JP2590701B2 - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JP2590701B2
JP2590701B2 JP5234012A JP23401293A JP2590701B2 JP 2590701 B2 JP2590701 B2 JP 2590701B2 JP 5234012 A JP5234012 A JP 5234012A JP 23401293 A JP23401293 A JP 23401293A JP 2590701 B2 JP2590701 B2 JP 2590701B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体記憶装置に関
し、特に、リード・ライト可能なランダムアクセス半導
体記憶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a readable / writable random access semiconductor memory device.

【0002】[0002]

【従来の技術】図4は、特開平1−241093号公報
に記載された、この種従来の半導体記憶装置の構成図で
ある。同図に示されるように、従来の半導体記憶装置で
は、メモリセルアレイ1内のメモリセルが分割ビット線
12に接続され、分割ビット線12は、クロックφ1
φ2 によって選択される選択トランジスタ15を介して
主ビット線11に接続され、主ビット線11はカラムア
ンプ13に接続され、カラムアンプ13の出力端子は、
カラムデコーダによって選択される選択トランジスタ1
6を介してデータ入力・出力アンプ14に接続されてい
る。
2. Description of the Related Art FIG. 4 is a block diagram of a conventional semiconductor memory device of this type described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-241093. As shown in the figure, in the conventional semiconductor memory device, the memory cells in the memory cell array 1 is connected to the divided bit line 12, the divided bit line 12, the clock phi 1,
The main bit line 11 is connected to a column amplifier 13 via a selection transistor 15 selected by φ 2 , and the output terminal of the column amplifier 13
Select transistor 1 selected by column decoder
6 is connected to a data input / output amplifier 14.

【0003】次に、この従来の半導体記憶装置の動作に
ついて説明する。リード時においては、メモリセルアレ
イ1中の1つのメモリセルが選択され、その記憶データ
が分割ビット線12に出力される。さらに、クロックφ
1 あるいはφ2 により分割ビット線12は主ビット線1
1に接続され、出力された記憶データは、カラムアンプ
13に入力され増幅される。増幅された記憶データは、
カラムデコーダによって選択された選択トランジスタ1
6を介してデータ入力・出力アンプ14に入力され、外
部に出力される。
Next, the operation of the conventional semiconductor memory device will be described. At the time of reading, one memory cell in memory cell array 1 is selected, and its storage data is output to divided bit line 12. Furthermore, the clock φ
1 or φ 2 divides bit line 12 into main bit line 1
1, and the output stored data is input to the column amplifier 13 and amplified. The amplified stored data is
Select transistor 1 selected by column decoder
6, and is input to the data input / output amplifier 14 and output to the outside.

【0004】次に、ライト時においては、上記とは逆
に、書き込みデータは、データ入力・出力アンプ15に
入力され、カラムデコーダにより選択された選択トラン
ジスタ16を介してカラムアンプ13に出力され、さら
に主ビット線11に出力される。この書き込みデータ
は、選択トランジスタ15によって選択された分割ビッ
ト線12を経由して、メモリセルアレイ内のメモリセル
の1つに記憶される。
Next, at the time of writing, contrary to the above, write data is input to the data input / output amplifier 15 and output to the column amplifier 13 via the selection transistor 16 selected by the column decoder. Further, it is output to the main bit line 11. This write data is stored in one of the memory cells in the memory cell array via the divided bit line 12 selected by the selection transistor 15.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の半導体
記憶装置では、入・出力データは主ビット線11を必ず
経由する。而して、主ビット線は、メモリセルアレイの
端から端まで布線されており、かなりの浮遊容量を持っ
ている。そして、データのリード・ライト時には、この
浮遊容量を充放電しなければならないため、従来の半導
体記憶装置では、電力消費が多くなるという問題点があ
った。
In the above-described conventional semiconductor memory device, input / output data always passes through the main bit line 11. Thus, the main bit line is laid from end to end of the memory cell array, and has a considerable stray capacitance. When reading / writing data, the floating capacitance must be charged / discharged. Therefore, the conventional semiconductor memory device has a problem that power consumption is increased.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
め、本発明によれば、複数のメモリセル(1a)がマト
リックス状に配置されたメモリセルアレイ(1)と、前
記メモリセルアレイのワード線を選択するロウデコーダ
(6)と、メモリセル列毎に配置され、当該列のメモリ
セルからの出力データが入力されその書き込みデータを
出力するリード・ライトバッファ(4a)と、メモリセ
ルアレイのビット線対(7、8)と前記リード・ライト
バッファとの間に接続されたスイッチ手段(3a)と、
前記スイッチ手段を選択的に導通させるカラムデコーダ
(5)と、を備える半導体記憶装置において、前記リー
ド・ライトバッファに対する同じ側の同一列に配置され
たメモリセルに対して長さが概略k/n(但し、nは2
以上の整数、k=1、2、…、n)に比例したn対のビ
ット線を(7、8)設け、長さがk/nに比例するビッ
ト線には前記リード・ライトバッファから概略(k−
1)/nに比例する距離から概略k/nに比例した距離
の間に存在するメモリセルを接続し、前記カラムデコー
ダにより選択的に前記スイッチ手段を導通させて何れか
のビット線対を前記リード・ライトバッファに接続させ
るようにしたことを特徴とする半導体記憶装置が提供さ
れる。
According to the present invention, there is provided a memory cell array in which a plurality of memory cells are arranged in a matrix, and a word line of the memory cell array. , A read / write buffer (4a) arranged for each memory cell column, receiving output data from the memory cells in the column and outputting the write data, and a bit line of the memory cell array. Switch means (3a) connected between the pair (7, 8) and the read / write buffer;
In the semiconductor memory device comprising a, a column decoder (5) for selectively conducting said switch means, said Lee
Lengths against the memory cells arranged in the same column of the same side for de write buffer schematic k / n (where, n is 2
(7, 8) is provided with n pairs of bit lines in proportion to the above integers, k = 1, 2 ,.
The read line is approximately (k-
1) Distance that is approximately proportional to k / n from a distance that is proportional to / n
A memory cell existing between the read / write buffers, and the column decoder selectively turning on the switch means to connect any bit line pair to the read / write buffer. An apparatus is provided.

【0007】[0007]

【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図1は、本発明の一実施例の全体の構成を
示すブロック図である。同図に示されるように、この実
施例の半導体記憶装置は、複数のメモリセルがマトリッ
クス状に配置されたメモリセルアレイ1と、前記メモリ
セルアレイのワード線2を選択するロウデコーダ6と、
メモリセル列毎に配置されたリード・ライトバッファの
全体を含むリード・ライトバッファ群4と、メモリセル
アレイのビット線対と前記リード・ライトバッファとの
間に接続された選択トランジスタの全体を含む選択トラ
ンジスタ群3と、この選択トランジスタ群の中から特定
のトランジスタを選択して導通させるカラムデコーダ5
と、を備えている。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing the overall configuration of one embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the semiconductor memory device of this embodiment includes a memory cell array 1 in which a plurality of memory cells are arranged in a matrix, a row decoder 6 for selecting a word line 2 of the memory cell array,
A read / write buffer group 4 including the entire read / write buffer arranged for each memory cell column, and a selection including the entire selection transistor connected between the bit line pair of the memory cell array and the read / write buffer. A transistor group 3 and a column decoder 5 for selecting and conducting a specific transistor from the selected transistor group
And

【0008】後述するように、メモリセルアレイ1内の
同一列のメモリセルに対して長さの異なる複数対のビッ
ト線が形成され、それらのビット線対の内特定のものが
カラムデコーダ5によって選択されたトランジスタを介
してリード・ライトバッファ群4の中の1つのリード・
ライトバッファと接続される。また、リード時あるいは
ライト時には、その特定のビット線対は、図外プリチャ
ージ手段によりプリチャージ電位に充電される。
As will be described later, a plurality of pairs of bit lines having different lengths are formed for memory cells in the same column in the memory cell array 1, and a specific one of the bit line pairs is selected by the column decoder 5. One of the read / write buffers 4 through the read transistor
Connected to write buffer. At the time of reading or writing, the specific bit line pair is charged to a precharge potential by a precharge means (not shown).

【0009】リード時あるいはライト時には、カラムデ
コーダ5とロウデコーダ6とにより、一組のメモリセル
が選択されるが、その場合に、カラムデコーダ5は、同
一列のメモリセルについては選択すべきメモリセルが接
続されている側のビット線対を選択する。リード時に
は、選択されたビット線対に出力されたリードデータが
リード・ライトバッファ(4)に入力され、該バッファ
を介して外部に出力される。ライト時には、書き込みデ
ータはリード・ライトバッファ(4)に入力され、該バ
ッファから出力された書き込みデータは、カラムデコー
ダ5によって選択されたビット線対を介してロウデコー
ダ6で選択されたメモリセルに書き込まれる。
At the time of reading or writing, a set of memory cells is selected by the column decoder 5 and the row decoder 6. In this case, the column decoder 5 selects the memory cells to be selected for the memory cells in the same column. Select the bit line pair to which the cell is connected. At the time of reading, the read data output to the selected bit line pair is input to the read / write buffer (4) and output to the outside via the buffer. At the time of writing, write data is input to the read / write buffer (4), and the write data output from the buffer is transferred to the memory cell selected by the row decoder 6 via the bit line pair selected by the column decoder 5. Written.

【0010】図2は、本実施例の半導体記憶装置のメモ
リセル1列分の回路構成を示す回路図である。同図に示
されるように、それぞれ複数のメモリセル1aが接続さ
れたビット線対A7およびビット線対B8は、選択トラ
ンジスタ3aを介してリード・ライトバッファ4aに接
続されている。ビット線対A7の配線はビット線対B8
の配線より短い。そして、ビット線対Aにはリード・ラ
イトバッファ4aからの距離の近いメモリセル1aが接
続され、ビット線対Bにはリード・ライトバッファ4a
から遠くに配置されたメモリセル1aのみが接続されて
いる。選択トランジスタ3aのゲートにはカラムデコー
ダ5の選択信号が入力される。ビット線対A、Bに接続
されたメモリセル1aは、ロウデコーダ6により選択さ
れる。また、リード・ライトバッファ4aの入出力端子
は、プリチャージ信号によって制御されるトランジスタ
9を介して電源VDDに接続されている。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a circuit configuration for one column of memory cells of the semiconductor memory device of this embodiment. As shown in the figure, a bit line pair A7 and a bit line pair B8 each connected to a plurality of memory cells 1a are connected to a read / write buffer 4a via a selection transistor 3a. The wiring of the bit line pair A7 is the bit line pair B8
Shorter than the wiring. The bit line pair A is connected to the memory cell 1a which is short from the read / write buffer 4a, and the bit line pair B is connected to the read / write buffer 4a.
Is connected only to the memory cell 1a located far from the memory cell 1a. The selection signal of the column decoder 5 is input to the gate of the selection transistor 3a. The memory cell 1a connected to the bit line pair A, B is selected by the row decoder 6. The input / output terminal of the read / write buffer 4a is connected to a power supply VDD via a transistor 9 controlled by a precharge signal.

【0011】このように構成された半導体記憶装置で
は、ビット線対に関する等価的に浮遊容量が減少し、そ
の結果消費電流が低減化される。いま、ビット線対A7
の配線長がビット線対B8の配線長の半分であるものと
し、両ビット線対に同数のメモリセルが接続されている
ものとする。ビット線対が1本のときの浮遊容量をCと
すると、接続されたメモリセルにかかる浮遊容量を無視
すれば、ビット線対A7の浮遊容量は1/2・C、ビッ
ト線対B8の浮遊容量はCとなる。ここで、均等にメモ
リセルが選択されるものとすると、等価的浮遊容量CE
は、 CE =(1/2・C+C)÷2=3/4・C となる。また、ビット線対が1本のときの消費電流は、
f・C・Vとなる(f:動作周波数、V:電源電圧)
が、本実施例の場合には、均等にメモリセルが選択され
るものとして、3/4・f・C・となる。なお、各ビッ
ト線対A、Bには、ビット線対が1本のときの半分のメ
モリセルが接続されるだけであるので、実際にビット線
対A、Bに付く浮遊容量は1/2・C、Cより小さいも
のとなる。
In the semiconductor memory device configured as described above, the stray capacitance for the bit line pair is equivalently reduced, and as a result, current consumption is reduced. Now, the bit line pair A7
Is half the wiring length of the bit line pair B8, and the same number of memory cells are connected to both bit line pairs. Assuming that the stray capacitance at the time of one bit line pair is C, the stray capacitance of the bit line pair A7 is ・ · C and the stray capacitance of the bit line pair B8 is negligible, if the stray capacitance applied to the connected memory cell is ignored. The capacity is C. Here, assuming that the memory cells are uniformly selected, the equivalent stray capacitance C E
Is C E = ((· C + C) ÷ 2 = 3 ・ · C. The current consumption when there is one bit line pair is
f · C · V (f: operating frequency, V: power supply voltage)
However, in the case of the present embodiment, it is 3/4 · f · C · assuming that the memory cells are evenly selected. Since only half the memory cells of one bit line pair are connected to each bit line pair A and B, the stray capacitance actually applied to the bit line pairs A and B is 2. C, smaller than C

【0012】次に、本実施例回路の動作について説明す
る。図3は、図2に示された回路の動作を説明するため
のタイミングチャートである。いま、選択されるメモリ
セル1aがビット線対A7に接続されているものとす
る。プリチャージ信号が‘L’になると、トランジスタ
9はオンし、このとき同時にカラムデコーダ5の出力も
変化し、ビット線対A7に接続された選択トランジスタ
3aがオンするので、ビット線対A7は‘H’となる。
この時ビット線対B8は直前のデータを保持している状
態で、変化はない。また、ロウデコーダ6の出力は
‘L’なので各メモリセル1aは閉じている。
Next, the operation of the circuit of this embodiment will be described. FIG. 3 is a timing chart for explaining the operation of the circuit shown in FIG. Now, it is assumed that the selected memory cell 1a is connected to the bit line pair A7. When the precharge signal becomes "L", the transistor 9 turns on. At this time, the output of the column decoder 5 also changes, and the selection transistor 3a connected to the bit line pair A7 turns on. H '.
At this time, the bit line pair B8 holds the immediately preceding data, and there is no change. Since the output of the row decoder 6 is "L", each memory cell 1a is closed.

【0013】次に、プリチャージ信号が‘H’になる
と、トランジスタ9はオフする。カラムデコーダ5の出
力は変化しないのでビット線対A7はリード・ライトバ
ッファ4aと接続されている。ここでロウデコーダ6が
ワード線2の1つを選択し、これによりビット線対A7
に接続されたメモリセル1aの1つが開かれる。
Next, when the precharge signal becomes "H", the transistor 9 is turned off. Since the output of the column decoder 5 does not change, the bit line pair A7 is connected to the read / write buffer 4a. At this time, the row decoder 6 selects one of the word lines 2 and thereby the bit line pair A7
Is opened.

【0014】いま、リード時にあるものとすると、選択
されたメモリセル1aの記憶データがビット線対A7を
経由してリード・ライトバッファ4aに入力され、該バ
ッファを介して外部に出力される。また、ライト時にお
いては、書き込みデータがリード・ライトバッファ4a
に入力され、該バッファから出力された書き込みデータ
は、ビット線対A7を介して、ロウデコーダ6により選
択されたメモリセル1aに記憶される。これら一連の動
作中において、ビット線対B8に接続されたメモリセル
1aは全て閉じた状態にあり、ビット線対B8は先のデ
ータを保持し続ける。カラムデコーダ5によりビット線
対B8が選択された時も動作は同様で、この場合には、
ビット線対B8には状態変化が起こるが、ビット線対A
7は直前のデータを保持し続け、状態変化は起きない。
Assuming that the data is present at the time of reading, data stored in the selected memory cell 1a is input to the read / write buffer 4a via the bit line pair A7, and output to the outside via the buffer. At the time of writing, the write data is transferred to the read / write buffer 4a.
And the write data output from the buffer is stored in the memory cell 1a selected by the row decoder 6 via the bit line pair A7. During these series of operations, all the memory cells 1a connected to the bit line pair B8 are in a closed state, and the bit line pair B8 continues to hold the previous data. The operation is the same when the bit line pair B8 is selected by the column decoder 5. In this case,
Although a state change occurs in the bit line pair B8, the bit line pair A
7 keeps the immediately preceding data, and no state change occurs.

【0015】以上好ましい実施例について説明したが、
本発明は上記実施例に限定されるされるものではなく、
特許請求の範囲に記載された本願発明の要旨内において
各種の変更が可能である。例えば、実施例では、ビット
線対を2つに分けていたが、これを3乃至それ以上に分
けることができる。なお、複数のビット線対を異なる配
線層で形成するようにすれば、本発明を実施することに
よるチップ面積の増加を抑えることができる。
Although the preferred embodiment has been described above,
The present invention is not limited to the above embodiments,
Various modifications are possible within the gist of the present invention described in the claims. For example, in the embodiment, the bit line pair is divided into two, but this can be divided into three or more. If a plurality of bit line pairs are formed in different wiring layers, an increase in the chip area due to the implementation of the present invention can be suppressed.

【0016】[0016]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体記
憶装置は、ビット線対を分割し、リード・ライトバッフ
ァの直前にて選択トランジスタを介して各ビット線対を
接続したものであるので、リード・ライトバッファに近
い方のメモリセルの接続されたビット線対の浮遊容量は
小さくなり、それに伴い、リード・ライトバッファから
遠い方のメモリセルの接続されたビット線対を含めた等
価的な浮遊容量が小さくなる。したがって、本発明によ
れば、データ書き込み時およびデータ読み出し時の消費
電流を削減することができる。
As described above, in the semiconductor memory device of the present invention, the bit line pairs are divided and each bit line pair is connected via the selection transistor immediately before the read / write buffer. The stray capacitance of the connected bit line pair of the memory cell closer to the read / write buffer is reduced, and accordingly, the equivalent capacitance including the connected bit line pair of the memory cell farther from the read / write buffer is reduced. Small stray capacitance is reduced. Therefore, according to the present invention, current consumption during data writing and data reading can be reduced.

【0017】例えば、ビット線対が1本のときに比較し
て、ビット線対を2本とした場合には、等価的浮遊容量
および消費電流を3/4以下とすることができ、また、
ビット線対を3本とした場合には、ビット線対が1本の
ときの浮遊容量をCとして、等価的浮遊容量CE は、 CE =(1/3・C+2/3・C+C)÷3=2/3・
C となり、等価的浮遊容量および消費電流を2/3以下と
することができる。
For example, when two bit line pairs are used as compared with a single bit line pair, the equivalent floating capacitance and current consumption can be reduced to / or less.
When the number of bit line pairs is three, the stray capacitance when one bit line pair is C is defined as C, and the equivalent stray capacitance C E is: C E = (1 / · C + 2/3 · C + C) ÷ 3 = 2/3
C and the equivalent stray capacitance and current consumption can be reduced to 2/3 or less.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の一実施例の全体の構成を示すブロッ
ク図。
FIG. 1 is a block diagram showing the overall configuration of an embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の一実施例の1メモリセル列分の構成
を示す回路図。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration for one memory cell column in one embodiment of the present invention.

【図3】 本発明の一実施例の動作を説明するためのタ
イミングチャート。
FIG. 3 is a timing chart for explaining the operation of one embodiment of the present invention.

【図4】 従来例の構成を示す図。FIG. 4 is a diagram showing a configuration of a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 メモリセルアレイ 1a メモリセル 2 ワード線 3 選択トランジスタ群 3a 選択トランジスタ 4 リード・ライトバッファ群 4a リード・ライトバッファ 5 カラムデコーダ 6 ロウデコーダ 7 ビット線対A 8 ビット線対B 9 トランジスタ 11 主ビット線 12 分割ビット線 13 カラムアンプ 14 データ入力・出力アンプ 15、16 選択トランジスタ Reference Signs List 1 memory cell array 1a memory cell 2 word line 3 selection transistor group 3a selection transistor 4 read / write buffer group 4a read / write buffer 5 column decoder 6 row decoder 7 bit line pair A 8 bit line pair B 9 transistor 11 main bit line 12 Divided bit line 13 Column amplifier 14 Data input / output amplifier 15, 16 Select transistor

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 複数のメモリセルがマトリックス状に配
置されたメモリセルアレイと、前記メモリセルアレイの
ワード線を選択するロウデコーダと、メモリセル列毎に
配置され、当該列のメモリセルからの出力データが入力
されその書き込みデータを出力するリード・ライトバッ
ファと、メモリセルアレイのビット線対と前記リード・
ライトバッファとの間に接続されたスイッチ手段と、前
記スイッチ手段を選択的に導通させるカラムデコーダ
と、を備える半導体記憶装置において、前記リード・ラ
イトバッファに対する同じ側の同一列に配置されたメモ
リセルに対して長さが概略k/n(但し、nは2以上の
整数、k=1、2、…、n)に比例したn対のビット線
を設け、長さがk/nに比例するビット線には前記リー
ド・ライトバッファから概略(k−1)/nに比例する
距離から概略k/nに比例した距離の間に存在するメモ
リセルを接続し、前記カラムデコーダにより選択的に前
記スイッチ手段を導通させて何れかのビット線対を前記
リード・ライトバッファに接続させるようにしたことを
特徴とする半導体記憶装置。
1. A memory cell array in which a plurality of memory cells are arranged in a matrix, a row decoder for selecting a word line of the memory cell array, and output data from a memory cell in each memory cell column. , A read / write buffer that outputs the write data, a bit line pair of the memory cell array, and the read / write buffer.
In the semiconductor memory device comprising: a switch means connected between the write buffer, a column decoder for selectively conducting the switching means, wherein the read-La
Lengths against the memory cells arranged in the same column of the same side with respect to site buffer schematic k / n (where, n is 2 or more
N pairs of bit lines proportional to an integer, k = 1, 2,..., N)
And the bit line whose length is proportional to k / n is
From the write buffer is approximately proportional to (k-1) / n
A memo that exists between the distance and a distance approximately proportional to k / n
A semiconductor memory device wherein a recell is connected, and the switch means is selectively turned on by the column decoder to connect any bit line pair to the read / write buffer.
【請求項2】 前記複数対のビット線に対し1つのプリ
チャージ手段が設けられており、該プリチャージ手段と
前記複数対のビット線との間には前記スイッチ手段が接
続されていることを特徴とする請求項1記載の半導体記
憶装置。
2. A method according to claim 1, wherein one precharge means is provided for said plurality of pairs of bit lines, and said switch means is connected between said precharge means and said plurality of pairs of bit lines. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein:
【請求項3】 前記複数対のビット線の内1または複数
のビット線対は、他のビット線対とは異なる層の配線に
よって形成されていることを特徴とする請求項1記載の
半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory according to claim 1, wherein one or a plurality of bit line pairs among the plurality of bit line pairs are formed by wiring of a different layer from the other bit line pairs. apparatus.
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