JP2588412Y2 - Substrate fixing device - Google Patents

Substrate fixing device

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JP2588412Y2
JP2588412Y2 JP1993067355U JP6735593U JP2588412Y2 JP 2588412 Y2 JP2588412 Y2 JP 2588412Y2 JP 1993067355 U JP1993067355 U JP 1993067355U JP 6735593 U JP6735593 U JP 6735593U JP 2588412 Y2 JP2588412 Y2 JP 2588412Y2
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JP
Japan
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substrate
dome
shape
memory alloy
shape memory
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JP1993067355U
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Japanese (ja)
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JPH0738168U (en
Inventor
良臣 曽根
勉 山極
Original Assignee
東芝硝子株式会社
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Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本考案は、真空蒸着装置などで用
いられる基板装着用ドームに基板を固定する基板固定装
置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate fixing device for fixing a substrate to a substrate mounting dome used in a vacuum evaporation apparatus or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、真空蒸着装置における基板装着用
ドームに、例えばハロゲンランプ用反射鏡のガラス基板
などのような基板を固定する基板固定装置としてはコイ
ルバネや板バネなどの弾性体が用いられ、これら弾性体
の弾性力を利用して基板を基板装着用ドームに押付け固
定している。基板の固定後、基板装着用ドームを真空蒸
着装置に収納して真空蒸着装置を作動させ、基板装着用
ドームに固定されている基板の表面に薄膜を形成してい
た。
2. Description of the Related Art Conventionally, an elastic body such as a coil spring or a leaf spring has been used as a substrate fixing device for fixing a substrate such as a glass substrate of a reflecting mirror for a halogen lamp to a substrate mounting dome in a vacuum evaporation apparatus. The substrate is pressed and fixed to the substrate mounting dome using the elastic force of these elastic bodies. After fixing the substrate, the substrate mounting dome was housed in a vacuum evaporation apparatus and the vacuum evaporation apparatus was operated to form a thin film on the surface of the substrate fixed to the substrate mounting dome.

【0003】[0003]

【考案が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
弾性体の弾性力を利用した基板固定装置は以下に示すよ
うな欠点を有していた。
However, the conventional substrate fixing device utilizing the elastic force of the elastic body has the following disadvantages.

【0004】コイルバネを用いた基板固定装置において
は、 1)人手による基板へのバネ掛け作業が不可欠であり、 コイルバネの弾性力に抗して作業を行なうため複雑で
ある。 固定すべき基板が多く、作業時間が長くなる。 バネを塑性変形させてしまう人為的なミスが多発す
る。 2)基板装着用ドームドームへの基板固定の自動化が困
難であり、しかも、実現してもその装置は複雑なものと
なり、高価なものとなる。などの欠点がある。
[0004] In a substrate fixing apparatus using a coil spring, 1) a work of manually applying a spring to the substrate is indispensable, and the work is complicated against the elastic force of the coil spring. There are many substrates to be fixed, and the working time is long. Human mistakes that cause the plastic deformation of the spring occur frequently. 2) It is difficult to automate the fixing of the substrate to the dome for mounting the substrate, and even if it is realized, the device becomes complicated and expensive. There are drawbacks such as.

【0005】また、板バネを用いた基板固定装置におい
ては、 1)コイルバネと同様に、バネを塑性変形させてしまう
人為的なミスが多発する。 2)装着される基板の形状変更に対し柔軟性がなく、基
板の形状変更が発生した場合には、バネ形状や取付け位
置などをその都度交換したりあるいは調整することが必
要である。などの欠点がある。
[0005] Further, in a substrate fixing device using a leaf spring, 1) as in the case of the coil spring, there are many human mistakes that cause plastic deformation of the spring. 2) There is no flexibility in changing the shape of the board to be mounted, and when the shape of the board changes, it is necessary to change or adjust the spring shape and the mounting position each time. There are drawbacks such as.

【0006】本考案は、上記事情に鑑みてなされたもの
で、基板を基板装着用ドームに載置した後、一括して基
板を固定することを可能とする基板固定装置を提供する
ことを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a substrate fixing device which can fix substrates collectively after placing the substrates on a substrate mounting dome. And

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本考案は、上記目的を解
決するために、真空蒸着装置などで用いられる基板装着
用ドームに湾曲形状に形成された基板を固定する基板固
定装置において、上記基板装着用ドームの基板装着用孔
の少なくとも3等配位置に伸長した形状で配置され、加
熱により屈曲形状に変形する形状記憶合金を具備し、こ
の形状記憶合金の回復力によってのみ上記基板を上記基
板装着用ドームに押付け固定することを特徴とする。
A solution for the present invention, in order to achieve the object, the substrate fixing device for fixing the substrate formed in a curved shape in the substrate mounting dome to be used in vacuum deposition apparatus, the substrate Mounting dome mounting holes
Are arranged in at least three equidistant positions in an elongated shape.
Equipped with a shape memory alloy that deforms into a bent shape due to heat.
The substrate is pressed and fixed to the substrate mounting dome only by the recovery force of the shape memory alloy .

【0008】[0008]

【作用】本考案は上記のように構成したので、形状記憶
合金の形状回復力により基板を基板装着用ドームに押付
け固定することにより、作業者は基板を基板装着用ドー
ムに載置するだけの簡単な作業で済み、作業の効率向上
を図れる。
Since the present invention is constructed as described above, the operator simply mounts the substrate on the substrate mounting dome by pressing and fixing the substrate on the substrate mounting dome by the shape recovery force of the shape memory alloy. Simple work is required, and work efficiency can be improved.

【0009】[0009]

【実施例】以下、図面を参照して本考案の実施例を説明
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0010】図1はドームに基板を装着した状態を示す
外観図、図2は本考案の一実施例の基板固定装置による
基板固定の状態を示す図、および図3は基板固定時の平
面図である。
FIG. 1 is an external view showing a state in which a substrate is mounted on a dome, FIG. 2 is a diagram showing a state in which a substrate is fixed by a substrate fixing device according to an embodiment of the present invention, and FIG. It is.

【0011】上記図において、1 は、例えば真空蒸着装
置で使用される欠球形状の基板装着用ドーム(以下、単
にドームと称す)で、このドーム1 の球状の面には、例
えばハロゲンランプ用反射鏡のガラス基板などの湾曲形
状に形成された基板2 が装着される位置に対応して複数
の基板装着用孔3 が形成され、その複数の基板装着用孔
3 の位置に基板2 が装着される。このように複数の基板
2 が装着されたドーム1 を1枚〜数枚真空蒸着装置内の
回転治具に取付け、ドーム1 を回転させることにより、
基板2 の内部の湾曲面に薄膜が均一に形成される。
In the above figure, reference numeral 1 denotes a dome for mounting a substrate in the form of a broken sphere (hereinafter simply referred to as a dome) used in, for example, a vacuum evaporation apparatus. A plurality of substrate mounting holes 3 are formed corresponding to positions where a substrate 2 formed into a curved shape such as a glass substrate of a reflecting mirror is mounted, and the plurality of substrate mounting holes 3 are formed.
The board 2 is mounted at the position 3. Thus multiple substrates
Attach one to several domes 1 with 2 attached to the rotating jig in the vacuum evaporation apparatus, and rotate the dome 1 to
A thin film is uniformly formed on the curved surface inside the substrate 2.

【0012】また、4 はドーム1 の基板装着用孔3 ごと
に配置されている基板装着用リング(以下、単にリング
と称す)で、このリング4 はその一端部においてナット
5 によってドーム1 に締め込まれてドーム1 に固定さ
れ、このリング4 の固定時に、基板2 をドーム1 に固定
するための形状記憶合金6 の一端部がドーム1 とリング
4 の他端部との間に挟み込まれ、形状記憶合金6 も同時
にドーム1 に固定される。一方、形状記憶合金6 の他端
部は自由端となっている。また、リング4 の中途部には
基板2 を載置する載置部4aが形成され、ている。なお、
形状記憶合金6 はリング4 に3等配した位置に配置され
ているが(図3参照)、装着される基板2の大きさに応
じて形状記憶合金6 の数を適宜増減できることは勿論で
ある。
Reference numeral 4 denotes a substrate mounting ring (hereinafter, simply referred to as a ring) disposed for each substrate mounting hole 3 of the dome 1. The ring 4 has a nut at one end thereof.
5 is fixed to the dome 1 by being fixed to the dome 1.When the ring 4 is fixed, one end of the shape memory alloy 6 for fixing the substrate 2 to the dome 1 is connected to the dome 1 by a ring.
4 and the other end thereof, the shape memory alloy 6 is also fixed to the dome 1 at the same time. On the other hand, the other end of the shape memory alloy 6 is a free end. A mounting portion 4a on which the substrate 2 is mounted is formed in the middle of the ring 4. In addition,
Although the shape memory alloys 6 are arranged at three equally spaced positions on the ring 4 (see FIG. 3), it goes without saying that the number of shape memory alloys 6 can be appropriately increased or decreased according to the size of the substrate 2 to be mounted. .

【0013】本実施例においては、形状記憶合金6 とし
てマルテンサイト逆変態終了温度(Af点)が50℃〜
100℃の特性を有するものが使用され、この特性を有
する形状記憶合金6 は400℃〜500℃で10〜30
分熱処理され、屈曲したAに示す形状に記憶処理され
る。常温における基板2 の装着時には、形状記憶合金6
は人為的もしくは機械的に基板2 の装着が可能なように
伸長したBに示す形状に変形される。
In this embodiment, the shape memory alloy 6 has a martensite reverse transformation end temperature (Af point) of 50 ° C. or more.
A material having a characteristic of 100 ° C. is used, and the shape memory alloy 6 having this characteristic is used at 400 ° C. to 500 ° C. for 10 to 30 minutes.
It is subjected to partial heat treatment and is memorized in the shape shown in the bent A. When mounting the substrate 2 at room temperature, the shape memory alloy 6
Is deformed into the shape shown in B which is elongated so that the substrate 2 can be mounted artificially or mechanically.

【0014】次に、本考案の一実施例の基板固定装置と
しての形状記憶合金6 による基板2のドーム1 への固定
について説明する。
Next, the fixing of the substrate 2 to the dome 1 by the shape memory alloy 6 as a substrate fixing device of one embodiment of the present invention will be described.

【0015】まず、基板2 の装着が可能なように、形状
記憶合金6 を人為的もしくは機械的にBの形状に変形
し、変形後、図2に示す状態で基板2 を人手もしくは基
板装着装置によってリング4 の載置部4aに載置・装着す
る。基板2 が全てのリング4 もしくは所定数のリング4
の載置部4aに載置・装着されたら、形状記憶合金6 の形
状記憶回復を行なうため、基板2 が装着されているドー
ム1 をAf点+60℃以下に保たれている専用炉に挿入
する。
First, the shape memory alloy 6 is artificially or mechanically deformed into the shape B so that the substrate 2 can be mounted. After the deformation, the substrate 2 is manually or in a state shown in FIG. Is mounted and mounted on the mounting portion 4a of the ring 4. Substrate 2 is all rings 4 or a certain number of rings 4
After being placed and mounted on the mounting portion 4a, the dome 1 on which the substrate 2 is mounted is inserted into a dedicated furnace maintained at an Af point of + 60 ° C. or lower in order to recover the shape memory of the shape memory alloy 6. .

【0016】専用炉に挿入された形状記憶合金6 は瞬時
にBの形状から記憶処理されたAの形状に変形しようと
し、このときの形状記憶合金6 の回復力によって基板2
は形状記憶合金6 によってリング4 の載置部4aに押付け
られた状態で保持され、強固にドーム1 に固定される。
The shape memory alloy 6 inserted into the dedicated furnace instantly tries to transform from the shape of B to the shape of A which has been memorized, and the recovery force of the shape memory alloy 6 at this time causes the substrate 2 to be deformed.
Is held by the shape memory alloy 6 while being pressed against the mounting portion 4a of the ring 4, and is firmly fixed to the dome 1.

【0017】形状記憶合金6 による基板2 の固定後、ド
ーム1 を専用炉外に取出して、真空蒸着装置内に設置す
るが、常温の専用炉外に取出された形状記憶合金6 は記
憶処理されたAの形状を維持し、Aの形状を維持した状
態で基板2 の内部の湾曲面への成膜が行なわれる。
After the substrate 2 is fixed by the shape memory alloy 6, the dome 1 is taken out of the dedicated furnace and placed in a vacuum deposition apparatus. The shape memory alloy 6 taken out of the dedicated furnace at room temperature is stored and processed. The shape of A is maintained, and a film is formed on the curved surface inside the substrate 2 while maintaining the shape of A.

【0018】上記したように、本実施例によれば、基板
2 をリング4 の載置部4aに載置するだけでドーム1 への
基板2 の装着が可能となり、人手によるバネ掛け作業が
不要となるので、 ドーム1 への基板2 の装着作業が簡略化され、自動化
が可能となる。 基板2 の装着に要する作業時間を短縮することができ
る。 万が一作業者が形状記憶合金6 を変形させてしまって
も、形状記憶合金6 の形状回復処理による基板2 の固定
能力には何ら影響がない。などの効果がある。
As described above, according to this embodiment, the substrate
2 can be mounted on the dome 1 simply by placing the 2 on the mounting portion 4a of the ring 4, eliminating the need for manual spring work, thus simplifying the work of mounting the substrate 2 on the dome 1. And automation becomes possible. The work time required for mounting the substrate 2 can be reduced. Even if the worker deforms the shape memory alloy 6, the ability to fix the substrate 2 by the shape recovery processing of the shape memory alloy 6 is not affected at all. And so on.

【0019】なお、上記実施例では、基板装着用孔3 毎
に配置されているリング4 に基板2を載置する載置部4a
を形成するとともにリング4 によって形状記憶合金6 を
ドーム1 に固定するようにしたが、これに限ることはな
く、基板装着用孔3 の周辺を加工して基板2 を載置する
載置部を形成するとともに形状記憶合金6 をドーム1に
ナットなど適宜手段により固定するようにしてもよく、
リング4 を基板装着用孔3 毎に配置することが不要とな
り、構成の簡略化が図れる。
In the above embodiment, the mounting portion 4a for mounting the substrate 2 on the ring 4 arranged for each substrate mounting hole 3
And the shape memory alloy 6 is fixed to the dome 1 by the ring 4.However, the present invention is not limited to this, and the mounting portion for mounting the substrate 2 by processing the periphery of the substrate mounting hole 3 is provided. It may be formed and the shape memory alloy 6 may be fixed to the dome 1 by appropriate means such as a nut,
It is not necessary to arrange the ring 4 for each substrate mounting hole 3, and the configuration can be simplified.

【0020】また、上記実施例では、形状記憶合金6 の
形状回復処理を専用炉で行なうようにしたが、これに限
ることはなく、真空蒸着装置へのドーム1 の取付けが基
板2が落下しない程度の姿勢で、かつ真空蒸着装置の基
板加熱温度がAf点+60℃以下であれば、専用炉で形
状回復処理を行なうことなく、ドーム1 を真空蒸着装置
に取付け、基板2 の加熱と形状記憶合金6 の形状回復処
理を真空蒸着装置内で兼ねて行なうようにしてもよく、
このようにすることにより、専用炉による形状回復処理
の工程を省略することができ、リードタイムがさらに短
縮される。
In the above embodiment, the shape recovery processing of the shape memory alloy 6 is performed in a dedicated furnace. However, the present invention is not limited to this, and the mounting of the dome 1 to the vacuum deposition apparatus does not cause the substrate 2 to drop. If the substrate heating temperature of the vacuum vapor deposition device is about the Af point + 60 ° C. or less, the dome 1 is mounted on the vacuum vapor deposition device without performing a shape recovery process in a dedicated furnace, and the substrate 2 is heated and the shape is memorized. The shape recovery treatment of the alloy 6 may be performed in the vacuum evaporation apparatus,
By doing so, it is possible to omit the step of the shape recovery processing using a dedicated furnace, and the lead time is further reduced.

【0021】また、本考案は上記実施例に限定されるこ
となく、本考案の要旨を逸脱しない範囲において、種々
変形可能なことは勿論である。
Further, the present invention is not limited to the above-described embodiment, but can be variously modified without departing from the gist of the present invention.

【0022】[0022]

【考案の効果】以上詳述したように、本考案の基板固定
装置によれば、形状記憶合金の形状回復力により基板を
基板装着用ドームに押付け固定することにより、作業者
は基板を基板装着用ドームに載置するだけの簡単な作業
で済み、自動化して基板を基板装着用ドームに装着する
ことができ、また、作業時間の短縮など作業効率の向上
を図ることができる。
As described in detail above, according to the substrate fixing device of the present invention, the operator mounts the substrate by pressing and fixing the substrate to the substrate mounting dome by the shape recovery force of the shape memory alloy. A simple operation of simply mounting the substrate on the dome is sufficient, the substrate can be automatically mounted on the substrate mounting dome, and the operation efficiency can be improved by shortening the operation time.

【0023】また、形状記憶合金を変形させてしまって
も、形状記憶合金の形状回復処理による基板の固定能力
には何ら影響を与えることがないという効果を有する。
Further, even if the shape memory alloy is deformed, there is an effect that the ability to fix the substrate by the shape recovery processing of the shape memory alloy is not affected at all.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】基板装着用ドームに基板を装着した状態を示す
外観図である。
FIG. 1 is an external view showing a state where a substrate is mounted on a substrate mounting dome.

【図2】本考案の一実施例の基板固定装置による基板固
定の状態を示す図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating a state of fixing a substrate by the substrate fixing device according to the embodiment of the present invention;

【図3】基板固定時の平面図である。FIG. 3 is a plan view when the substrate is fixed.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 …基板装着用ドーム 2 …基板 6 …形状記憶合金 1 ... Dome for mounting on board 2 ... Board 6 ... Shape memory alloy

フロントページの続き (56)参考文献 実開 平2−110667(JP,U) 実開 平2−142464(JP,U) 実開 平4−108855(JP,U) 実開 平4−48262(JP,U) 実公 昭46−35246(JP,Y1) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C23C 14/50 H01L 21/203 H01L 21/68Continuation of the front page (56) References JP-A 2-110667 (JP, U) JP-A 2-142464 (JP, U) JP-A 4-108855 (JP, U) JP-A 4-48262 (JP , U) Jikken 46-35246 (JP, Y1) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) C23C 14/50 H01L 21/203 H01L 21/68

Claims (1)

(57)【実用新案登録請求の範囲】(57) [Scope of request for utility model registration] 【請求項1】 真空蒸着装置などで用いられる基板装着
用ドームに湾曲形状に形成された基板を固定する基板固
定装置において、上記基板装着用ドームの基板装着用孔
の少なくとも3等配位置に伸長した形状で配置され、加
熱により屈曲形状に変形する形状記憶合金を具備し、こ
の形状記憶合金の回復力によってのみ上記基板を上記基
板装着用ドームに押付け固定することを特徴とする基板
固定装置。
1. A substrate fixing device for fixing a substrate formed in a curved shape to a substrate mounting dome used in a vacuum evaporation apparatus or the like, wherein the substrate mounting dome has a substrate mounting hole.
Are arranged in at least three equidistant positions in an elongated shape.
Equipped with a shape memory alloy that deforms into a bent shape due to heat.
And fixing the substrate to the substrate mounting dome only by the recovery force of the shape memory alloy .
JP1993067355U 1993-12-17 1993-12-17 Substrate fixing device Expired - Lifetime JP2588412Y2 (en)

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JPH0738168U JPH0738168U (en) 1995-07-14
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