JP2567396B2 - Semiconductor device manufacturing equipment - Google Patents

Semiconductor device manufacturing equipment

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JP2567396B2 JP10811987A JP10811987A JP2567396B2 JP 2567396 B2 JP2567396 B2 JP 2567396B2 JP 10811987 A JP10811987 A JP 10811987A JP 10811987 A JP10811987 A JP 10811987A JP 2567396 B2 JP2567396 B2 JP 2567396B2
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、半導体素子製造装置に関するものであり、
更に詳述するならば、ウエハ上に形成されたチップを密
着テープ上で個々に分割すると同時に、密着テープを拡
張して分子したチップに張り付ける装置に関するもので
ある。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a semiconductor device manufacturing apparatus,
More specifically, the present invention relates to an apparatus for dividing chips formed on a wafer into individual pieces on an adhesive tape and at the same time expanding the adhesive tape and attaching the expanded tape to the molecular chips.

従来の技術 1枚のウエハ上に形成された多数のチップを個々に分
割する技術をダイシング(dicing)という。分割する方
法として、レーザやダイヤモンド針によりチップに沿っ
て切削溝を刻設し機械的に分割するスクライビング(sc
ribing)方式と、薄いダイヤモンドブレードの高速回転
により深く切り込み、機械的に分割あるいは切断時に分
割可能なダイシングソー(dicing saw)方式とがある。
2. Description of the Related Art A technique for individually dividing a large number of chips formed on one wafer is called dicing. As a method of dividing, a scribing (sc
There is a ribing) method and a dicing saw method in which a diamond is deeply cut by high-speed rotation of a thin diamond blade and can be mechanically divided or divided at the time of cutting.

上記スクライビングあるいはダイシングによってハー
フカットされたウエハは、機械的手段により個々のチッ
プに分割される。第2図は、上記ウエハを分割する従来
の装置の構成概要図である。
The wafer half-cut by the scribing or dicing is divided into individual chips by mechanical means. FIG. 2 is a schematic diagram of a configuration of a conventional device for dividing the wafer.

図示の装置は、基台11を備えている。基台11の上に
は、ゴム製のマット12が敷設されている。マット12の上
にハーフカットされたウエハ13を裏返しに、すなわちウ
エハ13のチップが形成されている面とマット12の上面と
が対向するように載置する。ウエハ13の裏面には、あら
かじめテープ15を貼付しておく。テープ15は、ウエハ13
が分割されても離散することなく、各チップが元の位置
関係を保持するように使用されるものである。
The illustrated apparatus includes a base 11. A rubber mat 12 is laid on the base 11. The half-cut wafer 13 is placed upside down on the mat 12, that is, the chip 13-formed surface of the wafer 13 and the upper surface of the mat 12 face each other. A tape 15 is attached to the back surface of the wafer 13 in advance. Tape 15 is wafer 13
The chips are used so as to maintain the original positional relationship without being dispersed even when divided.

次に、円筒棒状のローラ14の側面をウエハ13の裏面か
ら押し当てながら回転運動をさせて、ウエハ13を分割す
る。分割されたウエハの各チップは、テープ15を拡張
(エキスパンド)することにより完全に分離される。こ
うして、テープ15上で分離されたチップは、必要に応じ
て適宜切断されて使用い供される。
Next, the side surface of the cylindrical rod-shaped roller 14 is pressed against the back surface of the wafer 13 to rotate the wafer 13 to divide the wafer 13. Each chip of the divided wafer is completely separated by expanding the tape 15. In this way, the chips separated on the tape 15 are appropriately cut and used as needed.

このように、全体形状が円形のウエハの上に形成され
たチップを分割する従来の装置では、基台上に載置され
た弾力性に富むゴム製マットが支持するウエハを、円筒
棒状のローラで押圧して分割していた。押圧されたウエ
ハ及びマットは、下に凸な曲面状に変形する。しかしな
がら、上記円筒棒状のローラの回転運動により得られる
押圧面は平面状であり、ウエハの周辺部には中央部より
大きな押圧力が載荷されることになる。
As described above, in a conventional device for dividing a chip formed on a wafer having an overall circular shape, a wafer supported by a rubber mat having a high elasticity mounted on a base is supported by a cylindrical rod-shaped roller. I was pressing and splitting. The pressed wafer and mat are deformed into a downward convex curved surface. However, the pressing surface obtained by the rotational movement of the cylindrical rod-shaped roller is flat, and a larger pressing force is applied to the peripheral portion of the wafer than to the central portion.

発明が解決しようとする問題点 以上のように、従来の半導体素子製造装置では、円形
状のウエハの一部に過剰な押圧力がかかり、チップに欠
けが生じたり配線が損傷を受けたりするという問題があ
った。こうした問題を回避するには、押圧力の調整が必
要となり装置が高価になるという問題があった。また、
あらかじめテープをウエハの裏面に貼付して分割の後そ
のテープを拡張してチップを分離しなければならず、工
程数が多いという問題があった。
DISCLOSURE OF THE INVENTION Problems to be Solved by the Invention As described above, in the conventional semiconductor device manufacturing apparatus, excessive pressing force is applied to a part of a circular wafer, which may cause chips to be chipped or wiring to be damaged. There was a problem. In order to avoid such a problem, there is a problem that the pressing force needs to be adjusted and the device becomes expensive. Also,
There is a problem in that the tape is attached to the back surface of the wafer in advance, the tape is expanded and then the chip is separated to divide the chip, and the number of steps is large.

そこで、本発明は、ウエハの一部に過剰な押圧力を与
えることなく、正確に分割可能で工程数の少ない半導体
素子製造装置を提供せんとするものである。
Therefore, the present invention is to provide a semiconductor device manufacturing apparatus that can be accurately divided and has a small number of steps without applying an excessive pressing force to a part of a wafer.

問題点を解決するための手段 すなわち、本発明によるならば、可撓性を有するマッ
トと、該マットをほぼ水平に支持する手段と、上記マッ
トの上方でテープをほぼ水平に張架支持する手段と、上
記テープの上方に支持され下に凸な球面部を有する押圧
手段と、該凸球面部を加熱する手段と、上記マット支持
手段と上記テープ張架支持手段と上記押圧手段とを相対
的に駆動する手段とを備え、上記テープを上記マットの
上方でほぼ水平に張架支持した後、上記マットに載置さ
れたウエハの裏面に、上記テープを介して上記押圧手段
の所定温度に加熱された凸球面部を押圧して、該ウエハ
を個々のチップに分割すると同時に、上記テープを拡張
し、完全に分離した各チップを該テープに張りつけるこ
とを特徴とする半導体素子製造装置が提供される。
Means for Solving the Problems That is, according to the present invention, a mat having flexibility, a means for supporting the mat in a substantially horizontal direction, and a means for stretching and supporting the tape in a substantially horizontal direction above the mat. A pressing means supported above the tape and having a downwardly convex spherical surface portion, a means for heating the convex spherical surface portion, the mat supporting means, the tape tension supporting means, and the pressing means. Means for driving the tape to be stretched substantially horizontally above the mat, and then heated to a predetermined temperature of the pressing means through the tape on the back surface of the wafer placed on the mat. Provided is a semiconductor device manufacturing apparatus, characterized in that the convex spherical surface portion is pressed to divide the wafer into individual chips, at the same time, the tape is expanded and the completely separated chips are attached to the tape. You.

本発明の好ましい態様によるならば、上記マットは、
円形であり、更に好ましくは、ゴム製である。
According to a preferred embodiment of the present invention, the mat is
It is circular, and more preferably made of rubber.

また、本発明の好ましい態様によるならば、上記所定
温度は、約60℃である。
Further, according to a preferred embodiment of the present invention, the predetermined temperature is about 60 ° C.

更に、本発明の好ましい態様によるならば、上記押圧
手段は、上記マットの支持手段に鉛直に植設された少な
くとも3本のロッドと、該ロッドに横架支持された下に
凸な球面部を有する押圧板と、該凸球面部の周囲に上下
動自在に支持されたウエハリングと、該ウエハリングを
上下に駆動する手段とからなり、上記凸球面部は、上記
ウエハより実質的に大きい。
Further, according to a preferred aspect of the present invention, the pressing means includes at least three rods vertically implanted in the supporting means of the mat, and a downwardly convex spherical portion laterally supported by the rods. The convex spherical surface portion is substantially larger than the wafer, and includes a pressing plate, a wafer ring supported vertically around the convex spherical surface portion, and means for driving the wafer ring up and down.

作用 以上のように、本発明の半導体素子製造装置では、可
撓性を有するマット上に置かれたウエハの裏面に凸球面
部を所要の圧力で押圧する。押圧されたウエハは、マッ
トとともに上記凸球面部と整合する凹球面状、すなわち
下に凸な球面状に変形する。このように、可撓性を有す
るマット上に支持されたウエハが押圧面と整合するよう
に変形するので、ウエハは、その中央部から割れ始め、
割れは周辺部に拡がってゆく。その際、割れた部分に過
剰な力が作用しない。従って、ウエハの上に形成された
各チップには同程度の所要の押圧力がかかり、チップに
損傷が発生することなく、ウエハを正確に分割すること
ができる。
Operation As described above, in the semiconductor device manufacturing apparatus of the present invention, the convex spherical surface portion is pressed with a required pressure against the back surface of the wafer placed on the flexible mat. The pressed wafer deforms together with the mat into a concave spherical surface that matches the convex spherical surface, that is, a spherical surface convex downward. In this way, the wafer supported on the flexible mat is deformed so as to be aligned with the pressing surface, so that the wafer starts to be cracked from its central portion,
The crack spreads to the periphery. At that time, excessive force does not act on the cracked portion. Therefore, each chip formed on the wafer is subjected to the same required pressing force, and the wafer can be accurately divided without damaging the chips.

また、本発明の半導体素子製造装置では、マット上に
置かれたウエハと凸球面部との間にほぼ水平に固定張架
されたテープを備えている。したがって、上記凸球面部
を下降させてあらかじめ所定温度(約60℃)に加熱され
た凸球面部にテープを密着させテープの延性は高め且つ
テープを拡張する。それ故、上記凸球面部を下降させて
上記ウエハの裏面を押圧して個々のチップに分割すると
共に、テープを、分割されたウエハの各チップに密着さ
せて張りつけることができる。次に、凸球面部を上昇さ
せながら凸球面部の周囲に装着されたウエハリングを下
降させれば、ウエハリングにエキスパンドされたテープ
を自動的に取り付けることができる。すなわち、ウエハ
裏面へのテープの貼付、ウエハの分割およびテープの拡
張の工程が自動的に処理される。
In addition, the semiconductor device manufacturing apparatus of the present invention includes a tape fixed and stretched substantially horizontally between the wafer placed on the mat and the convex spherical surface portion. Therefore, by lowering the convex spherical surface portion, the tape is brought into close contact with the convex spherical surface portion which has been heated to a predetermined temperature (about 60 ° C.) in advance so that the ductility of the tape is increased and the tape is expanded. Therefore, the convex spherical surface portion can be lowered to press the back surface of the wafer to divide it into individual chips, and the tape can be attached in close contact with each chip of the divided wafer. Next, the expanded tape can be automatically attached to the wafer ring by raising the convex spherical surface portion and lowering the wafer ring mounted around the convex spherical surface portion. That is, the steps of attaching the tape to the back surface of the wafer, dividing the wafer, and expanding the tape are automatically processed.

周辺支持された円形のゴム製マットを使用すれば、押
圧されるウエハも円形であり且つマットが可撓性に富み
ウエハの変形に容易に追随できるため、各チップに載荷
される押圧力はより一様となり、分割による損傷の発生
を回避することができる。
If a circular rubber mat that is supported on the periphery is used, the wafer to be pressed is also circular and the mat is highly flexible so that the deformation of the wafer can be easily followed. It becomes uniform, and the occurrence of damage due to division can be avoided.

実施例 以下添付図面を参照して、本発明の半導体素子製造装
置の実施例を説明する。
Embodiment An embodiment of the semiconductor device manufacturing apparatus of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

第1図は、本発明の半導体素子製造装置の1実施例の
構成概要図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of one embodiment of the semiconductor device manufacturing apparatus of the present invention.

図示の装置は、円形板状のゴム製マット2を備えてい
る。マット2は、リング状の基台1に周辺支持されてい
る。基台1の上端面には、少なくとも3本、例えば4本
のロッド5が鉛直に植設されている。ロッド5の中間部
には、テープ8がほぼ水平に張架されている。そのテー
プ8の周辺を支持している部材は、ロッド5に沿って上
下動自在に構成されている。さらに、ロッド5の上端部
には、円形板状の押圧板6がほぼ水平に横架されてい
る。押圧板6は下方面に凸球面部7を有し、上記ロッド
5に沿って上下動自在に構成されている。凸球面部7の
周囲には、ウエハリング9が上下動自在に装着されてい
る。
The illustrated apparatus includes a rubber mat 2 in the shape of a circular plate. The mat 2 is peripherally supported by a ring-shaped base 1. At least three, for example, four rods 5 are vertically planted on the upper end surface of the base 1. A tape 8 is stretched over the middle of the rod 5 substantially horizontally. The member supporting the periphery of the tape 8 is configured to be vertically movable along the rod 5. Further, on the upper end of the rod 5, a circular plate-shaped pressing plate 6 is horizontally mounted substantially horizontally. The pressing plate 6 has a convex spherical surface portion 7 on its lower surface, and is configured to be vertically movable along the rod 5. Around the convex spherical surface portion 7, a wafer ring 9 is mounted so as to be vertically movable.

以上のように構成される本発明の半導体素子製造装置
は、次のように動作する。
The semiconductor device manufacturing apparatus of the present invention configured as described above operates as follows.

ウエハ3を裏返しに、すなわちハーフカットされたウ
エハ3のチップが形成されている面がマット2の上面と
対向するようにマット2に載置する。次に、押圧板6を
図示を省略した駆動手段によって下方に移動させ、あら
かじめ所定温度(約60℃)に加熱された凸球面部7にテ
ープ8を密着させテープ8の延性を高める。さらに、上
記凸球面部7を下降させてテープ8をウエハ3の裏面に
圧着した後、ウエハ3の裏面に凸球面部7を押圧する。
The wafer 3 is placed upside down, that is, the half-cut wafer 3 is placed on the mat 2 so that the chip-formed surface of the wafer 3 faces the upper surface of the mat 2. Next, the pressing plate 6 is moved downward by a driving means (not shown), and the tape 8 is brought into close contact with the convex spherical surface portion 7 which has been heated to a predetermined temperature (about 60 ° C.) in advance to enhance the ductility of the tape 8. Further, after the convex spherical surface portion 7 is lowered and the tape 8 is pressure-bonded to the back surface of the wafer 3, the convex spherical surface portion 7 is pressed against the back surface of the wafer 3.

凸球面部7で押圧されたウエハ3は、ゴム製マット2
と接したまま上に凸な球面状に変形する。この結果、ウ
エハは中央部から割れ始め、割れは周辺部に拡がってゆ
く。その際、割れた部分に過剰な力が作用しない。従っ
て、ウエハ3の上に形成された個々のチップには同程度
の圧力がかかり、チップに損傷が発生することなく、正
確に分割することができる。
The wafer 3 pressed by the convex spherical surface portion 7 is a rubber mat 2
It deforms into a spherical surface that is convex upward while being in contact with. As a result, the wafer begins to crack from the central portion and the crack spreads to the peripheral portion. At that time, excessive force does not act on the cracked portion. Therefore, the same degree of pressure is applied to the individual chips formed on the wafer 3, and the chips can be accurately divided without damage.

さらに、その際、テープ8が、分割されたウエハ3の
各チップに張り付けられる。次に、凸球面部7を上昇さ
せながら凸球面部7の周囲に装着されたウエハリング9
を下降させれば、ウエハリング9にエキスパンドされた
テープ8を自動的に取り付けることができる。
Further, at that time, the tape 8 is attached to each chip of the divided wafer 3. Next, the wafer ring 9 mounted around the convex spherical surface portion 7 while raising the convex spherical surface portion 7.
When the tape is lowered, the expanded tape 8 can be automatically attached to the wafer ring 9.

発明の効果 以上詳しく説明したように、本発明の半導体素子製造
装置では、周辺支持された可撓性のマットの上に置かれ
たウエハの裏面に凸球面部を押圧して、ウエハ上に形成
された多数のチップを個々に分割する。したがって、ウ
エハの上に形成された各チップには同程度の押圧力がか
かり、チップに損傷が発生することを回避することがで
きる。この結果、ウエハを正確に分割することができ歩
留りは向上する。
EFFECTS OF THE INVENTION As described in detail above, in the semiconductor device manufacturing apparatus of the present invention, the convex spherical surface portion is pressed against the back surface of the wafer placed on the peripherally supported flexible mat to form it on the wafer. The divided large number of chips are individually divided. Therefore, it is possible to prevent the chips formed on the wafer from being damaged by the same pressure. As a result, the wafer can be accurately divided and the yield is improved.

さらに、本発明の半導体素子製造装置では、ウエハ裏
面へのテープの貼付、ウエハの分割およびテープの拡張
の工程が自動的に処理され、工程数の低減が図れる。
Further, in the semiconductor device manufacturing apparatus of the present invention, the steps of attaching the tape to the back surface of the wafer, dividing the wafer, and expanding the tape are automatically processed, and the number of steps can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は、本発明の半導体素子製造装置の1実施例の構
成概要図であり、 第2図は、従来の半導体素子製造装置の構成概要図であ
る。 (主な参照番号) 1……基台、2……マット、3……ウエハ、5……ロッ
ド、6……押圧板、7……凸球面部、8……テープ、9
……ウエハリング、11……基台、12……マット、13……
ウエハ、14……ローラ、15……テープ
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of one embodiment of a semiconductor device manufacturing apparatus of the present invention, and FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a conventional semiconductor device manufacturing apparatus. (Main reference numbers) 1 ... Base, 2 ... Mat, 3 ... Wafer, 5 ... Rod, 6 ... Pressing plate, 7 ... Convex spherical portion, 8 ... Tape, 9
…… Wafer ring, 11 …… Base, 12 …… Matt, 13 ……
Wafer, 14 …… Roller, 15 …… Tape

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】可撓性を有するマットと、該マットをほぼ
水平に支持する手段と、上記マットの上方でテープをほ
ぼ水平に張架支持する手段と、上記テープの上方に支持
され下に凸な球面部を有する押圧手段と、該凸球面部を
加熱する手段と、上記マット支持手段と上記テープ張架
支持手段と上記押圧手段とを相対的に駆動する手段とを
備え、 上記テープを上記マットの上方でほぼ水平に張架支持し
た後、上記マットに載置されたウエハの裏面に、上記テ
ープを介して上記押圧手段の所定温度に加熱された凸球
面部を押圧して、該ウエハを個々のチップに分割すると
同時に、上記テープを拡張し、完全に分離した各チップ
を該テープに張りつけることを特徴とする半導体素子製
造装置。
1. A flexible mat, a means for supporting the mat substantially horizontally, a means for stretching and supporting the tape substantially horizontally above the mat, and a lower part supported above the tape. The tape comprises: a pressing means having a convex spherical surface portion, a means for heating the convex spherical surface portion, a means for relatively driving the mat supporting means, the tape tension supporting means, and the pressing means. After being stretched and supported almost horizontally above the mat, the convex spherical surface heated to a predetermined temperature of the pressing means is pressed against the back surface of the wafer placed on the mat via the tape, An apparatus for manufacturing a semiconductor device, characterized in that a wafer is divided into individual chips, at the same time, the tape is expanded and the completely separated chips are attached to the tape.
【請求項2】上記マットは、円形であることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の装置。
2. A device according to claim 1, characterized in that the mat is circular.
【請求項3】上記マットは、ゴム製であることを特徴と
する特許請求の範囲第1項又は第2項記載の装置。
3. The apparatus according to claim 1, wherein the mat is made of rubber.
【請求項4】上記所定温度は、約60℃であることを特徴
とする特許請求の範囲第1項乃至第3項のいずれか1項
に記載の装置。
4. The apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the predetermined temperature is about 60 ° C.
【請求項5】上記押圧手段は、上記マットの支持手段に
鉛直に植設された少なくとも3本のロッドと、該ロッド
に横架支持され下に凸な球面部を有する押圧板と、該凸
球面部の周囲に上下動自在に支持されたウエハリング
と、該ウエハリングを上下に駆動する手段とからなり、
上記凸球面部は、上記ウエハより実質的に大きいことを
特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第4項のいずれか
1項に記載の装置。
5. The pressing means comprises at least three rods vertically implanted in the supporting means of the mat, a pressing plate laterally supported by the rods and having a downward convex spherical surface portion, and the convex means. A wafer ring that is vertically movable around a spherical surface, and means for driving the wafer ring up and down.
The apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the convex spherical surface portion is substantially larger than the wafer.
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