JP2599916B2 - 光パルス波形整形装置 - Google Patents
光パルス波形整形装置Info
- Publication number
- JP2599916B2 JP2599916B2 JP62136699A JP13669987A JP2599916B2 JP 2599916 B2 JP2599916 B2 JP 2599916B2 JP 62136699 A JP62136699 A JP 62136699A JP 13669987 A JP13669987 A JP 13669987A JP 2599916 B2 JP2599916 B2 JP 2599916B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- beam splitter
- optical pulse
- pulse waveform
- waveform shaping
- shaping device
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- Light Guides In General And Applications Therefor (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、例えば、励起条件の異なるレーザ発振器
と増幅器の間、および増幅器と増幅器の間に用い、低損
失で任意の時間空間波形をもつ光パルスを得る光パルス
波形整形装置に関するものである。
と増幅器の間、および増幅器と増幅器の間に用い、低損
失で任意の時間空間波形をもつ光パルスを得る光パルス
波形整形装置に関するものである。
［従来の技術］ 第５図は例えばレーザハンドブックの第365頁に示さ
れた従来の光パルス波形整形装置を示す構成図であり、
図において、16〜18は光パルスを多重に分岐するための
ビームスプリッタであり、19、20はこのビームスプリッ
タ16〜18により分岐された光パルスを再び合成するため
の反射鏡、および21〜23はビームスプリッタである。
れた従来の光パルス波形整形装置を示す構成図であり、
図において、16〜18は光パルスを多重に分岐するための
ビームスプリッタであり、19、20はこのビームスプリッ
タ16〜18により分岐された光パルスを再び合成するため
の反射鏡、および21〜23はビームスプリッタである。
次に動作について説明する。入射した光パルスを多数
のビームスプリッタ16〜18により多重に分岐し、それぞ
れに適当な位相差と減衰を与えた後、反射鏡19,20およ
びビームスプリッタ21〜23により再び合成することによ
り、所望の光パルス波形を整形して出射する。
のビームスプリッタ16〜18により多重に分岐し、それぞ
れに適当な位相差と減衰を与えた後、反射鏡19,20およ
びビームスプリッタ21〜23により再び合成することによ
り、所望の光パルス波形を整形して出射する。
［発明が解決しようとする問題点］ 従来の光パルス波形整形装置は、以上のように構成さ
れているので、例えば、ビームスプリッタ17により反射
された光パルスの一部は、ビームスプリッタ21を透過し
光パルスエネルギーの損失となり、また反射鏡20により
反射された光パルスの一部は、ビームスプリッタ21で反
射されて光パルスエネルギーの損失となるなどの問題点
があった。
れているので、例えば、ビームスプリッタ17により反射
された光パルスの一部は、ビームスプリッタ21を透過し
光パルスエネルギーの損失となり、また反射鏡20により
反射された光パルスの一部は、ビームスプリッタ21で反
射されて光パルスエネルギーの損失となるなどの問題点
があった。
この発明は、上記のような問題点を解消するためにな
されたもので、ビームスプリッタで分岐された光パルス
を再び低損失で合成することができる光パルス波形整形
装置を得ることを目的とする。
されたもので、ビームスプリッタで分岐された光パルス
を再び低損失で合成することができる光パルス波形整形
装置を得ることを目的とする。
［問題点を解決するための手段］ この発明に係る光パルス波形整形装置は、入射光を２
分してその一方の分離光を目的とする方向にのみ出射す
るビームスプリッタと、その２分した他方の分離光の光
軸を前記一方の分離光の光軸に一致させるように時間的
に遅延させて再び前記ビームスプリッタに入射させる複
数の反射鏡とを備えたものである。
分してその一方の分離光を目的とする方向にのみ出射す
るビームスプリッタと、その２分した他方の分離光の光
軸を前記一方の分離光の光軸に一致させるように時間的
に遅延させて再び前記ビームスプリッタに入射させる複
数の反射鏡とを備えたものである。
［作用］ この発明におけるビームスプリッタは入射光を２分し
てその一方の分離光を目的とする方向にのみ出射するこ
とにより、光パルスエネルギーの損失が少なく安全であ
る。また、複数の反射鏡は２分した他方の分離光の光軸
を前記一方の分離光の光軸と一致させるように時間的に
遅延させて再び前記ビームスプリッタに入射させて合成
することにより、所望の光パルス波形を効率よく得るこ
とができる。
てその一方の分離光を目的とする方向にのみ出射するこ
とにより、光パルスエネルギーの損失が少なく安全であ
る。また、複数の反射鏡は２分した他方の分離光の光軸
を前記一方の分離光の光軸と一致させるように時間的に
遅延させて再び前記ビームスプリッタに入射させて合成
することにより、所望の光パルス波形を効率よく得るこ
とができる。
［発明の実施例］ 以下、この発明の一実施例を図について説明する。第
１図において、１は光パルスを分岐するためのビームス
プリッタであり、上記ビームスプリッタ１は全面にコー
ティングを施したもので、かつ基板は平行平面基板であ
り、反射面以外の面は無反射コーティングを施してあ
る。２〜５はビームスプリッタ１により分岐された光パ
ルスを時間的に遅延させて位相差を設け、ビームスプリ
ッタ１を透過した光パルスと再び合成させて所望の光パ
ルス波形を得るための全反射鏡（以下、反射鏡と称す）
である。反射鏡２〜５はすべて平面鏡で構成されてい
る。反射鏡５によって反射された光パルスの光軸は、ビ
ームスプリッタ１によって反射された光パルスの光軸
と、同一直線上にあり、再びビーススプリッタ１で反射
された光パルスの光軸は、ビームスプリッタ１を透過し
た光パルスの光軸と一致する。
１図において、１は光パルスを分岐するためのビームス
プリッタであり、上記ビームスプリッタ１は全面にコー
ティングを施したもので、かつ基板は平行平面基板であ
り、反射面以外の面は無反射コーティングを施してあ
る。２〜５はビームスプリッタ１により分岐された光パ
ルスを時間的に遅延させて位相差を設け、ビームスプリ
ッタ１を透過した光パルスと再び合成させて所望の光パ
ルス波形を得るための全反射鏡（以下、反射鏡と称す）
である。反射鏡２〜５はすべて平面鏡で構成されてい
る。反射鏡５によって反射された光パルスの光軸は、ビ
ームスプリッタ１によって反射された光パルスの光軸
と、同一直線上にあり、再びビーススプリッタ１で反射
された光パルスの光軸は、ビームスプリッタ１を透過し
た光パルスの光軸と一致する。
次に動作について説明する。光パルスをビームスプリ
ッタ１により２分し、その２分した分離光の一方、本実
施例では反射された光パルスを反射鏡２〜５によって時
間的に遅延させて適当な位相差を与えたのち再び合成す
る。この位相差はビームスプリッタ１と反射鏡2,5の間
隔、反射鏡相互の間隔および反射鏡の数を調節し、光路
長を変化させることによって所用の値を得ることができ
る。
ッタ１により２分し、その２分した分離光の一方、本実
施例では反射された光パルスを反射鏡２〜５によって時
間的に遅延させて適当な位相差を与えたのち再び合成す
る。この位相差はビームスプリッタ１と反射鏡2,5の間
隔、反射鏡相互の間隔および反射鏡の数を調節し、光路
長を変化させることによって所用の値を得ることができ
る。
なお、反射鏡５により反射された光パルスの一部は、
ビームスプリッタ１を透過するが、再び反射鏡2,3,4,5
を何回が周回したのち、いずれは出力されることにより
光学的損失とはならない。
ビームスプリッタ１を透過するが、再び反射鏡2,3,4,5
を何回が周回したのち、いずれは出力されることにより
光学的損失とはならない。
第２図は前記実施例による光パルス波形整形の例を示
すもので、７はビームスプリッタ１を透過した光パルス
の波形、８はビームスプリッタ１で反射され反射鏡２〜
５を１回周回したのちビームスプリッタ１で反射された
光パルスの波形、９はビームスプリッタ１で反射され反
射鏡２〜５を２回周回したのちビームスプリッタ１で反
射された光パルスの波形、10は前記方法により調節され
た位相差、11は整形されたパルス波形を示す。
すもので、７はビームスプリッタ１を透過した光パルス
の波形、８はビームスプリッタ１で反射され反射鏡２〜
５を１回周回したのちビームスプリッタ１で反射された
光パルスの波形、９はビームスプリッタ１で反射され反
射鏡２〜５を２回周回したのちビームスプリッタ１で反
射された光パルスの波形、10は前記方法により調節され
た位相差、11は整形されたパルス波形を示す。
第２図ａは入力する光パルスの波形、第２図ｂはビー
ムスプリッタ１の透過率を大きくした場合の整形された
光パルス波形11の例で、入力パルス波形ａに対して、光
パルの立ち上がり時間は同じで尾を引いた形状になって
いる。第２図ｃはビームスプリッタ１の透過率を小さく
した場合の整形された光パルス波形11の例で、入力パル
ス波形ａに対して、全体的になまった形状になってい
る。
ムスプリッタ１の透過率を大きくした場合の整形された
光パルス波形11の例で、入力パルス波形ａに対して、光
パルの立ち上がり時間は同じで尾を引いた形状になって
いる。第２図ｃはビームスプリッタ１の透過率を小さく
した場合の整形された光パルス波形11の例で、入力パル
ス波形ａに対して、全体的になまった形状になってい
る。
なお、上記実施例では、反射鏡２〜５を４枚構成とし
たものを示したが、第３図に示すように、反射鏡は３枚
以上ならば何枚用いても良い。また、上記実施例では、
光パルス波形整形装置の構成のみを示したが、この光パ
ルス波形整形装置を縦続接続しても良い。
たものを示したが、第３図に示すように、反射鏡は３枚
以上ならば何枚用いても良い。また、上記実施例では、
光パルス波形整形装置の構成のみを示したが、この光パ
ルス波形整形装置を縦続接続しても良い。
また、例えば、ビームスプリッタ１に部分的にコーテ
ィングを施し、または部分的に穴をあけた場合は、空間
的に整形された光パルス波形が得られる。偏光ビームス
プリッタを用いた場合、時間的に偏向の分布を持つ光パ
ルス、スペクトルビームスプリッタを用いた場合は、時
間的にスペクトルの分布をもつ光パルスが得られる。ま
た、これらを組み合わせても良い。
ィングを施し、または部分的に穴をあけた場合は、空間
的に整形された光パルス波形が得られる。偏光ビームス
プリッタを用いた場合、時間的に偏向の分布を持つ光パ
ルス、スペクトルビームスプリッタを用いた場合は、時
間的にスペクトルの分布をもつ光パルスが得られる。ま
た、これらを組み合わせても良い。
また、上記実施例において、ビームスプリッタ１の反
射面以外の面に無反射コートを施すことにより、さらに
光パルスエネルギーの損失を小さくすることができる。
射面以外の面に無反射コートを施すことにより、さらに
光パルスエネルギーの損失を小さくすることができる。
また、上記実施例において、反射鏡２〜５は、一部ま
たはすべてが平面鏡あるいは曲面鏡であっても良い。
たはすべてが平面鏡あるいは曲面鏡であっても良い。
また、上記実施例において、ビームスプリッタの基板
は、平行基板あるいはウエッジ基板、平面基板あるいは
曲面基板であっても良い。曲面基板で構成した場合、ビ
ームスプリッタの曲率を任意に設定することにより、光
パルスのビーム径を任意に設定できる。
は、平行基板あるいはウエッジ基板、平面基板あるいは
曲面基板であっても良い。曲面基板で構成した場合、ビ
ームスプリッタの曲率を任意に設定することにより、光
パルスのビーム径を任意に設定できる。
なお、第４図に示すように、ビームスプリッタ１によ
り２分した分離光の一方、本図ではビームスプリッタ１
を透過した光パルスを、反射鏡２〜５によって反射さ
せ、時間的に遅延させ適当な位相差を与えた後、ビーム
スプリッタ１により反射された光パルスと再び合成して
も上記実施例と同様の効果を奏する。
り２分した分離光の一方、本図ではビームスプリッタ１
を透過した光パルスを、反射鏡２〜５によって反射さ
せ、時間的に遅延させ適当な位相差を与えた後、ビーム
スプリッタ１により反射された光パルスと再び合成して
も上記実施例と同様の効果を奏する。
［発明の効果］ 以上のように、この発明によれば、ビームスプリッタ
で２分した一方の分離光を目的とする方向にのみ出射さ
せるので、光パルスエネルギーの損失を少なくでき、し
かも出射方向が決まっているので安全である。またビー
ムスプリッタで２分された他方の分離光はその光軸を前
記一方の分離光の光軸と一致させるように、複数の反射
鏡で反射させ時間的に遅延させて再び前記ビームスプリ
ッタに入射させるように構成したので、所望の光パルス
波形を効率よく得ることができるという効果が得られ
る。
で２分した一方の分離光を目的とする方向にのみ出射さ
せるので、光パルスエネルギーの損失を少なくでき、し
かも出射方向が決まっているので安全である。またビー
ムスプリッタで２分された他方の分離光はその光軸を前
記一方の分離光の光軸と一致させるように、複数の反射
鏡で反射させ時間的に遅延させて再び前記ビームスプリ
ッタに入射させるように構成したので、所望の光パルス
波形を効率よく得ることができるという効果が得られ
る。
第１図はこの発明の一実施例による光パルス波形整形装
置を示す構成図、第２図は光パルス波形整形装置の出力
光パルス波形の一例を示す波形図、第３図及び第４図は
この発明の他の実施例を示す構成図、第５図は従来の光
パルス波形整形装置の構成図である。 図において、１はビームスプリッタ、２〜５は反射鏡で
ある。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。
置を示す構成図、第２図は光パルス波形整形装置の出力
光パルス波形の一例を示す波形図、第３図及び第４図は
この発明の他の実施例を示す構成図、第５図は従来の光
パルス波形整形装置の構成図である。 図において、１はビームスプリッタ、２〜５は反射鏡で
ある。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。
フロントページの続き (72)発明者 原 一彦 尼崎市塚口本町８丁目１番１号 三菱電 機株式会社応用機器研究所内 (72)発明者 岩田 明彦 尼崎市塚口本町８丁目１番１号 三菱電 機株式会社応用機器研究所内 (72)発明者 植田 至宏 尼崎市塚口本町８丁目１番１号 三菱電 機株式会社応用機器研究所内 (56)参考文献 特開 昭56−111826（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−117121（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−106413（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−32065（ＪＰ，Ａ) 特開 昭50−37450（ＪＰ，Ａ)
Claims (9)
- 【請求項１】入射光を２分してその一方の分離光を目的
とする方向にのみ出射する１つのビームスプリッタと、
その２分した他方の分離光の光軸を前記一方の分離光の
光軸に一致させるように時間的に遅延させて再び前記ビ
ームスプリッタに入射させる複数の反射鏡とを備えた光
パルス波形整形装置。 - 【請求項２】前記時間的に遅延される前記他方の分離光
は、前記ビームスプリッタの反射光であることを特徴と
する特許請求の範囲（１）記載の光パルス波形整形装
置。 - 【請求項３】前記時間的に遅延される前記他方の分離光
は、前記ビームスプリッタの透過光であることを特徴と
する特許請求の範囲（１）記載の光パルス波形整形装
置。 - 【請求項４】前記ビームスプリッタに、部分的に透過率
変更手段を施したことを特徴とする特許請求の範囲
（１）から（３）のいずれかに記載の光パルス波形整形
装置。 - 【請求項５】前記ビームスプリッタを、偏光ビームスプ
リッタとしたことを特徴とする特許請求の範囲（１）か
ら（３）のいずれかに記載の光パルス波形整形装置。 - 【請求項６】前記ビームスプリッタを、スペクトルビー
ムスプリッタとしたことを特徴とする特許請求の範囲
（１）から（３）のいずれかに記載の光パルス波形整形
装置。 - 【請求項７】前記ビームスプリッタを、曲面基板とした
ことを特徴とする特許請求の範囲（１）から（６）のい
ずれかに記載の光パルス波形整形装置。 - 【請求項８】前記反射鏡の少なくとも一部を曲面鏡とし
たことを特徴とする特許請求の範囲（１）から（７）の
いずれかに記載の光パルス波形整形装置。 - 【請求項９】入射光を２分してその一方の分離光を目的
とする方向にのみ出射する１つのビームスプリッタと、
その２分した他方の分離光の光軸を前記一方の分離光の
光軸に一致させるように時間的に遅延させて再び前記ビ
ームスプリッタに入射させる複数の反射鏡とを一対と
し、この対を縦続接続したことを特徴とする特許請求の
範囲（１）から（８）のいずれかに記載の光パルス波形
整形装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62136699A JP2599916B2 (ja) | 1987-05-29 | 1987-05-29 | 光パルス波形整形装置 |
| US07/309,728 US5148318A (en) | 1987-05-29 | 1988-05-26 | Optical pulse waveform shaper |
| PCT/JP1988/000507 WO1988009521A1 (en) | 1987-05-29 | 1988-05-26 | Optical pulse waveform shaping apparatus |
| GB8901540A GB2229544B (en) | 1987-05-29 | 1989-01-25 | Optical pulse waveform shaper |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62136699A JP2599916B2 (ja) | 1987-05-29 | 1987-05-29 | 光パルス波形整形装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63300215A JPS63300215A (ja) | 1988-12-07 |
| JP2599916B2 true JP2599916B2 (ja) | 1997-04-16 |
Family
ID=15181408
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62136699A Expired - Lifetime JP2599916B2 (ja) | 1987-05-29 | 1987-05-29 | 光パルス波形整形装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2599916B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4416481B2 (ja) * | 2003-11-18 | 2010-02-17 | ギガフォトン株式会社 | 光学的パルス伸長器および露光用放電励起ガスレーザ装置 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3879109A (en) * | 1973-06-21 | 1975-04-22 | Kms Fusion Inc | Laser waveform generator |
| JPS5532065A (en) * | 1978-08-29 | 1980-03-06 | Fujitsu Ltd | Optical artificial line |
| JPS55106413A (en) * | 1979-02-10 | 1980-08-15 | Nec Corp | Optical pulse shaping device |
| JPS55117121A (en) * | 1979-03-02 | 1980-09-09 | Nec Corp | Light pulse shaper |
| JPS5815765B2 (ja) * | 1980-02-08 | 1983-03-28 | 理化学研究所 | 光パルスの波形成形法 |
-
1987
- 1987-05-29 JP JP62136699A patent/JP2599916B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63300215A (ja) | 1988-12-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
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