

ECL(Emitter Coupled Logic)回路との互換性を持
ついわゆるECLインタフェースのバイポーラ・CMOS型RAM
がある。
A so-called ECL interface bipolar CMOS RAM compatible with ECL (Emitter Coupled Logic) circuits
There is.

上記バイポーラ・CMOS型RAMは、アドレス信号等の入
力信号にビットごとに対応して設けられる複数の入力バ
ッファを有する。各入力バッファは、バイポーラ電流ス
イッチ回路と2組のCMOS電流ミラー回路及びバイポーラ
・CMOS複合駆動回路をそれぞれ含む。
The bipolar CMOS type RAM has a plurality of input buffers provided corresponding to input signals such as address signals for each bit. Each input buffer includes a bipolar current switch circuit, two sets of CMOS current mirror circuits, and a combined bipolar / CMOS drive circuit.

上記のようなバイポーラ・CMOS型RAMについては、例
えば、日経マグロウヒル社発行、1986年3月10日付『日
経エレクトロニクス』の199頁〜217頁に記載されてい
る。
Such a bipolar CMOS type RAM is described, for example, in "Nikkei Electronics", March 10, 1986, pages 199 to 217, published by Nikkei McGraw-Hill.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

上記に記載されるバイポーラ・CMOS型RAMにおいて、
外部からECLレベルで入力されるXアドレス信号AX0等の
入力信号は、第4図に例示的に示されるように、対応す
る外部端子及び入力レベルシフト回路を経て、Xアドレ
スバッファXADBのバイポーラ電流スイッチ回路CS1に供
給される。入力信号の振幅は、例えば0.8V程度とされ
る。電流スイッチ回路CS1は、トランジスタT3のベース
に供給される参照電位Vbbを論理スレッシホルドレベル
として、上記のように小振幅の入力信号のレベル判定動
作を行う。電流スイッチ回路CS1の出力信号は、入力信
号よりやや大きい信号振幅となる。
In the bipolar CMOS type RAM described above,
An input signal such as an X address signal AX0 input from the outside at an ECL level passes through a corresponding external terminal and an input level shift circuit, as shown in FIG. 4, and the bipolar current switch of the X address buffer XADB. It is supplied to the circuit CS1. The amplitude of the input signal is, for example, about 0.8V. The current switch circuit CS1 sets the reference potential Vbb supplied to the base of the transistor T3 as a logic threshold level, and performs the level determination operation of the small-amplitude input signal as described above. The output signal of the current switch circuit CS1 has a signal amplitude slightly larger than the input signal.

電流スイッチ回路CS1の出力信号は、エミッタフォロ
ア回路を経て、電流ミラー回路CM1及びCM2に供給され
る。電流ミラー回路CM1及びCM2は、CMOSによって構成さ
れ、上記電流スイッチ回路CS1から供給される小振幅の
相補出力信号を、回路の接地電位及び電源電圧Veeの間
をフルスィングされるCMOSレベルの内部信号に変換す
る。CMOS電流ミラー回路CM1及びCM2の出力信号は、バイ
ポーラ・CMOS複合駆動回路からなるアドレス分配回路AD
3及びAD4に供給され、さらに非反転内部アドレス信号ax
0及び反転内部アドレス信号▲▼としてXアドレ
スデコーダXDCRにそれぞれ伝達されるものである。
The output signal of the current switch circuit CS1 is supplied to the current mirror circuits CM1 and CM2 via the emitter follower circuit. The current mirror circuits CM1 and CM2 are composed of CMOS, and the complementary output signal of small amplitude supplied from the current switch circuit CS1 is used as a CMOS level internal signal which is fully swinged between the circuit ground potential and the power supply voltage Vee. Convert to The output signals of the CMOS current mirror circuits CM1 and CM2 are output from the address distribution circuit AD composed of a bipolar CMOS composite drive circuit.
3 and AD4, and the non-inverted internal address signal ax
These are transmitted to the X address decoder XDCR as 0 and the inverted internal address signal ▼ respectively.

しかし、上記のようなバイポーラ・CMOS型RAMの入力
バッファには、さらに次のような問題点があることが、
本願発明者等によって明らかになった。すなわち、上記
の入力バッファは、各外部端子を介して供給されるECL
レベルの入力信号が、例えば−0.9Vのようなハイレベル
と一1.7Vのようなロウレベルの2つの安定点をもって変
化されるものとしている。したがって、電流スイッチ回
路CS1に供給される参照電位Vbbは、例えば入力レベルシ
フト回路のトランジスタT1のベース・エミッタ回路VBE
を0.8Vとするとき、トランジスタT1のエミッタにおける
入力信号の中間レベルすなわち−2.1Vとされる。ところ
が、なんらかの理由によって、入力信号がECLレベルの
ハイレベル及びロウレベルの中間レベルとなり、トラン
ジスタT1のエミッタ電位が上記参照電位Vbbと同一のレ
ベルになると、電流スイッチ回路CS1の差動トランジス
タT2・T3のコレクタ電圧がともに同じような中間レベル
となる。このため、CMOS電流ミラー回路CM1及びCM2の出
力信号がともに中間レベルとなり、結果的にアドレス分
配回路AD3及びAD4のトランジスタT10及びT11とT12及びT
13がともにウィークリーなオン状態となる。これによ
り、トランジスタT10及びT11又はT12及びT13を介して貫
通電流が流れ、チップ上に設けられるCMOSインバータ回
路がラッチアップ状態となる。
However, the input buffer of the bipolar CMOS type RAM has the following problems.
It has been clarified by the present inventors. That is, the above-mentioned input buffer is used for the ECL supplied through each external terminal.
It is assumed that a level input signal is changed with two stable points, for example, a high level such as -0.9 V and a low level such as 1.7 V. Therefore, the reference potential Vbb supplied to the current switch circuit CS1 is, for example, the base-emitter circuit V BE of the transistor T1 of the input level shift circuit.
Is set to 0.8V, the intermediate level of the input signal at the emitter of the transistor T1, that is, -2.1V. However, for some reason, when the input signal becomes an intermediate level between the high level and the low level of the ECL level and the emitter potential of the transistor T1 becomes the same level as the reference potential Vbb, the differential transistors T2 and T3 of the current switch circuit CS1 Both collector voltages have the same intermediate level. Therefore, the output signals of the CMOS current mirror circuits CM1 and CM2 are both at the intermediate level, and as a result, the transistors T10 and T11 and T12 and T12 and T12 of the address distribution circuits AD3 and AD4.
13 are both on weekly. As a result, a through current flows through the transistors T10 and T11 or T12 and T13, and the CMOS inverter circuit provided on the chip enters a latch-up state.

すなわち、第3図の断面図に示されるように、例えば
トランジスタT10及びT11に貫通電流が流れると、トラン
ジスタT11のコレクタ抵抗による電圧降下が生じ、その
コレクタ電圧がベース電圧よりも低くなってトランジス
タT11は飽和状態となる。したがって、トランジスタT11
のコレクタ及びN型埋込層NBLをベースとし、トランジ
スタT11のベースをエミッタとしかつP型半導体基板PSU
Bをコレクタとする寄生トランジスタTrsがオン状態とな
り、P型半導体基板PSUBには比較的大きな基板電流Isが
流れてしまう。
That is, as shown in the cross-sectional view of FIG. 3, for example, when a through current flows through the transistors T10 and T11, a voltage drop occurs due to the collector resistance of the transistor T11, and the collector voltage becomes lower than the base voltage, so that the transistor T11 Becomes saturated. Therefore, transistor T11
And the N-type buried layer NBL as the base, the base of the transistor T11 as the emitter, and the P-type semiconductor substrate PSU
The parasitic transistor Trs having B as a collector is turned on, and a relatively large substrate current Is flows through the P-type semiconductor substrate PSUB.

P型半導体基板PSUBには、図示されないコンタクトを
介して電源電圧Veeが供給され、MOSFETQ39のP型ウェル
領域Pwellには、P型半導体基板PSUBと結合されること
によって電源電圧Vee′が供給される。入力信号が中間
レベルとなり、P型半導体基板PSUBに基板電流Isが流れ
ることで、基板電位すなわち電源電圧Vee′が上昇す
る。したがって、P型半導体基板PSUBすなわちMOSFETQ3
9のP型ウェル領域Pwellをベースとし、MOSFETQ39のソ
ース領域SをエミッタとしかつMOSFETQ15のN型ウェル
領域Nwellをコレクタとする寄生サイリスタTsnがオン状
態となる。このため、さらに上記MOSFETQ15のN型ウェ
ル領域Nwellをゲートし、MOSFETQ15のソース領域Sをエ
ミッタとしかつP型半導体基板PSUBをコレクタとする寄
生サイリスタTspがオン状態となる。これにより、寄生
サイリスタTsn及びTspすなわちPチャンネルMOSFETQ15
及びNチャンネルMOSFETQ39からなるCMOSインバーナ回
路がラッチアップ状態となり、バイポーラ・CMOS型RAM
は破壊される。
The power supply voltage Vee is supplied to the P-type semiconductor substrate PSUB via a contact (not shown), and the power supply voltage Vee 'is supplied to the P-type well region Pwell of the MOSFET Q39 by being coupled to the P-type semiconductor substrate PSUB. . When the input signal is at the intermediate level and the substrate current Is flows through the P-type semiconductor substrate PSUB, the substrate potential, that is, the power supply voltage Vee 'increases. Therefore, the P-type semiconductor substrate PSUB, ie, the MOSFET Q3
The parasitic thyristor Tsn having the P-type well region Pwell of 9 as a base, the source region S of the MOSFET Q39 as an emitter, and the N-type well region Nwell of the MOSFET Q15 as a collector is turned on. Therefore, the parasitic thyristor Tsp having the gate of the N-type well region Nwell of the MOSFET Q15, the source region S of the MOSFET Q15 as an emitter, and the P-type semiconductor substrate PSUB as a collector is turned on. Thereby, the parasitic thyristors Tsn and Tsp, that is, the P-channel MOSFET Q15
And CMOS inverter circuit consisting of N-channel MOSFET Q39 is latched up, and bipolar CMOS type RAM
Is destroyed.

この発明の目的は、入力バッファのラッチアップを防
止したバイポーラ・CMOS型RAM等の半導体記憶装置を提
供することにある。
It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device such as a bipolar CMOS type RAM which prevents latch-up of an input buffer.

この発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴
は、この明細書の記述及び添付図面から明らかになるで
あろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概
要を簡単に説明すれば、下記の通りである。すなわち、
入力バッファのバイポーラ・CMOS複合駆動回路の一方の
トランジスタのベースと対応する一方のCMOS電流ミラー
回路の出力端子との間に設けられるCMOSインバータ回路
の電源電圧端子を、対応する他方のCMOS電流ミラー回路
の出力端子に結合するものである。
The outline of a typical invention disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is,
The power supply voltage terminal of the CMOS inverter circuit provided between the base of one transistor of the bipolar CMOS composite drive circuit of the input buffer and the output terminal of the corresponding one of the CMOS current mirror circuits is replaced with the corresponding CMOS current mirror circuit of the other one. Is connected to the output terminal.

〔作用〕[Action]

上記した手段によれば、入力信号のレベルが中間レベ
ルとなりCMOS電流ミラー回路の出力レベルがともに中間
レベルになった場合、各CMOSインバータ回路のPチャン
ネルMOSFETがオン状態となれずにCMOSインバータ回路の
出力レベルがロウレベルに確定されるため、バイポーラ
・CMOS複合駆動回路のトーテムポール接続される出力ト
ランジスタを介する貫通電流を防止し、CMOSインバータ
回路のラッチアップを防止することができる。
According to the above-mentioned means, when the level of the input signal becomes the intermediate level and the output levels of the CMOS current mirror circuits both become the intermediate level, the P-channel MOSFETs of the respective CMOS inverter circuits cannot be turned on and the CMOS inverter circuits are not turned on. Since the output level is fixed to the low level, it is possible to prevent a through current through the output transistor connected to the totem pole of the bipolar / CMOS composite drive circuit, and to prevent latch-up of the CMOS inverter circuit.

〔実施例〕〔Example〕

第2図には、この発明が適用されたバイポーラ・CMOS
型RAMの一実施例の回路ブロック図が示されている。同
図の各ブロックを構成する回路素子は、公知のバイポー
ラ・CMOS集積回路の製造技術によって、特に制限されな
いが、単結晶シリコンのような1個の半導体基板上にお
いて形成される。以下の図において、チャンネル(バッ
クゲート)部に矢印が付加されるMOSFETはPチャンネル
型であって、矢印の付加されないNチャンネルMOSFETと
区別される。また、図示されるバイポーラトランジスタ
は、すべてNPN型トランジスタである。
FIG. 2 shows a bipolar CMOS to which the present invention is applied.
A circuit block diagram of one embodiment of the type RAM is shown. The circuit elements constituting each block in FIG. 1 are formed on a single semiconductor substrate such as single-crystal silicon, though not particularly limited, by a known bipolar CMOS integrated circuit manufacturing technique. In the following figures, MOSFETs with an arrow added to the channel (back gate) portion are of the P-channel type and are distinguished from N-channel MOSFETs without the arrow. The illustrated bipolar transistors are all NPN transistors.

第2図において、メモリアレイM−ARYは、同図の水
平方向に配置されるm+1本のワード線W0〜Wmと、同図
の垂直方向に配置されるn+1組の相補データ線D0・▲
▼〜Dn・▲▼及びこれらのワード線と相補デー
タ線の交点に配置される(m+1)×(n+1)個のス
タティック型メモリセルMCから構成される。
In FIG. 2, the memory array M-ARY includes (m + 1) word lines W0 to Wm arranged in the horizontal direction in FIG. 2 and n + 1 pairs of complementary data lines D0.multidot.
▼ to Dn · ▲ and (m + 1) × (n + 1) static memory cells MC arranged at the intersections of these word lines and complementary data lines.

各メモリセルMCは、第2図に例示的に示されるよう
に、Nチャンネル型の駆動MOSFETQ35及びQ36を含む。こ
れらのMOSFETQ35及びQ36のゲート及びドレインは、互い
に交差結合される。MOSFETQ35及びQ36のドレインと回路
の接地電位(第1の電源電圧)との間には、特に制限さ
れないが、ポリシリコン(多結晶シリコン)層からなる
高抵抗値の負荷抵抗R5及びR6がそれぞれ設けられる。MO
SFETQ35及びQ36のソースは、回路の電源電圧Vee(第2
の電源電圧)に結合される。電源電圧Veeは、特に制限
されないが、例えば−5.2Vの負の電源電圧とされる。駆
動MOSFETQ35及びQ36は、負荷抵抗R5及びR6とともに、こ
のバイポーラ・CMOS型RAMの記憶素子となるフリップフ
ロップを構成する。
Each memory cell MC includes N-channel type drive MOSFETs Q35 and Q36, as exemplarily shown in FIG. The gates and drains of these MOSFETs Q35 and Q36 are cross-coupled to each other. Between the drains of the MOSFETs Q35 and Q36 and the ground potential (first power supply voltage) of the circuit, although not particularly limited, load resistors R5 and R6 having a high resistance value made of a polysilicon (polycrystalline silicon) layer are provided, respectively. Can be MO
The sources of the SFETs Q35 and Q36 are connected to the power supply voltage Vee (second
Power supply voltage). The power supply voltage Vee is not particularly limited, but is, for example, a negative power supply voltage of −5.2 V. The drive MOSFETs Q35 and Q36, together with the load resistances R5 and R6, constitute a flip-flop serving as a storage element of the bipolar CMOS RAM.

フリップフロップの入出力ノードとされるMOSFETQ35
及びQ36のドレインは、Nチャンネル型の伝送ゲートMOS
FETQ37及びQ38を介して、対応する相補データ線の非反
転信号線0及び反転信号線▲▼にそれぞれ結合され
る。また、これらの伝送ゲートMOSFETQ37及びQ38のゲー
トは、対応するワード線W0に共通結合される。
MOSFET Q35 used as input / output node of flip-flop
The drain of Q36 and N-channel transmission gate MOS
Via FETs Q37 and Q38, they are coupled to the corresponding non-inverted signal line 0 and inverted signal line ▼ of the complementary data line, respectively. The gates of transmission gate MOSFETs Q37 and Q38 are commonly coupled to corresponding word line W0.

他のメモリセルMCも、すべて上記のメモリセルMCと同
様な回路構成とされ、対応するワード線及び相補データ
線の交点に格子状に配置されることで、メモリアレイM
−ARYを構成する。
All other memory cells MC have the same circuit configuration as the above-mentioned memory cell MC, and are arranged in a grid at the intersections of the corresponding word lines and complementary data lines, so that the memory array M
Construct -ARY.

メモリアレイM−ARYを構成するワード線W0〜Wmは、
XアドレスデコーダXDCRに結合され、そのうちの1本が
択一的にハイレベルの選択状態とされる。
Word lines W0 to Wm constituting the memory array M-ARY are:
It is coupled to an X address decoder XDCR, one of which is alternatively set to a high level selection state.

XアドレスデコーダXDCRには、XアドレスバッファXA
DBから相補内部アドレス信号x0〜xi(ここで、例え
ば非反転内部アドレス信号ax0と反転内部アドレス信号
▲▼をあわせて相補内部アドレス信号x0のよう
に表す。以下同じ)が供給され、チップ制御回路TCから
タイミング信号φceが供給される。Xアドレスデコーダ
XDCRは、タイミング信号φceがハイレベルとされること
で選択的に動作状態とされる。この動作状態において、
XアドレスデコーダXDCRは、上記相補内部アドレス信号
x0〜xiをデコードし、Xアドレス信号AX0〜AXiによ
って指定される一本のワード線をハイレベルの選択状態
とする。
The X address decoder XDCR has an X address buffer XA
From DB, complementary internal address signals a x0 to a xi (here, for example, the non-inverted internal address signal ax0 and the inverted internal address signal ▼ are collectively represented as a complementary internal address signal a x0; the same applies hereinafter), A timing signal φce is supplied from the chip control circuit TC. X address decoder
The XDCR is selectively activated when the timing signal φce is set to a high level. In this operating state,
The X address decoder XDCR outputs the complementary internal address signal
decodes a x0~ a xi, a selected state of one word line to a high level designated by the X address signal AX0~AXi.

XアドレスバッファXADBは、後述するように、外部端
子AX0〜AXiに対応して設けられるi+1個の入力レベル
シフト回路及びバイポーラ電流スイッチ回路と、これら
に対応して2個ずつ設けられる2×(i+1)個のCMOS
電流ミラー回路及びアドレス分配回路を含む。
As will be described later, the X address buffer XADB includes i + 1 input level shift circuits and bipolar current switch circuits provided corresponding to the external terminals AX0 to AXi, and 2 × (i + 1) provided two by two corresponding thereto. ) CMOS
It includes a current mirror circuit and an address distribution circuit.

XアドレスバッファXADBは、外部端子AX0〜AXiを介し
て供給されるXアドレス信号AX0〜AXiのレベルを、参照
電位に従って判定し、上記相補内部アドレス信号x0〜
xiを形成する。
X address buffer XADB the levels of the X address signal AX0~AXi supplied via the external terminals AX0~AXi, determined according to the reference potential, the complementary internal address signals a X0~
Form a xi.

XアドレスバッファXADBの具体的な回路構成と動作に
ついては、後で詳細に説明する。
The specific circuit configuration and operation of the X address buffer XADB will be described later in detail.

一方、メモリアレイM−ARYを構成する相補データ線D
0・▲▼〜Dn・▲▼は、その一方において、対
応するPチャンネルMOSFETQ7・Q8〜Q9・Q10を介して、
回路の接地電位に結合される。これらのMOSFETQ7・Q8〜
Q9・Q10は、そのゲートが回路の電源電圧Veeに結合され
ることで常時オン状態とされ、相補データ線D0・▲
▼〜Dn・▲▼に対する負荷MOSFETとして機能する。
On the other hand, the complementary data lines D constituting the memory array M-ARY
On the other hand, 0 • ▲ ▼ to Dn • ▲ ▼ are connected via the corresponding P-channel MOSFETs Q7, Q8 to Q9, Q10,
It is coupled to the ground potential of the circuit. These MOSFETs Q7 and Q8
Q9 and Q10 are always turned on when their gates are coupled to the power supply voltage Vee of the circuit, and the complementary data lines D0 and ▲
Functions as a load MOSFET for ▼ ~ Dn ・ ▲ ▼.

メモリアレイM−ARYを構成する相補データ線D0・▲
▼〜Dn・▲▼は、その他方において、カラムス
イッチCSWに対応するスイッチMOSFETQ15・Q33及びQ16・
Q34ないしQ17・Q35及びQ18・Q36にそれぞれ結合され
る。これらのスイッチMOSFETQ15・Q33及びQ16・Q34ない
しQ17・Q35及びQ18・Q36は、対応するデータ線選択信号
Y0〜Ynが択一的にハイレベルとされることでそれぞれ同
時にオン状態となり、対応する相補データ線D0・▲
▼〜Dn・▲▼と相補共通データ線CD・▲▼を選
択的に接続する。
Complementary data lines D0 and ▲ constituting the memory array M-ARY
▼ to Dn ・ ▲ ▼ indicate switch MOSFETs Q15, Q33 and Q16
It is coupled to Q34 to Q17.Q35 and Q18.Q36, respectively. These switch MOSFETs Q15 / Q33 and Q16 / Q34 to Q17 / Q35 and Q18 / Q36
When Y0 to Yn are alternatively set to the high level, they are simultaneously turned on, and the corresponding complementary data lines D0 and ▲
〜 To Dn ・ and the complementary common data lines CD ・ are selectively connected.

YアドレスデコーダYDCRには、YアドレスバッファYA
DBから相補内部アドレス信号y0〜yjが供給され、チ
ップ制御回路TCから上述のタイミング信号φceが供給さ
れる。YアドレスデコーダYDCRは、タイミング信号φce
がハイレベルとされることで選択的に動作状態とされ
る。この動作状態において、YアドレスデコーダYDCR
は、上記相補内部アドレス信号y0〜yjをデコード
し、上記データ線選択信号Y0〜Ynを形成する。
The Y address decoder YDCR has a Y address buffer YA
Complementary internal address signals a y0 to a yj are supplied from DB, and the above-mentioned timing signal φce is supplied from the chip control circuit TC. The Y address decoder YDCR receives the timing signal φce
Is set to a high level to be selectively activated. In this operation state, the Y address decoder YDCR
Decodes the complementary internal address signals a y0 to a yj to form the data line selection signals Y0 to Yn.

YアドレスバッファYADBは、外部端子AY0〜AYjを介し
て供給されるYアドレス信号AY0〜AYjを受け、上記相補
内部アドレス信号y0〜yjを形成する。Yアドレスバ
ッファYADBは、特に制限されないが、上記Xアドレスバ
ッファXADBと同様な構成とされる。
Y address buffer YADB receives Y address signal AY0~AYj supplied via the external terminals AY0~AYj, forming the complementary internal address signals a y0~ a yj. Although not particularly limited, the Y address buffer YADB has the same configuration as the X address buffer XADB.

相補共通データ線CD・▲▼は、センスアンプSAの
入力端子に結合され、さらにライトアンプWAの出力端子
に結合される。センスアンプSAの出力端子はデータ出力
バッファDOBの入力端子に結合され、データ出力バッフ
ァDOBの出力端子はさらにデータ出力端子DOに結合され
る。一方、ライトアンプWAの入力端子はデータ入力バッ
ファDIBの出力端子に結合され、データ入力バッファDIB
の入力端子はさらにデータ入力端子DIに結合される。セ
ンスアンプSA及びデータ出力バッファDOBには、チップ
制御回路TCからタイミング信号φsaが及びφoeがそれぞ
れ供給される。また、ライトアンプWAには、タイミング
信号φweが供給される。
The complementary common data lines CD • ▲ ▼ are coupled to the input terminal of the sense amplifier SA, and further coupled to the output terminal of the write amplifier WA. The output terminal of the sense amplifier SA is coupled to the input terminal of the data output buffer DOB, and the output terminal of the data output buffer DOB is further coupled to the data output terminal DO. On the other hand, the input terminal of the write amplifier WA is coupled to the output terminal of the data input buffer DIB,
Are further coupled to a data input terminal DI. The timing signal φsa and φoe are supplied from the chip control circuit TC to the sense amplifier SA and the data output buffer DOB, respectively. The timing signal φwe is supplied to the write amplifier WA.

センスアンプSAは、上記タイミング信号φsaがハイレ
ベルとされることで選択的に動作状態とされる。この動
作状態において、センスアンプSAは、選択されたメモリ
セルMCから相補共通データ線CD・▲▼を介して伝達
される小振幅の読み出し信号を増幅し、論理レベルの相
補読み出し信号とする。これらの相補読み出し信号は、
データ出力バッファDOBに伝達される。
The sense amplifier SA is selectively activated by the timing signal φsa being set to a high level. In this operation state, the sense amplifier SA amplifies the small-amplitude read signal transmitted from the selected memory cell MC via the complementary common data line CD ・ to make the logical-level complementary read signal. These complementary read signals are
The data is transmitted to the data output buffer DOB.

データ出力バッファDOBは、バイポーラ・CMOS型RAMの
読み出し動作モードにおいて、タイミング信号φoeがハ
イレベルとされることで選択的に動作状態とされる。こ
の動作状態において、データ出力バッファDOBは、セン
スアンプSAから出力される論理レベルの相補読み出し信
号をECLレベルに変換し、オープンエミッタの出力トラ
ンジスタを介して、データ出力端子DOから外部の装置に
送出する。
The data output buffer DOB is selectively activated in the read operation mode of the bipolar CMOS type RAM by setting the timing signal φoe to a high level. In this operating state, the data output buffer DOB converts the complementary read signal of the logic level output from the sense amplifier SA to the ECL level, and sends it to the external device from the data output terminal DO via the open-emitter output transistor. I do.

一方、データ入力バッファDIBは、バイポーラ・CMOS
型RAMの書き込み動作モードにおいて、データ入力端子D
Iを介して外部から供給されるECLレベルの書き込みデー
タをMOSレベルの相補書き込み信号とし、ライトアンプW
Aに伝達する。
On the other hand, the data input buffer DIB is a bipolar CMOS
In the write operation mode of the type RAM, the data input terminal D
The ECL level write data supplied from outside via I is used as a MOS level complementary write signal, and the write amplifier W
Communicate to A.

ライトアンプWAは、タイミング信号φweがハイレベル
とされることで選択的に動作状態とされる。この動作状
態において、ライトアンプWAは、データ入力バッファDI
Bから供給される相補書き込み信号に従って書き込み電
流を相補共通データ線CD・▲▼に供給する。
The write amplifier WA is selectively activated by the timing signal φwe being set to the high level. In this operation state, the write amplifier WA operates in the data input buffer DI
In accordance with the complementary write signal supplied from B, a write current is supplied to the complementary common data lines CD.

チップ制御回路TCは、外部から制御信号として供給さ
れるチップ選択信号▲▼及びライトイネーブル信号
▲▼をもとに、上記各種のタイミング信号を形成
し、各回路に供給する。
The chip control circuit TC forms the above-mentioned various timing signals based on a chip select signal ▼ and a write enable signal ▼ which are externally supplied as control signals, and supplies the signals to each circuit.

第1図には、第2図のバイポーラ・CMOS型RAMのXア
ドレスバッファXADBの一実施例の回路図が示されてい
る。同図には、Xアドレス信号AX0に対応する1組の入
力バッファが、例示的に示される。Xアドレスバッファ
XADBには、他のXアドレス信号AX1〜AXiに対応して、同
様なi組の入力バッファが設けられる。また、特に制限
されないが、YアドレスバッファYADB等にも、各入力端
子に対応して同様な入力バッファが設けられる。
FIG. 1 is a circuit diagram showing one embodiment of the X-address buffer XADB of the bipolar CMOS type RAM shown in FIG. FIG. 2 exemplarily shows a set of input buffers corresponding to the X address signal AX0. X address buffer
XADB is provided with similar i sets of input buffers corresponding to the other X address signals AX1 to AXi. Although not particularly limited, the Y address buffer YADB or the like is provided with a similar input buffer corresponding to each input terminal.

第1図において、外部端子AX0から図示されない入力
保護回路を経て供給されるXアドレス信号AX0は、バイ
ポーラトランジスタT1及び定電流源Is1からなる入力レ
ベルシフト回路を介して、バイポーラ電流スイッチ回路
CS1のトランジスタT2のベースに供給される。
In FIG. 1, an X address signal AX0 supplied from an external terminal AX0 through an input protection circuit (not shown) is supplied to a bipolar current switch circuit via an input level shift circuit including a bipolar transistor T1 and a constant current source Is1.
It is supplied to the base of transistor T2 of CS1.

バイポーラ電流スイッチ回路CS1は、差動トランジス
タT2及びT3と、この差動トランジスタの共通接続された
エミッタと回路の電源電圧Veeとの間に設けられる定電
流源Is2を含む。トランジスタT3のベースには、所定の
参照電位Vbbが供給される。トランジスタT2及びT3のコ
レクタと回路の接地電位との間には、負荷抵抗R1及びR2
がそれぞれ設けられる。トランジスタT2及びT3のコレク
タ電圧は、トランジスタT4及びT5のベースにそれぞれ供
給される。
The bipolar current switch circuit CS1 includes differential transistors T2 and T3, and a constant current source Is2 provided between a commonly connected emitter of the differential transistors and a power supply voltage Vee of the circuit. A predetermined reference potential Vbb is supplied to the base of the transistor T3. The load resistors R1 and R2 are connected between the collectors of the transistors T2 and T3 and the ground potential of the circuit.
Are respectively provided. The collector voltages of the transistors T2 and T3 are supplied to the bases of the transistors T4 and T5, respectively.

トランジスタT4及びT5のコレクタは回路の接地電位に
結合され、それぞれのエミッタと回路の電源電圧Veeと
の間には負荷抵抗R3及びR4が設けられる。これらのトラ
ンジスタT4及びT5は、対応する負荷抵抗R3及びR4ととも
に、エミッタフォロア回路を構成する。トランジスタT4
及びT5のエミッタ電圧は、電流スイッチ回路CS1の出力
信号すなわち相補出力信号x0・▲▼として、対応す
る電流ミラー回路CM1(第1のCMOS電流ミラー回路)及
びCM2(第2のCMOS電流ミラー回路)に供給される。
The collectors of the transistors T4 and T5 are coupled to the ground potential of the circuit, and load resistors R3 and R4 are provided between the respective emitters and the power supply voltage Vee of the circuit. These transistors T4 and T5, together with the corresponding load resistors R3 and R4, form an emitter follower circuit. Transistor T4
The emitter voltages of T5 and T5 are output as the output signal of the current switch circuit CS1, that is, the complementary output signals x0 and ▼, respectively, and the corresponding current mirror circuits CM1 (first CMOS current mirror circuit) and CM2 (second CMOS current mirror circuit) Supplied to

バイポーラ電流スイッチ回路CS1は、トランジスタT3
のベースに与えられる参照電位Vbbを論理スレッシホル
ドレベルとするレベル判定動作を行う。すなわち、Xア
ドレス信号AX0がECLレベルのハイレベルとされ、そのレ
ベルがトランジスタT2のベースにおいて上記参照電位Vb
bを超えると、トランジスタT2のコレクタ電流は大きく
なる。このとき、トランジスタT3のコレクタ電流は逆に
小さくなり、結果的にトランジスタT3はカットオフ状態
となる。したがって、トランジスタT3のコレクタ電圧は
回路の接地電位のようなハイレベルとなり、トランジス
タT2のコレクタ電圧は電流源IS2の電流値I2と抵抗R1に
よって決まる所定のロウレベルとなる。一方、Xアドレ
ス信号AX0がECLレベルのロウレベルとされ、そのレベル
がトランジスタT2のベースにおいて上記参照電位Vbbよ
り低くなると、トランジスタT3のコレクタ電流が大きく
なる。このとき、トランジスタT2のコレクタ電流は逆に
小さくなり、結果的にトランジスタT2はカットオフ状態
となる。したがって、トランジスタT2のコレクタ電圧は
ほぼ回路の接地電位のようなハイレベルとなり、トラン
ジスタT3のコレクタ電圧は電流源IS2の電流値I2と抵抗R
2によって決まる所定のロウレベルとなる。差動トラン
ジスタT2・T3のコレクタ電圧は、さらにエミッタフォロ
ア回路を構成するトランジスタT4及びT5のベース・エミ
ッタ電圧分だけ低くされ、上記相補出力信号x0・▲
▼とされる。
The bipolar current switch circuit CS1 includes the transistor T3
A level determination operation is performed in which the reference potential Vbb applied to the base is set to a logic threshold level. That is, the X address signal AX0 is set to the high level of the ECL level, and the level is set to the reference potential Vb at the base of the transistor T2.
Above b, the collector current of transistor T2 increases. At this time, on the contrary, the collector current of the transistor T3 decreases, and as a result, the transistor T3 is cut off. Accordingly, the collector voltage of the transistor T3 is at the high level such as the ground potential of the circuit, the collector voltage of the transistor T2 is a predetermined low level determined by the current value I 2 and the resistance R1 of the current source IS2. On the other hand, when the X address signal AX0 is set to the low level of the ECL level and becomes lower than the reference potential Vbb at the base of the transistor T2, the collector current of the transistor T3 increases. At this time, on the contrary, the collector current of the transistor T2 decreases, and as a result, the transistor T2 is cut off. Accordingly, the collector voltage of the transistor T2 becomes substantially circuit high level such as the ground potential, the collector voltage of the transistor T3 and the current value I 2 of the current source IS2 resistor R
It becomes a predetermined low level determined by 2. The collector voltages of the differential transistors T2 and T3 are further reduced by the base-emitter voltages of the transistors T4 and T5 constituting the emitter follower circuit, and the complementary output signal x0.

電流スイッチ回路CS1の相補出力信号x0・▲▼
は、電流ミラー回路CM1を構成するPチャンネルMOSFETQ
1及びQ2のゲートにそれぞれ供給される。また、非反転
及び反転信号線が交差されることによって反転された
後、もう一つの電流ミラー回路CM2を構成するPチャン
ネルMOSFETQ3及びQ4のゲートにそれぞれ供給される。
Complementary output signal x0, ▲ ▼ of current switch circuit CS1
Is the P-channel MOSFET Q that constitutes the current mirror circuit CM1
It is supplied to the gates of 1 and Q2, respectively. After being inverted by crossing the non-inverting and inverting signal lines, they are supplied to the gates of P-channel MOSFETs Q3 and Q4 constituting another current mirror circuit CM2.

電流ミラー回路CM1のMOSFETQ1(第1のMOSFET)及びQ
2(第3のMOSFET)のソースは、回路の接地電位に結合
される。MOSFETQ1のドレインと回路の電源電圧Veeとの
間には、そのゲートとドレインが共通結合されることに
よってダイオード形態とされるNチャンネルMOSFETQ21
(第2のMOSFET)が設けられる。また、MOSFETQ2のドレ
インと回路の接地電位との間には、上記MOSFETQ21と電
流ミラー形態とされるNチャンネルMOSFETQ22(第4のM
OSFET)が設けられる。MOSFETQ2及びQ20の共通結合され
たドレインの電圧は、この電流ミラー回路CM1の出力信
号すなわち反転出力信号▲▼とされる。
MOSFET Q1 (first MOSFET) and Q of current mirror circuit CM1
The source of 2 (third MOSFET) is coupled to the ground potential of the circuit. Between the drain of MOSFET Q1 and the power supply voltage Vee of the circuit, an N-channel MOSFET Q21 having a gate and a drain connected in common to form a diode is provided.
(A second MOSFET) is provided. Further, between the drain of the MOSFET Q2 and the ground potential of the circuit, the MOSFET Q21 and the N-channel MOSFET Q22 (the fourth M
OSFET) is provided. The voltage at the drains of the MOSFETs Q2 and Q20 that are commonly coupled is used as the output signal of the current mirror circuit CM1, that is, the inverted output signal ▼.

電流スイッチ回路CS1から出力される相補内部信号x0
・▲▼が論理“0"すなわち反転内部信号▲▼が
ハイレベルとされ非反転内部信号x0がロウレベルとされ
るとき、MOSFETQ1のコンダクタンスは小さくされ、その
ドレイン電流が小さくされる。このドレイン電流は、電
流ミラー形態とされるMOSFETQ21及びQ22によって伝達さ
れ、結果的にMOSFETQ22のコンダクタンスが小さくされ
る。MOSFETQ2は、そのゲート電圧が高くされることで、
そのコンダクタンスが逆に大きくされる。これにより、
電流ミラー回路CM1の反転出力信号▲▼は、ほぼ
回路の接地電位のようなMOSレベルのハイレベルとな
る。
Complementary internal signal x0 output from current switch circuit CS1
When ▲ is a logic “0”, that is, when the inverted internal signal ▼ is at a high level and the non-inverted internal signal x0 is at a low level, the conductance of the MOSFET Q1 is reduced and its drain current is reduced. This drain current is transmitted by the MOSFETs Q21 and Q22 in the form of a current mirror, and as a result, the conductance of the MOSFET Q22 is reduced. MOSFET Q2 has its gate voltage raised,
On the contrary, its conductance is increased. This allows
The inverted output signal ▼ of the current mirror circuit CM1 is almost at the high level of the MOS level such as the ground potential of the circuit.

一方、上記相補内部信号x0・▲▼が論理“1"にな
ると、上記とは逆の動作が行われ、電流ミラー回路CM1
の反転出力信号▲▼はほぼ回路の電源電圧Veeの
ようなMOSレベルのロウレベルとなる。
On the other hand, when the complementary internal signal x0 • ▲ ▼ becomes logic “1”, the reverse operation is performed, and the current mirror circuit CM1
Is almost at the low level of the MOS level like the power supply voltage Vee of the circuit.

電流ミラー回路CM2は、上記電流ミラー回路CM1と全く
同一の回路構成とされ、電流ミラー回路CM1と相補的な
動作を行う。電流ミラー回路CM2は、上記相補内部信号x
0・▲▼が反転されて供給されることによって、上
記反転出力信号▲▼と相補的なレベルのされる非
反転出力信号cx0を形成する。
The current mirror circuit CM2 has exactly the same circuit configuration as the current mirror circuit CM1, and performs an operation complementary to the current mirror circuit CM1. The current mirror circuit CM2 detects the complementary internal signal x
The non-inverted output signal cx0 having a level complementary to the inverted output signal ▼ is formed by inverting and supplying 0 供給.

電流ミラー回路CM1の反転出力信号▲▼は、対
応するアドレス分配回路AD1(第1のバイポーラ・CMOS
複合駆動回路)のCMOSインバータ回路を構成するPチャ
ンネルMOSFETQ5及びNチャンネルMOSFETQ25のゲートに
供給され、さらにNチャンネルMOSFETQ26(第5のMOSFE
T)のゲートに供給される。また、他方のアドレス分配
回路AD2(第2のバイポーラ・CMOS複合駆動回路)のCMO
Sインバータ回路を構成するPチャンネルMOSFETQ6のソ
ースすなわち電源電圧端子に供給される。同様に、電流
ミラー回路CM2の非反転出力信号cx0は、対応するアドレ
ス分配回路AD2のCMOSインバータ回路を構成するPチャ
ンネルMOSFETQ6及びNチャンネルMOSFETQ28のゲートに
供給され、さらにNチャンネルMOSFETQ29(第5のMOSFE
T)のゲートに供給される。また、他方のアドレス分配
回路AD1のCMOSインバータ回路を構成するPチャンネルM
OSFETQ5のソースすなわち電源電圧端子に供給される。
The inverted output signal ▲ ▼ of the current mirror circuit CM1 is output from the corresponding address distribution circuit AD1 (first bipolar CMOS
It is supplied to the gates of a P-channel MOSFET Q5 and an N-channel MOSFET Q25 constituting a CMOS inverter circuit of a composite drive circuit, and is further supplied to an N-channel MOSFET Q26 (a fifth MOSFET).
T) is supplied to the gate. Also, the CMO of the other address distribution circuit AD2 (second bipolar / CMOS composite drive circuit)
It is supplied to the source of the P-channel MOSFET Q6 constituting the S inverter circuit, that is, the power supply voltage terminal. Similarly, the non-inverted output signal cx0 of the current mirror circuit CM2 is supplied to the gates of the P-channel MOSFET Q6 and the N-channel MOSFET Q28 constituting the CMOS inverter circuit of the corresponding address distribution circuit AD2, and the N-channel MOSFET Q29 (the fifth MOSFE
T) is supplied to the gate. Also, a P-channel M constituting the CMOS inverter circuit of the other address distribution circuit AD1 is used.
It is supplied to the source of OSFET Q5, that is, the power supply voltage terminal.

アドレス分配回路AD1のMOSFETQ5及びQ25の共通結合さ
れたドレインは、出力バイポーラトランジスタT6(第1
のバイポーラトランジスタ)のベースに結合される。ト
ランジスタT6のコレクタは、回路の接地電位に結合され
る。トランジスタT6のエミッタと回路の電源電圧Veeと
の間には、出力バイポーラトランジスタT7(第2のバイ
ポーラトランジスタ)が設けられる。トランジスタT7の
ベースは、上記MOSFETQ26のソースに結合される。トラ
ンジスタT7のベースと回路の電源電圧Veeとの間には、
NチャンネルMOSFETQ27(第6のMOSFET)が設けられ
る。MOSFETQ26のドレインは、MOSFETQ27のゲートに結合
され、さらにトランジスタT7のコレクタに共通結合され
る。トランジスタT7のコレクタ電圧は、このアドレス分
配回路AD1の出力信号すなわち非反転内部アドレス信号a
x0としてXアドレスデコーダXDCRに供給される。
The commonly coupled drains of the MOSFETs Q5 and Q25 of the address distribution circuit AD1 are connected to the output bipolar transistor T6 (first
Bipolar transistor). The collector of transistor T6 is coupled to the circuit's ground potential. An output bipolar transistor T7 (second bipolar transistor) is provided between the emitter of the transistor T6 and the power supply voltage Vee of the circuit. The base of transistor T7 is coupled to the source of MOSFET Q26. Between the base of the transistor T7 and the power supply voltage Vee of the circuit,
An N-channel MOSFET Q27 (sixth MOSFET) is provided. The drain of MOSFET Q26 is coupled to the gate of MOSFET Q27 and is commonly coupled to the collector of transistor T7. The collector voltage of the transistor T7 is equal to the output signal of the address distribution circuit AD1, that is, the non-inverted internal address signal a.
It is supplied to the X address decoder XDCR as x0.

同様に、アドレス分配回路AD2のMOSFETQ6及びQ28の共
通結合されたドレインは、出力バイポーラトランジスタ
T8(第1のバイポーラトランジスタ)のベースに結合さ
れる。トランジスタT8のコレクタは、回路の接地電位に
結合される。トランジスタT8のエミッタと回路の電源電
圧Veeとの間には、出力バイポーラトランジスタT9(第
2のバイポーラトランジスタ)が設けられる。トランジ
スタT9のベースは、上記MOSFETQ29のソースに結合され
る。トランジスタT9のベースと回路の電源電圧Veeとの
間には、NチャンネルMOSFETQ30(第6のMOSFET)が設
けられる。MOSFETQ29のドレインは、MOSFETQ30のゲート
に結合され、さらにトランジスタT9のコレクタに共通結
合される。トランジスタT9のコレクタ電圧は、このアド
レス分配回路AD2の出力信号すなわち反転内部アドレス
信号▲▼としてXアドレスデコーダXDCRに供給さ
れる。
Similarly, the commonly coupled drains of MOSFETs Q6 and Q28 of address distribution circuit AD2 are output bipolar transistors.
It is coupled to the base of T8 (first bipolar transistor). The collector of transistor T8 is coupled to the circuit's ground potential. An output bipolar transistor T9 (second bipolar transistor) is provided between the emitter of the transistor T8 and the power supply voltage Vee of the circuit. The base of transistor T9 is coupled to the source of MOSFET Q29. An N-channel MOSFET Q30 (sixth MOSFET) is provided between the base of the transistor T9 and the power supply voltage Vee of the circuit. The drain of MOSFET Q29 is coupled to the gate of MOSFET Q30 and is commonly coupled to the collector of transistor T9. The collector voltage of the transistor T9 is supplied to the X address decoder XDCR as an output signal of the address distribution circuit AD2, that is, an inverted internal address signal ▼.

Xアドレス信号AX0が論理“1"とされ、電流ミラー回
路CM1の反転出力信号▲▼がロウレベルまたは電
流ミラー回路CM2の非反転出力信号cx0がハイレベルとさ
れるとき、CMOSインバータ回路を構成するMOSFETQ5は、
そのソースが回路の接地電位のようなハイレベルとされ
そのゲートが回路の電源電圧Veeのようなロウレベルと
されることで、オン状態となる。したがって、トランジ
スタT6のベース電圧はハイレベルとなり、トランジスタ
T6がオン状態となる。このとき、MOSFETQ26はオフ状態
となり、トランジスタT7はそのベース電流が遮断される
ことによってそのコレクタ電流が小さくされる。これに
より、トランジスタT7のコレクタ電圧が上昇し、MOSFET
Q27がオン状態となる。MOSFETQ27がオン状態となること
で、トランジスタT7は、そのベース容量が回路の電源電
圧Veeのようなロウレベルにディスチャージされ、カッ
トオフ状態となる。これにより、トランジスタT7のコレ
クタ電圧すなわち非反転内部アドレス信号ax0は回路の
接地電位のようなハイレベルとされる。
When the X address signal AX0 is set to logic “1” and the inverted output signal ▲ ▼ of the current mirror circuit CM1 is low level or the non-inverted output signal cx0 of the current mirror circuit CM2 is high level, the MOSFET Q5 constituting the CMOS inverter circuit Is
The source is set to a high level such as the ground potential of the circuit, and the gate is set to a low level such as the power supply voltage Vee of the circuit, thereby turning on the circuit. Therefore, the base voltage of the transistor T6 becomes high level,
T6 is turned on. At this time, the MOSFET Q26 is turned off and the base current of the transistor T7 is cut off, so that the collector current is reduced. This causes the collector voltage of the transistor T7 to rise,
Q27 turns on. When the MOSFET Q27 is turned on, the transistor T7 has its base capacitance discharged to a low level such as the power supply voltage Vee of the circuit, and is turned off. As a result, the collector voltage of the transistor T7, that is, the non-inverted internal address signal ax0 is set to a high level such as the ground potential of the circuit.

アドレス分配回路AD2では、電流ミラー回路CM1の反転
出力信号▲▼がロウレベルとされ電流ミラー回路
CM2の非反転出力信号cx0がハイレベルとされることで、
CMOSインバータ回路を構成するNチャンネルMOSFETQ28
が、PチャンネルMOSFETQ6のソース電圧がロウレベルで
あるにもかかわらず、オン状態となる。したがって、ト
ランジスタT8のベース電圧はロウレベルとなり、トラン
ジスタT8はカットオフ状態となる。このとき、MOSFETQ2
9がオン状態となり、トランジスタT9及びMOSFETQ30が、
トランジスタT9のコレクタ電圧が充分低下するまでの間
一時的にオン状態となる。これにより、トランジスタT9
のコレクタ電圧すなわち反転内部アドレス信号▲
▼は回路の電源電圧Veeのようなロウレベルとなる。
In the address distribution circuit AD2, the inverted output signal ▲ ▼ of the current mirror circuit CM1 is set to low level,
By setting the non-inverted output signal cx0 of CM2 to high level,
N-channel MOSFET Q28 for CMOS inverter circuit
However, although the source voltage of the P-channel MOSFET Q6 is at a low level, the transistor is turned on. Therefore, the base voltage of the transistor T8 becomes low level, and the transistor T8 is cut off. At this time, MOSFET Q2
9 turns on, and the transistor T9 and the MOSFET Q30
The transistor T9 is temporarily turned on until the collector voltage of the transistor T9 sufficiently decreases. This allows the transistor T9
Collector voltage, that is, the inverted internal address signal ▲
▼ indicates a low level like the power supply voltage Vee of the circuit.

一方、Xアドレス信号AX0が論理“0"になると、電流
ミラー回路CM1の反転出力信号▲▼がハイレベル
とされ、また電流ミラー回路CM2の非反転出力信号cx0が
ロウレベルとされる。これにより、上記アドレス分配回
路AD1及びAD2は、それぞれ上述の動作を入れ換えて実行
する。その結果、アドレス分配回路AD1の出力信号すな
わち非反転内部アドレス信号ax0はロウレベルとなり、
アドレス分配回路AD2の出力信号すなわち反転内部アド
レス信号▲▼はハイレベルとなる。
On the other hand, when the X address signal AX0 becomes logic “0”, the inverted output signal ▼ of the current mirror circuit CM1 is set to the high level, and the non-inverted output signal cx0 of the current mirror circuit CM2 is set to the low level. As a result, the address distribution circuits AD1 and AD2 execute the operations described above, respectively. As a result, the output signal of the address distribution circuit AD1, that is, the non-inverted internal address signal ax0 becomes low level,
The output signal of the address distribution circuit AD2, that is, the inverted internal address signal ▼ becomes high level.

ところで、なんらかの理由によって、Xアドレス信号
AX0がECLレベルの中間レベルとなり、トランジスタT2の
ベースにおいて参照電位Vbbと同一のレベルになると、
電流スイッチ回路CS1の相補内部信号x0・▲▼はと
もに同様な中間レベルとなる。これにより、CMOS電流ミ
ラー回路CM1及びCM2の反転出力信号▲▼及び非反
転出力信号cx0も同様な中間レベルとなる。前述のよう
に、これらの反転出力信号▲▼及び非反転出力信
号cx0は、対応するアドレス分配回路AD1及びAD2のCMOS
インバータ回路の入力端子にそれぞれ供給されるととも
に、他方のアドレス分配回路AD2及びAD1のCMOSインバー
タ回路のPチャンネルMOSFET側の電源電圧端子にそれぞ
れ供給される。
By the way, for some reason, the X address signal
When AX0 becomes an intermediate level of the ECL level and becomes the same level as the reference potential Vbb at the base of the transistor T2,
Both complementary internal signals x0 and ▼ of the current switch circuit CS1 have the same intermediate level. As a result, the inverted output signal ▼ and the non-inverted output signal cx0 of the CMOS current mirror circuits CM1 and CM2 also have the same intermediate level. As described above, the inverted output signal ▼ and the non-inverted output signal cx0 are output to the CMOS of the corresponding address distribution circuits AD1 and AD2.
In addition to being supplied to the input terminals of the inverter circuit, they are also supplied to the power supply voltage terminals on the P-channel MOSFET side of the CMOS inverter circuits of the other address distribution circuits AD2 and AD1.

アドレス分配回路AD1及びAD2では、電流ミラー回路CM
1及びCM2から供給される反転出力信号▲▼及び非
反転出力信号cx0がともに中間レベルとなることで、CMO
Sインバータ回路を構成するNチャンネルMOSFETQ25及び
Q28がオン状態となる。ところが、一方のPチャンネルM
OSFETQ5及びQ6は、そのソース電圧が同様に中間レベル
となることで、ゲート・ソース間電圧が0Vとなり、結局
オフ状態のままとなる。これにより、トランジスタT6及
びT8のベース電圧は回路の電源電圧Veeのようなロウレ
ベルとなり、トランジスタT6及びT8はともにカットオフ
状態となる。MOSFETQ26及びQ29は、反転出力信号▲
▼及び非反転出力信号cx0が中間レベルとなることで
ウィークリーなオン状態となる。このため、トランジス
タT7及びT9が同様にウィークリーなオン状態となるが、
トランジスタT6及びT8がカットオフ状態であるため、ト
ランジスタT6及びT7あるいはトランジスタT8及びT9によ
る貫通電流は流れない。つまり、この実施例のバイポー
ラ・CMOS型RAMでは、Xアドレス信号AX0が中間レベルと
された場合でも、上述のようなラッチアップは発生しな
い。
In the address distribution circuits AD1 and AD2, the current mirror circuit CM
When the inverted output signal ▲ ▼ and the non-inverted output signal cx0 supplied from 1 and CM2 are both at the intermediate level, the CMO
N-channel MOSFET Q25 that constitutes the S inverter circuit and
Q28 turns on. However, one P channel M
The OSFETs Q5 and Q6 have their source voltages similarly at the intermediate level, so that the gate-source voltage becomes 0V, and eventually remains off. As a result, the base voltages of the transistors T6 and T8 become low levels like the power supply voltage Vee of the circuit, and the transistors T6 and T8 are both cut off. MOSFETs Q26 and Q29 output inverted signal ▲
▼ and the non-inverted output signal cx0 attain an intermediate level, thereby turning on a weekly ON state. Therefore, the transistors T7 and T9 are similarly turned on weekly,
Since the transistors T6 and T8 are in the cutoff state, no through current flows through the transistors T6 and T7 or the transistors T8 and T9. That is, in the bipolar CMOS type RAM of this embodiment, even when the X address signal AX0 is set to the intermediate level, the above-described latch-up does not occur.

以上のように、この実施例のバイポーラ・CMOS型RAM
には、各入力端子に対応して、電流スイッチ回路,CMOS
電流ミラー回路及びバイポーラ・CMOS複合駆動回路とか
らなる入力バッファが設けられる。各入力バッファにお
いて、CMOS電流ミラー回路の出力信号は、対応する一方
のバイポーラ・CMOS複合駆動回路に対する入力信号とし
て供給されるとともに、対応する他方のバイポーラ・CM
OS複合駆動回路のCMOSインバータ回路のPチャンネルMO
SFET側の電源電圧端子に供給される。このため、入力信
号がECLレベルの中間レベルとなり各電流ミラー回路の
出力信号がともに中間レベルとされる場合でも、バイポ
ーラ・CMOS複合駆動回路のCMOSインバータ回路の出力信
号はロウレベルに確定される。これにより、トーテムポ
ール接続される二つの出力トランジスタを介する貫通電
流は防止され、CMOSインバータ回路のラッチアップは防
止されるものである。
As described above, the bipolar CMOS type RAM of this embodiment
Has a current switch circuit and CMOS for each input terminal.
An input buffer including a current mirror circuit and a bipolar / CMOS composite driving circuit is provided. In each input buffer, the output signal of the CMOS current mirror circuit is supplied as an input signal to one corresponding bipolar / CMOS composite drive circuit, and the corresponding other bipolar / CM
P channel MO of CMOS inverter circuit of OS composite drive circuit
It is supplied to the power supply voltage terminal on the SFET side. For this reason, even when the input signal is at an intermediate level of the ECL level and the output signals of the current mirror circuits are both at the intermediate level, the output signal of the CMOS inverter circuit of the bipolar / CMOS composite drive circuit is fixed at the low level. This prevents through current through the two output transistors connected in totem pole connection, thereby preventing latch-up of the CMOS inverter circuit.

以上の本実施例に示されるように、この発明をECLイ
ンタフェースのバイポーラ・CMOS型RAM等の半導体記憶
装置に適用した場合、次のような効果が得られる。すな
わち、 (1)入力バッファのバイポーラ・CMOS複合駆動回路の
一方の出力トランジスタのベースと対応する一方のCMOS
電流ミラー回路の出力端子との間に設けられるCMOSイン
バータ回路のPチャンネルMOSFET側の電源電圧端子を、
対応する他方のCMOS電流ミラー回路の出力端子に結合す
ることで、入力信号が中間レベルとされCMOS電流ミラー
回路の出力信号がともに中間レベルとされるとき、CMOS
インバータ回路のPチャンネルMOSFETをオフ状態とし、
CMOSインバータ回路の出力信号をロウレベルに確定でき
るという効果が得られる。
As shown in the present embodiment, when the present invention is applied to a semiconductor memory device such as an ECL interface bipolar CMOS RAM, the following effects can be obtained. (1) One CMOS corresponding to the base of one output transistor of the bipolar / CMOS composite drive circuit of the input buffer
The power supply voltage terminal on the P-channel MOSFET side of the CMOS inverter circuit provided between the output terminal of the current mirror circuit and
When the input signal is set to an intermediate level and both output signals of the CMOS current mirror circuit are set to the intermediate level by coupling to the output terminal of the corresponding other CMOS current mirror circuit, the CMOS
Turn off the P-channel MOSFET of the inverter circuit,
The effect is obtained that the output signal of the CMOS inverter circuit can be fixed at a low level.

(2)上記(1)項により、バイポーラ・CMOS複合駆動
回路のトーテムポール接続される一方の出力トランジス
タを確実にカットオフ状態とすることができ、これらの
出力トランジスタによる貫通電流を防止できるという効
果が得られる。
(2) According to the above item (1), one of the output transistors connected to the totem pole of the bipolar / CMOS composite driving circuit can be reliably cut off, and the through current by these output transistors can be prevented. Is obtained.

(3)上記(1)項及び(2)項により、バイポーラ・
CMOS複合駆動回路のCMOSインバータ回路のラッチアップ
を防止できるという効果が得られる。
(3) According to paragraphs (1) and (2) above,
The effect is obtained that the latch-up of the CMOS inverter circuit of the CMOS composite drive circuit can be prevented.

(4)上記(1)項〜(3)項により、上記のような入
力バッファを含むバイポーラ・CMOS型RAM等の誤動作を
防止し、その信頼性を向上できるという効果が得られ
る。
(4) According to the above items (1) to (3), it is possible to prevent a malfunction of a bipolar CMOS type RAM or the like including the input buffer as described above, and to obtain an effect of improving the reliability.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき
具体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定され
るものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更
可能であることはいうまでもない。例えば、第1図の回
路図において、バイポーラ電流スイッチ回路CS1は、ト
ランジスタT2と並列形態に複数のトランジスタが設けら
れることで、複数入力の論理ゲート回路形態とされるも
のであってもよい。また、入力レベルシフト回路及びバ
イポーラ電流スイッチ回路は、さらに内部信号のレベル
を補正するためのダイオード等を含むものであってもよ
い。第2図の回路ブロック図において、メモリアレイM
−ARYの各メモリセルMCを構成する抵抗R5及びR6は、P
チャンネルMOSFETに置き換えられるものであってもよ
い。また、メモリアレイM−ARYは、複数のメモリマッ
トによって構成されるものであってもよいし、このとき
各アドレスデコーダは複数のメモリマットによって共用
されることもよい。さらに、第1図に示されるXアドレ
スバッファXADBの具体的な回路構成や、第2図に示され
るバイポーラ・CMOS型RAMのブロック構成及び制御信
号,アドレス信号等の組み合わせなど、種々の実施形態
を採りうる。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiments, the invention is not limited to the above-described embodiments, and various changes can be made without departing from the gist of the invention. Nor. For example, in the circuit diagram of FIG. 1, the bipolar current switch circuit CS1 may be configured as a multiple-input logic gate circuit by providing a plurality of transistors in parallel with the transistor T2. Further, the input level shift circuit and the bipolar current switch circuit may further include a diode or the like for correcting the level of the internal signal. In the circuit block diagram of FIG.
The resistances R5 and R6 of each memory cell MC of −ARY are P
It may be replaced with a channel MOSFET. Further, the memory array M-ARY may be configured by a plurality of memory mats, and at this time, each address decoder may be shared by the plurality of memory mats. Further, various embodiments such as a specific circuit configuration of the X address buffer XADB shown in FIG. 1, a block configuration of the bipolar CMOS type RAM shown in FIG. 2, and a combination of control signals, address signals, and the like are described. Can be taken.

以上の説明では主として本発明者によってなされた発
明をその背景となった利用分野であるバイポーラ・CMOS
型RAMのXアドレスバッファXADBに適用した場合につい
て説明したが、それに限定されるものではなく、例え
ば、バイポーラ・CMOS型RAMのYアドレスバッファYADB
やその他の入力回路又は同様な入力バッファを含む各種
の半導体記憶装置にも適用できる。本発明は、少なくと
もバイポーラ電流スイッチ回路とCMOS電流ミラー回路及
びバイポーラ・CMOS複合駆動回路とからなる入力バッフ
ァを含む半導体記憶装置及びこのような半導体記憶装置
を含むディジタル装置に広く適用できる。
In the above description, the invention made by the present inventor has been mainly applied to the bipolar / CMOS
The case where the present invention is applied to the X address buffer XADB of the type RAM has been described. However, the present invention is not limited to this. For example, the Y address buffer YADB of the bipolar CMOS type RAM may be used.
And other types of semiconductor memory devices including an input circuit or a similar input buffer. INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be widely applied to a semiconductor memory device including an input buffer including at least a bipolar current switch circuit, a CMOS current mirror circuit, and a bipolar / CMOS composite drive circuit, and a digital device including such a semiconductor memory device.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによ
って得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりで
ある。すなわち、入力バッファのバイポーラ・CMOS複合
駆動回路の一方の出力トランジスタのベースと対応する
一方のCMOS電流ミラー回路の出力端子との間に設けられ
るCMOSインバータ回路のPチャンネルMOSFET側の電源電
圧端子を、対応する他方のCMOS電流ミラー回路の出力端
子に結合することで、入力信号が中間レベルとされると
き、CMOSインバータ回路の出力信号をロウレベルに確定
できるため、バイポーラ・CMOS複合駆動回路の貫通電流
を防止し、そのCMOSインバータ回路のラッチアップを防
止できるものである。
The effects obtained by the representative inventions among the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, the power supply voltage terminal on the P-channel MOSFET side of the CMOS inverter circuit provided between the base of one output transistor of the bipolar / CMOS composite drive circuit of the input buffer and the output terminal of the corresponding one of the CMOS current mirror circuits, By coupling to the output terminal of the other corresponding CMOS current mirror circuit, the output signal of the CMOS inverter circuit can be determined to be low level when the input signal is at the intermediate level, so the through current of the bipolar / CMOS composite drive circuit can be reduced. This prevents the CMOS inverter circuit from latching up.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は、この発明が適用されたバイポーラ・CMOS型RA
MのXアドレスバッファの一実施例を示す回路図、 第2図は、第1図のXアドレスバッファを含むバイポー
ラ・CMOS型RAMの一実施例のブロック図、 第3図は、従来のバイポーラ・CMOS型RAMのラッチアッ
プを説明するための断面図、 第4図は、従来のバイポーラ・CMOS型RAMのXアドレス
バッファの一例を示す回路図である。 XADB……Xアドレスバッファ、CS1〜……バイポーラ電
流スイッチ回路、CM1,CM2……CMOS電流ミラー回路、AD1
〜AD4……アドレス分配回路。 T1〜T13……NPN型バイポーラトランジスタ、Q1〜Q16…
…PチャンネルMOSFET、Q21〜Q44……NチャンネルMOSF
ET、R1〜R6……抵抗、N1,N2……CMOSインバータ回路、I
S1,IS2……定電流源。 M−ARY……メモリアレイ、MC……メモリセル、CSW……
カラムスイッチ、XDCR……Xアドレスデコーダ、YDCR…
…Yアドレスデコーダ、YADB……Yアドレスバッファ、
SA……センスアンプ、DOB……データ出力バッファ、WA
……ライトアンプ、DIB……データ入力バッファ、TC…
…チップ制御回路。 PSUB……P型半導体基板、Nwell……N型ウェル領域、P
well……P型ウェル領域、PIs……P型アイソレーショ
ン、NBL……N型埋込層、Tcs……寄生トランジスタ、Ts
n,Tsp……寄生サイリスタ、Rss……基板抵抗、Rcs……
寄生抵抗。
FIG. 1 shows a bipolar CMOS type RA to which the present invention is applied.
FIG. 2 is a circuit diagram showing an embodiment of an X address buffer of M, FIG. 2 is a block diagram of an embodiment of a bipolar CMOS type RAM including the X address buffer of FIG. 1, and FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view for explaining latch-up of a CMOS type RAM. FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of an X address buffer of a conventional bipolar CMOS type RAM. XADB: X address buffer, CS1-: Bipolar current switch circuit, CM1, CM2: CMOS current mirror circuit, AD1
~ AD4 ... Address distribution circuit. T1-T13 …… NPN type bipolar transistor, Q1-Q16…
... P-channel MOSFET, Q21-Q44 ... N-channel MOSF
ET, R1 to R6: resistor, N1, N2: CMOS inverter circuit, I
S1, IS2: Constant current source. M-ARY: Memory array, MC: Memory cell, CSW ...
Column switch, XDCR ... X address decoder, YDCR ...
... Y address decoder, YADB ... Y address buffer,
SA: Sense amplifier, DOB: Data output buffer, WA
…… Write amplifier, DIB …… Data input buffer, TC…
... Chip control circuit. PSUB: P-type semiconductor substrate, Nwell: N-type well region, P
well: P-type well region, PIs: P-type isolation, NBL: N-type buried layer, Tcs: Parasitic transistor, Ts
n, Tsp …… parasitic thyristor, Rss …… substrate resistance, Rcs ……
Parasitic resistance.

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】入力信号のレベルを所定の参照電位に従っ
て判定するバイポーラ電流スイッチ回路と、上記バイポ
ーラ電流スイッチ回路の相補出力信号及びその反転信号
をそれぞれ受ける第1及び第2のCMOS電流ミラー回路
と、上記第1及び第2のCMOS電流ミラー回路に対応して
設けられ第1及び第2の電源電圧の間に直列形態に設け
られる第1及び第2のバイポーラトランジスタと対応す
る一方のCMOS電流ミラー回路の出力端子と上記第1のバ
イポーラトランジスタのベースとの間に設けられその電
源電圧端子に対応する他方のCMOS電流ミラー回路の出力
信号を受けるCMOSインバータ回路とをそれぞれ含む第1
及び第2のバイポーラ・CMOS複合駆動回路とを含む入力
バッファを具備することを特徴とする半導体記憶装置。
A bipolar current switch circuit for determining a level of an input signal according to a predetermined reference potential; first and second CMOS current mirror circuits for respectively receiving a complementary output signal of the bipolar current switch circuit and an inverted signal thereof; One CMOS current mirror corresponding to the first and second bipolar transistors provided in correspondence with the first and second CMOS current mirror circuits and provided in series between the first and second power supply voltages A CMOS inverter circuit provided between the output terminal of the circuit and the base of the first bipolar transistor and receiving an output signal of the other CMOS current mirror circuit corresponding to the power supply voltage terminal;
And a second bipolar / CMOS composite driving circuit.
【請求項2】上記第1及び第2のCMOS電流ミラー回路
は、そのソースに第1の電源電圧を受けそのゲートに対
応する上記バイポーラ電流スイッチ回路の反転出力信号
又は非反転出力信号を受ける第1導電型の第1のMOSFET
と、上記第1のMOSFETのドレインと第2の電源電圧との
間に設けられダイオード形態とされる第2導電型の第2
のMOSFETと、その出力ノードと第1の電源電圧との間に
設けられそのゲートに対応する上記バイポーラ電流スイ
ッチ回路の非反転出力信号又は反転出力信号を受ける第
1導電型の第3のMOSFETと、上記出力ノードと第2の電
源電圧との間に設けられ上記第2のMOSFETと電流ミラー
形態とされる第2導電型の第4のMOSFETとをそれぞれ含
むものであり、上記第1及び第2のバイポーラ・CMOS複
合駆動回路は、さらに上記第2のバイポーラトランジス
タのコレクタとベースとの間に設けられそのゲートに対
応する上記CMOS電流ミラー回路の出力信号を受ける第2
導電型の第5のMOSFETと、上記第2のバイポーラトラン
ジスタのベースと第2の電源電圧との間に設けられその
ゲートが上記第2のバイポーラトランジスタのコレクタ
に結合される第2導電型の第6のMOSFETとをそれぞれ含
むものであることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の半導体記憶装置。
2. The first and second CMOS current mirror circuits receive a first power supply voltage at a source thereof and receive an inverted output signal or a non-inverted output signal of the bipolar current switch circuit corresponding to a gate thereof. 1st conductivity type first MOSFET
And a second conductive type second diode provided between the drain of the first MOSFET and a second power supply voltage.
And a third MOSFET of a first conductivity type provided between its output node and a first power supply voltage and receiving a non-inverted output signal or an inverted output signal of the bipolar current switch circuit corresponding to its gate. And a second MOSFET provided between the output node and a second power supply voltage, and a fourth MOSFET of a second conductivity type in a current mirror configuration. The second bipolar / CMOS composite drive circuit further includes a second bipolar transistor provided between the collector and the base of the second bipolar transistor for receiving an output signal of the CMOS current mirror circuit corresponding to the gate of the second bipolar transistor.
A fifth conductive type MOSFET, a second conductive type second MOSFET provided between the base of the second bipolar transistor and a second power supply voltage, and having a gate coupled to the collector of the second bipolar transistor. 6. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein each of said semiconductor memory devices includes a MOSFET.
【請求項3】上記半導体記憶装置は、ECLインタフェー
スのバイポーラ・CMOS型RAMであることを特徴とする特
許請求の範囲第1項又は第2項記載の半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said semiconductor memory device is a bipolar CMOS type RAM having an ECL interface.
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