JP2573535Y2 - Pressure sensor - Google Patents

Pressure sensor

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JP2573535Y2 JP1993003663U JP366393U JP2573535Y2 JP 2573535 Y2 JP2573535 Y2 JP 2573535Y2 JP 1993003663 U JP1993003663 U JP 1993003663U JP 366393 U JP366393 U JP 366393U JP 2573535 Y2 JP2573535 Y2 JP 2573535Y2
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Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本考案はシリコン等の半導体のピ
エゾ抵抗効果を利用して圧力を電気信号に変換する圧力
センサに関し、特に差圧とともに静圧,温度を検出する
機能を有する圧力センサに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pressure sensor for converting a pressure into an electric signal by utilizing a piezoresistance effect of a semiconductor such as silicon, and more particularly to a pressure sensor having a function of detecting a static pressure and a temperature as well as a differential pressure. Things.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、この種の圧力センサは、圧力の
導入によってゲージ抵抗の歪を発生させ、その抵抗素子
のピエゾ抵抗効果による抵抗変化を電気信号に変換して
圧力の値を測定するものであり、工業計測をはじめとす
る種々の用途に広く用いられている。この圧力センサ
は、その基本構造を図4(a)及び(b)に示すように、固定
部となる厚肉部2と薄肉ダイアフラム部3とを備えたチ
ップ状のn形シリコン基板1を用い、その薄肉ダイアフ
ラム部3内に、p形拡散領域からなるピエゾ抵抗効果を
有するゲージ抵抗4(41〜44)を形成した構成を有し
ている。
2. Description of the Related Art Generally, a pressure sensor of this type generates a strain in a gauge resistance by introducing pressure, and converts a resistance change of the resistance element due to a piezoresistance effect into an electric signal to measure a pressure value. It is widely used for various applications including industrial measurement. As shown in FIGS. 4A and 4B, this pressure sensor uses a chip-shaped n-type silicon substrate 1 provided with a thick part 2 and a thin diaphragm part 3 as fixed parts, as shown in FIGS. , the thin diaphragm portion 3, has a structure obtained by forming the gauge resistors 4 (4 1 to 4 4) having a piezo resistance effect made of p-type diffusion region.

【0003】そして、このシリコン基板1は厚肉部2に
おいて圧力導入口32を備えたガラスチューブ等の支持
部材31に固定されていて、この導入口32から圧力が
加えられると、薄肉ダイアフラム部3は歪み、それによ
ってゲージ抵抗4は抵抗値が変化する。そのため、これ
らゲージ抵抗4をブリッジ回路に組み込み、これに電圧
を印加すれば、そのブリッジ回路から圧力、つまり薄肉
ダイヤフラム部3の表裏の圧力PHとPLの差圧に応じた
出力信号を取り出すことができる。
The silicon substrate 1 is fixed to a support member 31 such as a glass tube provided with a pressure inlet 32 at the thick portion 2. When a pressure is applied from the inlet 32, the thin diaphragm portion 3 is formed. Is distorted, whereby the resistance value of the gauge resistor 4 changes. Therefore, incorporation of these gauge resistors 4 to the bridge circuit, when a voltage is applied thereto is removed from the bridge circuit pressure, i.e. an output signal corresponding to the differential pressure of the pressure P H and P L of the front and back surfaces of the thin diaphragm portion 3 be able to.

【0004】ここで、ゲージ抵抗4を形成したシリコン
基板1の表面は、SiO2 などの絶縁膜5によって覆わ
れ、これを開口したコンタクト孔を通してゲージ抵抗4
と電気的に接続するアルミニウム(Al)等からなる引
出し電極6が形成され、外部との接続は通常ワイヤボン
ディングにより行われている。
Here, the surface of the silicon substrate 1 on which the gauge resistor 4 is formed is covered with an insulating film 5 such as SiO 2, and the gauge resistor 4 is passed through a contact hole opened.
An extraction electrode 6 made of aluminum (Al) or the like is formed so as to be electrically connected to the outside, and connection to the outside is usually made by wire bonding.

【0005】ところで、かかる圧力センサを工業計測用
の圧力発信器として用いる場合、この圧力センサに、静
圧を検出するとともに周囲の温度を検出するために静圧
検出回路と温度検出回路をそれぞれ内蔵させたものがあ
る。これは、その等価的な回路構成を図5に示すよう
に、シリコン基板1上の薄肉ダイアフラム部3にp形ゲ
ージ抵抗4(41 〜44 )からなる差圧検出用ブリッジ
回路11を形成するとともに、その外周の厚肉部2の所
定領域に前記ゲージ抵抗4と同様なゲージ抵抗121
124 からなる静圧温度検出用ブリッジ回路12,温度
検出素子131〜134 からなる温度検出用ブリッジ回
路13を一体に形成する。そして、これらブリッジ回路
11〜13の各入力端子を一定の電圧Vが印加される電
源端子10a,10bに共通にそれぞれ接続することに
より、この電圧Vによって前記各ブリッジ回路11〜1
3を常時駆動するものとなっている。
When such a pressure sensor is used as a pressure transmitter for industrial measurement, the pressure sensor has a built-in static pressure detecting circuit and a built-in temperature detecting circuit for detecting the ambient temperature and detecting the ambient temperature. There are things that let me. This has its equivalent circuit configuration as shown in FIG. 5, forms a differential pressure detection bridge circuit 11 comprised of p-type gauge resistors 4 to the thin diaphragm portion 3 (41 to 4) on the silicon substrate 1 At the same time, gauge resistances 12 1 to 12 similar to the gauge resistance 4 are provided in a predetermined region of the thick part 2 on the outer periphery thereof.
12 4 static pressure temperature detecting bridge circuit 12 consisting of the temperature detecting bridge circuit 13 consisting of the temperature detecting element 131-134 are integrally formed. The respective input terminals of the bridge circuits 11 to 13 are commonly connected to the power supply terminals 10a and 10b to which a constant voltage V is applied.
3 is always driven.

【0006】このような圧力センサは、シリコン基板1
上の薄肉ダイアフラム部3に配置したゲージ抵抗41
4で構成したブリッジ回路4により差圧を測定する一
方、前記厚肉部2にそれぞれ形成したゲージ抵抗121
〜124で構成したブリッジ回路12により静圧を測定
するとともに、温度検出素子131〜134で構成したブ
リッジ回路13により温度を測定して、後段の電気回路
により差圧に対する静圧,温度の影響を補正するものと
なっている。なお、図5中符号V1,V2およびV3はそ
れぞれ差圧,静圧および温度出力を示す。また、同図に
おいて図4と同一符号のものは同一または相当のものを
示している。
[0006] Such a pressure sensor is a silicon substrate 1
Gauge resistors 4 1- arranged on the thin diaphragm section 3 above
4 4 while measuring the differential pressure by a bridge circuit 4 constituted by, gauge resistors 12 1 formed respectively on the thick portion 2
With measuring a static pressure by a bridge circuit 12 which is constituted by 12 4, by measuring the temperature by a bridge circuit 13 constituted by a temperature detecting element 131-134, static pressure against the differential pressure by the subsequent electric circuits, the temperature To compensate for the effect of In FIG. 5, symbols V 1 , V 2 and V 3 indicate a differential pressure, a static pressure and a temperature output, respectively. In the same figure, the same reference numerals as those in FIG. 4 indicate the same or corresponding ones.

【0007】[0007]

【考案が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の圧力センサは、差圧,静圧および温度検出用の
各ブリッジ回路11〜13に常時給電が行われているの
で、測定時に電流が分流されてそれぞれのブリッジ回路
に供給される電流が少なくなり、S/N比を低下させる
要因となっていた。これは、特に2線式伝送の場合に著
しくなっていた。
However, in the above-mentioned conventional pressure sensor, current is shunted at the time of measurement because power is constantly supplied to each of the bridge circuits 11 to 13 for detecting differential pressure, static pressure and temperature. As a result, the current supplied to each bridge circuit is reduced, which is a factor that lowers the S / N ratio. This has been particularly noticeable in the case of two-wire transmission.

【0008】本考案は以上の点に鑑み、上記のような課
題を解決するためになされたものであり、その目的は、
差圧と静圧および温度を検出する機能を有する圧力セン
サにおいて個々の検出回路への測定時の供給電流を多く
して、S/N比を向上させた圧力センサを提供すること
にある。
[0008] In view of the above points, the present invention has been made to solve the above-described problems.
An object of the present invention is to provide a pressure sensor having a function of detecting a differential pressure, a static pressure, and a temperature, in which a supply current at the time of measurement to each detection circuit is increased to improve an S / N ratio.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め本考案は、半導体のピエゾ抵抗効果を利用して圧力を
測定する圧力センサにおいて、半導体単結晶基板上に一
体に形成された差圧検出回路と静圧検出回路および温度
検出回路を備え、これら差圧,静圧および温度検出回路
への給電を周期的に行うようにしたものである。
According to the present invention, there is provided a pressure sensor for measuring pressure utilizing a piezoresistive effect of a semiconductor, the pressure sensor being formed integrally on a semiconductor single crystal substrate. A detection circuit, a static pressure detection circuit, and a temperature detection circuit are provided, and power is supplied to these differential pressure, static pressure, and temperature detection circuits periodically.

【0010】[0010]

【作用】本考案においては、半導体単結晶基板上に形成
した差圧検出回路,静圧検出回路および温度検出回路へ
の給電を同時に行わず、周期的(サイクリック)に行う
ことにより、個々の検出回路への測定時の供給電流が多
くなる。
In the present invention, the power supply to the differential pressure detection circuit, the static pressure detection circuit and the temperature detection circuit formed on the semiconductor single crystal substrate is not performed simultaneously, but is performed periodically (cyclically). The supply current at the time of measurement to the detection circuit increases.

【0011】[0011]

【実施例】図1は本考案による圧力センサの一実施例を
説明するための概略図であり、同図(a)はそのセンサ部
の平面パターン図を、同図(b)はその等価的な回路図を
それぞれ示す。この実施例は、図1に示すように、固定
部となる厚肉部2と薄肉ダイアフラム部3とを備えたチ
ップ状のn形シリコン基板1を用い、その薄肉ダイアフ
ラム部3にピエゾ抵抗効果をもつゲージ抵抗4(41
4)からなる差圧検出用ブリッジ回路11が形成さ
れ、その表面にSiO2 などの絶縁膜5が被覆形成され
ている点は上述した図4の従来例のものと同様である
が、前記シリコン基板1上の厚肉部2の所定領域に、前
記ゲージ抵抗4と同様のゲージ抵抗121 〜124 から
なる差圧検出用ブリッジ回路12と、温度検出素子とし
て不純物濃度の低い第1の抵抗層131,134と不純物
濃度の高い第2の抵抗層132,133からなる温度検出
用ブリッジ回路13を一体に形成する。
1 is a schematic view for explaining an embodiment of a pressure sensor according to the present invention, wherein FIG. 1 (a) is a plan pattern diagram of the sensor section, and FIG. 1 (b) is an equivalent view thereof. Various circuit diagrams are shown. In this embodiment, as shown in FIG. 1, a chip-shaped n-type silicon substrate 1 having a thick portion 2 serving as a fixed portion and a thin diaphragm portion 3 is used, and the thin diaphragm portion 3 has a piezoresistive effect. Gauge resistance 4 (4 1-
The point that a bridge circuit 11 for differential pressure detection composed of 4 4 ) is formed and the surface thereof is coated with an insulating film 5 such as SiO 2 is the same as that of the conventional example of FIG. thick predetermined area of the wall portion 2 on the silicon substrate 1, the gauge resistor 4 and the same gauge resistors 12 1 to 12 4 differential bridge circuit 12 for output pressure consisting of lower first impurity concentration as a temperature detecting element The temperature detection bridge circuit 13 composed of the resistance layers 13 1 and 13 4 and the second resistance layers 13 2 and 13 3 having a high impurity concentration is integrally formed.

【0012】そして、これら差圧,静圧および温度検出
用ブリッジ回路11〜13に対し、測定時のサンプリン
グに同期して動作する回転スイッチ14により電源端子
10a,10b間に印加される一定の電圧Vを順次切換
えることにより、各々の電圧VP,VS,VTを図2に示
すように一定の周期Tで供給するものとなっている。
A constant voltage applied between the power supply terminals 10a and 10b is applied to the bridge circuits 11 to 13 for detecting the differential pressure, the static pressure and the temperature by the rotary switch 14 which operates in synchronization with sampling at the time of measurement. by sequentially switching the V, which is intended to supply at a constant period T each of the voltage V P, V S, the V T as shown in FIG.

【0013】この場合、温度検出用ブリッジ回路13に
おいて、不純物濃度の低い第1の抵抗層131,134
前記各ゲージ抵抗4と同様に形成されたp形拡散層から
なり、温度係数にして例えば3000ppm/℃程度の
値を有している。また、不純物濃度の高い第2の抵抗層
132,133は各ゲージ抵抗4の配線用拡散リード層2
1と同様に形成されたp形拡散層からなり、温度係数に
して例えば1500ppm/℃程度の値を有している。
そのため、これら抵抗層131〜134の温度変化によ
る抵抗値変化をブリッジ回路13で電圧信号に変換する
ことによって、温度に対応した出力信号を取り出すこと
ができる。
In this case, in the temperature detecting bridge circuit 13, the first resistance layers 13 1 and 13 4 having a low impurity concentration are composed of p-type diffusion layers formed in the same manner as the respective gauge resistors 4 and have a temperature coefficient. For example, about 3000 ppm / ° C. Further, the second resistance layers 13 2 and 13 3 having a high impurity concentration are used as the wiring diffusion lead layers 2 of the respective gauge resistors 4.
It is formed of a p-type diffusion layer formed in the same manner as in Example 1, and has a temperature coefficient of, for example, about 1500 ppm / ° C.
Therefore, by converting a change in resistance value of the resistance layers 131 to 134 due to a change in temperature into a voltage signal by the bridge circuit 13, an output signal corresponding to the temperature can be obtained.

【0014】なお、図1中21は各ゲージ抵抗4(4A
〜4D)間を接続する配線用の拡散リード層、22はそ
れら拡散リード層21を引き出すAlリード、23は差
圧検出用のリード端子を示し、24は各ゲージ抵抗(A
D)間を接続する配線用の拡散リード層、25はそれ
ら拡散リード層を引き出すAlリード、26は静圧検出
用のリード端子を示す。27は第1の抵抗層のそれぞれ
を接続するAlリード、28は第1の抵抗層と第2の抵
抗層とをそれぞれ接続するAlリード、29は温度検出
用のリード端子を示す。また、同図において図4と同一
符号のものは同一または相当のものを示している。
In FIG. 1, reference numeral 21 denotes each gauge resistor 4 (4 A
To 4 D ), a diffusion lead layer for wiring connecting between them, 22 is an Al lead for leading out the diffusion lead layer 21, 23 is a lead terminal for detecting a differential pressure, and 24 is a gauge resistance ( A).
To D ), a diffusion lead layer for wiring connecting between the elements, 25 denotes an Al lead for leading out the diffusion lead layer, and 26 denotes a lead terminal for detecting static pressure. Reference numeral 27 denotes an Al lead for connecting each of the first resistance layers, reference numeral 28 denotes an Al lead for connecting each of the first and second resistance layers, and reference numeral 29 denotes a lead terminal for temperature detection. In the same figure, the same reference numerals as those in FIG. 4 indicate the same or corresponding ones.

【0015】このように本実施例の圧力センサによる
と、シリコン基板1上に差圧検出用ブリッジ回路11,
静圧検出用ブリッジ回路12および温度検出用ブリッジ
回路13をそれぞれ形成し、これらブリッジ回路11〜
13に別個に測定のサンプリング時のみ給電することに
より、そのサンプリング時に各々のブリッジ回路11〜
13に供給する電流を大きくできるので、S/N比を向
上させることができる。これについて、図3の回路を用
いて詳述する。
As described above, according to the pressure sensor of this embodiment, the bridge circuit 11 for detecting the differential pressure,
A bridge circuit 12 for detecting a static pressure and a bridge circuit 13 for detecting a temperature are formed, respectively.
13 is separately supplied only at the time of sampling for measurement, so that each of the bridge circuits 11-
13 can be increased, so that the S / N ratio can be improved. This will be described in detail with reference to the circuit of FIG.

【0016】図3において、上記各ブリッジ回路11〜
13のうち例えばブリッジ回路11における一方の出力
点aの誤差をΔv、入力電圧をV、シリコン基板上に形
成するブリッジ回路を構成する各ゲージ抵抗を絶縁分離
するpn接合による絶縁抵抗値をR1、そのブリッジ回
路の各ゲージ抵抗つまりセンサ抵抗の抵抗値をR2とし
たとき、合成抵抗R0
In FIG. 3, each of the bridge circuits 11-
13, for example, the error at one output point a in the bridge circuit 11 is Δv, the input voltage is V, and the insulation resistance value of a pn junction that insulates and separates each of the gage resistors constituting the bridge circuit formed on the silicon substrate is R 1. When the resistance value of each gauge resistance of the bridge circuit, that is, the resistance value of the sensor resistance is R 2 , the combined resistance R 0 is

【0017】[0017]

【数1】 (Equation 1)

【0018】となる。このとき、ブリッジ回路に流れ込
む電流をiとすると、この電流iは
## EQU1 ## At this time, if the current flowing into the bridge circuit is i, this current i is

【0019】[0019]

【数2】 (Equation 2)

【0020】となる。また、誤差Δvは次式で表され
る。
## EQU1 ## The error Δv is expressed by the following equation.

【0021】[0021]

【数3】 (Equation 3)

【0022】これにより、式(3)に式(2)を代入して計算
すると、誤差Δvは近似値として次式で求まる。
Thus, when the equation (2) is substituted into the equation (3) for calculation, the error Δv is obtained as an approximate value by the following equation.

【0023】[0023]

【数4】 (Equation 4)

【0024】よって、この式(4)から明かなようにR2
1 の値が小さいほど、誤差Δvが少なくなる。したが
って、ブリッジ回路を構成するセンサ抵抗R2 をなるべ
く小さくすればよいが、このセンサ抵抗R2 を小さくす
ると消費電流が増える。このため、本実施例によると、
測定のサンプリング時のみ給電するようにしたことによ
り、センサ抵抗R2 を低くして、ブリッジ回路個別に電
源を供給できるので、消費電流を増やすことなく、S/
Nを上げることができる。
Therefore, as is apparent from the equation (4), R 2 /
As the value of R 1 is small, the error Δv is reduced. Thus, the sensor resistance R 2 to form a bridge circuit may be as small as possible, but the current consumption increases by decreasing the sensor resistance R 2. Therefore, according to the present embodiment,
By which is adapted to feed only at the time of sampling of the measurement, to lower the sensor resistance R 2, since the bridge circuit can be separately powered, without increasing the current consumption, S /
N can be increased.

【0025】なお、上述の実施例では半導体単結晶基板
としてn形シリコン基板を用いた場合について示した
が、本考案はこれに限定されるものではなく、p形シリ
コン基板やSOI構造の基板を用いたり、あるいは薄肉
ダイアフラム外周の厚肉部に形成する温度検出用の回路
も不純物濃度の異なる抵抗層以外のセンサ素子で構成し
たりすることなど、幾多の変形が可能である。
In the above embodiment, the case where an n-type silicon substrate is used as a semiconductor single crystal substrate is shown. However, the present invention is not limited to this, and a p-type silicon substrate or a substrate having an SOI structure may be used. Many modifications are possible, such as using a temperature detecting circuit formed in a thick portion on the outer periphery of a thin diaphragm with a sensor element other than a resistance layer having a different impurity concentration.

【0026】[0026]

【考案の効果】以上説明したように本考案によれば、半
導体のピエゾ抵抗効果を利用して圧力を測定する圧力セ
ンサにおいて、半導体単結晶基板上に一体に形成した差
圧検出回路,静圧検出回路および温度検出回路への給電
を同時に行わず、サイクリックに行うことにより、個々
の検出回路への測定時の供給電流が多くなり、したがっ
て、S/N比の良い圧力センサが得られる効果がある。
As described above, according to the present invention, in a pressure sensor for measuring pressure utilizing the piezoresistive effect of a semiconductor, a differential pressure detecting circuit integrally formed on a semiconductor single crystal substrate, and a static pressure By supplying power to the detection circuit and the temperature detection circuit simultaneously and cyclically, the supply current at the time of measurement to each detection circuit is increased, and therefore, a pressure sensor with a good S / N ratio can be obtained. There is.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本考案による圧力センサの一実施例を説明する
概略図であり、(a) はそのセンサ部の平面パターン図、
(b)はその等価的な回路図である。
FIG. 1 is a schematic diagram illustrating an embodiment of a pressure sensor according to the present invention, wherein (a) is a plan pattern diagram of the sensor unit,
(b) is an equivalent circuit diagram.

【図2】図1の各ブリッジ回路に印加される電源電圧の
タイミングチャートである。
FIG. 2 is a timing chart of a power supply voltage applied to each bridge circuit of FIG.

【図3】上記実施例の説明に供する説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining the above embodiment.

【図4】従来の圧力センサの基本的な構成図であり、
(a)はその平面図、(b)は断面図である。
FIG. 4 is a basic configuration diagram of a conventional pressure sensor;
(a) is a plan view and (b) is a cross-sectional view.

【図5】従来技術による圧力センサの概略説明図であ
る。
FIG. 5 is a schematic explanatory view of a conventional pressure sensor.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 n形シリコン基板 2 厚肉部 3 薄肉ダイアフラム部 4,41〜44 p形ゲージ抵抗 5 絶縁膜 10a,10b 電源端子 11 差圧検出用ブリッジ回路 12 静圧検出用ブリッジ回路 13 温度検出用ブリッジ回路 14 回転スイッチREFERENCE SIGNS LIST 1 n-type silicon substrate 2 thick portion 3 thin diaphragm portion 4, 4 1 to 4 4 p-type gauge resistor 5 insulating film 10 a, 10 b power supply terminal 11 bridge circuit for differential pressure detection 12 bridge circuit for static pressure detection 13 temperature detection Bridge circuit 14 Rotary switch

Claims (1)

(57)【実用新案登録請求の範囲】(57) [Scope of request for utility model registration] 【請求項1】 半導体のピエゾ抵抗効果を利用して圧力
を測定する圧力センサにおいて、 半導体単結晶基板上に一体に形成された差圧検出回路と
静圧検出回路および温度検出回路を備え、これら差圧,
静圧および温度検出回路への給電を周期的に行うように
したことを特徴とする圧力センサ。
1. A pressure sensor for measuring pressure utilizing a piezoresistive effect of a semiconductor, comprising a differential pressure detection circuit, a static pressure detection circuit, and a temperature detection circuit integrally formed on a semiconductor single crystal substrate. Differential pressure,
A pressure sensor wherein power supply to a static pressure and temperature detection circuit is periodically performed.
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