JP2582151B2 - Electron beam center axis automatic adjustment device - Google Patents
Electron beam center axis automatic adjustment deviceInfo
- Publication number
- JP2582151B2 JP2582151B2 JP1026191A JP2619189A JP2582151B2 JP 2582151 B2 JP2582151 B2 JP 2582151B2 JP 1026191 A JP1026191 A JP 1026191A JP 2619189 A JP2619189 A JP 2619189A JP 2582151 B2 JP2582151 B2 JP 2582151B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alignment
- electron beam
- center axis
- electron
- axis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 51
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 13
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 2
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、走査型電子顕微鏡や電子ビームテスタ等の
電子ビーム装置に用いられ、電子銃から放出された電子
ビームの中心軸を自動調整する電子ビーム中心軸自動調
整装置に関する。The present invention is used in an electron beam apparatus such as a scanning electron microscope or an electron beam tester, and automatically adjusts a central axis of an electron beam emitted from an electron gun. The present invention relates to an electron beam center axis automatic adjustment device.
[従来の技術] 例えば電子ビームテスタでは、立ち上げ時において、
電子銃から放出される電子ビームの中心軸が安定するの
に1時間程度も要する。これは、真空中に配置された電
子銃のフィラメントが熱せられると、このフィラメント
を覆うグリッドが熱せられ、さらに陽極およびグリッド
を覆うハウジングが熱せられるが、これらの温度が熱的
平衡状態にならないとフィラメントもその影響を受けて
熱的平衡状態にならず、フィラメントの長さや熱電子の
エネルギー分布が変化するためである。[Prior Art] For example, in an electron beam tester, when starting up,
It takes about one hour for the center axis of the electron beam emitted from the electron gun to stabilize. This is because when the filament of an electron gun placed in a vacuum is heated, the grid covering the filament is heated, and the anode and the housing covering the grid are heated, but these temperatures must be in thermal equilibrium. This is because the filament is not in thermal equilibrium under the influence of the influence, and the length of the filament and the energy distribution of thermoelectrons change.
電子ビームが安定するまでその中心軸を調整せずに放
置しておくと、中心軸が大きくずれて電子ビームが鏡筒
内壁面や電子レンズ等に衝突し、イオン吸着等によりそ
の部分が汚れるので、これを避ける必要がある。If the center axis of the electron beam is left unadjusted until it is stabilized, the center axis shifts greatly and the electron beam collides with the inner wall surface of the lens barrel or the electron lens. You need to avoid this.
[発明が解決しようとする課題] しかし、電子ビームの中心軸を電子光学系の中心軸に
合わせても、熱平衡状態に至る過程では時間の経過とと
もに中心軸がずれるので、中心軸調整を繰り返し長時間
にわたって行わなければならず煩雑であり、また、中心
軸を目視することができないので調整に熟練を要する。
この煩雑さを避けるために常時電子ビームテスタの電源
を入りにしておけば、無駄な電力が消費されるととも
に、電子銃の寿命が短くなる。[Problems to be Solved by the Invention] However, even if the center axis of the electron beam is aligned with the center axis of the electron optical system, the center axis shifts with time in the process of reaching the thermal equilibrium state. The adjustment must be performed over time, which is complicated, and the center axis cannot be visually observed, so that skill is required for adjustment.
If the power of the electron beam tester is always turned on to avoid this complication, useless power is consumed and the life of the electron gun is shortened.
電子ビーム中心軸を自動調整する装置は、特開昭62−
143351号公報に開示されている。A device for automatically adjusting the center axis of an electron beam is disclosed in
No. 143351 discloses this.
しかし、この装置は、電子銃をオンにしてから電子ビ
ームが安定するまでの時間を考慮していないので、この
時間が約1時間であるとすると、余裕をみて例えば、電
子銃をオンにしてから1時間15分経過後に、アラインメ
ンを開始しなければならず、電子銃をオンにしてからア
ラインメント完了までの時間が長くなる。これを短くす
るために例えば1時間経過後にアラインメンを開始する
と、電子ビームが安定せずに調整がずれるおそれがあ
る。しかも、電子銃をオンにしてから調整開始までの間
において、上記のよう電子ビーム衝突部が汚れ、チャー
ジアップにより電子ビームドリフトが生じて、電子ビー
ム照射位置精度が低下する。また、この汚れにより、内
部が真空である電子ビーム装置を分解してチャージアッ
プ源である汚れを除去する周期が短くなる。However, since this device does not consider the time from when the electron gun is turned on until the electron beam is stabilized, if this time is about one hour, for example, by turning on the electron gun, After 1 hour and 15 minutes from the start, the alignment must be started, and the time from turning on the electron gun to the completion of the alignment becomes longer. If the alignment is started after elapse of, for example, one hour to shorten this, the electron beam may not be stabilized and the adjustment may be shifted. In addition, between the time the electron gun is turned on and the start of the adjustment, the electron beam colliding portion is contaminated as described above, and an electron beam drift occurs due to charge-up, thereby lowering the electron beam irradiation position accuracy. In addition, due to the contamination, the cycle of disassembling the electron beam device having a vacuum inside and removing the contamination as a charge-up source is shortened.
本発明の目的は、このような問題点に鑑み、電子ビー
ムの中心軸調整を速やかにかつ正確に行うことができ、
しかも、中心軸調整完了前に電子ビームが部材に衝突し
て衝突部が汚れるのを防止することが可能な電子ビーム
中心軸自動調整装置を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, an object of the present invention is to quickly and accurately adjust the center axis of an electron beam,
In addition, it is an object of the present invention to provide an automatic electron beam center axis adjusting device capable of preventing an electron beam from colliding with a member before completion of the center axis adjustment and thereby preventing the collision portion from being stained.
[課題を解決するための手段] 第1図は本発明に係る電子ビーム中心軸自動調整装置
の原理構成を示すブロック図である。[Means for Solving the Problems] FIG. 1 is a block diagram showing the principle configuration of an electron beam center axis automatic adjusting apparatus according to the present invention.
図中、1は電子銃であり、電子ビームを放出する。 In the figure, reference numeral 1 denotes an electron gun which emits an electron beam.
2はアラインメント手段であり、コイルまたは偏向板
を用いて構成され、この電子ビームにローレンツ力を加
えて電子ビームの中心軸を調整する。Reference numeral 2 denotes an alignment means, which is formed using a coil or a deflection plate, and adjusts the center axis of the electron beam by applying Lorentz force to the electron beam.
3は中心軸一致量検出手段、例えば電子光学系中心軸
上に配置されるファラデーカップでこの電子ビームのう
ち電子光学系中心軸を通るものを捕らえてその電流値を
検出する構成であり、調整された電子ビーム中心軸の電
子光学系中心軸に対する一致量(例えば該電流値)を検
出する。Reference numeral 3 denotes a central axis coincidence detecting means, for example, a Faraday cup disposed on the central axis of the electron optical system, which captures an electron beam passing through the central axis of the electronic optical system and detects its current value. The amount of coincidence of the center axis of the electron beam with the center axis of the electron optical system (for example, the current value) is detected.
4はアラインメント完了判定手段であり、該中心軸一
致量が所定時間内に所定量以上低下した場合にはアライ
ンメント未完と判定し、該所定時間内に該所定量以上低
下しなかった場合にはアラインメント完了と判定する。Reference numeral 4 denotes alignment completion determining means. When the center axis coincidence amount decreases by a predetermined amount or more within a predetermined time, it is determined that the alignment is not completed. When the central axis coincidence amount does not decrease by the predetermined amount within the predetermined time, the alignment is completed. Judge as completion.
5はアラインメント制御手段であり、該アラインメン
ト未完と判定された場合に、検出された該中心軸一致量
が最大になるようにアラインメント手段2を制御する。Reference numeral 5 denotes an alignment control unit, which controls the alignment unit 2 so that the detected center axis coincidence amount becomes maximum when the alignment is determined to be incomplete.
該アラインメント完了が判定されるまでアラインメン
ト完了判定手段4による判定とアラインメント制御手段
5による制御とが交互に繰り返し行われる。Until the completion of the alignment is determined, the determination by the alignment completion determining means 4 and the control by the alignment control means 5 are repeated alternately.
[作用及び効果] 本発明によれば、アラインメント完了が判定されるま
で、アラインメント完了判定手段4による判定とアライ
ンメント制御手段5による制御とが交互に繰り返し行わ
れるので、電子ビームが安定するのを予測して安定後に
アラインメントを行う装置よりも、アラインメンを速や
かに且つ正確に行うことができ、しかも、電子銃をオン
にしてから電子ビームが安定するまでの間に電子ビーム
が部材に衝突してイオン吸着等により衝突部が汚れるの
を防止できるという効果を奏する。[Operation and Effect] According to the present invention, the determination by the alignment completion determining means 4 and the control by the alignment control means 5 are alternately repeated until the alignment completion is determined, so that the electron beam is predicted to be stable. Alignment can be performed faster and more accurately than a device that performs alignment after stabilization, and the electron beam collides with members during ion beam stabilization before the electron gun is turned on. This has the effect of preventing the collision portion from being stained by suction or the like.
[実施例] 《1》一実施例 以下、図面に基づいて本発明の一実施例を説明する。Embodiment << 1 >> One Embodiment An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
第2図は電子ビームテスタに適用した電子ビーム中心
軸自動調整装置を示す。FIG. 2 shows an electron beam center axis automatic adjustment apparatus applied to an electron beam tester.
軸方向が垂直方向に配置された鏡筒10の上端部には、
電子銃12が配設されている。電子銃12は、そのフィラメ
ント、グリット及び陽極に印加された電圧に応じたエネ
ルギー及び電流の電子ビームを下方へ放出する。電子銃
12の下方には、この電子ビームの中心軸を不図示の電子
光学系の中心軸に合わせるための軸合わせコイル14及び
16が鏡筒10の長手方向に沿って2段に設けられている。
軸合わせコイル14及び16はいずれも、X軸方向及びY軸
方向に電子ビームの中心軸を曲げるコイルで構成されて
いる。ここにX軸及びY軸は、電子ビーム光学系の中心
軸に直交する面内において互いに直交する軸である。At the upper end of the lens barrel 10 whose axial direction is arranged vertically,
An electron gun 12 is provided. The electron gun 12 emits an electron beam having energy and current corresponding to the voltage applied to the filament, the grit, and the anode. Electron gun
Below the axis 12, an alignment coil 14 for aligning the center axis of the electron beam with the center axis of an electron optical system (not shown),
16 are provided in two stages along the longitudinal direction of the lens barrel 10.
Each of the axis alignment coils 14 and 16 is a coil that bends the center axis of the electron beam in the X-axis direction and the Y-axis direction. Here, the X axis and the Y axis are axes orthogonal to each other in a plane orthogonal to the center axis of the electron beam optical system.
鏡筒10の下端は、試料室18に接続されている。この試
料室18内には、ステージ20上に試料24、例えばLSIが載
置されている。The lower end of the lens barrel 10 is connected to the sample chamber 18. In the sample chamber 18, a sample 24, for example, an LSI is mounted on a stage 20.
電子銃12から放出された電子ビームは、電子光学系及
び電子ビーム走査系により、試料24の所望の位置の配線
上に直径0.5μm程度に収束されて照射され、照射点か
ら放出される2次電子が検出されてその配線電位が測定
される。The electron beam emitted from the electron gun 12 is converged to a diameter of about 0.5 μm on a wiring at a desired position on the sample 24 by an electron optical system and an electron beam scanning system, and is emitted from the irradiation point. Electrons are detected and the wiring potential is measured.
この電子ビームテスタの立ち上げ時においては、電子
銃12が熱的に安定するまでに1時間程度かかり、この
間、電子ビームの中心軸が不安定であるため、電子ビー
ムが鏡筒10の内壁等に衝突しないように、この電子ビー
ムの中心軸を電子光学系の中心軸に合わせる必要があ
る。この立ち上げの際には、可動ファラデーカップ26が
電子光学系の中心軸上の位置へ移動され、軸合わせコイ
ル14及び16を通った電子ビームのうちこの中心軸を通っ
たものが可動ファラデーカップ26で捕らえられ、その電
流値Iが検出される。When the electron beam tester is started, it takes about one hour for the electron gun 12 to be thermally stabilized. During this time, the center axis of the electron beam is unstable. It is necessary to align the central axis of the electron beam with the central axis of the electron optical system so as not to collide with the electron beam. At the time of this start-up, the movable Faraday cup 26 is moved to a position on the center axis of the electron optical system, and the electron beam passing through the centering coils 14 and 16 passes through the center axis and is moved by the movable Faraday cup. At 26, the current value I is detected.
制御装置28は、この電流値I及び設定器30で設定され
た後述の設定値に基づいて、電子ビームのアライメント
が完了したかどうかを判定し、アライメントが完了して
いないと判定した場合には、自動軸合わせ装置32へアラ
イメント未完信号を供給する。自動軸合わせ装置32は、
この信号に応答して、電流値Iが最大値になるように、
軸合わせコイル14及び16の各X軸合わせコイル及び各Y
軸合わせコイルに電流を供給する。The control device 28 determines whether or not the alignment of the electron beam is completed based on the current value I and a setting value described later set by the setting device 30, and when it is determined that the alignment is not completed, Then, an incomplete alignment signal is supplied to the automatic alignment device 32. The automatic alignment device 32
In response to this signal, the current value I becomes the maximum value,
Each X axis alignment coil and each Y of the axis alignment coils 14 and 16
Supply current to the alignment coil.
次に、第3図及び第4図に基づいて、電子ビーム中心
軸自動調整の処理手順を説明する。Next, a processing procedure of the automatic adjustment of the center axis of the electron beam will be described with reference to FIGS.
(50)設定器30を操作して後述するP及びT0の値を設
定する。(50) by operating the setting device 30 sets the value of P and T 0 to be described later.
(52)軸合わせコイル14及び16へ予め定められた電流
を供給して、初期軸合わせを行う。また、可動ファラデ
ーカップ26を電子光学系中心軸上へ移動させる。(52) A predetermined current is supplied to the alignment coils 14 and 16 to perform initial alignment. Further, the movable Faraday cup 26 is moved on the center axis of the electron optical system.
(54)この可動ファラデーカップ26により検出される
電流値Iが最大になるように、軸合わせコイル14及び16
へ供給する電流値を変化させる。この処理は、軸合わせ
コイル14のX軸合わせコイル、Y軸合わせコイル及び軸
合わせコイル16のX軸合わせコイル及びY軸合わせコイ
ルの各々について、この順に行う。各軸合わせコイルに
供給する電流iの変化のさせかたは共通であり、これを
第4図に示す。(54) The axial alignment coils 14 and 16 are adjusted so that the current value I detected by the movable Faraday cup 26 is maximized.
The value of the current supplied to is changed. This process is performed in this order for each of the X-axis matching coil, the Y-axis matching coil of the axis matching coil 14, and the X-axis matching coil and the Y-axis matching coil of the axis matching coil 16. The way of changing the current i supplied to each axis alignment coil is common, and this is shown in FIG.
(540)フラグFをリセットし、 (542)軸合わせコイルへ供給する電流iを小量Δだ
け増加させる。(540) The flag F is reset, and (542) the current i supplied to the axis alignment coil is increased by a small amount Δ.
(544)これにより、可動ファラデーカップ26で検出
された電流Iの値が変化しなければ極大状態と判断して
処理を終了する。電流Iの値が増加した場合には、 (548)フラグFをセットし、ステップ542へ戻る。(544) As a result, if the value of the current I detected by the movable Faraday cup 26 does not change, it is determined that the state is the maximum state, and the processing is terminated. If the value of the current I has increased, (548) the flag F is set, and the flow returns to step 542.
ステップ544で電流Iの値が減少したと判定した場合
には、 (550)フラグFの値に応じて分岐する。すなわち、
フラグFの値が“1"であれば1つ前の状態が極大状態で
あると判断し、 (552)軸合わせコイルに供給する電流iの値をΔだ
け小さくして処理を終了する。If it is determined in step 544 that the value of the current I has decreased, the process branches according to the value of the flag F (550). That is,
If the value of the flag F is "1", it is determined that the immediately preceding state is the maximum state, and (552) the value of the current i supplied to the alignment coil is decreased by Δ, and the process is terminated.
ステップ550でフラグFの値が“0"であれば、すなわ
ち、ステップ542の処理を一回行って電流Iの値が減少
した場合には、 (554)軸合わせコイルに供給する電流iの値をΔだ
け小さくし、 (556)これにより可動ファラデーカップ26で検出さ
れた電流Iの値が増加したかどうかを判定する。Iの値
が増加しておれば、ステップ554へ戻る。If the value of the flag F is "0" in step 550, that is, if the value of the current I is reduced by performing the process of step 542 once, (554) the value of the current i supplied to the axis adjusting coil Is reduced by Δ, and (556) It is determined whether the value of the current I detected by the movable Faraday cup 26 has increased. If the value of I has increased, the process returns to step 554.
この電流Iの値が減少しておれば、 (558)軸合わせコイルに供給する電流iの値をΔだ
け増加して処理を終了する。If the value of the current I has decreased, (558) the value of the current i supplied to the axis alignment coil is increased by Δ, and the process ends.
ステップ556において、電流Iの値が変化していなけ
れば処理を終了する。In step 556, if the value of the current I has not changed, the process ends.
以上のような処理を4つの軸合わせコイルについて独
立に順次行う。通常はこれを2、3サイクル繰り返し行
うことにより可動ファラデーカップ26の電流値が最大と
なり、第3図に示すステップ54の処理が終了する。The above-described processing is sequentially performed independently for the four alignment coils. Normally, by repeating this for a few cycles, the current value of the movable Faraday cup 26 becomes maximum, and the processing of step 54 shown in FIG. 3 ends.
(56)次に、可動ファラデーカップ26で電子ビーム電
流Iを測定し、この値を軸合わせ時の電流値I1として記
憶しておく。また、この時点の時刻をT1として記憶して
おく。(56) Next, to measure the electron beam current I by the movable Faraday cup 26, and stores this value as a current value I 1 at the time of alignment. Also, it stores the time at this point as T 1.
(58)上記同様に、可動ファラデーカップ26で電子ビ
ーム電流値を測定し、この値を現電流値I2として記憶
し、かつ、現時刻をT2として記憶しておく。(58) in the same manner as described above, to measure the electron beam current in the movable Faraday cups 26, stores this value as the current electric current value I 2, and stores the present time as T 2.
(60)(T2−T1)の値がステップ50で設定されたT0以
下であれば、 (62)I2/I1の値とステップ50で設定された値Pとを
比較する。(60) If the value of (T 2 −T 1 ) is equal to or less than T 0 set in step 50, (62) Compare the value of I 2 / I 1 with the value P set in step 50.
I2/I1≧Pであれば、ステップ58へ戻る。If I 2 / I 1 ≧ P, the process returns to step 58.
I2/I1<Pとなれば、すなわち、自動軸合わせ後設定
時間T0経過前に電子ビームの中心時が大きく乱れて可動
ファラデーカップ26により捕らえられる電流値が100P%
低下した場合には、ステップ54へ戻り再度自動軸合わせ
を行う。この時間T0内に電流値Iが100P%低下しなかっ
た場合には、すなわち、電子ビームの中心軸が安定すれ
ば、処理を終了する。If I 2 / I 1 <P, that is, the center value of the electron beam is greatly disturbed before the set time T 0 has elapsed after the automatic axis alignment, and the current value captured by the movable Faraday cup 26 is 100 P%.
If it has decreased, the process returns to step 54 to perform automatic axis alignment again. If this current value I is not reduced 100P% in time T in 0, i.e., if the center axis of the electron beam is stabilized, the process ends.
《2》試験例 第5図は上記実施例装置を用いて電子ビーム中心軸自
動調整を行った試験例を示す。縦軸は可動ファラデーカ
ップ26で検出された電流値(nA)であり、横軸は装置の
立ち上げ開始後の経過時間(分)である。<< 2 >> Test Example FIG. 5 shows a test example in which the electron beam center axis was automatically adjusted using the apparatus of the above embodiment. The vertical axis represents the current value (nA) detected by the movable Faraday cup 26, and the horizontal axis represents the elapsed time (minutes) after the start of the apparatus.
設定器30による設定値は、T0=15分、P=0.8であ
る。The values set by the setting device 30 are T 0 = 15 minutes and P = 0.8.
この試験例から、本発明に係る装置を用いて電子ビー
ム中心軸を自動的かつ適性に電子光学系中心軸に合わせ
ることができることが解る。From this test example, it is understood that the center axis of the electron beam can be automatically and appropriately aligned with the center axis of the electron optical system using the apparatus according to the present invention.
《3》拡張 なお、本発明には他にも種々の変形例が含まれる。<< 3 >> Expansion The present invention includes various other modified examples.
例えば、上記実施例では電子光学系中心軸を通る電子
ビーム電流の減少量が設定時間内に所定%以上になれば
再度自動軸合わせを行う場合を説明したが、設定時間内
に、この電流の減少量がある値以上になりまたはこの電
流値がある値以下になれば自動軸合わせを再度行う構成
であってもよい。For example, in the above-described embodiment, the case where the automatic axis alignment is performed again when the reduction amount of the electron beam current passing through the center axis of the electron optical system becomes a predetermined percentage or more within the set time has been described. When the amount of decrease becomes a certain value or more or this current value becomes a certain value or less, automatic alignment may be performed again.
またこの電子ビーム電流値の時間に対する傾きの平均
値を求め、この傾きに応じて再度軸合わせを行うかどう
かを判定する構成であってもよい。Further, a configuration may be adopted in which the average value of the gradient of the electron beam current value with respect to time is obtained, and whether or not to perform axis alignment again is determined according to the gradient.
【図面の簡単な説明】 第1図は本発明の原理構成を示すブロック図である。 第2図乃至第4図は本発明の一実施例に係り、 第2図は電子ビームテスタに適用した電子ビーム中心軸
自動調整装置の構成を示すブロック図、 第3図は電子ビーム中心軸自動調整の処理手順を示すフ
ローチャート、 第4図は1つの軸合わせコイルについての、自動軸合わ
せ装置32での処理手順を示すフローチャートである。 第5図はこの実施例装置を用いた試験例に係り、ファラ
デカップで検出された電子ビーム電流の時間に対する変
化を示す図である。 図中、 10は鏡筒 12は電子銃 14、16は軸合わせコイル 18は試料室 20はステージ 24は試料 26は可動ファラデカップ 28は制御装置 30は設定器 32は自動軸合わせ装置BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a block diagram showing the principle configuration of the present invention. 2 to 4 relate to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a block diagram showing a configuration of an automatic electron beam center axis adjusting device applied to an electron beam tester. FIG. FIG. 4 is a flowchart showing a processing procedure of the adjustment by the automatic axis alignment device 32 for one axis alignment coil. FIG. 5 is a diagram showing a change with time of the electron beam current detected by the Faraday cup in a test example using the apparatus of this embodiment. In the figure, 10 is a barrel 12 is an electron gun 14, 16 is an alignment coil 18 is a sample chamber 20 is a stage 24 is a sample 26 is a movable Faraday cup 28 is a control device 30 is a setting device 32 is an automatic alignment device
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大窪 和生 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 安部 貴之 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (56)参考文献 特開 昭62−143351(JP,A) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Kazuo Okubo 1015 Uedanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture Inside Fujitsu Limited (72) Inventor Takayuki Abe 1015 Kamikodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Fujitsu Limited (56) References JP-A-62-143351 (JP, A)
Claims (1)
心軸を調整するアラインメント手段と、 調整された該電子ビーム中心軸の電子光学系中心軸に対
する一致量を検出する中心軸一致量検出手段と、 を備えた装置において、 該中心軸一致量が所定時間内に所定量以上低下した場合
にはアラインメント未完と判定し、該所定時間内に該所
定量以上低下しなかった場合にはアラインメント完了と
判定するアラインメント完了判定手段と、 該アラインメント未完と判定された場合に、検出された
該中心軸一致量が最大になるように該アラインメント手
段を制御するアラインメント制御手段と、 を有し、該アラインメント完了が判定されるまで該アラ
インメント完了判定手段による判定と該アラインメント
制御手段による制御とが交互に繰り返し行われることを
特徴とする電子ビーム中心軸自動調整装置。1. An electron gun for emitting an electron beam, alignment means for applying a Lorentz force to the electron beam to adjust the center axis of the electron beam, and a center axis of the adjusted electron beam center axis of the electron optical system. And a center axis coincidence amount detecting means for detecting a coincidence amount with respect to, when the central axis coincidence amount decreases by a predetermined amount or more within a predetermined time, it is determined that the alignment is incomplete, and within the predetermined time, the alignment is not completed. Alignment completion judging means for judging that the alignment has been completed when it has not decreased by a predetermined amount or more, and controlling the alignment means so that the detected center axis coincidence amount becomes maximum when it is judged that the alignment is incomplete. And an alignment control unit for determining whether the alignment is complete, and determining the alignment by the alignment completion determining unit until the alignment is determined to be complete. Electron beam center axis automatic adjusting apparatus characterized by a control by the instrument control means are repeated alternately.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1026191A JP2582151B2 (en) | 1989-02-03 | 1989-02-03 | Electron beam center axis automatic adjustment device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1026191A JP2582151B2 (en) | 1989-02-03 | 1989-02-03 | Electron beam center axis automatic adjustment device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02207441A JPH02207441A (en) | 1990-08-17 |
JP2582151B2 true JP2582151B2 (en) | 1997-02-19 |
Family
ID=12186603
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1026191A Expired - Lifetime JP2582151B2 (en) | 1989-02-03 | 1989-02-03 | Electron beam center axis automatic adjustment device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2582151B2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6344078B2 (en) * | 2014-06-19 | 2018-06-20 | 株式会社島津製作所 | Electron beam apparatus and control apparatus and control method for electron beam apparatus |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62143351A (en) * | 1985-12-17 | 1987-06-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Automatic optical axis adjuster |
-
1989
- 1989-02-03 JP JP1026191A patent/JP2582151B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH02207441A (en) | 1990-08-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100407579B1 (en) | Wafer holding apparatus forion implanting system | |
EP2365511B1 (en) | Feedback loop for emitter flash cleaning | |
JPH0563894B2 (en) | ||
JP2019508840A (en) | Method of implanting semiconductor wafer with high bulk resistance | |
JP2019508840A5 (en) | ||
JP2001052642A (en) | Scanning electron microscope and micro-pattern measuring method | |
JP2582151B2 (en) | Electron beam center axis automatic adjustment device | |
US8507857B2 (en) | Charged particle beam inspection apparatus and inspection method using charged particle beam | |
US9799486B2 (en) | Charged particle beam apparatus for measuring surface potential of a sample | |
TW201740419A (en) | Thermal field emitter tip, electron beam device including a thermal field emitter tip and method for operating an electron beam device | |
JP2001076634A (en) | Focused ion beam device | |
JP3458481B2 (en) | Automatic focusing device | |
KR100906030B1 (en) | Electron-beam size measuring apparatus and size measuring method with electron beams | |
JPH07272653A (en) | Adjusting method for electric field ionizing type gas phase ion source and ion beam device | |
KR20010042622A (en) | Liquid metal ion source and method for measuring flow impedance of liquid metal ion source | |
TWI761811B (en) | Power units and methods of supplying power to a current source load | |
JP2000195459A (en) | Specimen observing method and scanning electron microscope | |
US11276548B2 (en) | Charged particle beam device and charged particle beam adjustment method | |
JPH10208653A (en) | Ion source unit and focusing ion beam device using the same | |
KR20080090118A (en) | Control method of inspecting apparatus for semiconductor device | |
JP2738686B2 (en) | Inspection device and inspection method using the same | |
JPS62110241A (en) | Probe current controlling method for electron microscope and device thereof | |
JP3412398B2 (en) | Ion beam startup method | |
JPH0574395A (en) | Electron source system and its control meth0d | |
JPH0246642A (en) | Focused charged particle beam device |