JP2578128Y2 - 恒温化ローディング装置 - Google Patents

恒温化ローディング装置

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JP2578128Y2
JP2578128Y2 JP1992006605U JP660592U JP2578128Y2 JP 2578128 Y2 JP2578128 Y2 JP 2578128Y2 JP 1992006605 U JP1992006605 U JP 1992006605U JP 660592 U JP660592 U JP 660592U JP 2578128 Y2 JP2578128 Y2 JP 2578128Y2
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昭 岩瀬
拓興 沼賀
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Shibaura Machine Co Ltd
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Toshiba Machine Co Ltd
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Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本考案は、電子ビーム描画装置の
ように高真空でかつ例えば20℃又は25℃のような所
定の室温程度の温度に保たれたいわゆる恒温処理室で、
被処理材を該所定の温度に保って描画や計測等の処理を
施こす装置に係り、特に被処理材を所定の温度にコント
ロールして恒温処理室へロードするための恒温化ローデ
ィング装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の装置として、図6に示す
ものが提案されている(特開昭61−239624
号)。この装置は、電子ビーム描画装置や電子ビーム寸
法測定装置に係るもので、電子ビーム鏡筒11を備えた
恒温処理室10内に、被処理材Waを保持したホルダH
aをセットするXYステージ12が設けられている。恒
温処理室10はその壁10a中に設けた流路13に恒温
水を流すことにより所定の温度に保たれ、かつ真空ポン
プ14によって高真空に保たれている。
【0003】恒温処理室10にはゲートバルブ20を介
して予備室30が接続されている。予備室30は、直接
又は別の図示しない予備室を介して、同じく図示しない
開閉扉により大気側へ開閉可能に構成されている。予備
室30は図示しない真空ポンプにより真空可能になされ
ると共に、壁30a中に設けた流路31に恒温水を流す
ことにより恒温処理室10と等しい温度に保たれる。
【0004】予備室30内には、駆動装置32によって
上下動されるエレベータ33が設けられている。エレベ
ータ33は、恒温処理室10内で処理を終ったホルダH
aを上段に収納し、下段にはこれから恒温処理室10へ
ロードするホルダHbを収納する。なお、エレベータ3
3とXYステージ12との間のホルダHa,Hbの搬送
は、搬送装置34によって行われる。
【0005】下段のホルダHbの下面は下方に露出され
ており、この下面に接触可能に恒温化プレート35が設
けられている。恒温化プレート35は、パイプ36,3
7によって循環される恒温水により恒温処理室10の温
度と等しく保たれ、待機中のホルダHb及びこれに保持
されている被処理材Wbを所定の処理温度にコントロー
ルするようになっている。なお、図6において、15は
定盤,16はダンパ,17はブロックである。
【0006】上記の従来装置は、予備室30を大気に開
放して、エレベータ33の上段から処理剤のホルダHa
を取出すと共に、未処理のホルダHbをエレベータ33
の下段に挿入した後、予備室30を大気からしゃ断し、
恒温処理室10と同程度に真空引きする。
【0007】エレベータ33に挿入される未処理のホル
ダHbは、予じめ所定の温度にコントロールされている
が、本装置を設置してある部屋の温度の精度は少なくと
も0.1℃程度の誤差を有し、さらに予備室30を真空
引きする際に生ずる予備室30内のガスの断熱膨脹によ
り温度が低下し、エレベータ33と共にホルダHb及び
被処理材Wbが冷却されるため、これらの温度は所定の
温度に対し、わずかではあるが誤差を生ずる。
【0008】そこで、ホルダHbを恒温化プレート35
に接触させて所定の温度に近付けて恒温処理室10へロ
ードするようにしていた。この恒温化プレート35を設
けない場合には、予備室30の壁30aを所定の恒温に
高精度に保っても、この恒温に対しホルダHb及び被処
理材Wbの温度差が0.1℃程度に減少すると、これ以
上温度差が小さくならないのに対し、恒温化プレート3
5を設けることにより、少なくとも恒温化プレート35
に直接接触しているホルダHbの温度を所定の恒温にほ
ぼ合致させることができる。
【0009】
【考案が解決しようとする課題】しかしながら、ホルダ
Hbの下面を恒温化プレート35に単に接触させる上記
従来装置は、例えば23℃の恒温に対し、ホルダHbが
22.8℃と0.2℃の温度差を有する場合、ホルダH
bが23±0.02℃程度の範囲内に到達するのに2時
間程度の長時間を要し、後述するようにホルダHbに比
較的小さな接触面積で保持されている被処理材Wbを該
温度に合致させることは不可能に近い。
【0010】ところで、一辺の長さ(L)が200mmの
アルミニウム材ホルダHbが0.1℃の温度変化(t)
を生ずると、その熱変形量(l)は l=L×α×t=200×23.5×10-6×0.1=0.00047(mm) (ただし、αはアルミニウムの線膨脹係数) すなわち0.47μm となり、サブミクロンの精度を得
ることができない。
【0011】本考案は、ホルダ及びこれに保持されてい
る被処理材をより短時間で所定の温度にコントロールし
てロードすることができ、能率的に高精度な処理を可能
にする恒温化ローディング装置を提供することを目的と
している。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本考案は、真空の恒温処理室と、同恒温処理室にゲー
トバルブを介して接続された真空可能な予備室と、同予
備室内に設けられた恒温化手段とを備え、ホルダ及び同
ホルダに保持された被処理材を前記恒温化手段により前
記予備室内で恒温化して前記恒温処理室へロードする恒
温化ローディング装置において、前記予備室内に上下動
可能に設けられ上下2段に前記ホルダを載置するエレベ
ータと、同エレベータの上面または下面に対向して設け
られ所望の温度にコントロールされる恒温化部材とから
なり、前記エレベータは、前記恒温化部材に対向する上
面または下面側に、これから恒温処理室へロードするホ
ルダを載置すると共に、該ホルダの反恒温化部材側に位
置する被恒温板を有し、同被恒温板と前記恒温化部材と
は前記ホルダを間に置いて該ホルダを包囲すると共に周
辺部が互いに接触可能に形成されていることを特徴とし
ている。
【0013】なお、予備室の壁は熱伝導率の小さな材質
で形成し、恒温化部材及び被恒温板は熱伝導率の大きな
材質で形成することが好ましい。また、恒温化部材は熱
放射率の大きな材質で形成することが好ましく、さら
に、恒温化部材又は被恒温板に、ホルダの上面に当接可
能なバネを設けてホルダの下面を被恒温板又は恒温化部
材に押圧することが好ましい。
【0014】
【作用】予備室のエレベータに挿入されて恒温処理室へ
のロードを待つホルダは、恒温化部材と被恒温板との間
に置かれ、かつこれらに包囲された状態に置かれる。恒
温化部材は所望の温度にコントロールされ、被恒温板は
恒温化部材と接触して所望の温度に近付けられるため、
ホルダを包囲する周辺は比較的短時間のうちに所望の温
度に近付き、この中に置かれたホルダと共にこれに保持
されている被処理材を比較的短時間のうちに所望の温度
に近付ける。
【0015】なお、予備室の壁を熱伝導率の小さな材質
で形成し、恒温化部材及び被恒温板を熱伝導率の大きな
材質で形成すれば、外部の温度変化の影響を小さく押え
ると同時にホルダ及び被処理材の温度をより効果的にコ
ントロールすることができ、また、恒温化部材を熱放射
率の大きな材質で形成し、さらに、バネによって押圧す
れば、より効果的な温度コントロールが可能となる。
【0016】
【実施例】以下本考案の第1の実施例について図1ない
し図3を参照して説明する。なお、図6と同一部分には
同一の符号を付して説明を省略する。予備室30内には
エレベータ40が設けられている。エレベータ40は、
予備室30の下方から上に向かって伸びるロッド41に
取付けられ、図示しない駆動装置によって上下動可能に
なっている。エレベータ40は、図2及び図3に拡大し
て示すように上下2段のホルダ支持体42B,42Aを
有し、下段のホルダ支持体42Aに処理済のホルダHa
を載置し、上段のホルダ支持体42Bに未処理のホルダ
Hbを載置するようになっている。
【0017】ホルダ支持体42A,42Bは略平板状に
形成され、図1に示す搬送装置34によりホルダHa,
Hbを図1ないし図3において左方へ移動可能に支持す
るようになっており、両ホルダ支持体42A,42Bは
上下方向に弾性を有する複数のバネ43によって連結さ
れている。
【0018】ここで、ホルダHa,Hbと被処理材W
a,Wbとの取付関係の概要を図3により説明する。ホ
ルダHa,Hbは同一の構造であり、上方を開放した凹
所82を有する本体81を有し、凹所82内に複数のバ
ネ83によって上方に付勢されているクランプ板84が
設けられている。クランプ板84の上面には複数の突起
85が設けられ、これらの突起85によって被処理材W
a又はWbを本体81の上面に取付けた上基準片86の
下面に押圧するようになっている。さらに、被処理材W
a又はWbはその上面と平行な面内における位置決め
を、図示しない基準片と押圧手段とによって行われるよ
うになっている。なお、ホルダHa,Hbは電子ビーム
描画装置において用いられている公知のものと同様であ
るため、これ以上の詳細な説明は省略する。
【0019】予備室30の壁30aの一部を形成するフ
タ30bの下面には恒温化部材50が取付けられてい
る。恒温化部材50の下面はエレベータ40の上段のホ
ルダ支持体42Bの上面に対向して配置されている。恒
温化部材50の下面にはホルダHbを受入れる凹所51
が設けられている。凹所51内の上部には複数のバネ5
2が取付けられ、図2に示すように、凹所51内に受入
れられたホルダHbの上面に当接して、ホルダHbを下
方へ押圧するようになっている。
【0020】恒温化部材50の下端面50aは、図2に
示すように、ホルダHbを凹所51内に受入れた状態
で、ホルダ支持体42Bの上面に当接し、凹所51を閉
じるように構成されている。
【0021】恒温化部材50には流路53が設けられ、
継手54,55を介して図示しない恒温水供給装置から
の恒温水を流し、所定の温度に高精度に保たれるように
なっている。なお、上段のホルダ支持体42Bは、恒温
化部材50に接触して恒温化される被恒温板を兼ねてお
り、恒温化部材50と被恒温板42Bは、アルミニウム
又は銅等の熱伝導率の大きな材質で形成されている。
【0022】これに対し、予備質30及び恒温処理室1
0の壁30a,10aはステンレス鋼のSUS304
(JIS規格)のような熱伝導率の比較的小さな材質で
形成され、周囲温度の変化による影響を小さく押えるよ
うにしてある。
【0023】次いで本装置の作用について説明する。図
1に示すように、ホルダHaをXYステージ12にセッ
トして、ゲートバルブ20を閉じ、ホルダHaに保持さ
れている被処理材Waに対し、恒温処理室10内での処
理が開始されると、予備室30内の圧力を大気圧に戻し
て大気側開口を開き、エレベータ40を図3に示す下降
位置に置いて未処理の被処理材Wbを保持したホルダH
bを外部から上段のホルダ支持体42B上に搬入し、予
備室30の大気側開口を閉じて予備室30内の真空引き
を開始する。
【0024】なお、予備室30が図示しない別の予備室
を介して大気に連通可能に構成されている場合は、予備
室30は真空に保ったままとし、別の予備室内に置かれ
ている未処理のホルダHbを予備室30内に取込む。
【0025】次いで、エレベータ40を図1及び図2に
示すように上昇させ、上段のホルダ支持体すなわち被恒
温板42Bを恒温化部材50の下面に押圧する。この押
圧力はバネ43によってほぼ一定の値に保たれると共
に、全域にわたる押圧力の分布が均一化される。
【0026】このときホルダHbは、恒温化部材50の
凹所51内に入り、その上部に設けられているバネ52
により被恒温板42Bに押圧される。
【0027】そこで、ホルダHbは、被恒温板42Bを
介して恒温化部材50に熱的に接続され、高精度に制御
されている恒温化部材50の温度に近付けられる。
【0028】また、ホルダHbを受入れた凹所51は被
恒温板42Bによって閉じられる。
【0029】ホルダHb及び被処理材Wbは恒温化部材
50からの放射熱を受け、これによっても恒温化部材5
0の温度に近付けられる。この意味から恒温化部材50
は、少なくとも凹所51の表面を、常温において熱放射
率の大きな材質、例えば、炭素,窒化けい素,炭化けい
素,ジルコニア,アルミナ等で形成しておくことが好ま
しい。また、炭化けい素は、熱放射率と共に熱伝導率も
大きいため、恒温化部材50,さらには被恒温板42B
の材質として適している。
【0030】凹所51は、放射熱によるホルダHb及び
被処理材Wbの温度を恒温化部材50によってより効果
的にコントロールするため、ホルダHb及び被処理材W
bをほぼ全方向から覆うか若しくは接触させるように形
成することが好ましい。
【0031】なお、恒温化部材50及び被恒温板42B
をアルミニウムで形成し、アルミニウム製のホルダHb
を用いた場合、22.8℃のホルダHbを23±0.0
2℃程度の範囲内の恒温に到達させるのに必要な時間は
約30分程度であり、図6に示した従来装置の1/4程
度の時間で済ますことができ、さらにホルダHbに比較
的小さな接触面積で保持されている被処理材Wbをより
効果的に温度コントロールすることが可能である。
【0032】図4及び図5は、本考案の第2の実施例を
示すもので、恒温化部材50Aをエレベータ40Aの下
方に配置したものである。この実施例においては、エレ
ベータ40Aの駆動装置(図示せず)を上方に設け、未
処理のホルダHbを下段に、処理済のホルダHbを上段
に挿入するようにしている。
【0033】下段のホルダHbは、上段のホルダ支持体
44から下方に伸びるレール状のホルダ支持体45によ
り下面の両端部のみを図4及び図5において左方へ移動
可能に支持され、下面の大部分を下方へ露出するように
なっている。
【0034】恒温化部材50Aは、ホルダHbを受入れ
る凹所51Aを有すると共に、図4及び図5において左
右両端が下段のホルダ支持体45の間に入ってその上端
56が上段のホルダ支持体44の下面44aに当接可能
に形成されると共に、図4及び図5において手前側と奥
側の段部57がホルダ支持体45の下端45aに当接な
いしわずかなすき間をもって対向するように形成され、
凹所51を完全ではないが略閉じるようになってる。な
お、バネ52は、上段のホルダ支持体44の下面44a
に取付けられている。
【0035】この実施例においては、上段及び下段のホ
ルダ支持体44,45が被恒温板を兼ねており、前述し
た実施例とほぼ同様の恒温化作用が得られる。
【0036】
【考案の効果】以上述べたように本考案によれば、予備
室を介して真空の恒温処理室へロードするホルダ及びこ
れに保持されている被処理材を、より短時間で所定の温
度にコントロールすることができ、能率的に高精度な処
理を施こすことができ、ますます大形化及び高精度化し
つつある電子ビーム描画装置等において大きな効果が得
られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の第1の実施例を示す概要断面図であ
る。
【図2】図1の一部拡大詳細図である。
【図3】図2のエレベータ下降状態を示す図である。
【図4】本考案の第2の実施例を示す一部拡大詳細図で
ある。
【図5】図4のエレベータ下降状態を示す図である。
【図6】従来装置の概要断面図である。
【符号の説明】
Wa,Wb 被処理材 Ha,Hb ホルダ 10 恒温処理室 11 電子ビーム鏡筒 12 XYステージ 20 ゲートバルブ 30 予備室 34 搬送装置 40,40A エレベータ 42B,44,45 被恒温板 50,50A 恒温化部材 51,51A 凹所 52 バネ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 21/027

Claims (4)

    (57)【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 真空の恒温処理室と、同恒温処理室にゲ
    ートバルブを介して接続された真空可能な予備室と、同
    予備室内に設けられた恒温化手段とを備え、ホルダ及び
    同ホルダに保持された被処理材を前記恒温化手段により
    前記予備室内で恒温化して前記恒温処理室へロードする
    恒温化ローディング装置において、 前記予備室内に上下動可能に設けられ上下2段に前記ホ
    ルダを載置するエレベータと、同エレベータの上面また
    は下面に対向して設けられ所望の温度にコントロールさ
    れる恒温化部材とからなり、前記エレベータは、前記恒
    温化部材に対向する上面または下面側に、これから恒温
    処理室へロードするホルダを載置すると共に、該ホルダ
    の反恒温化部材側に位置する被恒温板を有し、同被恒温
    板と前記恒温化部材とは前記ホルダを間に置いて該ホル
    ダを包囲すると共に周辺部が互いに接触可能に形成され
    ていることを特徴とする恒温化ローディング装置。
  2. 【請求項2】 予備室の壁は熱伝導率の小さな材質で形
    成され、恒温化部材及び被恒温板は熱伝導率の大きな材
    質で形成されていることを特徴とする請求項1の恒温化
    ローディング装置。
  3. 【請求項3】 恒温化部材は熱放射率の大きな材質で形
    成されていることを特徴とする請求項1又は2の恒温化
    ローディング装置。
  4. 【請求項4】 恒温化部材又は被恒温板に、ホルダの上
    面に当接可能なバネを設け、該ホルダの下面を被恒温板
    又は恒温化部材に押圧するようにしたことを特徴とする
    請求項1,2又は3の恒温化ローディング装置。
JP1992006605U 1992-01-22 1992-01-22 恒温化ローディング装置 Expired - Lifetime JP2578128Y2 (ja)

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